JPH0490550A - Dampening waterless photosensitive planographic printing plate - Google Patents

Dampening waterless photosensitive planographic printing plate

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Publication number
JPH0490550A
JPH0490550A JP20604290A JP20604290A JPH0490550A JP H0490550 A JPH0490550 A JP H0490550A JP 20604290 A JP20604290 A JP 20604290A JP 20604290 A JP20604290 A JP 20604290A JP H0490550 A JPH0490550 A JP H0490550A
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JP
Japan
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layer
primer layer
rubber
printing plate
compd
Prior art date
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Pending
Application number
JP20604290A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Nobumasa Sasa
信正 左々
Shinichi Matsubara
真一 松原
Tetsuya Taniguchi
哲哉 谷口
Hiroshi Tomiyasu
富安 寛
Akio Kasakura
暁夫 笠倉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Kasei Corp
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Mitsubishi Kasei Corp
Konica Minolta Inc
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Publication date
Application filed by Mitsubishi Kasei Corp, Konica Minolta Inc filed Critical Mitsubishi Kasei Corp
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Publication of JPH0490550A publication Critical patent/JPH0490550A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To obtain the printing plate with which a stress relaxant function is sufficiently exhibited and which is not attained during printing and has excellent plate wear by incorporating an azide compd. and cyclized rubber into a primer layer. CONSTITUTION:The printing plate which substantially prevents the flawing of an ink repulsion layer surface at the time of handling of the printing plate, printing and developing of the plate material, is, therefore, not stained during printing, and has the excellent plate wear is obtd. by incorporating the azide compd. and cyclized rubber into the primer layer. The stress relevant function refers to the function that the primer layer relieves the stress to prevent the flawing of the ink repulsion layer even if the impact (stress) is applied on the ink repulsion layer in the case of the primer layer having rubber elasticity. As the azide compd. to be incorporated into the primer layer, 2, 6-dichloro-nitro azide benzene, etc., are used. The cyclized rubber to be used in combination with the diazide compd. includes the rubber formed by partially cyclizing natural rubber or polyisoprene rubber by the effect of an acidic catalyst, the rubber formed by partially cyclizing 1, 4-polybutadiene with a catalyst combined with an org. aluminum compd. and org. halogen compd., etc.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、湿し水不要の感光性平版印刷版に関するもの
であり、更に詳しくは印刷時に汚れがなく、耐刷力に優
れている湿し水不要の感光性平版印刷版に関する。
Detailed Description of the Invention [Industrial Application Field] The present invention relates to a photosensitive lithographic printing plate that does not require dampening water, and more specifically to a dampening solution that does not smudge during printing and has excellent printing durability. This invention relates to a photosensitive lithographic printing plate that does not require water.

[発明の背景] 従来、湿し水不要の感光性平版印刷版(以下、必要に応
じ「版材料」という)としては、支持体上に順に感光層
及びインキ反撥層を塗設したものが知られている。この
版材料を露光・現像することにより湿し水不要の平版印
刷版(以下、必要に応じ「印刷版)という)を得ること
ができる。
[Background of the Invention] Conventionally, photosensitive lithographic printing plates (hereinafter referred to as "plate materials" as necessary) that do not require dampening water have been known to have a photosensitive layer and an ink repellent layer coated on a support in this order. It is being By exposing and developing this plate material, a lithographic printing plate (hereinafter referred to as "printing plate" as necessary) that does not require dampening water can be obtained.

一般に、このような版材料においては、支持体と感光層
との間の接着性を向上させるために、これらの間にプラ
イマー層が設けられている。
Generally, in such plate materials, a primer layer is provided between the support and the photosensitive layer in order to improve the adhesion between them.

プライマー層の材質には、種々のものが使用されるが、
その−例として例えば特開昭60−229031号公報
には、光二量化型光硬化性樹脂からなる層を光硬化させ
てなるプライマー層を用いた湿し水不要感光性平版印刷
版について記載され、これによりシリコーンゴム層の耐
スクラッチ性、耐摩耗性が優れ、かつ得られた水なしプ
レートは耐刷力が高いことが示されている。
Various materials are used for the primer layer, but
As an example, JP-A No. 60-229031 describes a photosensitive lithographic printing plate that does not require dampening water and uses a primer layer formed by photocuring a layer made of a photodimerizable photocurable resin. This indicates that the silicone rubber layer has excellent scratch resistance and abrasion resistance, and the resulting waterless plate has high printing durability.

またこのプライマー層は、耐スクラッチ性、特に衝撃に
よるシリコーンゴム層の表面の傷付き難さは良好である
という長所を有する。
Furthermore, this primer layer has the advantage of good scratch resistance, particularly the resistance to scratches on the surface of the silicone rubber layer due to impact.

しかしながら、この水なしプレートに使用されるプライ
マー層は、耐スクラッチ性、特にi撃によるシリコーン
ゴム層の表面の傷付き難さは良好であるという長所を有
し、かつ耐剛力に優れてはいるが、このプライマー層に
おける応力緩和機能が不十分であるため、擦り傷、例え
ば現像時のブラシあるいは印刷時の版面洗浄布等による
傷付き難さは、必ずしも十分ではなく、結局後者による
傷がもとで印刷時に汚れが発生し、耐刷力が低下すると
いう問題が起こるためその取扱に十分注意をする必要が
ある。
However, the primer layer used in this waterless plate has the advantage of good scratch resistance, especially the resistance to scratches on the surface of the silicone rubber layer by i-blows, and has excellent stiffness resistance. However, because the stress relaxation function of this primer layer is insufficient, the resistance to scratches, such as those caused by brushes during development or plate cleaning cloth during printing, is not necessarily sufficient, and in the end, the scratches caused by the latter are the cause of the problem. Since stains occur during printing and the printing durability decreases, it is necessary to be very careful when handling them.

そこで、本発明者等は、前記の問題点に鑑み、応力緩和
機能という観点に立りて種々研究した結果、プライマー
層にアジド化合物及び環化ゴムを併用することにより、
前記文献に託載されたものと同等又はそれ以上の優れた
効果が得られることを見出し、ここに本発明を成すに至
った。
Therefore, in view of the above-mentioned problems, the present inventors conducted various studies from the viewpoint of stress relaxation function, and as a result, by using an azide compound and a cyclized rubber together in the primer layer,
It has been discovered that effects equivalent to or superior to those disclosed in the above-mentioned documents can be obtained, and the present invention has now been completed.

[発明の目的コ したがって、本発明の目的は、応力緩和機能が十分に発
揮されて印刷時に汚れがなく、耐剛力に優れている湿し
水不要の感光性平版印刷版を提供することにある。
[Purpose of the Invention] Accordingly, an object of the present invention is to provide a photosensitive lithographic printing plate that fully exhibits a stress relaxation function, is free from stains during printing, has excellent stiffness resistance, and does not require dampening water. .

[発明の構成コ 本発明の前記目的は、基板上にプライマー層、感光層及
びインキ反撥層をこの順に有する湿し水不要の感光性平
版印刷版において、前記プライマー層がアジド化合物及
び環化ゴムを含有することを特徴とする湿し水不要の感
光性平版印刷版によって達成された。
[Structure of the Invention] The object of the present invention is to provide a photosensitive lithographic printing plate that does not require dampening water and has a primer layer, a photosensitive layer, and an ink repellent layer in this order on a substrate, wherein the primer layer is made of an azide compound and a cyclized rubber. This was achieved with a photosensitive lithographic printing plate that does not require dampening water and is characterized by containing.

以下に、本発明の構成について、更に具体的に説明する
Below, the configuration of the present invention will be explained in more detail.

本発明は、水不要の感光性平版印刷版のプライマー層に
アジド化合物及び環化ゴムを含有することにより印刷版
取扱時、印刷時、版材料の現像時等においてインキ反撥
層面に傷が付き難く、したがって印刷時に汚れがなく、
耐刷力に優れているものが得られる。
The present invention contains an azide compound and a cyclized rubber in the primer layer of a photosensitive lithographic printing plate that does not require water, so that the surface of the ink repellent layer is less likely to be scratched when handling the printing plate, printing, developing the plate material, etc. , so there are no smudges when printing,
A product with excellent printing durability can be obtained.

本明細書に記載されている応力緩和機能とは、プライマ
ー層にゴム弾性を有する場合、インキ反撥層に衝撃(応
力)が加わっても、プライマー層が応力を緩和してイン
キ反撥層に傷が付きにくいことをいう。
The stress relaxation function described in this specification means that when the primer layer has rubber elasticity, even if an impact (stress) is applied to the ink repellent layer, the primer layer relieves the stress and the ink repellent layer is not scratched. It means that it is difficult to attach.

感光層塗布溶媒に耐性があると、感光層をプライマー層
上に塗布した時、感光層の塗布溶媒がプライマー層を溶
解させたり、感光層とプライマー層との間の混合が起こ
らないので、応力緩和機能を有する。
If the photosensitive layer coating solvent is resistant, when the photosensitive layer is coated on the primer layer, the coating solvent for the photosensitive layer will not dissolve the primer layer, and mixing between the photosensitive layer and the primer layer will not occur, so stress will be reduced. Has a relaxing function.

