JPH02110047A - Wafer carrying device - Google Patents

Wafer carrying device

Info

Publication number
JPH02110047A
JPH02110047A JP26547188A JP26547188A JPH02110047A JP H02110047 A JPH02110047 A JP H02110047A JP 26547188 A JP26547188 A JP 26547188A JP 26547188 A JP26547188 A JP 26547188A JP H02110047 A JPH02110047 A JP H02110047A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
arm
wafer
cam
linear guide
roller
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP26547188A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshimi Kinoshita
儀美 木之下
Toshiyuki Kobayashi
利行 小林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP26547188A priority Critical patent/JPH02110047A/en
Publication of JPH02110047A publication Critical patent/JPH02110047A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PURPOSE:To supply and take out a wafer with one motor by fixing a spring to a carrying arm so that a linear guide is pulled through a stainless belt, and regulating the angle between the carrying arm and a rotation arm. CONSTITUTION:The linear guide 7; to which the roller 8, touching the cam 6 provided to a rotation arm 3, is mounted; is pulled with a spring 11 through a stainless belt 9, and stopped with the roller 8, mounted to the guide 7, touching the cam 6. The angle between a carrying arm 1 and the arm 3 is decided with the position of the roller 8, and when the arm 3 is rotated, since the roller 8 is always pushed to the cam 6 with the spring 11, the arm 1 changes the angle with the arm 3 according to the curve of the cam 6 and moves describing a certain locus. Consequently a wafer can be carried from one direction to another one with one motor without using a gear and utilizing a cam curve.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分針〕 ごの発明は、例えは、シリコンウェハ上にプラズマ放題
を利用して#腺を堆積させるavorlど半導体製造装
置において、真空下でウェハカセットからウェハを反応
室へ供給、取り出しを行うためのウェハ搬送装置に関す
るものである。
Detailed Description of the Invention (Industrial Use Minute Hand) The invention is applicable to semiconductor manufacturing equipment such as Avorl, which deposits #golds on silicon wafers using plasma, for example. The present invention relates to a wafer transport device for supplying and removing wafers to and from a reaction chamber.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

第3図は、フロッグレッグ方式と呼ばれる従来のウェハ
搬送装置の構成を示す図である。lはウェハを乗せる搬
送アームで軸191k19bより伸縮隣車洩20bに連
結されている。伸縮歯車魚加すは、同形状のもので、伸
縮アーム21&21bに固定され、互いにかみ合ってい
る。伸縮アーム21sJ!lbは回転自在な1噛ムzb
を介して、伸縮アーム2に一、2kiと連結している。
FIG. 3 is a diagram showing the configuration of a conventional wafer transfer device called a frog leg system. 1 is a transfer arm on which a wafer is placed, and is connected to a telescopic adjacent vehicle 20b via a shaft 191k19b. The telescoping gears have the same shape, are fixed to the telescoping arms 21 & 21b, and mesh with each other. Telescopic arm 21sJ! lb is a rotatable 1 bite zb
1 and 2ki are connected to the telescopic arm 2 via.

伸縮アーム21cは軸19aにより伸wa歯車(9)に
固定され、伸縮アーム21dは軸+9dにより伸縮歯車
20dに固定されている。伸縮歯車20cx2oaは同
形状のもので、互いにかみ合っている。伸縮歯車水は駆
動歯車4とかみ合っており、駆動歯車23はモータ24
aによって回転する。
The telescopic arm 21c is fixed to the telescopic gear (9) by a shaft 19a, and the telescopic arm 21d is fixed to the telescopic gear 20d by a shaft +9d. The telescopic gears 20cx2oa have the same shape and mesh with each other. The telescopic gear meshes with the drive gear 4, and the drive gear 23 is connected to the motor 24.
Rotate by a.

