JP2958587B2 - Directional transfer device for semiconductor - Google Patents

Directional transfer device for semiconductor

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JP2958587B2
JP2958587B2 JP10890592A JP10890592A JP2958587B2 JP 2958587 B2 JP2958587 B2 JP 2958587B2 JP 10890592 A JP10890592 A JP 10890592A JP 10890592 A JP10890592 A JP 10890592A JP 2958587 B2 JP2958587 B2 JP 2958587B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体の方向変換搬送
装置に係り、特に完全密閉形電動モータで作動する4節
リンク機構により半導体を保持する回転フレームを回動
させることによって、エアシリンダや油圧シリンダの使
用を不要としてオイルミストや塵埃の発生を防止し、ま
た該回動の開始及び停止時の加速度を非常に小さくして
半導体へ与える衝撃を極めて少なくしたクリーンルーム
での作業を必要とする精密半導体の搬送に好適な半導体
の方向変換搬送装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor direction changing / conveying apparatus, and more particularly, to an air cylinder or the like by rotating a rotary frame holding a semiconductor by a four-joint link mechanism operated by a completely sealed electric motor. It is not necessary to use a hydraulic cylinder to prevent the generation of oil mist and dust, and it is necessary to work in a clean room where the acceleration at the start and stop of the rotation is extremely small and the impact on the semiconductor is extremely reduced. The present invention relates to a semiconductor direction changing transfer device suitable for transferring precision semiconductors.

【0002】[0002]

【従来の技術】板状半導体の一例たる半導体ウェーハの
処理工程は、厚さ200μmから10mm程度の半導体
ウェーハにフォトレジストのコーティング、乾燥、パタ
ーンの焼付け、現像、エッチング処理、フォトレジスト
の剥離等の多数の処理からなり、該処理工程が自動処理
装置において施されて電子部品が製作されている。
2. Description of the Related Art The process of processing a semiconductor wafer, which is an example of a plate-like semiconductor, includes coating a semiconductor wafer having a thickness of about 200 μm to about 10 mm with a photoresist, drying, baking a pattern, developing, etching, and stripping the photoresist. The electronic component is manufactured by performing a number of processes, and performing the process in an automatic processing device.

【0003】該板状半導体の自動処理装置への搬入、搬
出等の搬送は、通常板状半導体を水平にした状態で搬送
されていたが、近年板状半導体が大型化して6インチか
ら8インチもの大きさとなっているため、該水平搬送に
よると板状半導体の自重による撓みに加えて、処理時の
熱により割れが発生し易く、生産上の大きな問題となっ
ていた。
The transfer of the plate-like semiconductor into and out of the automatic processing apparatus is usually carried out in a state where the plate-like semiconductor is horizontal. However, in recent years, the size of the plate-like semiconductor has increased from 6 inches to 8 inches. Due to the size of the substrate, the horizontal transport causes cracks due to heat during processing, in addition to the bending of the plate-shaped semiconductor due to its own weight, which is a major problem in production.

【0004】一辺が40cmから60cmにもなる大型
液晶表示装置の搬送においても同様の問題が生じてお
り、大型半導体の効率的な生産において大きな障害とな
っていたが、該問題は板状半導体を垂直に立てた状態で
保持して搬送することにより大幅な改善が図られてい
る。
[0004] A similar problem has occurred in the transportation of a large-sized liquid crystal display device having a side of 40 cm to 60 cm, which has been a major obstacle in the efficient production of large-sized semiconductors. Significant improvement is achieved by holding and transporting the product in a vertical position.

【0005】即ち板状半導体の搬送は回転フレームに板
状半導体を垂直に立てた状態で保持し、該回転フレーム
を垂直軸を中心として回動自在にシャトルフレームに配
設し該シャトルフレームを水平方向に移動させることに
よって板状半導体を搬送するようにされている。
That is, in transporting the plate-shaped semiconductor, the plate-shaped semiconductor is held vertically on a rotating frame, and the rotating frame is disposed on a shuttle frame so as to be rotatable about a vertical axis, and the shuttle frame is horizontally moved. The plate-like semiconductor is transported by moving the semiconductor in the direction.