本発明に用いられる水不要の感光性平版印刷版は、現像
後、画像部のシリコーンゴム層のみが除去されるタイプ
のものにも使用されるが、好ましくは現像後、画像部の
感光層が除去され、画像部のプライマー層が露出される
タイプのものがよい。
The water-free photosensitive lithographic printing plate used in the present invention can also be used in a type in which only the silicone rubber layer in the image area is removed after development, but preferably the photosensitive layer in the image area is removed after development. A type that can be removed to expose the primer layer in the image area is preferable.

本発明に用いられる版材料の製造方法は、支持体上に設
けられたプライマー層を光硬化した後、感光層及びイン
キ反撥層を順に塗設することが必要である。
The method for producing the plate material used in the present invention requires that after photocuring a primer layer provided on a support, a photosensitive layer and an ink repellent layer are sequentially applied.

本発明に用いられるプライマー層としては、例えばポリ
エステル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、アク
リル樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリビニ
ルブチラール樹脂、エポキシ樹脂、アクリレート系共重
合体、酢酸ビニル系共重合体、フェノキシ樹脂、ボリウ
レ、タン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアクリロニ
トリルブタジェン、ポリ酢酸ビニル等が挙げられる。
Examples of the primer layer used in the present invention include polyester resin, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, acrylic resin, vinyl chloride resin, polyamide resin, polyvinyl butyral resin, epoxy resin, acrylate copolymer, and vinyl acetate copolymer. Polymers, phenoxy resins, polyurethane, tan resins, polycarbonate resins, polyacrylonitrile butadiene, polyvinyl acetate and the like can be mentioned.

また上記プライマー層を構成するアンカー剤としては、
例えばシラ7ンカツプリング剤、シリコーンプライマー
等を用いることができ、また有機チタネート等も有効で
ある。
In addition, as the anchor agent constituting the primer layer,
For example, silane coupling agents, silicone primers, etc. can be used, and organic titanates and the like are also effective.

上記のプライマー層の厚さは、通常0.1μ■〜20μ
mであり、好ましくは0.3μm〜10μmである。
The thickness of the above primer layer is usually 0.1μ■~20μ
m, preferably 0.3 μm to 10 μm.

本発明に用いられるプライマー層に含有されるアジド化
合物としては、 (1)2.6−ジクロロ−4−ニトロ−アジドベンゼン rl) アジドジフェニルアミ ン (7)4’ ニトロフェニルアゾベンゼン− アジド 3′−ジメトキシ−4,4′−ジアジ ドジフェニル 1−アジドピレン (4)4’ 一メトキシー4−アジドジフェニルア ドジフェニル ン (5)4.4’−ジアジドジフェニルアミン(10)4
.4’ −ジアジドフェニルアゾナフタレン 4′−ジアジドジフェニルメタン p−フェニレンビスアジド p−アジドベンゾフェノン 2゜ 6−ジー (4′ 一アジドベンザル) −4−メチルシクロヘキサン (13)4.4’−ジアジドベンゾフェノンし■3 本発明において、 ジアジド化合物と併用して用 いられる環化ゴムとしては、 天然ゴム又はボリイ (14)4.4’−ジアジドスチルペンツブレンゴムを
酸性触媒の作用で一部環化したもの、 4−ポリブタジェンを有機アルミニウム化合物と有機ハ
ロゲン化合物を組合せた触媒で−(15)4.4’−ジ
アジドカルコン 部環化したもの等が挙げられる。
The azide compounds contained in the primer layer used in the present invention include (1) 2,6-dichloro-4-nitro-azidobenzene rl) azido diphenylamine (7) 4' nitrophenylazobenzene-azido 3'-dimethoxy- 4,4'-Diazidiphenyl 1-azidopyrene (4) 4' 1methoxy 4-azidodiphenyladiphenyln (5) 4,4'-Diazidiphenylamine (10) 4
.. 4'-Diazidophenylazonaphthalene 4'-Diazidodiphenylmethane p-phenylenebisazide p-azidobenzophenone 2゜6-di(4'-azidobenzal) -4-methylcyclohexane (13) 4.4'-diazidobenzophenone 3 In the present invention, the cyclized rubber used in combination with the diazide compound is natural rubber or boly(14)4,4'-diazidostilpentubrene rubber partially cyclized by the action of an acidic catalyst. Examples include those in which 4-polybutadiene is partially cyclized into -(15)4,4'-diazide chalcone using a catalyst containing a combination of an organoaluminum compound and an organohalogen compound.

本発明において、 プライマー層に添加されるジ アジド化合物及び環化ゴムの添加量は、ジアジド 2゜ 6−ジー (4′ 一アジドベンザル) 化合物の場合は、 0.1 重量部〜3 0重量部であ シクロヘキサン リ、好ましくは2重量部〜20重量部である。In the present invention, Dial added to the primer layer The amount of azide compound and cyclized rubber added is 2゜ 6-G (4' (1-azidobenzal) For compounds, 0.1 Parts by weight ~ 3 0 parts by weight cyclohexane The amount is preferably 2 parts by weight to 20 parts by weight.

また本発明に用いられるプライマー層に添加される環化
ゴムは、 70重量部〜9 9重量部であ り、 好ましくは80重量部〜9 5重量部である。
Further, the amount of cyclized rubber added to the primer layer used in the present invention is 70 parts by weight to 99 parts by weight, preferably 80 parts by weight to 95 parts by weight.

本発明に用い得る感光層としては、ポジ型の場合、光重
合性接着層または光架橋型感光層及び、ジアゾ樹脂とバ
インダー樹脂等からなる感光層等が挙げられる。ネガ型
の場合はキノンジアジド化合物とバインダー樹脂等から
なる感光層等を用いることができる。
Examples of the photosensitive layer that can be used in the present invention include, in the case of a positive type, a photopolymerizable adhesive layer or a photocrosslinkable photosensitive layer, a photosensitive layer made of a diazo resin, a binder resin, and the like. In the case of a negative type, a photosensitive layer made of a quinonediazide compound, a binder resin, etc. can be used.

上記ジアゾ樹脂としては従来公知のものが種々使用でき
るが、芳香族ジアゾニウム塩と例えば活性カルボニル含
有化合物、特にホルムアルデヒドとの縮合物で代表され
るジアゾ樹脂が含まれ、その中で有機溶媒可溶性のジア
ゾ樹脂が好ましい。
Various conventionally known diazo resins can be used as the above-mentioned diazo resin, but include diazo resins typified by condensates of aromatic diazonium salts and active carbonyl-containing compounds, especially formaldehyde, among which diazo resins soluble in organic solvents are used. Resins are preferred.

ジアゾ樹脂として好ましい具体例としては、下記−数式
[1]で表される樹脂が挙げられる。
Preferred specific examples of the diazo resin include resins represented by the following formula [1].

−数式[1] [式中、R12、R13R14はそれぞれ、水素原子、
アルキル基またはアルコキシ基を表し、好ましくは水素
原子である。RI5は、水素原子、アルキル基またはフ
ェニル基を表し、好ましくは水素原子である。Xは、ジ
アゾ樹脂の対アニオンを表し、具体的には、PFa、B
F4.デカン酸、安息香酸等の有機カルボン酸類、フェ
ニルリン酸等の有機りん酸類及びメタンスルホン酸等の
スルホン酸類等を表す。Yは、NH,S、0を表す。さ
らに2は、スルホン酸基、スルホン酸塩(Na塩、K塩
等)基、スルフィン基、スルフィン酸塩(Na塩、K塩
等)基、OH基およびC0OH基から選ばれる少なくと
も1つ以上の置換基で置換されたフェニル基またはナフ
チル基を表す、Ill及びnの割合は、モル比でm/n
−110〜10、好ましくは、I10〜2の範囲を示す
。] 上記−数式[IIで表されるジアゾ樹脂としては好まし
くは分子量が約500〜10,000のものが挙げられ
る。
- Formula [1] [In the formula, R12, R13R14 are each a hydrogen atom,
It represents an alkyl group or an alkoxy group, preferably a hydrogen atom. RI5 represents a hydrogen atom, an alkyl group or a phenyl group, preferably a hydrogen atom. X represents the counter anion of the diazo resin, specifically, PFa, B
F4. Represents organic carboxylic acids such as decanoic acid and benzoic acid, organic phosphoric acids such as phenylphosphoric acid, and sulfonic acids such as methanesulfonic acid. Y represents NH, S, 0. Furthermore, 2 is at least one or more selected from a sulfonic acid group, a sulfonate (Na salt, K salt, etc.) group, a sulfine group, a sulfinate group (Na salt, K salt, etc.), an OH group, and a COOH group. The ratio of Ill and n, which represents a phenyl group or a naphthyl group substituted with a substituent, is m/n in molar ratio.
-110 to 10, preferably I10 to 2. ] The diazo resin represented by the above-mentioned formula [II] preferably has a molecular weight of about 500 to 10,000.

感光層中のジアゾ樹脂の含有量は、好ましくは1〜フO
重量%、更に好ましくは3〜60重量%の範囲から選ば
れる。
The content of the diazo resin in the photosensitive layer is preferably from 1 to 0.
It is selected from the range of 3% to 60% by weight, more preferably 3% to 60% by weight.