また、以上の*構全体を軸19i世の中間ご中心に回転
させるモータゐと、回転機構6から構成される装置 次に動作について説明する。ウェハは、搬送アーム1の
上に乗り、カセット室?反応室に搬送される。モータ2
4aが動作すると、駆動歯車ツが回転する。駆動歯車n
が回転すると、伸縮歯車鵠と軸19eが回転する。伸縮
歯車200は、別の伸縮歯車Jdとかみ合っているので
、伸縮歯車″A)dと軸+9dが回転する。軸19へ1
9dの回転方向は、互いに逆方向である。
Next, the operation of the apparatus consisting of the rotation mechanism 6 and the motor for rotating the entire structure about the center of the shaft 19i will be explained. The wafer is placed on the transfer arm 1 and placed in the cassette chamber. It is transported to the reaction chamber. motor 2
When 4a operates, the drive gears rotate. drive gear n
When the telescopic gear 19e rotates, the telescopic gear 19e and the shaft 19e rotate. Since the telescoping gear 200 meshes with another telescoping gear Jd, the telescoping gear "A) d and the shaft +9d rotate. 1 to the shaft 19
The rotation directions of 9d are opposite to each other.

以上のように、軸】9α19dが回転すると、これに固
定されている伸縮アーム21へ21dが軸1.9Q 1
9dを中心に回転する。伸縮アーム21c 21dが図
において上方へ回転すると、伸縮アーム21&21bが
逆に閉じることになり搬送アームlは上方へ伸ひる。ま
た、反対に伸稲了−ム21c、21dが図において下方
へ回転すると、搬送アーム1は下方へ縮む。また搬送ア
ームlを縮めたところでモータ24bを動作させて回転
機構δを駆動させることにより、搬送アームの伸ひる方
向を変えることができる。したがって、例えば図におい
て搬送アームのある方向(上方)を搬入側とすれば、1
80°反対側(下方)を搬出側としてウェハを搬送する
As described above, when the axis 9α19d rotates, the axis 1.9Q1
Rotate around 9d. When the telescoping arms 21c to 21d rotate upward in the figure, the telescoping arms 21 & 21b close, and the transport arm 1 extends upward. Conversely, when the extension arms 21c and 21d rotate downward in the figure, the transport arm 1 contracts downward. Furthermore, by operating the motor 24b to drive the rotation mechanism δ when the transport arm l is retracted, the direction in which the transport arm extends can be changed. Therefore, for example, if the direction (upward) where the transport arm is located in the figure is the carry-in side, then 1
The wafer is transported with the 80° opposite side (downward) as the unloading side.

〔発明か解決しようとする課題〕[Invention or problem to be solved]

上記のような従来技術の構成において、搬送アームの移
VI経路は直線で、搬送方向を変えるためには、櫂送ア
ームの伸縮とは別のモータが必要になる。半導体製造装
置のウェハ搬送において、ウェハ搬送アームの移動軌跡
2みると、ゲートパルプを通過し、ウェハカセット内に
搬送アームを移動させるときは、直線、それから反応部
へ搬送アームを移動させるときは向きを変える必要があ
る。
In the configuration of the prior art as described above, the movement path VI of the transport arm is a straight line, and in order to change the transport direction, a separate motor is required to extend and retract the paddle arm. When transporting wafers in semiconductor manufacturing equipment, looking at the movement trajectory 2 of the wafer transport arm, when moving the transport arm past the gate pulp and into the wafer cassette, it follows a straight line, and when it moves from there to the reaction section, it follows the direction. need to change.

その結果、従来例のような、2つのモータが必要になる
。そこで、1つのモータで直線と円弧の経路ができれば
、従来の2つのモータのうち、1つは不用となる。
As a result, two motors are required as in the conventional example. Therefore, if a straight line and an arc path can be created with one motor, one of the two conventional motors will be unnecessary.

この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、モータ1個でウェハを反応室へ倶袷、取り出
しできるウェハ搬送装置を得ることを目的とする。
The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to provide a wafer transport device that can transport wafers into and out of a reaction chamber using a single motor.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

この発明に係るウェハ搬送装置は、ウェハを乗せる搬送
アームと回転アームを連結するとともに、回転アームを
態動する駆動軸の周辺にカムを設は一方、回転アームに
、カムに接触するローラを取付けたリニアガイドを設け
、このリニアガイドと搬送アームをステンレス帯で連結
し、このステンレス帯を通してリニアガイド号ひっばる
五つに搬送アームにばねを内定し、搬送アームと回転ア
ームのなす角度を規定するようにしたものである。
The wafer transfer device according to the present invention connects the transfer arm for placing a wafer on the rotating arm, and also has a cam installed around a drive shaft that activates the rotating arm, and a roller that contacts the cam is installed on the rotating arm. A linear guide is provided, and this linear guide and the transfer arm are connected with a stainless steel band. Through this stainless steel band, a spring is attached to the transfer arm in each of the linear guides, and the angle between the transfer arm and the rotating arm is defined. This is how it was done.