【0006】ここで板状半導体の回転フレームへの装着
の作業性を良好に確保し、また多数の装置の組合せから
成る板状半導体の自動処理装置の効率的な配置のために
は、板状半導体を回転フレームと共に90°回転させて
次の装置に受け渡すことが必要であり、従来該板状半導
体の回転は、エアシリンダ又は空気圧を油圧に変換して
作動させるハイドロエアシリンダにより、板状半導体を
保持した回転フレームを回転させていた。
Here, in order to ensure good workability of mounting the plate-shaped semiconductor on the rotating frame and to efficiently arrange the automatic processing apparatus for the plate-shaped semiconductor composed of a combination of a large number of devices, the plate-shaped semiconductor is required. It is necessary to rotate the semiconductor by 90 ° together with the rotating frame and deliver it to the next device. Conventionally, the rotation of the plate-shaped semiconductor is performed by a plate-shaped air cylinder or a hydro-air cylinder that operates by converting air pressure into hydraulic pressure. The rotating frame holding the semiconductor was rotated.

【0007】しかし該従来の回転装置によると、エアシ
リンダ又はハイドロエアシリンダからオイルミストや圧
縮空気中に含まれる塵埃が発生し、処理中の板状半導体
に付着して電子部品の性能を劣化させるという欠点があ
った。
However, according to the conventional rotating device, dust contained in oil mist or compressed air is generated from an air cylinder or a hydro air cylinder, and adheres to a plate-like semiconductor being processed, thereby deteriorating the performance of electronic components. There was a disadvantage.

【0008】エアシリンダやハイドロエアシリンダから
発生するオイルミストや塵埃を防止するためには高度の
処理装置を必要とし、装置が大型となるばかりでなく、
電子部品のコストが高くなってしまうという欠点があっ
た。
In order to prevent oil mist and dust generated from an air cylinder or a hydro air cylinder, a high-level processing device is required.
There is a drawback that the cost of electronic components increases.

【0009】またエアシリンダ又はハイドロエアシリン
ダにより駆動される従来の回転装置によると、該回転の
開始及び停止時において急速な動きの変化があり、大き
な加速度や衝撃を板状半導体に与えていたので、極端な
場合には薄板の板状半導体を破損してしまう等の欠点が
あった。
Further, according to the conventional rotating device driven by an air cylinder or a hydro air cylinder, there is a rapid change in movement at the start and stop of the rotation, and large acceleration and impact are applied to the plate-shaped semiconductor. In an extreme case, there is a disadvantage that the thin plate-shaped semiconductor is damaged.

【0010】更にエアシリンダ又はハイドロエアシリン
ダに作動流体を供給するための配管を要し、配管作業が
大変であるばかりでなく、配管によって制限されて該エ
アシリンダ又はハイドロエアシリンダを最適位置に配置
することができない場合が生じるという欠点があった。
Further, a pipe for supplying a working fluid to the air cylinder or the hydro air cylinder is required. Not only is the pipe work difficult, but the air cylinder or the hydro air cylinder is located at an optimum position by being restricted by the pipe. There is a drawback in that it may not be possible.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】本発明は,上記した従
来技術の欠点を除くためになされたものであって、その
目的とするところは、完全密閉形電動モータにより板状
半導体が装着された回転フレームを回転させることによ
り、オイルミストや塵埃の発生を完全に防止することで
あり、またこれによって、処理中の板状半導体にオイル
ミストや塵埃が付着するのを防止して高性能の電子部品
を製作できるようにすることである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to eliminate the above-mentioned disadvantages of the prior art, and has as its object to mount a plate-shaped semiconductor by a completely enclosed electric motor. By rotating the rotating frame, it is possible to completely prevent the generation of oil mist and dust, and by this, it is possible to prevent oil mist and dust from adhering to the plate-like semiconductor being processed and to provide high-performance electronic devices. To be able to make parts.

【0012】また他の目的は、上記構成により作動流体
を供給するための配管を不要として設計の自由度を増
し、最適位置に回転フレーム駆動機構を配設できるよう
にすることである。
It is another object of the present invention to eliminate the necessity of a piping for supplying a working fluid by the above-mentioned structure, thereby increasing the degree of freedom in design, and to be able to arrange a rotary frame driving mechanism at an optimum position.