ネガ型湿し水不要感光性平版印刷版においてはオルトキ
ノンジアジド化合物が用いられるが、該化合物としては
例えば、フェノール類およびアルデヒド類またはケトン
類の重縮合樹脂と下記−数式[II ]または一般数式
 III ]で表されるオルトキノンジアジドスルホン
酸またはカルボン酸誘導体とを化学的に縮合させること
により得らゎるオルトキノンジアジドスルホン酸エステ
ルまたはカルボン酸エステルが挙げられる。
Orthoquinonediazide compounds are used in negative-working photosensitive lithographic printing plates that do not require dampening water. Examples of such compounds include polycondensation resins of phenols and aldehydes or ketones and the following formula [II] or general formula III. Examples include orthoquinonediazide sulfonic acid esters or carboxylic acid esters obtained by chemically condensing orthoquinonediazide sulfonic acid or carboxylic acid derivatives represented by the following.

一般式[I夏]       −数式[III ](式
中、Xは一5OzYまたは−coyで示される基で、Y
はハロゲン原子、アルカリ金属等の縮合の際除去し得る
基を表す。) 上記−数式[11]で表される化合物の具体例としては
、1.2−ベンゾキノンジアジド(2)−4−スルホニ
ルクロリド、1.2−ベンゾキノンジアジド(2)−4
−カルボニルクロリド、1゜2−ベンゾキノンジアジド
(2)−5−スルホニルクロリド、1.2−ベンゾキノ
ンジアジド(2)−5−カルボニルクロリド等が挙げら
れる。
General formula [I summer] - Numerical formula [III] (wherein, X is a group represented by -5OzY or -coy, and Y
represents a group that can be removed during condensation of a halogen atom, alkali metal, etc. ) Specific examples of the compound represented by the above formula [11] include 1,2-benzoquinonediazide (2)-4-sulfonyl chloride, 1,2-benzoquinonediazide (2)-4
-carbonyl chloride, 1°2-benzoquinonediazide (2)-5-sulfonyl chloride, 1,2-benzoquinonediazide (2)-5-carbonyl chloride, and the like.

上記−数式[Ill ]で表される化合物の具体例とし
ては、1.2−ナフトキノンジアジド(2) −4−ス
ルホニルクロリド、1.2−ナフトキノンジアジド(2
)−4−カルボニルクロリド、12−ナフトキノンジア
ジド(2)−5−スルホニルクロリド、1.2−ナフト
キノンジアジド(2)−5−カルボニルクロリド等が挙
げられる。
Specific examples of the compound represented by the above formula [Ill] include 1,2-naphthoquinonediazide (2) -4-sulfonyl chloride, 1,2-naphthoquinonediazide (2)
)-4-carbonyl chloride, 12-naphthoquinonediazide (2)-5-sulfonyl chloride, 1,2-naphthoquinonediazide (2)-5-carbonyl chloride, and the like.

フェノール類およびアルデヒド類またはケトン類の重縮
合樹脂としては、例えば特公昭43−28403号公報
に記載されているごとく、ピロガロールとアセトンの重
縮合物、特開昭55−76346号公報に記載されてい
るごとく、ピロガロールとレゾルシンの混合物とアセト
ンの重縮合物、特公昭45−9610号公報に記載され
ているごとく、フェノール・ホルムアルデヒド・ノボラ
ック樹脂あるいは、メタクレゾール・ホルムアルデヒド
・ノボラック樹脂、特公昭50−5083号に記載され
ているごとくパラ置換フェノール・ホルマリン樹脂(例
えばパラクレゾール・ホルマリン樹脂、パラ−t−ブチ
ルフェノール・ホルマリン樹脂、パラエチルフェノール
・ホルマリン樹脂、パラプロピルフェノール・ホルマリ
ン樹脂、パライソプロピルフェノール・ホルマリン樹脂
、パラ−n−ブチルフェノール・ホルマリン樹脂、パラ
オクチルフェノール・ホルマリン樹脂等)、特公昭62
−60407号公報に記載されているごとく、炭素原子
数3〜12のアルキル基またはフェニル基置換フェノー
ルとフェノールまたはそのメチル置換体あるいはこれら
の混合物とをモル比1:9〜9:1で含むフェノール類
混合物とホルムアルデヒドの重縮合物(例えば前記パラ
置換フェノールとフェノール、バラクレゾール、メタク
レゾールの重縮金物など)等が挙げられる。
Examples of polycondensation resins of phenols and aldehydes or ketones include polycondensates of pyrogallol and acetone as described in Japanese Patent Publication No. 43-28403, and polycondensates of pyrogallol and acetone as described in Japanese Patent Publication No. 55-76346. As described in Irugoto, a polycondensate of a mixture of pyrogallol and resorcin and acetone, as described in Japanese Patent Publication No. 45-9610, phenol formaldehyde novolak resin or metacresol formaldehyde novolac resin, Japanese Patent Publication No. 50-5083 Para-substituted phenol/formalin resins (e.g. para-cresol/formalin resin, para-t-butylphenol/formalin resin, para-ethylphenol/formalin resin, para-propylphenol/formalin resin, para-isopropylphenol/formalin resin) , para-n-butylphenol/formalin resin, para-octylphenol/formalin resin, etc.), Special Publication 1986
Phenol containing a phenol substituted with an alkyl group or a phenyl group having 3 to 12 carbon atoms and phenol or its methyl substituted product or a mixture thereof in a molar ratio of 1:9 to 9:1, as described in Publication No. -60407. Polycondensates of formaldehyde and formaldehyde mixtures (for example, polycondensates of the para-substituted phenol and phenol, vala-cresol, metacresol, etc.) can be mentioned.

フェノール類およびアルデヒド類またはケトン類の重縮
合樹脂の水酸基に対するオルトキノンジアジド基のエス
テル化率は、15〜100モル%が好ましく20〜80
モル%がより好ましい。
The esterification rate of the orthoquinone diazide group to the hydroxyl group of the polycondensation resin of phenols and aldehydes or ketones is preferably 15 to 100 mol%, and 20 to 80 mol%.
Mol% is more preferred.

更にオルトキノンジアジド化合物として、ポリヒドロキ
シベンゾフェノンのオルトナフトキノンシアシトスルホ
ン酸エステル(例えば1.2−ナフトキノンジアジド(
2)−5−スルホン酸エステル、1.2−ナフトキノン
ジアジド(2)−4−スルホン酸エステルなど)が挙げ
られる。
Furthermore, as an orthoquinonediazide compound, orthonaphthoquinone cyanosulfonic acid ester of polyhydroxybenzophenone (for example, 1,2-naphthoquinonediazide (
2)-5-sulfonic acid ester, 1,2-naphthoquinonediazide (2)-4-sulfonic acid ester, etc.).

このポリヒドロキシベンゾフェノンは、ベンゾフェノン
の水素原子2個以上を水酸基に置換してなる化合物、例
えば、ジヒドロキシベンゾフェノン、トリヒドロキシベ
ンゾフェノン、テトラヒドロキシベンゾフェノン、ペン
タヒドロキシベンゾフェノン、オクタヒドロキシベンゾ
フェノン、またはその誘導体、(例えば、ハロゲン原子
、アルキル基、アリール基、アラルキル基、カルボン酸
基の置換基)等が挙げられる。好ましくは、トリヒドロ
キシベンゾフェノンまたはテトラヒドロキシベンゾフェ
ノンであり、より好ましくは、2゜3.4−1リヒドロ
キシベンゾフエノン、23.4.4’ −テトラヒドロ
キシベンゾフェノンが挙げられる。
This polyhydroxybenzophenone is a compound formed by replacing two or more hydrogen atoms of benzophenone with hydroxyl groups, such as dihydroxybenzophenone, trihydroxybenzophenone, tetrahydroxybenzophenone, pentahydroxybenzophenone, octahydroxybenzophenone, or a derivative thereof (for example, Examples include substituents for halogen atoms, alkyl groups, aryl groups, aralkyl groups, and carboxylic acid groups. Preferred are trihydroxybenzophenone or tetrahydroxybenzophenone, and more preferred are 2°3.4-1-lyhydroxybenzophenone and 23.4.4'-tetrahydroxybenzophenone.

また、水酸基に対するエステル化率は、30〜100%
が好ましい。
In addition, the esterification rate for hydroxyl groups is 30 to 100%.
is preferred.

本発明においてはオルトキノンジアジド化合物として上
記の化合物を各々単独で用いてもよいし、2種以上組合
せて用いてもよい。
In the present invention, each of the above compounds may be used alone as the orthoquinone diazide compound, or two or more thereof may be used in combination.

上記に挙げたこれらのオルトキノンジアジド化合物の中
で、2,3.4−)−ジヒドロキシベンゾフェノンの1
.2−ナフトキノンジアジド(2)−5−スルホン酸エ
ステルまたは1,2−ナフトキノンジアジド(2)−4
−スルホン酸エステル、メタクレゾール・ホルムアルデ
ヒド・ノボラック樹脂の1.2−ナフトキノンジアジド
(2)−5−スルホン酸エステルまたは1,2−ナフト
キノンジアジド(2)−4−スルホン酸エステルあるい
は、これらの混合物がより好ましく用いられる。
Among these orthoquinone diazide compounds listed above, 1 of 2,3,4-)-dihydroxybenzophenone
.. 2-naphthoquinonediazide (2)-5-sulfonic acid ester or 1,2-naphthoquinonediazide (2)-4
- Sulfonic acid ester, 1,2-naphthoquinonediazide (2)-5-sulfonic acid ester or 1,2-naphthoquinonediazide (2)-4-sulfonic acid ester of metacresol formaldehyde novolak resin, or a mixture thereof. More preferably used.

