JPH02121897A - Manufacture of membrane magnetic transducer - Google Patents
Manufacture of membrane magnetic transducerInfo
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 16
- 239000012528 membrane Substances 0.000 title abstract 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 52
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 7
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 36
- 238000000227 grinding Methods 0.000 claims description 7
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 abstract description 14
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 abstract 7
- 238000005498 polishing Methods 0.000 abstract 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 3
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 2
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 2
- 241000257465 Echinoidea Species 0.000 description 1
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 1
- 229910000889 permalloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- Credit Cards Or The Like (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的1
(産業上の利用分野)
本発明はICカードなどの薄型携帯メモリカードに用い
られる薄膜磁気トランスデユーサの製造方法に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Object of the Invention 1 (Field of Industrial Application) The present invention relates to a method of manufacturing a thin film magnetic transducer used in a thin portable memory card such as an IC card.
(従来の技術)
ICカードにおいて、従来からの磁気ストライプ用カー
ドリーダでもICメモリの内容を読出し可能なように、
カード内に薄膜磁気トランスデユーサを埋設させたもの
が開発されつつある。(Prior Art) In an IC card, the contents of the IC memory can be read by a conventional magnetic stripe card reader.
Cards with thin film magnetic transducers embedded within the card are being developed.
これは、電気的接点の寿命および現在普及している磁気
ストライプ用カードリーダの利用を考慮した結果なされ
たものであるが、ICチップなどと同様に、ウェハ状の
基板上に薄膜パターンを配列形成した後、機械加工によ
って切断し、チップ分割する製造方法が取られている。This was done in consideration of the lifespan of electrical contacts and the use of magnetic stripe card readers, which are currently in widespread use.Similar to IC chips, thin film patterns are formed in an array on a wafer-shaped substrate. After that, the manufacturing method is to cut it by machining and divide it into chips.
磁気トランスデユーサの場合、一般に磁性体基板ウェハ
が用いられているが、種々の理由によりカード内に実装
される前に基板裏面を研削し、厚さを薄くしている。In the case of a magnetic transducer, a magnetic substrate wafer is generally used, but for various reasons, the back surface of the substrate is ground to reduce its thickness before being mounted in a card.
第5図〜第7図を用いて薄膜磁気トランスデユーサの製
造方法を説明する。A method for manufacturing a thin film magnetic transducer will be explained using FIGS. 5 to 7.
まず、第5図に示す多数の薄膜パターン1を形成したフ
ェライトなどの磁性基板ウェハ2を、第6図に示すよう
に、ワックスなどを用いて磁性基板ウェハ2の薄膜パタ
ーン1面側を平板3に張り付け、平面研削、ラッピング
などにより磁性基板ウェハ2の裏面の図中斜線で示した
部分を除去して薄板化する。そして平板3から磁性基板
ウエハ2を取外した後、第7図に示すように、各薄膜パ
ターン1の配列に合せてダイシングマシンなどにより分
割切断してチップ4を得る。First, a magnetic substrate wafer 2 made of ferrite or the like on which a large number of thin film patterns 1 as shown in FIG. The diagonally shaded portion of the back surface of the magnetic substrate wafer 2 is removed by surface grinding, lapping, etc. to make the magnetic substrate wafer 2 thin. After removing the magnetic substrate wafer 2 from the flat plate 3, as shown in FIG. 7, it is cut into pieces using a dicing machine or the like in accordance with the arrangement of each thin film pattern 1 to obtain chips 4.
ところで、第6図に示したように、チップ分割する前に
、磁性基板ウェハ2の裏面を研削してその厚さを薄くす
るのは、厚さ 0.8mのICカード内に実装するため
であるが、最初から磁性基板ウェハ2を薄板化しておく
と、ウニ/’自体の反りが発生し、後の工程で問題とな
るためである。これは、通常、薄膜形成面側に基板の表
面粗さを小さくするためにボリシングなどにより研磨す
る必要があるが、片面を加工するとその残留応力により
基板が反ってしまうためである。また薄膜を形成した場
合に膜の応力により基板に反りが生じる。By the way, as shown in FIG. 6, the back surface of the magnetic substrate wafer 2 is ground to reduce its thickness before being divided into chips in order to be mounted in an IC card with a thickness of 0.8 m. However, if the magnetic substrate wafer 2 is thinned from the beginning, the urchin/' itself will warp, which will cause problems in later steps. This is because, although it is usually necessary to polish the thin film forming side of the substrate by boring or the like in order to reduce its surface roughness, if one side is processed, the residual stress causes the substrate to warp. Furthermore, when a thin film is formed, the stress of the film causes the substrate to warp.