【0013】更に他の目的は、完全密閉形電動モータの
回転を4節リンク機構を介して回転フレームに伝達する
ように構成し、電動モータを上死点及び下死点で停止さ
せて180°ずつ間欠回転させ回転フレームを揺動回動
させることによって、回転フレームの回動開始時及び停
止時の加速度を非常に小さくして板状半導体へ与える衝
撃を極めて少なくすることであり、またこれによって薄
板の板状半導体を少しも傷付けることなく回動させるこ
とができるようにすることである。
Still another object is to transmit the rotation of the completely enclosed electric motor to the rotating frame via a four-bar linkage, and stop the electric motor at the top dead center and the bottom dead center to achieve 180 ° rotation. By intermittently rotating the rotating frame and swinging the rotating frame, the acceleration at the start and stop of the rotation of the rotating frame is extremely reduced, so that the impact given to the plate-shaped semiconductor is extremely reduced. An object of the present invention is to make it possible to rotate a thin plate-shaped semiconductor without any damage.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】本発明(請求項1)は、
板状半導体を垂直に立てた状態で保持する回転フレーム
を該回転フレームの垂直軸線を中心として回動自在にシ
ャトルフレームに配設し前記板状半導体を前記回転フレ
ームと共に回転させてその向きを変更し、また前記シャ
トルフレームを水平方向に移動させることにより前記板
状半導体を搬送するように構成した半導体搬送装置にお
いて、基台に固定され180°ずつ間欠回転する電動モ
ータと、該電動モータの回転軸に一端が固定されたクラ
ンクと前記回転フレームの回転中心軸に一端が固定され
た作動腕と前記クランクの他の一端及び前記作動腕の他
の一端とを回動自在に結合する結合リンクとから構成さ
れた4節リンク機構とを備えたことを特徴とするもので
ある。
Means for Solving the Problems The present invention (claim 1) provides:
A rotating frame for holding the plate-shaped semiconductor in an upright state is disposed on the shuttle frame so as to be rotatable about the vertical axis of the rotating frame, and the direction is changed by rotating the plate-shaped semiconductor together with the rotating frame. An electric motor fixed to a base and intermittently rotating by 180 °; and a rotation of the electric motor, the semiconductor carrier being configured to transport the plate-like semiconductor by moving the shuttle frame in a horizontal direction. A crank having one end fixed to a shaft, an operating arm having one end fixed to a rotation center axis of the rotating frame, and another link of the other end of the crank and the other end of the operating arm rotatably connected to the rotating arm; And a four-bar link mechanism comprising:

【0015】また本発明(請求項2)は、板状半導体を
垂直に立てた状態で保持する回転フレームを該回転フレ
ームの垂直軸線を中心として回動自在にシャトルフレー
ムに配設し前記板状半導体を前記回転フレームと共に回
転させてその向きを変更し、また前記シャトルフレーム
を水平方向に移動させることにより前記板状半導体を搬
送するように構成した半導体搬送装置において、基台に
固定され180°ずつ間欠回転する電動モータと、該電
動モータの回転軸に一端が固定されたクランクと前記回
転フレームの回転中心軸に一端が固定された作動腕と前
記クランクの他の一端及び前記作動腕の他の一端とを回
動自在に結合する結合リンクとから構成された4節リン
ク機構とを備え、前記電動モータを上死点及び下死点で
停止させて180°ずつ間欠回転させ前記回転フレーム
を揺動回動させて前記板状半導体の方向を変換するよう
に前記4節リンク機構を構成したことを特徴とするもの
である。
According to the present invention (claim 2), a rotary frame for holding a plate-shaped semiconductor in an upright state is disposed on a shuttle frame so as to be rotatable about a vertical axis of the rotary frame. In a semiconductor transport apparatus configured to transport the plate-shaped semiconductor by rotating the semiconductor together with the rotating frame to change the direction thereof and moving the shuttle frame in a horizontal direction, the semiconductor transport apparatus is fixed to a base and rotated by 180 °. An electric motor that rotates intermittently each time, a crank whose one end is fixed to a rotating shaft of the electric motor, an operating arm whose one end is fixed to a rotation center axis of the rotating frame, and another end of the crank and the other of the operating arm. And a link that rotatably couples one end of the motor with a four-link mechanism. The four-node link mechanism is configured to intermittently rotate the rotary frame and swing the rotary frame to change the direction of the plate-shaped semiconductor.