上記オルトキノンジアジド化合物の感光層中にしめる割
合は好ましくは5〜60重量%、更に好ましくは20〜
50重量%である。
The proportion of the above-mentioned orthoquinonediazide compound in the photosensitive layer is preferably 5 to 60% by weight, more preferably 20 to 60% by weight.
It is 50% by weight.

また前記感光層に用いられるバインダー樹脂としてはア
クリル樹脂、ノボラック樹脂等が挙げられる。アクリル
樹脂の共重合構成成分としては、共重合可能なモノマー
すべで用いることかてぎ、特にラジカル重合用モノマー
としては、下記の不飽和結合を有する化合物が用いられ
る。
Further, examples of binder resins used in the photosensitive layer include acrylic resins and novolak resins. As a copolymerizable component of the acrylic resin, any monomer that can be copolymerized can be used. In particular, as a monomer for radical polymerization, the following compounds having an unsaturated bond can be used.

(1)水酸基を有するモノマー類: 2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒド
ロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ
ペンチル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシフェニ
ル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシフェニル(メ
タ)アクリレート等の(メタ)アクリレートモノマー類
:N−メチロール(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロ
キシエチル(メタ)アクリルアミド、N−(ヒドロキシ
フェニル)−(メタ)アクリルアミド、N−(ヒドロキ
シナフチル)−(メタ)アクリルアミド等の(メタ)ア
クリルアミドモノマー類;0−1m−5p−ヒドロキシ
スチレンモノマー類等、(2)(1)以外の(メタ)ア
クリル酸エステルまたはアミドモノマー類: メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレ
ート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)
アクリレート等のアルキル(メタ)アクリレート類;N
−フェニル(メタ)アクリルアミド、吋、m−1p−メ
トキシフェニル(メタ)アクリルアミド、o−、m−、
p−二トキシフェニル(メタ)アクリルアミド等、 (3)側鎖にシアノ基を有するモノマー類;(メタ)ア
クリロニドニトリル、2−ペンテニトリル、2−メチル
−3−ブテンニトリル、2−シアノエチルアクリレート
、o−、m−、p−シアノスチレン等、 (4)側鎖にカルボン酸を有する千ツマー類:(メタ)
アクリル酸、イタコン酸およびその無水物、マレイン酸
およびその無水物、クロトン酸等、 (5)ビニルエーテル類: プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オク
チルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等、 (6)スチレン類。
(1) Monomers having hydroxyl groups: 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 2-hydroxypentyl (meth)acrylate, 4-hydroxyphenyl (meth)acrylate, 2-hydroxyphenyl ( (Meth)acrylate monomers such as meth)acrylate: N-methylol(meth)acrylamide, N-hydroxyethyl(meth)acrylamide, N-(hydroxyphenyl)-(meth)acrylamide, N-(hydroxynaphthyl)-(meth) ) (meth)acrylamide monomers such as acrylamide; 0-1m-5p-hydroxystyrene monomers, etc. (2) (meth)acrylic acid ester or amide monomers other than (1): methyl (meth)acrylate, ethyl ( meth)acrylate, propyl(meth)acrylate, butyl(meth)acrylate
Alkyl (meth)acrylates such as acrylate; N
-phenyl (meth)acrylamide, 吋, m-1p-methoxyphenyl (meth)acrylamide, o-, m-,
p-nitoxyphenyl (meth)acrylamide, etc. (3) Monomers having a cyano group in the side chain; (meth)acrylonidonitrile, 2-pentenitrile, 2-methyl-3-butenenitrile, 2-cyanoethyl acrylate, o-, m-, p-cyanostyrene, etc. (4) Chimers having carboxylic acid in the side chain: (meth)
(5) Vinyl ethers: propyl vinyl ether, butyl vinyl ether, octyl vinyl ether, phenyl vinyl ether, etc. (6) Styrenes.

α−メチルスチレン、メチルスチレン、クロロメチルス
チレン、スチレン等、 (7)ビニルケトン類: メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビ
ニルケトン等、 (8)(1)〜(7)以外のモノマー類:エチレン、プ
ロピレン、イソブチレン、ブタジェン、塩化ビニル等の
オレフィン類、N−ビニルピロリドン、N−ビニルカル
バゾール、4−ビニルピリジン等が挙げられるが、その
他これら千ツマー類とラジカル共重合を起こしつる千ツ
マ−であればよい。
α-methylstyrene, methylstyrene, chloromethylstyrene, styrene, etc. (7) Vinyl ketones: methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, propyl vinyl ketone, etc. (8) Monomers other than (1) to (7): ethylene , propylene, isobutylene, butadiene, olefins such as vinyl chloride, N-vinylpyrrolidone, N-vinylcarbazole, 4-vinylpyridine, etc.; Good to have.

本発明においては、感光層には、以上に説明した各素材
のほかに、ポジ型ネガ型いずれにおいても必要に応じて
更に染料、顔料、塗布性向上剤、可塑剤、感脂化剤、安
定化剤等を添加することが出来る。ポジ型の湿し水不要
感光性平版印刷版の感光層には更に公知の露光可視画イ
」与剤を含有させることが有利である。
In the present invention, in addition to the above-mentioned materials, the photosensitive layer may also include dyes, pigments, coating properties improvers, plasticizers, sensitizers, stabilizers, etc. A curing agent etc. can be added. It is advantageous for the photosensitive layer of the positive type photosensitive lithographic printing plate that does not require dampening water to further contain a known exposure-visible image coloring agent.

上記の染料としては、例えばビクトリアピュアーブルー
BOH,オイルブルー#603.オイルピンク#312
、パテントピュアブルー、クリスタルバイオレット、ロ
イコクリスタルバイオレット、ブリリアントグリーン、
エチルバイオレット、メチルグリーン、エリスロシンB
1ヘイシックツクシン、マラカイトグリーン、ロイコマ
ラカイトグリーン、m−クレゾールパープル、クレゾー
ルレッド、キシレノールブルー ローダミンB1オーラ
ミン、4−p−ジエチルアミノフェニルイミノナフトキ
ノン、シアノ−p−ジエチルアミノフェニルアセトアニ
リド、等に代表されるトリフェニルメタン系、ジフェニ
ルメタン系、オキサジン系、キサンチン系、イミノナフ
トキノン系、アゾメチン系またはアントラキノン系の色
素が挙げられる。
Examples of the above dyes include Victoria Pure Blue BOH, Oil Blue #603. Oil pink #312
, patent pure blue, crystal violet, leuco crystal violet, brilliant green,
Ethyl violet, methyl green, erythrosin B
1 Heisic Tsuksin, malachite green, leucomalachite green, m-cresol purple, cresol red, xylenol blue Rhodamine B1 auramine, 4-p-diethylaminophenylimino naphthoquinone, cyano-p-diethylaminophenyl acetanilide, etc. Examples include phenylmethane-based, diphenylmethane-based, oxazine-based, xanthine-based, iminonaphthoquinone-based, azomethine-based, and anthraquinone-based dyes.

染料は、感光層中に通常的0.01〜約10重量%、好
ましくは約0.05〜8重量%含有させる。
The dye is generally contained in the photosensitive layer in an amount of 0.01 to about 10% by weight, preferably about 0.05 to 8% by weight.

塗布性向上剤としては、アルキルエーテル類(例えばエ
チルセルロース、メチルセルロース)、フッ素系界面活
性剤類や、ノニオン系界面活性剤(例えば、プルロニッ
クL64(旭電化社製))等が挙げられる。
Examples of the coating property improver include alkyl ethers (eg, ethyl cellulose, methyl cellulose), fluorine-based surfactants, nonionic surfactants (eg, Pluronic L64 (manufactured by Asahi Denka)), and the like.

塗膜の柔軟性、耐摩耗性を賦与するための可塑剤として
は、例えばブチルフタリル、ポリエチレングリコール、
クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブ
チル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン
酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチ
ル、オレイン酸テトラヒドラフルフリル、アクリル酸ま
たはメタクリル酸のオリゴマー等が挙げられる。
Examples of plasticizers for imparting flexibility and abrasion resistance to coating films include butylphthalyl, polyethylene glycol,
Examples include tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrafurfuryl oleate, oligomers of acrylic acid or methacrylic acid, etc. .

これらの添加剤の添加量はその使用対象目的によって異
なるが、一般に全固形分に対して0,01重量%〜30
重量%が好ましい。
The amount of these additives added varies depending on the purpose of use, but is generally 0.01% to 30% by weight based on the total solid content.
Weight percent is preferred.

本発明に用いられる感光層の膜厚は通常0.2〜100
 μm、好ましくは、0.5〜20μmである。
The thickness of the photosensitive layer used in the present invention is usually 0.2 to 100.
μm, preferably 0.5 to 20 μm.

本発明においては感光層上にシリコーンゴム層が塗設さ
れる。本発明のシリコーンゴム層に用いられるシリコー
ンゴムとしては絹状、あるいはある程度架橋したポリオ
ルガノシロキサンが好ましい。
In the present invention, a silicone rubber layer is coated on the photosensitive layer. The silicone rubber used in the silicone rubber layer of the present invention is preferably silk-like or crosslinked polyorganosiloxane to some extent.