このように基板に反りが生じてしまうと、レジストパタ
ーンニングの際に、マスクと基板との間に隙間が生じる
ため、露光量に差が生じ、高精度なパターンニングを実
現することが難しい。また、基板に絶縁膜や保護層とし
て形成される5to2などのパッシベーション膜は脆性
のため、基板の反りによりクラックが生じるなどの問題
もある。If the substrate is warped in this way, a gap will be created between the mask and the substrate during resist patterning, resulting in a difference in exposure amount, making it difficult to achieve highly accurate patterning. Further, since a passivation film such as 5to2, which is formed as an insulating film or a protective layer on a substrate, is brittle, there are problems such as cracks occurring due to warpage of the substrate.
したがって、上述した各問題を考慮して上記の製造方法
が採用されている。Therefore, the above manufacturing method is adopted in consideration of the above-mentioned problems.
しかしながら、上述した従来の薄膜磁気トランスデユー
サの製造方法では、基板の裏面研削した後、張り付は用
のワックス除去した際、およびチップ分割切断後の切削
水・切削粉を除去する際の計2回の洗浄工程が必要とな
り、工数が増しコストダウンを図ることが難しい。そこ
で、チップ分割した後に基板の裏面研削することが考え
られるが、この場合では、同時に複数のチップを高精度
に平板上に張り付けるのが困難であり、1つずつの加工
では、工数が増すため、不利である。However, in the conventional manufacturing method for thin film magnetic transducers described above, after grinding the back side of the substrate, when removing wax for stickiness, and when removing cutting water and cutting powder after cutting into chips, Two cleaning steps are required, which increases the number of steps and makes it difficult to reduce costs. Therefore, it is possible to grind the back side of the board after dividing the chips, but in this case, it is difficult to attach multiple chips at the same time on a flat plate with high precision, and processing them one by one increases the number of man-hours. Therefore, it is disadvantageous.
そこで、上述の各製造方法とは別に、基板ウェハをフェ
ライトなどの酸化物磁性体の代りに、パーマロイなどの
金属磁性体を用い、チップ分割切断方法として、レーザ
により切断することが提案されている。Therefore, in addition to the above-mentioned manufacturing methods, it has been proposed to use a magnetic metal material such as permalloy instead of an oxide magnetic material such as ferrite for the substrate wafer, and to cut the substrate wafer using a laser as a chip division cutting method. .
しかしながら、このようにレーザにより切断した場合、
切断時間が長く、また第8図に示すように、基板ウェハ
5の裏面の切断部のエツジにバリ6が生じ、このバリ6
により分割されたチップの厚さに影響を及ぼすため、カ
ードへの実装時に問題となる。However, when cutting with a laser in this way,
The cutting time is long, and as shown in FIG.
This affects the thickness of the divided chip, which causes a problem when mounting it on a card.
そこで、第9図に示すように、基板ウエノ\5をレーザ
により完全に切断せず、基板ウェハ5の一部を劣化層7
として残し、この後、薬品エツチングにより、劣化層7
を溶解することにより、短時間で切断することも考えら
れるが、この場合でもあらたな工程が増えるという課題
がある。Accordingly, as shown in FIG.
After that, the deteriorated layer 7 is removed by chemical etching.
It may be possible to cut the material in a short time by melting it, but even in this case there is a problem that new steps will be required.
(発明が解決しようとする課題)
上述したように従来の薄膜磁気トランスデユーサの製造
方法では、チップ切断に付随する多数の工程が増えるた
め、加工時間が長くなり、またコストダウンを図ること
が難しいという課題がある。(Problems to be Solved by the Invention) As mentioned above, in the conventional manufacturing method of thin-film magnetic transducers, the number of steps involved in chip cutting increases, which increases the processing time and makes it difficult to reduce costs. There are challenges that are difficult.