【0016】[0016]

【実施例】以下本発明を図面に示す実施例に基いて説明
する。図1から図6を参照して、本発明に係る半導体の
方向変換搬送装置50は、電動モータ35と、4節リン
ク機構43とを備えている。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below with reference to the embodiments shown in the drawings. With reference to FIGS. 1 to 6, the semiconductor direction changing and conveying device 50 according to the present invention includes an electric motor 35 and a four-node link mechanism 43.

【0017】まず図1を参照して、半導体の方向変換搬
送装置50が組み込まれた半導体搬送装置1が使用され
ている半導体処理装置5の全体構成を説明する。
First, with reference to FIG. 1, an overall configuration of a semiconductor processing apparatus 5 using a semiconductor transport apparatus 1 in which a semiconductor direction changing transport apparatus 50 is incorporated will be described.

【0018】半導体処理装置5は、自動半導体着脱部6
として構成された半導体搬送装置1と、手動半導体着脱
部8と、半導体ウェーハへのフォトレジストのコーティ
ング、乾燥、パターンの焼付け、現像、エッチング処
理、フォトレジストの剥離等の多数の処理装置が内蔵さ
れた処理チャンバ9と、方向転換部10と、中間ユニッ
ト11と、第1レーン選択ユニット12Aと、返送ダク
ト13と、第2レーン選択ユニット12Bとが互いに連
結されて組み合わされて全体が構成され、図1に示すダ
ブルレーンの装置においてはその大きさは幅約8m,長
さ約15m,高さ約2mの大きさとなっている。
The semiconductor processing apparatus 5 includes an automatic semiconductor attaching / detaching section 6.
And a manual semiconductor attaching / detaching unit 8 and a number of processing devices such as coating, drying, baking of a pattern, development, etching, and peeling of a photoresist on a semiconductor wafer. The processing chamber 9, the direction change unit 10, the intermediate unit 11, the first lane selection unit 12A, the return duct 13, and the second lane selection unit 12B are connected to each other and combined to form an entire structure. In the double-lane apparatus shown in FIG. 1, the size is about 8 m in width, about 15 m in length, and about 2 m in height.

【0019】半導体処理装置5への板状半導体14の装
着が自動装着される場合には、板状半導体14は矢印A
方向に搬送され自動半導体着脱部6の回転フレーム15
に垂直に立てた状態で装着された後、回転フレーム15
と共に矢印P方向に搬送され、また手動装着の場合には
手動半導体着脱部8に矢印C方向に搬送されて回転フレ
ーム15に垂直に立てた状態で装着されるようになって
いる。
When the mounting of the plate-shaped semiconductor 14 into the semiconductor processing apparatus 5 is automatically performed, the plate-shaped semiconductor 14 is
Frame 15 of the automatic semiconductor attaching / detaching unit 6 conveyed in the direction
After being mounted vertically on the rotating frame 15
Are transported in the direction of the arrow P, and in the case of manual mounting, they are transported in the direction of the arrow C to the manual semiconductor attaching / detaching portion 8 and mounted vertically on the rotating frame 15.

【0020】自動半導体着脱部6の回転フレーム15に
装着された板状半導体14は、後に詳述する半導体の方
向変換搬送装置50を作動させて該回転フレーム15を
矢印E方向に90°回転させた後、矢印G方向に搬送し
て手動半導体着脱部8に受け渡された後、また手動半導
体着脱部8に装着された板状半導体14は、同様に半導
体の方向変換搬送装置50を作動させて回転フレーム1
5を矢印E方向に90°回転させて処理チャンバ9に搬
入されるようになっている。
The plate-shaped semiconductor 14 mounted on the rotating frame 15 of the automatic semiconductor attaching / detaching section 6 is operated by operating a semiconductor direction changing / conveying device 50, which will be described in detail later, to rotate the rotating frame 15 by 90 ° in the direction of arrow E. Then, after being transported in the direction of arrow G and transferred to the manual semiconductor attaching / detaching section 8, the plate-shaped semiconductor 14 mounted on the manual semiconductor attaching / detaching section 8 also operates the semiconductor direction changing / conveying device 50 in the same manner. Rotating frame 1
5 is rotated 90 ° in the direction of arrow E and carried into the processing chamber 9.