該ポリオルガノシロキサンは、分子量が通常壬ないし数
十万のものであり、常温では液体ないしはワックスまた
は餅状に適度に架橋されたものである。
The polyorganosiloxane usually has a molecular weight of 100,000 to several hundred thousand, and is suitably crosslinked in the form of a liquid, wax, or cake at room temperature.

該ポリオルガノシロキサンは架橋の方法により縮合型と
付加型に分けられる。
The polyorganosiloxane is classified into condensed type and addition type depending on the method of crosslinking.

縮合型は縮合反応によって架橋が行われるもので反応に
よって水、アルコール、有機酸などが放出される。特に
有用な縮合型のシリコーンゴムとしては、両末端あるい
は主鎖の1部に水酸基、アセトキシ基等を有する線状ポ
リオルガノシロキサンとシリコーン架橋剤の混合物か、
水酸基にシリコーン架橋剤を反応させたものが挙げられ
、いずれも縮合触媒を加えた方が架橋速度の点て有利で
ある。
In the condensed type, crosslinking is performed by a condensation reaction, and water, alcohol, organic acid, etc. are released by the reaction. Particularly useful condensation type silicone rubbers include mixtures of linear polyorganosiloxanes having hydroxyl groups, acetoxy groups, etc. at both ends or in a part of the main chain, and silicone crosslinking agents;
Examples include those in which hydroxyl groups are reacted with a silicone crosslinking agent, and in any case, adding a condensation catalyst is advantageous in terms of crosslinking speed.

上記ポリオルガノシロキサンの主鎖は、下記の繰り返し
単位を有する。
The main chain of the polyorganosiloxane has the following repeating units.

(Si−0+ 式中、R+およびR2は各々置換基を有していても良い
アルキル基、アリール基、アルケニル基またはその組み
合せであり、メチル基、フェニル基、ビニル基、トリフ
ルオロプロピル基か好ましく、特にメチル基が好ましい
(Si-0+ In the formula, R+ and R2 are an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, each of which may have a substituent, or a combination thereof, and preferably a methyl group, a phenyl group, a vinyl group, or a trifluoropropyl group. , particularly a methyl group.

上記シリコーン架橋剤としては、 または−〇H(式中、RとR′はアルキル基である)で
表される官能基を持つ、いわゆる脱酢酸型、脱オキシム
型、脱アルコール型、脱アミン型、脱水型などの縮合型
シリコーン架橋剤が挙げられる。このような架橋剤の例
としては、テトラアセトキシシラン、メチルトリアセト
キシシラン、エチルトリアセトキシシラン、フェニルト
リアセトキシシラン、ジメチルジアセトキシシラン、ジ
エチルジアセトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラ
ン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシ
ラン、ビニルトリメトキシシラン、メチルトリス(アセ
トンオキシム)シラン、メチルトリ(N−メチル−N−
アセチルアミノ)シラン、ビニルトリ(メチルエチルケ
トオキシム)シラン、メチルトリ(メチルエチルケトオ
キシム)シランまたはそのオゴリマーなどを挙げること
ができる。
The above-mentioned silicone crosslinking agents include the so-called acetic acid-removal type, oxime-removal type, alcohol-removal type, and deamine-removal type, which have a functional group represented by -〇H (in the formula, R and R' are alkyl groups). and dehydrated type silicone crosslinking agents. Examples of such crosslinkers include tetraacetoxysilane, methyltriacetoxysilane, ethyltriacetoxysilane, phenyltriacetoxysilane, dimethyldiacetoxysilane, diethyldiacetoxysilane, vinyltriacetoxysilane, methyltrimethoxysilane, dimethyl Dimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, methyltris(acetoneoxime)silane, methyltri(N-methyl-N-
Examples include acetylamino)silane, vinyltri(methylethylketoxime)silane, methyltri(methylethylketoxime)silane, and oligolimers thereof.

これらの架橋剤は、いずれもポリオルガノシロキサン1
00重量部に対して0.5〜30重量部の範囲とするの
がよい。
These crosslinking agents are all polyorganosiloxane 1
The amount is preferably in the range of 0.5 to 30 parts by weight per 00 parts by weight.

前記縮合触媒としては、有機のカルボン酸、チタン酸エ
ステル、アセチルアセトン金属錯体、塩化白金酸、ナフ
テン酸等があげられる。
Examples of the condensation catalyst include organic carboxylic acids, titanate esters, acetylacetone metal complexes, chloroplatinic acid, naphthenic acid, and the like.

付加型とは、本体中の不飽和基、例えばビニル基(−C
H=CH,)に架橋剤中の水系基が付加して架橋するよ
うなものを言う。
The addition type refers to an unsaturated group in the main body, such as a vinyl group (-C
It refers to something that is crosslinked by adding a water-based group in a crosslinking agent to H=CH,).

具体的にはビニル基含有オルガノポリシロキサン、水素
化オルガノポリシロキサン等に白金系触媒(例えば塩化
白金酸)等を混合させたものが挙げられる。
Specifically, examples include vinyl group-containing organopolysiloxanes, hydrogenated organopolysiloxanes, and the like mixed with platinum-based catalysts (for example, chloroplatinic acid).

該ポリオルガノシロキサンは主鎖に前記縮合型と同様の
繰り返し単位を有する。
The polyorganosiloxane has repeating units similar to those of the condensed type in the main chain.

本発明のシリコーンゴム層には、縮合型および付加型シ
リコーンゴムのいずれかあるいは両方用いる事が可能で
ある。
In the silicone rubber layer of the present invention, either or both of condensation type and addition type silicone rubber can be used.

また1つのポリオルガノシロキサンの中に水酸基と不飽
和基等を有する縮合かつ付加型のものを使用する事も可
能である。
It is also possible to use condensed and addition type polyorganosiloxanes having hydroxyl groups, unsaturated groups, etc. in one polyorganosiloxane.

尚、本発明においては感光層とシリコーン層との間にア
クリル系樹脂等から成る接着層を設けても良く、接着層
には種々の反応性架橋剤、シランカップリング剖等を含
むこともでき、また、接着層の膜厚としては0.1 m
g/dm’〜5 mg/dm2が好ましい。
In the present invention, an adhesive layer made of acrylic resin or the like may be provided between the photosensitive layer and the silicone layer, and the adhesive layer may also contain various reactive crosslinking agents, silane coupling agents, etc. , and the thickness of the adhesive layer is 0.1 m.
g/dm' to 5 mg/dm2 is preferred.

本発明に用い得る基板としては、通常の平版印刷機にセ
ットできるたわみ性を有し、印刷時にかかる荷重に耐え
つるものであればいかなるものも用いることができ層構
成も含めて特に制限されない。例えば、コート紙などの
紙類、アルミニウム板などの金属板、あるいは、ポリエ
チレンテレフタレートなどのプラスチックフィルムを例
として挙げることができる。
As the substrate that can be used in the present invention, any substrate can be used as long as it has the flexibility to be set in a normal lithographic printing machine and can withstand the load applied during printing, and there are no particular restrictions on the layer structure. Examples include papers such as coated paper, metal plates such as aluminum plates, and plastic films such as polyethylene terephthalate.

特に、アルミニウム板、又は、アルミニウム箔と他の複
合材が好ましく、耐剛性の点から、アルミニウム板が特
に好ましい。
In particular, an aluminum plate or a composite material of aluminum foil and other materials is preferable, and from the viewpoint of rigidity, an aluminum plate is particularly preferable.

また、保存性の点から、基板、特にアルミニウム板、ま
たはアルミニウム箔と他の複合材は公知の方法で表面処
理して使用することもできる。
In addition, from the viewpoint of storage stability, the substrate, particularly an aluminum plate, or a composite material of aluminum foil and other materials, can be surface-treated by a known method before use.

このような表面処理としては例えば、アルミニウム板の
表面をケイ酸塩で処理する方法(米国特許第2,714
,066号)、有機酸塩で処理する方法(米国特許第2
,714,066号)、ホスホン酸およびそれらの話導
体で処理する方法(米国特許第3,220,832号)
、ヘキサフルオロジルコン酸カリウムで処理する方法(
米国特許第2,946,683号)、陽極酸化する方法
および陽極酸化後、アルカリ金属ケイ酸塩の水溶液で処
理する方法(米国特許第3,181,461号)等があ
る。
Such surface treatment includes, for example, a method of treating the surface of an aluminum plate with silicate (U.S. Pat. No. 2,714).
, 066), a method of treatment with organic acid salts (U.S. Patent No. 2
, 714,066), methods of treatment with phosphonic acids and their conductors (U.S. Pat. No. 3,220,832)
, a method of treatment with potassium hexafluorozirconate (
(U.S. Pat. No. 2,946,683), a method of anodizing, and a method of treating with an aqueous solution of an alkali metal silicate after anodizing (U.S. Pat. No. 3,181,461).

このような支持体には、感光層と支持体との十分な接着
性を得るために、プライマー層を設け、ついで感光層を
設ける。
Such a support is provided with a primer layer and then a photosensitive layer in order to obtain sufficient adhesion between the photosensitive layer and the support.