本発明は上述した従来の課題を解決するためのもので、
チップ切断時における加工時間を短縮することができ、
コストダウンを図ることのできる薄膜磁気トランスデユ
ーサの製造方法を提供することを目的としている。The present invention is intended to solve the above-mentioned conventional problems,
Processing time when cutting chips can be shortened,
It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a thin film magnetic transducer that can reduce costs.
[発明の構成]
(課題を解決するための手段)
本発明は、多数の薄膜パターンが形成された基板に前記
各薄膜パターンを分割するよう基板表面から所定の深さ
の溝加工を施し、この後、前記基板の裏面を研削するこ
とにより前記各薄膜パターンごとに前記基板を分割する
ことを特徴とじている。[Structure of the Invention] (Means for Solving the Problems) The present invention involves forming grooves at a predetermined depth from the surface of the substrate so as to divide each of the thin film patterns into a substrate on which a large number of thin film patterns are formed. After that, the substrate is divided into each of the thin film patterns by grinding the back surface of the substrate.
(作 用)
本発明では、基板の薄膜パターンに沿って溝加工を施し
た後、基板の裏面を研削することにより各薄膜パターン
ごとに基板を分割するので、チップ切断時における加工
時間を短縮することができる。(Function) In the present invention, after cutting grooves along the thin film pattern of the substrate, the back surface of the substrate is ground to divide the substrate into each thin film pattern, thereby reducing the processing time during chip cutting. be able to.
(実施例) 以下、本発明の実施例を図面を用いて説明する。(Example) Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
第1図〜第4図は本発明の一実施例の薄膜磁気トランス
デユーサの製造方法を説明するための図である。1 to 4 are diagrams for explaining a method of manufacturing a thin film magnetic transducer according to an embodiment of the present invention.
まず、第]−図に示すように、多数の薄膜パターン11
を形成した磁性体の基板ウェハ12に、各薄膜パターン
11を分離するよう各薄膜パターン11に沿って、たと
えば砥石加工やレーザ加工により溝13を形成する。こ
の溝13は、第2図に示すように、基板ウェハ12の一
定の厚さtを残して形成する。First, as shown in the figure, a large number of thin film patterns 11
Grooves 13 are formed in the magnetic substrate wafer 12 on which the wafer 12 is formed along each thin film pattern 11 so as to separate each thin film pattern 11 by, for example, grindstone processing or laser processing. This groove 13 is formed leaving a constant thickness t of the substrate wafer 12, as shown in FIG.
そして第3図に示すように、平板14上に、基板ウェハ
12をワックスなどにより基板ウニ/X12の薄膜パタ
ーン11側を張り付け、同図の斜線で示す基板ウェハ1
2の裏面を平面研削、ラッピングなどにより、第2図に
示した厚さt以上まで除去することにより、基板ウニ/
\12の厚さが薄くされるとともに、薄膜パターン11
ごとに基板ウェハ12が分割される。Then, as shown in FIG. 3, the substrate wafer 12 is pasted on the flat plate 14 with the thin film pattern 11 side of the substrate U/X 12 using wax or the like.
By removing the back surface of the substrate 2 by surface grinding, lapping, etc. to a thickness t or more shown in FIG.
As the thickness of \12 is reduced, the thin film pattern 11
The substrate wafer 12 is divided into two parts.
この後、平板14から基板ウェハ12を取り外し、洗浄
することにより、第4図に示す薄板化された薄膜磁気ト
ランスデユーサのチップ15が得られる。Thereafter, the substrate wafer 12 is removed from the flat plate 14 and washed, thereby obtaining a thin-film magnetic transducer chip 15 shown in FIG. 4.