〔作用〕[Effect]

この発明における回転アームに設けたカムに接触するロ
ーラを取付けたリニアガイドは、ステンレス帯を通して
ばねによってひっばられ、リニアガイドに取付けらねた
ローラがカムに接触して止まる。搬送アームと回転アー
ムがなす角度は、このローラの位置によって決まり、回
転アームが回転すると、ローラは富にばねによってカム
に押し当てられているので、カムの曲線によって搬送ア
ームは回転アームとの角度を変え、ある軌跡を描いて動
く。刀ム開植を利用して歯車を使用せずにモータ1個で
ある方向から他の一方向ヘウェハを搬送することが司能
となる。
In the present invention, a linear guide equipped with a roller that contacts a cam provided on a rotating arm is stretched by a spring through a stainless steel band, and the roller that is not attached to the linear guide comes into contact with the cam and stops. The angle between the transport arm and the rotating arm is determined by the position of this roller. When the rotating arm rotates, the roller is pressed against the cam by the spring, so the curve of the cam causes the transport arm to change the angle with the rotating arm. It changes and moves along a certain trajectory. Utilizing blade planting, a single motor can transport a wafer from one direction to another without using gears.

(実施例〕 以下、この発明の一実施例を因について説明する。第1
図において、1はウェハを乗せる4送アームで、@2に
よって(ロ)転アーム3に回転自任に連結されている。
(Example) An example of the present invention will be explained below.
In the figure, reference numeral 1 denotes a four-feeding arm on which a wafer is placed, which is rotatably connected to a (b) rotation arm 3 by @2.

回転アーム3の他端は駆1助軸4に固定されており、駆
動軸4は、真空シール5を通って、大気側にあるモータ
(図示せず)に連結されている。真空側で駆動軸4の周
辺部にGゴカム6が設けられている。上記回転アーム3
の下面にはリニアガイド7が取付けられており、リニア
ガイド7にはローラ8か回転自任に取付けられている。
The other end of the rotary arm 3 is fixed to a drive shaft 4, and the drive shaft 4 is connected to a motor (not shown) on the atmosphere side through a vacuum seal 5. A G gocam 6 is provided around the drive shaft 4 on the vacuum side. The above rotating arm 3
A linear guide 7 is attached to the lower surface of the roller 8, and a roller 8 is attached to the linear guide 7 so as to rotate freely.

また、リニアガイド7にはステンレス帯9の一端が固定
されており、ステンレス帯9の他端は搬送アームlの軸
2周辺部に固定されている。また、搬送アームlの軸2
周辺部にはビンloaが固定されている。回転アーム3
の駆動軸4の周辺部には、ビンlObが固定されており
、ビンlOa、lObの間にばね11が固定されている
Further, one end of a stainless steel band 9 is fixed to the linear guide 7, and the other end of the stainless steel band 9 is fixed to the peripheral portion of the shaft 2 of the transfer arm l. In addition, the axis 2 of the transport arm l
A bottle loa is fixed around the periphery. Rotating arm 3
A bottle lOb is fixed to the periphery of the drive shaft 4, and a spring 11 is fixed between the bottles lOa and lOb.