本発明の版材を構成する各層の厚さは、以下の通りであ
る。即ち支持体は50〜400μm、好ましくは100
〜300μm 感光層は0.05〜10μ11好ましく
は0.1〜1.0 μm1シリコ一ンゴム層は0.5〜
100μm、好ましくは1〜4μmである。プライマー
層は0.1〜20μm、好ましくは0.3〜10μmで
ある。
The thickness of each layer constituting the plate material of the present invention is as follows. That is, the support has a thickness of 50 to 400 μm, preferably 100 μm.
~300μm Photosensitive layer: 0.05~10μm, preferably 0.1~1.0μm, silicone rubber layer: 0.5~10μm
It is 100 μm, preferably 1 to 4 μm. The primer layer has a thickness of 0.1 to 20 μm, preferably 0.3 to 10 μm.

本発明において、シリコーンゴム層の上面には必要に応
じて保護層を有していてもよい。
In the present invention, a protective layer may be provided on the upper surface of the silicone rubber layer, if necessary.

本発明の湿し水不要の版材は、例えば、次のようにして
製造される。
The plate material of the present invention that does not require dampening water is manufactured, for example, as follows.

支持体上に、リバースロールコータ、エアーナイフコー
タ、メーヤバーコータ等の通常のコータあるいはホエラ
ーのような回転塗布装置を用い、プライマー層を構成す
べき組成物溶液を塗布乾燥し架橋硬化させる。次いで感
光層を構成すべき組成物溶液を塗布乾燥する。
A composition solution to form a primer layer is applied onto a support using a conventional coater such as a reverse roll coater, an air knife coater, a Meyer bar coater, or a rotary coating device such as a Whaler, and is dried and crosslinked to cure. Next, a composition solution to form a photosensitive layer is applied and dried.

上記感光層上にシリコーンゴム溶液を同様な方法で塗布
し、通常100〜【20℃の温度で数分間熱処理して、
十分に硬化せしめてシリコーンゴム層を形成する。必要
に応じて該シリコーンゴム層上にラミネーターを用いて
保護フィルムを設けることができる。
A silicone rubber solution is applied on the photosensitive layer in the same manner, and then heat-treated at a temperature of usually 100 to 20°C for several minutes.
Fully cure to form a silicone rubber layer. If necessary, a protective film can be provided on the silicone rubber layer using a laminator.

次に本発明の湿し水不要の版材料を用いて湿し水不要の
印刷版を製造する方法を説明する。
Next, a method for manufacturing a printing plate that does not require dampening water using the plate material that does not require dampening water of the present invention will be explained.

原稿であるポジフィルムをポジ型版材表面に真空密着さ
せ、露光する。この露光用の光源は、紫外線を豊富に発
生する水銀灯、カーボンアーク灯、キセノンランプ、メ
タルハライドランプ、蛍光等が用いられる。
A positive film, which is the manuscript, is vacuum-adhered to the surface of the positive plate material and exposed. As a light source for this exposure, a mercury lamp, a carbon arc lamp, a xenon lamp, a metal halide lamp, a fluorescent lamp, etc., which generate abundant ultraviolet rays, are used.

次いでポジフィルムを剥がし、現像液を用いて現像する
。現像液としては湿し水不要の版材の現像液として、公
知のものが利用できるが、好ましくは水系現像液が用い
られる。
Next, the positive film is peeled off and developed using a developer. As the developer, any known developer can be used for plate materials that do not require dampening water, but preferably an aqueous developer is used.

水系現像液とは、水を主成分とする現像液であり、例え
ば特開昭61−275759等公報に記載されているも
ので、水を30重量%以上、好ましくは50重量%〜9
8重量%と、有機溶剤、界面活性剤を含現像液を挙げる
ことができ、更に好ましくはアルカリ剤を含有する。
The aqueous developer is a developer containing water as a main component, such as those described in Japanese Patent Laid-Open No. 61-275759, etc., which contain water in an amount of 30% by weight or more, preferably 50% by weight to 9% by weight.
Examples include a developer containing 8% by weight of an organic solvent and a surfactant, and more preferably an alkali agent.

水を主成分とする現像液に含有する有機溶剤としては、
例えば脂肪族炭化水素類(ヘキサン、ヘプタン、  ア
イソパーE、H,G” (エッソ化学社製、脂肪族炭化
水素類の商品名)或はガソリン、灯油等)、芳香族炭化
水素類(トルエン、キシレン等)、或はハロゲン化炭化
水素類(トリクレン等)、 アルコール類(メタノール、エタノール、1−ブトキシ
−2−プロパツール、3−メチル−3−メトキシブタノ
ール、β−アニリノエタノール、ベンジルアルコール等
)、エーテル類(メチルセロソルブ、エチルセロソルブ
、ブチルセロソルブ、フェニルセロソルブ、メチルカル
ピトール、エチルカルピトール、ブチルカルピトール、
ジオキサン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、
ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレング
リコールジブチルエーテル、エチレングリコールジブチ
ルエーテル、プロピレングリコール、ジプロピレングリ
コールブチルエーテル、トリプロピレングリコールメチ
ルエーテル、ポリプロピレングリコールメチルエーテル
等)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、メチ
ルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、4−メチル
−1,3−ジオキソラン−2−オン等)、エステル類(
酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ヘキシル、酢酸メチル
、酢酸プロピル、こはく酸ジエチル、蓚酸ジブチル、マ
レイン酸ジエチル、安息香酸ベンジル、メチルセロソル
ブアセテート、セロソルブアセテート、カルピトールア
セテート等)等が挙げられる。
Organic solvents contained in water-based developers include:
For example, aliphatic hydrocarbons (hexane, heptane, Isopar E, H, G" (manufactured by Esso Chemical Co., Ltd., product name of aliphatic hydrocarbons), gasoline, kerosene, etc.), aromatic hydrocarbons (toluene, xylene, etc.) ), or halogenated hydrocarbons (triclene, etc.), alcohols (methanol, ethanol, 1-butoxy-2-propatol, 3-methyl-3-methoxybutanol, β-anilinoethanol, benzyl alcohol, etc.) , ethers (methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, phenyl cellosolve, methyl calpitol, ethyl calpitol, butyl calpitol,
dioxane, diethylene glycol dimethyl ether,
Diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dibutyl ether, ethylene glycol dibutyl ether, propylene glycol, dipropylene glycol butyl ether, tripropylene glycol methyl ether, polypropylene glycol methyl ether, etc.), ketones (acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, diisobutyl ketone, 4- methyl-1,3-dioxolan-2-one, etc.), esters (
ethyl acetate, propyl acetate, hexyl acetate, methyl acetate, propyl acetate, diethyl succinate, dibutyl oxalate, diethyl maleate, benzyl benzoate, methyl cellosolve acetate, cellosolve acetate, carpitol acetate, etc.).

本発明の現像液に添加される界面活性剤としては、アニ
オン界面活性剤、ノニオン界面活性剤、カチオン界面活
性剤および両性イオン界面活性剤が用いられ、具体的に
は以下のものが挙げられる。
As the surfactant added to the developer of the present invention, anionic surfactants, nonionic surfactants, cationic surfactants and amphoteric ionic surfactants are used, and specific examples include the following.

アニオン界面活性剤としては、 (1)高級アルコール硫酸エステル類、(例えばラウリ
ルアルコールサルフェートのナトリウム塩、オクチルア
ルコールサルフェートのアンモニウム塩、ラウリ、ルア
ルコールサルフェートのアンモニウム塩。第二ナトリウ
ムアルキルサルフェート等) (2)脂肪族アルコールリン酸エステル塩類(例えば、
セルアルコールリン酸エステルのナトリウム塩等) (3)アルキルアリールスルホン酸塩類例えば、ドデシ
ルベンゼンスルホン酸ナトリウム塩、イソプロピルナフ
タレンスルホン酸ナトリウム塩、ジナフタレンスルホン
酸ナトリウム塩、メタニトロベンゼンスルホン酸ナトリ
ウム塩等) (4)アルキルアミドスルホン酸塩類 (5)二塩基脂肪族エステルのスルホン酸塩類(例えば
ナトリウムスルホコハク酸ジオクチルエステル、ナトリ
ウムスルコハク酸ジヘキシルエステル等) (6)アルキルナフタレンスルホン酸塩のホルムアルデ
ヒド縮合物(例えば、ジブチルナフタレンスルホン酸ナ
トリウムのホルムアルデヒド縮合物等)が挙げられる。
Examples of anionic surfactants include (1) higher alcohol sulfate esters (e.g. sodium salt of lauryl alcohol sulfate, ammonium salt of octyl alcohol sulfate, ammonium salt of lauryl alcohol sulfate, dibasic sodium alkyl sulfate, etc.) (2) ) Aliphatic alcohol phosphate ester salts (e.g.
(3) Alkylaryl sulfonates such as sodium dodecylbenzenesulfonate, isopropylnaphthalenesulfonate sodium salt, dinaphthalenesulfonate sodium salt, metanitrobenzenesulfonate sodium salt, etc.) 4) Alkylamide sulfonates (5) Sulfonates of dibasic aliphatic esters (e.g., sodium sulfosuccinate dioctyl ester, sodium sulfosuccinate dihexyl ester, etc.) (6) Formaldehyde condensates of alkylnaphthalenesulfonates (e.g., (formaldehyde condensate of sodium dibutylnaphthalene sulfonate, etc.).