したがって、この実施例の薄膜磁気トランスデユーサで
は、基板ウェハに溝加工を施した後、洗浄を必要とする
ことなく、次工程の基板ウェハの裏面研削加工を実施し
て、この後、洗浄を行うので、洗浄工程が1曲に削減さ
れる。また、砥石加工、レーザ加工による基板ウェハの
切削加工速度を速くしても、その切り込み深さが浅いた
め、チッピングなどの不良の発生を抑制することができ
、加工時間を短縮することができ、コストダウンを図る
ことができる。Therefore, in the thin film magnetic transducer of this embodiment, after grooves are formed on the substrate wafer, the next step of back grinding of the substrate wafer can be carried out without the need for cleaning. The cleaning process is reduced to one song. In addition, even if the cutting speed of the substrate wafer by grindstone processing or laser processing is increased, the cutting depth is shallow, so it is possible to suppress the occurrence of defects such as chipping, and the processing time can be shortened. Cost reduction can be achieved.
[発明の効果]
以上説明したように本発明の薄膜磁気トランスデユーサ
の製造方法は、基板の薄膜パターンに沿って溝加工を施
した後、基板の裏面を研削することにより各薄膜パター
ンごとに基板を分割するので、チップ切断時における加
工時間を短縮することができる。[Effects of the Invention] As explained above, the method for manufacturing a thin film magnetic transducer of the present invention involves forming grooves along the thin film pattern of the substrate and then grinding the back surface of the substrate to form grooves for each thin film pattern. Since the substrate is divided, processing time during chip cutting can be shortened.
第1図〜第4図はそれぞれ本発明の一実施例の薄膜磁気
トランスデユーサの製造方法を説明するための図、第5
図〜第7図はそれぞれ従来の薄膜磁気トランスデユーサ
の製造方法を説明するための図、第8図は従来の薄膜磁
気トランスデユーサの製造方法における不良箇所を説明
するための図、第9図は従来の他の薄膜磁気トランスデ
ユーサの製造方法を説明するための図である。
11・・・薄膜パターン、12・・・基板ウェハ、13
・・・溝、15・・・チップ。
出願人 株式会社 東芝
同 東芝オーディオ・ビデオエンジニアリン
グ株式会社
代理人 弁理士 須 山 佐 −1 to 4 are diagrams for explaining a method of manufacturing a thin film magnetic transducer according to an embodiment of the present invention, and FIG.
7 to 7 are diagrams for explaining a conventional method for manufacturing a thin film magnetic transducer, FIG. 8 is a diagram for explaining defective parts in a conventional method for manufacturing a thin film magnetic transducer, and FIG. The figure is a diagram for explaining another conventional method of manufacturing a thin film magnetic transducer. 11... Thin film pattern, 12... Substrate wafer, 13
...Groove, 15...chip. Applicant Toshiba Corporation Toshiba Audio/Video Engineering Co., Ltd. Agent Patent Attorney Sasa Suyama −
Claims (1)
ーンを分割するよう基板表面から所定の深さの溝加工を
施し、この後、前記基板の裏面を研削することにより前
記各薄膜パターンごとに前記基板を分割することを特徴
とする薄膜磁気トランスデューサの製造方法。A substrate on which a large number of thin film patterns are formed is machined with grooves of a predetermined depth from the surface of the substrate so as to divide each of the thin film patterns, and then, by grinding the back surface of the substrate, each of the thin film patterns is separated. A method for manufacturing a thin film magnetic transducer, characterized by dividing a substrate.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63274703A JPH02121897A (en) | 1988-10-31 | 1988-10-31 | Manufacture of membrane magnetic transducer |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63274703A JPH02121897A (en) | 1988-10-31 | 1988-10-31 | Manufacture of membrane magnetic transducer |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02121897A true JPH02121897A (en) | 1990-05-09 |
Family
ID=17545383
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63274703A Pending JPH02121897A (en) | 1988-10-31 | 1988-10-31 | Manufacture of membrane magnetic transducer |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02121897A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20140354113A1 (en) * | 2007-10-29 | 2014-12-04 | Fujifilm Visualsonics, Inc. | High frequency piezocomposite and methods for manufacturing same |
-
1988
- 1988-10-31 JP JP63274703A patent/JPH02121897A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20140354113A1 (en) * | 2007-10-29 | 2014-12-04 | Fujifilm Visualsonics, Inc. | High frequency piezocomposite and methods for manufacturing same |
US9997696B2 (en) * | 2007-10-29 | 2018-06-12 | Fujifilm Sonosite, Inc. | Methods of manufacturing high frequency piezocomposite ultrasound transducers |
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