第2図は、上記のウェハ搬送装置をシリコンウェハ上に
プラズマ放電を利用して薄膜を堆積させるOVDなど半
導体製造装置内に装置した例である。捻は薄膜を堆積さ
せる真空室で、真空ホ”ンプ(図示せず)により真空に
排気される。詔はウニバカセント(図示せず)をセット
するカセット室である。カセット室口は真空ポンプ(図
示せず)で輿望に排気される014はカセット室13に
セットされたウェハである。カセット室13は大気側と
の出入口である扉15を備え、カセット室Bと真空室皮
との間には、ゲートパルプ16か設けられている。
FIG. 2 shows an example in which the above-described wafer transfer device is installed in a semiconductor manufacturing device such as an OVD device that deposits a thin film on a silicon wafer using plasma discharge. The screw is a vacuum chamber in which a thin film is deposited, and is evacuated by a vacuum pump (not shown).The screw is a cassette chamber in which a Univaccent (not shown) is set. The wafer 014 which is evacuated to the sky in the cassette chamber 13 (not shown) is a wafer set in the cassette chamber 13.The cassette chamber 13 is equipped with a door 15 which is an entrance to the atmosphere, and there is a door between the cassette chamber B and the vacuum chamber skin. , gate pulp 16 are provided.

真空室12内にはウェハ14を移載するための移載ビン
17が設けられている。18はこの発明の機構による搬
送アームlのウェハ移載部中心の軌跡を示す。
A transfer bin 17 for transferring the wafer 14 is provided within the vacuum chamber 12 . 18 shows the locus of the center of the wafer transfer section of the transfer arm l according to the mechanism of the present invention.

カセット室1;1にはウニバカセントを上下に移動する
ためのウェハカセット上下機構(■示せず)が1@えで
ある。
In the cassette chamber 1; 1 is a wafer cassette up and down mechanism (not shown) for moving the Univaccent up and down.

次にその動作を説明する。第1図において、回転アーム
3と搬送アームlに固定されているビンlk IObの
間のばね11が縮む力によって、回転アーム3に軸2で
回転自任に固定された搬送アームlが図中、矢印ム方向
へ回転しようとする、これにJす、搬送アーム1に固定
されているステンレス帯9か回転アーム3の下面のリニ
アガイド7を軸2の方向へ引張る。しっ)シ、リニアガ
イド7に(ロ)転自任に取付けられたローラ8かカム6
に当たり、リニアガイド7はある位置で止まっている。
Next, its operation will be explained. In FIG. 1, due to the compressive force of the spring 11 between the rotary arm 3 and the bin lkIOb fixed to the transport arm l, the transport arm l, which is fixed to the rotary arm 3 around a shaft 2 and can rotate freely, moves as shown in the figure. As it tries to rotate in the direction of the arrow mark, the stainless steel band 9 fixed to the transport arm 1 or the linear guide 7 on the lower surface of the rotary arm 3 is pulled in the direction of the shaft 2. Sh)shi, the roller 8 or cam 6 attached to the linear guide 7 for (b) rotation.
, the linear guide 7 is stopped at a certain position.

したがって、搬送アームlは、回転アーム3にIT し
てある角度で固定される。今、大気側にあるモータ(図
示せず)が動作すると、真空シール5を通して可動軸4
が回転する。Tると可動@4にrI!Il宇された回転
アーム3が回転する。回転アーム3の[U転により、ロ
ーラ8とカム6の当たる位置が変わるために、カム6の
カム曲線により、搬送アーム1は回転アーム3にズ・r
する角度を変えることができる。
The transport arm l is therefore fixed at an angle to the rotary arm 3. Now, when the motor (not shown) on the atmospheric side operates, the movable shaft 4 passes through the vacuum seal 5.
rotates. T and move @4 rI! The rotated rotating arm 3 rotates. Due to the U rotation of the rotating arm 3, the contact position of the roller 8 and the cam 6 changes, so the cam curve of the cam 6 causes the conveying arm 1 to move towards the rotating arm 3.
You can change the angle.