ノニオン界面活性剤としては、ポリオキシエリレンアル
キルエーテル、ポリオコシエチレンアルキルフェノール
エーテル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ソルビ
タン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂
肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、オキシエチ
レンオキシプロピレンブロックポリマー等が挙げられる
Examples of nonionic surfactants include polyoxyerylene alkyl ether, polyocoxyethylene alkylphenol ether, polyoxyethylene fatty acid ester, sorbitan fatty acid ester, polyoxyethylene sorbitan fatty acid ester, glycerin fatty acid ester, oxyethylene oxypropylene block polymer, etc. .

カチオン界面活性剤としては、アルキルアミン塩、第四
級アンモニウム塩、ポリオキシエチレンアルキルアミン
等が挙げられる。
Examples of the cationic surfactant include alkylamine salts, quaternary ammonium salts, polyoxyethylene alkylamines, and the like.

両性イオン界面活性剤としては、アルキルベタイン等が
挙げられるが、これらの中でもアニオン界面活性剤が通
している。
Examples of amphoteric surfactants include alkyl betaines, but among these, anionic surfactants are commonly used.

これらの界面活性剤は、単独でもまたは2種以上を組み
合せて使用することができる。
These surfactants can be used alone or in combination of two or more.

本発明に用いられる界面活性剤の使用量は、0.01重
量%〜60重量%、好ましくは0.1重量%〜10重量
%が適当である。
The appropriate amount of the surfactant used in the present invention is 0.01% to 60% by weight, preferably 0.1% to 10% by weight.

更に本発明において用いられる界面活性剤は、アルカリ
剤と共に用いることが好ましく、該アルカリ剤としては
、 (1)ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、水酸化カリ
ウム、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、第二または
第三リン酸ナトリウムまたはアンモニウム塩、メタケイ
酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、アンモニア等の無機ア
ルカリ剤、(2)モノ、ジまたはトリメチルアミン、モ
ノ、ジまたはトリエチルアミン、モノまたはジイソプロ
ピルアミン、n−ブチルアミン、モノ、ジまたはトリエ
タノールアミン、モノ、ジまたはトソイソブロパノール
アミン、エチレンイミン、エチレンジイミン等の有機ア
ミン化合物等が挙げられる。
Further, the surfactant used in the present invention is preferably used together with an alkaline agent, and the alkaline agents include (1) sodium silicate, potassium silicate, potassium hydroxide, sodium hydroxide, lithium hydroxide, or inorganic alkaline agents such as trisodium or ammonium phosphate, sodium metasilicate, sodium carbonate, ammonia, (2) mono, di or trimethylamine, mono, di or triethylamine, mono or diisopropylamine, n-butylamine, mono, Examples include organic amine compounds such as di- or triethanolamine, mono-, di- or toso-isopropanolamine, ethyleneimine, and ethylenediimine.

アルカリ剤の使用量は、0,05重量%〜20重量%、
好ましくは0.2重量%〜10重量%か適当である。
The amount of alkaline agent used is 0.05% to 20% by weight,
The amount is preferably 0.2% to 10% by weight.

またクリスタルバイオレット、アストラゾンレット等の
染料を現像液に加えて現像と同時に画像部の染色を行う
こともできる。
It is also possible to dye the image area simultaneously with development by adding a dye such as crystal violet or astrazonelet to the developer.

現像は、例えば上記のような現像液を含現像用バットで
こすったり現像液を版面に注いた後に現像ブラシでこす
る等の方法で行うことができる。
Development can be carried out, for example, by rubbing a developing solution as described above with a developing vat, or by pouring the developing solution onto the printing plate and then rubbing it with a developing brush.

上記現像により、未露光部の感光層およびシリコーンゴ
ムが除去された印刷版、あるいはシリコーンゴム層が除
去され、感光層が露出し、露光部はシリコーンゴム層が
残フている印刷版が得られる。
By the above development, a printing plate is obtained in which the photosensitive layer and silicone rubber in the unexposed areas are removed, or a printing plate in which the silicone rubber layer is removed and the photosensitive layer is exposed, and the silicone rubber layer remains in the exposed areas. .

実施例−1 [ジアゾ樹脂−1の合成] p−ジアゾジフェニルアミン硫酸塩14.5g(50ミ
リモル)を氷冷下で40.9gの濃硫酸に溶解した。こ
の反応液に1.35g (45ミリモル)のバラホルム
アルデヒドを反応温度が10tを超えないようにゆっく
り添加した。
Example-1 [Synthesis of Diazo Resin-1] 14.5 g (50 mmol) of p-diazodiphenylamine sulfate was dissolved in 40.9 g of concentrated sulfuric acid under ice cooling. To this reaction solution, 1.35 g (45 mmol) of rose formaldehyde was slowly added so that the reaction temperature did not exceed 10 tons.

この反応混合物を氷冷下、5001のエタノールに滴下
し、生した沈殿を濾過した。エタノールで洗浄後、この
沈殿物を100m1+の純水に溶解し、この液に6.8
gの塩化亜鉛を溶解した玲濃厚水溶液を加えた。
This reaction mixture was added dropwise to 5001 ethanol under ice cooling, and the resulting precipitate was filtered. After washing with ethanol, this precipitate was dissolved in 100 ml of pure water, and 6.8
A concentrated aqueous solution containing g of zinc chloride was added.

生じた沈殿を濾過した後、エタノールで洗浄し、これを
150muの純水に溶解した。この液に8gのへキサフ
ルオロリン酸アンモニウムを溶解した玲濃厚水溶液を加
えた。生じた沈殿を濾取し水洗した後、乾燥してジアゾ
樹脂−1を得た。
The resulting precipitate was filtered, washed with ethanol, and dissolved in 150 mu of pure water. To this liquid was added a concentrated aqueous solution containing 8 g of ammonium hexafluorophosphate dissolved therein. The resulting precipitate was collected by filtration, washed with water, and then dried to obtain diazo resin-1.

[アジド化合物−1の合成コ 400mI2のエタノールに4−アジドベンズアルデヒ
ト36gおよび4−アジドアセトフェノン40gを溶解
し、攪拌下25%可性ソーダ水溶液を40alを滴下し
た。
[Synthesis of Azide Compound-1] 36 g of 4-azidobenzaldehyde and 40 g of 4-azidoacetophenone were dissolved in 400 mI2 of ethanol, and 40 al of 25% aqueous sodium hydroxide solution was added dropwise with stirring.

この溶液を室温で1時間攪拌した後、得られた黄色の結
晶物を濾過採取し、アルコールで洗浄し、乾燥した。収
量64gであった。
After stirring this solution at room temperature for 1 hour, the resulting yellow crystalline substance was collected by filtration, washed with alcohol, and dried. The yield was 64g.

[環化ゴム−1の合成] 1.4−ポリブタジェンのトルエン溶液に、塩化スズ及
び三塩化酢酸を触媒量加え、40℃で60分反応させて
環化ゴムを得た。
[Synthesis of Cyclized Rubber-1] Catalytic amounts of tin chloride and acetic acid trichloride were added to a toluene solution of 1.4-polybutadiene, and the mixture was reacted at 40° C. for 60 minutes to obtain a cyclized rubber.

アルミニウム板aの製造 厚さ0.24mmのアルミニウム板を3%水酸化ナトリ
ウム水溶液に浸漬し水洗した後、32%硫酸水溶液中に
おいて温度30℃で5  A/dm’の条件で10秒間
、陽極酸化を行い、水洗し、2%メタケイ酸ナトリウム
水溶液に温度85℃で37秒間浸漬し、更に温度90℃
の水(pH8,5)に25秒間浸漬し、水洗、乾燥して
、アルミニウム板aを得た。
Production of Aluminum Plate A An aluminum plate with a thickness of 0.24 mm was immersed in a 3% aqueous sodium hydroxide solution, washed with water, and then anodized in a 32% aqueous sulfuric acid solution at a temperature of 30°C and a condition of 5 A/dm' for 10 seconds. , washed with water, immersed in a 2% sodium metasilicate aqueous solution at a temperature of 85°C for 37 seconds, and further heated to a temperature of 90°C.
The aluminum plate was immersed in water (pH 8.5) for 25 seconds, washed with water, and dried to obtain an aluminum plate a.

アルミニウム板aに下記の組成のプライマー層組成物を
塗布し、85℃で3分間乾燥した後、3KW超高圧水銀
灯を用いて10100O/cm2の前面露光を行った。
A primer layer composition having the following composition was applied to an aluminum plate a, and after drying at 85° C. for 3 minutes, front exposure was performed at 10,100 O/cm 2 using a 3 KW ultra-high pressure mercury lamp.

更に100℃で4分間乾燥して厚さ1μmのプライマー
層を形成した。
Further, it was dried at 100° C. for 4 minutes to form a primer layer with a thickness of 1 μm.

[プライマー層組成物コ アシト化合物−10,5重量部 環化ゴム−110重量部 メチルセロソルブアセテート:キシレン(1・1)  
         100重量部次に上記プライマー層
上に下記の組成の感光性組成物を塗布し、100℃で2
分間乾燥して厚さ0.3 μmの感光層を形成した。
[Primer layer composition Coresite compound - 10.5 parts by weight Cyclized rubber - 110 parts by weight Methyl cellosolve acetate: Xylene (1.1)
100 parts by weight Next, a photosensitive composition having the composition shown below was coated on the primer layer, and 2 parts by weight was applied at 100°C.
It was dried for a minute to form a photosensitive layer with a thickness of 0.3 μm.