第2図は、カム6のカム曲線により、搬送アーム1がウ
ェハ移載部中心の軌跡18に示T動きをすることを示し
ている。大気にもどされた刀セット’M 13に971
15を開けてウェハ14をセットする。扉15を閉じて
カセソ) % 13を真空ポンプ(図示せず)で真空に
排気する。真柴ポンプ(図示せず)で真空に排気された
真空室校とカセット室13の間のゲートバルブ16を開
けて回転アーム3を回転させることによって、搬送アー
ムlを軌跡18に示すような動きでカセット室口の中に
移動させる。ここでウェハカセット上下機構(図示せず
)・により、搬送アーム1にウェハ14を移載し、さき
ほどとは逆に回転アーム33回転させて、移載ピン17
の位置に搬送アーム1が来るようにする。ここで移載ピ
ン17により、ウェハ14を反応部にセントし、ざらに
(ロ)転子−ム3を(ロ)転させて搬送アーム1を退避
させる。また、移載ビン17の位置にあるウェハをカセ
ット室13へ搬送するには、これまでの逆の動作を行え
ばよい。
FIG. 2 shows that the cam curve of the cam 6 causes the transfer arm 1 to move along a trajectory 18 centered on the wafer transfer section. Sword set returned to the atmosphere 'M 13 to 971
15 and set the wafer 14 therein. Close door 15 and evacuate % 13 to vacuum using a vacuum pump (not shown). By opening the gate valve 16 between the vacuum chamber evacuated by a Mashiba pump (not shown) and the cassette chamber 13 and rotating the rotary arm 3, the transfer arm l is moved as shown in the trajectory 18. Move the cassette into the chamber opening. Here, the wafer 14 is transferred to the transfer arm 1 using the wafer cassette up-and-down mechanism (not shown), and the rotation arm 33 is rotated in the opposite direction to the transfer pin 17.
Make sure that the transport arm 1 is at the position. Here, the wafer 14 is placed in the reaction section using the transfer pin 17, the trochanter arm 3 is roughly rotated, and the transfer arm 1 is retracted. Furthermore, in order to transfer the wafer located in the transfer bin 17 to the cassette chamber 13, the previous operation may be reversed.

なお上記実施例では、部品17にステンレス帯を使用し
たが、ステンレスワイヤでりヨい。
In the above embodiment, a stainless steel band is used for the component 17, but a stainless steel wire may also be used.

また、上記実施例では、半導体@造装置内で使用した場
合について説明したが、半導体製造Hm外部(大気中)
でのウェハ搬送であってもよ(、上記実施例と同様の効
果を奏する。
In addition, in the above embodiment, the case where it is used inside the semiconductor manufacturing equipment was explained, but it is also used outside the semiconductor manufacturing Hm (in the atmosphere).
The wafer may also be transported by using the same method (the same effect as in the above embodiment can be achieved).

また上記実施例では、ウェハの搬送に使用した場合につ
いて説明したが、他の薄い板であってもよく、上記実施
例と同様の効果を奏する。
Further, in the above embodiment, a case where the plate is used for transporting a wafer has been described, but other thin plates may be used, and the same effects as in the above embodiment can be obtained.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上のようにこの発明によりは、モータ1つで搬送アー
ムの移動経路が直線と円弧を組合せた経路に簡単にでき
、従来技術からモータを1つ減らすことができる。また
、これにより制御も簡単になる。
As described above, according to the present invention, the movement path of the transport arm can be easily made into a path combining a straight line and an arc with one motor, and the number of motors can be reduced by one compared to the conventional technology. This also simplifies control.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図はこの発明の一実施例によるウェハ搬送装置を示
す斜視図、第2図はこの発明の−実り例によるウェハ搬
送装置をセットした半導体′in危装置の平面断面脚、
第8図は従来のウェハ搬送装置の斜視図である。 ■中、lは1@送了−ム、2は軸、3は回転アーム、4
は可動軸、6はカム、7はリニアガイド、8はローラ、
9はステンレス帯、Ik l0oGZビン、llはばね
、14はウェハである。 なお、図中同一符号は同−又は相当部分を示す。
FIG. 1 is a perspective view showing a wafer transfer device according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a plan view cross-sectional view of a semiconductor equipment in danger of being equipped with a wafer transfer device according to an embodiment of the present invention.
FIG. 8 is a perspective view of a conventional wafer transfer device. ■Medium, l is 1 @ sending arm, 2 is axis, 3 is rotating arm, 4
is a movable shaft, 6 is a cam, 7 is a linear guide, 8 is a roller,
9 is a stainless steel band, Ik 10o GZ bin, 11 is a spring, and 14 is a wafer. Note that the same reference numerals in the figures indicate the same or equivalent parts.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims]  搬送物を移載する搬送アームと、この搬送アームを旋
回するための回転支持部をもつ回転アームと、上記搬送
アームを回転アームに対して一方向に回転付勢するばね
と、上記回転アームに取付けられたリニアガイドと、上
記搬送アームの回転運動を直線運動に変えて上記リニア
ガイドに伝えるステンレス帯またはステンレス線と、上
記搬送アームと回転アームの固定角度を決定するよう上
記リニアガイドに取付けられたローラと、このローラに
接触し、上記リニアガイドの動きを規制するカムと、上
記回転アームを旋回させる回転駆動手段とを備えたこと
を特徴とするウェハ搬送装置。
A transfer arm for transferring a transferred object, a rotation arm having a rotation support part for rotating the transfer arm, a spring for urging the transfer arm to rotate in one direction with respect to the rotation arm, and a rotation arm for rotating the transfer arm in one direction. an attached linear guide, a stainless steel band or stainless steel wire that converts the rotational motion of the transfer arm into a linear motion and transmits it to the linear guide, and an attached linear guide that is attached to the linear guide to determine a fixed angle between the transfer arm and the rotating arm. 1. A wafer transfer device comprising: a roller; a cam that contacts the roller and restricts movement of the linear guide; and a rotation drive means that rotates the rotation arm.
JP26547188A 1988-10-20 1988-10-20 Wafer carrying device Pending JPH02110047A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP26547188A JPH02110047A (en) 1988-10-20 1988-10-20 Wafer carrying device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP26547188A JPH02110047A (en) 1988-10-20 1988-10-20 Wafer carrying device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH02110047A true JPH02110047A (en) 1990-04-23

Family

ID=17417632

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP26547188A Pending JPH02110047A (en) 1988-10-20 1988-10-20 Wafer carrying device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH02110047A (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5643366A (en) * 1994-01-31 1997-07-01 Applied Materials, Inc. Wafer handling within a vacuum chamber using vacuum
WO2011007753A1 (en) * 2009-07-14 2011-01-20 キヤノンアネルバ株式会社 Substrate processing device
CN106144584A (en) * 2016-08-31 2016-11-23 天津立中车轮有限公司 A kind of mechanical hand sliding rail

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5643366A (en) * 1994-01-31 1997-07-01 Applied Materials, Inc. Wafer handling within a vacuum chamber using vacuum
WO2011007753A1 (en) * 2009-07-14 2011-01-20 キヤノンアネルバ株式会社 Substrate processing device
US9245785B2 (en) 2009-07-14 2016-01-26 Canon Anelva Corporation Substrate processing apparatus
CN106144584A (en) * 2016-08-31 2016-11-23 天津立中车轮有限公司 A kind of mechanical hand sliding rail

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5288379A (en) Multi-chamber integrated process system
JP3008152B2 (en) Method and apparatus for reversing a sample in a processing step
TWI396223B (en) Gate valve device and processing system
EP0039079A1 (en) Air track system
KR20100062926A (en) Robot device and control method thereof
JPH09237748A (en) Thin-film preparing apparatus and method
JP2000195921A (en) Carrier
JPH02110047A (en) Wafer carrying device
JP2019002075A (en) Film deposition apparatus, film deposition method, and manufacturing method of solar cell
JP2004115872A (en) Substrate treatment device and substrate treatment method
JPH07227777A (en) Carrier and processing device for article to be processed
JP2000042952A (en) Conveyer device and conveying method
JP2004146714A (en) Carrying mechanism for workpiece
JPH11182699A (en) Gate valve
JP3244344B2 (en) Semiconductor manufacturing equipment
JP5239845B2 (en) Substrate transfer robot, substrate transfer apparatus, and semiconductor manufacturing apparatus
JP2958587B2 (en) Directional transfer device for semiconductor
JPS62180813A (en) Sample conveying device
JP3330631B2 (en) Sputtering equipment
KR100344752B1 (en) Stockers and semi-automobiles for hermetically sealed glass substrate cassettes and liquid crystal display device manufacturing apparatus using them
JPH08279544A (en) Transfer device
JPH0413424B2 (en)
JP3565177B2 (en) Vacuum transfer device
JPH0362945A (en) Substrate transfer apparatus
JPS6323331A (en) Opening and closing mechanism for lid