(感光性組成物) (1)ジアゾ樹脂−150部 (2)2−ヒドロキシエチルメタクリレート、N(4−
ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド、メタクリル酸
のモル比40157/3の共重合樹脂−150部 (3)ビクトリアピュアブルーBOH(保止ケ谷化学(
株)製、染料)         1部(4)メチルセ
ロソルブ      900部次いで上記感光層上に下
記シリコーンゴム組成物を乾燥重量で1.8g/m2に
なるように塗布し、90℃で10分間乾燥した。
(Photosensitive composition) (1) Diazo resin - 150 parts (2) 2-hydroxyethyl methacrylate, N(4-
(hydroxyphenyl) methacrylamide and methacrylic acid in a molar ratio of 40157/3 copolymer resin - 150 parts (3) Victoria Pure Blue BOH (Hodogaya Chemical Co., Ltd.
(4) Methyl cellosolve 900 parts The following silicone rubber composition was coated on the photosensitive layer at a dry weight of 1.8 g/m 2 and dried at 90° C. for 10 minutes.

(シリコーンゴム層組成物) (1)両末端に水酸基を有するジメチルポリシロキサン
(分子量82,000)    100部(2)トリア
セトキシメチルシラン  10部(3)ジブチル錫ラウ
レート     0.8部(4)アイソパーE(エッソ
化学製)900部次に、上記シリコーンゴム層上に厚さ
5μのポリプロピレンフィルムをラミネートし、水なし
平版を得た。
(Silicone rubber layer composition) (1) Dimethylpolysiloxane having hydroxyl groups at both ends (molecular weight 82,000) 100 parts (2) Triacetoxymethylsilane 10 parts (3) Dibutyltin laurate 0.8 part (4) Isopar E (manufactured by Esso Chemical) 900 parts Next, a 5 μm thick polypropylene film was laminated on the silicone rubber layer to obtain a waterless planographic plate.

上記の版材料の上面にポジフィルムを真空密着させた後
、光源としてメタルハライドランプを用いて露光した。
After a positive film was vacuum-adhered to the upper surface of the above plate material, it was exposed to light using a metal halide lamp as a light source.

次に、下記の現像液−1に1分間浸漬した後、版材料の
表面を現像液を染め込ませたパッドで擦ることにより、
未露光部分のシリコーンゴム層と感光層が除去され、2
%〜98%の網点が良好に再現された印刷版が得られた
Next, after immersing it in the following developer-1 for 1 minute, the surface of the plate material is rubbed with a pad impregnated with the developer.
The silicone rubber layer and photosensitive layer in the unexposed areas are removed, and
A printing plate was obtained in which halftone dots of % to 98% were well reproduced.

またこの水なしプレートを示し水供給装置をはずしたハ
イデルベルグGTO印刷機にマウントし、黒インキ(東
洋インキ製、TOYOKING  ULTRA  TU
K  アクワレスG)により印刷した所、汚れのない印
刷物が70,000枚得られた。
This waterless plate was also mounted on a Heidelberg GTO printing machine with the water supply device removed, and black ink (manufactured by Toyo Ink, TOYOKING ULTRA TU)
70,000 sheets of clean prints were obtained when printed with K Aquares G).

[現像液] β−アニリノエタノール       0.5部ベプロ
ピレングリコール       1.0部p −ter
t−ブチル安息香酸      1.0部水酸化カリウ
ム           10部ポリオキシエチレンラ
ウリルエーテル 0.1部亜硫酸カリウム      
     2.0部メタ珪酸カリウム        
  3.0部水                  
         91 部比較例−1 実施例−1のプライマー層組成物を次のように変更した
以外は、実施例−1と同様にして湿し水不要平板印刷版
材料を得た。
[Developer] β-anilinoethanol 0.5 parts Bepropylene glycol 1.0 parts p-ter
t-Butylbenzoic acid 1.0 part Potassium hydroxide 10 parts Polyoxyethylene lauryl ether 0.1 part Potassium sulfite
2.0 parts potassium metasilicate
3.0 parts water
91 parts Comparative Example-1 A lithographic printing plate material requiring no dampening water was obtained in the same manner as in Example-1, except that the primer layer composition of Example-1 was changed as follows.

(プライマー層組成物) p−フェニレンジアルリル酸エステル と1.4−ジヒドロキシエチルオキシ シクロヘキサンとの1=1重縮合に よる感光性不飽和ポリエステル   10重量部1−メ
チル−2−ヘンジイルメチレン −β−ナフトチアゾリン      0.6重量部KB
M−603 (信越化学社製、シランカップリング剤、
N−β−(アミノ エチル)−γ−アミノプロピルトリ メトキシシラン)0.5重量部 メチルセロソルブアセテート150重量部トルエン  
             150重量部メチルセロソ
ルブ          150重量部このプライマー
層組成物を被覆した後、120℃で5分間加熱硬化させ
た。
(Primer layer composition) Photosensitive unsaturated polyester obtained by 1=1 polycondensation of p-phenylene diarylic acid ester and 1,4-dihydroxyethyloxycyclohexane 10 parts by weight 1-methyl-2-hendiylmethylene-β- Naphthothiazoline 0.6 parts by weight KB
M-603 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., silane coupling agent,
N-β-(aminoethyl)-γ-aminopropyltrimethoxysilane) 0.5 parts by weight Methyl cellosolve acetate 150 parts by weight Toluene
150 parts by weight of methyl cellosolve 150 parts by weight This primer layer composition was coated and then cured by heating at 120° C. for 5 minutes.

次いで、上記現像液を用いて現像した。Next, development was performed using the above developer.

実施例1と同様に印刷した所、50,000枚で非画像
部に汚れが発生した。
When printing was performed in the same manner as in Example 1, stains occurred in the non-image area after 50,000 sheets.

実施例−2 [アジド化合物−2の合成コ 100mj!のメタノールに4−アジドベンズアルデヒ
ド16.1gおよびシクロヘキサン5.5gを溶解し、
攪拌下25%可性ソーダ水溶液を5mRを滴下した。
Example-2 [Synthesis of azide compound-2 100mj! Dissolve 16.1 g of 4-azidobenzaldehyde and 5.5 g of cyclohexane in methanol,
While stirring, 5 mR of a 25% aqueous sodium chloride solution was added dropwise.

この溶液を室温で4時間攪拌した後、得られた黄色の結
晶物を濾過採取し、アルコールで洗浄し、乾燥した。収
量8.8gであった。
After stirring this solution at room temperature for 4 hours, the resulting yellow crystalline substance was collected by filtration, washed with alcohol, and dried. The yield was 8.8 g.

[環化ゴム−1の合成コ 1.4−ポリブタジェンのトルエン溶液に、塩化アルミ
ニウム及び三塩化酢酸を触媒量加え、40℃で20分反
応させて環化ゴムを得た。
[Synthesis of Cyclized Rubber-1] Catalytic amounts of aluminum chloride and acetic acid trichloride were added to a toluene solution of 1,4-polybutadiene, and the mixture was reacted at 40° C. for 20 minutes to obtain a cyclized rubber.

実施例−1のプライマー層組成物を次のように変更した
以外は、実施例−1と同様にして湿し水不要の平版印刷
版材料を得た。
A lithographic printing plate material requiring no dampening water was obtained in the same manner as in Example-1, except that the primer layer composition of Example-1 was changed as follows.

(プライマー層組成物) アジド化合物−20,5重量部 環化ゴム−210重量部 トルエン            100重量部実施例
−1と同様にして現像した所、未露光部分のシリコーン
ゴム層と感光層が除去され、2%〜98%の網点が良好
に再現された印刷版が得られた。
(Primer layer composition) Azide compound - 20.5 parts by weight Cyclized rubber - 210 parts by weight Toluene 100 parts by weight When developed in the same manner as in Example 1, the silicone rubber layer and photosensitive layer in the unexposed areas were removed. A printing plate in which halftone dots of 2% to 98% were well reproduced was obtained.

また実施例−1と同様にして印刷した所、汚れのない印
刷物が75,000枚得られた。
Further, when printing was carried out in the same manner as in Example 1, 75,000 sheets of prints without stains were obtained.

[発明の効果コ 本発明は、プライマー層にアジド化合物及び環化ゴムを
含有させることにより、耐剛力に冨む印刷版が得られる
と共に印刷時の汚れがない優れた印刷版が得られる。
[Effects of the Invention] In the present invention, by containing an azide compound and a cyclized rubber in the primer layer, a printing plate with high stiffness resistance and an excellent printing plate without staining during printing can be obtained.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 基板上にプライマー層、感光層及びインキ反撥層をこの
順に有する湿し水不要の感光性平版印刷版において、前
記プライマー層がアジド化合物及び環化ゴムを含有する
ことを特徴とする湿し水不要の感光性平版印刷版。
A dampening water-free photosensitive lithographic printing plate having a primer layer, a photosensitive layer, and an ink repellent layer in this order on a substrate, wherein the primer layer contains an azide compound and a cyclized rubber. photosensitive lithographic printing plate.
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