【0021】板状半導体14は、処理チャンバ9内を矢
印H方向に搬送されながらフォトレジストのコーティン
グ、乾燥、パターンの焼付け、現像、エッチング処理、
フォトレジストの剥離等の多数の処理が自動的に施され
加工されるようになっている。
The plate-shaped semiconductor 14 is conveyed in the processing chamber 9 in the direction of arrow H while being coated with a photoresist, dried, baked, developed, etched and processed.
Many processes such as photoresist stripping are automatically performed and processed.

【0022】処理チャンバ9で処理された板状半導体1
4は、方向転換部10に受け渡され、該方向転換部10
において自動半導体着脱部6において回転したと同様に
して矢印I方向に90°回転され、中間ユニット11内
を矢印J方向に搬送されて第1レーン選択ユニット12
Aに受け渡されるようになっている。
Plate semiconductor 1 processed in processing chamber 9
4 is transferred to the direction changing unit 10 and the direction changing unit 10
Is rotated by 90 ° in the direction of arrow I in the same manner as the rotation in the automatic semiconductor attaching / detaching section 6, and is conveyed in the direction of arrow J in the intermediate unit 11 to the first lane selection unit 12.
A is handed over.

【0023】そして該第1レーン選択ユニット12Aで
も同様に矢印K方向に90°回転した後、返送ダクト1
3内を矢印L方向に搬送されて第2レーン選択ユニット
12Bに受け渡されるようになっている。
In the first lane selection unit 12A, the rotation duct 90 is similarly rotated by 90 degrees in the direction of arrow K,
3 is conveyed in the direction of arrow L and transferred to the second lane selection unit 12B.

【0024】第2レーン選択ユニット12Bに受け渡さ
れた板状半導体14は、同様に半導体の方向変換搬送装
置50を作動させて矢印M方向に回転し、次いで矢印O
方向に搬送されて自動半導体着脱部6に受け渡されるよ
うになっている。
The plate-like semiconductor 14 delivered to the second lane selection unit 12B is rotated in the direction of arrow M by operating the semiconductor direction changing / conveying device 50 in the same manner.
And is transferred to the automatic semiconductor attaching / detaching unit 6 in the direction.

【0025】自動処理の場合には該自動半導体着脱部6
において回転フレーム15を同様に矢印F方向に回転さ
せた後、板状半導体14を回転フレーム15と共に矢印
Q方向に搬送し矢印B方向に取り出すようになってい
る。
In the case of automatic processing, the automatic semiconductor attaching / detaching section 6
After the rotary frame 15 is similarly rotated in the direction of arrow F, the plate-shaped semiconductor 14 is transported together with the rotary frame 15 in the direction of arrow Q and taken out in the direction of arrow B.

【0026】また手動処理の場合には、第2レーン選択
ユニット12Bから自動半導体着脱部6に受け渡された
板状半導体14は、更に矢印G方向に搬送された後、矢
印F方向に回転して矢印D方向に取り出されるようにな
っている。
In the case of manual processing, the plate-shaped semiconductor 14 transferred from the second lane selection unit 12B to the automatic semiconductor attaching / detaching unit 6 is further transported in the direction of arrow G and then rotated in the direction of arrow F. To be taken out in the direction of arrow D.

【0027】処理チャンバ9及び返送ダクト13には、
図示しないクリーンユニットが装着されていて、該処理
チャンバ9及び返送ダクト13内を常に高度なクリーン
状態に保持して板状半導体14に塵埃等が付着するのを
防止するように構成されている。
The processing chamber 9 and the return duct 13 include:
A clean unit (not shown) is installed, and the processing chamber 9 and the return duct 13 are always kept in a highly clean state to prevent dust and the like from adhering to the plate-shaped semiconductor 14.

【0028】第1レーン選択ユニット12Aには、トレ
ーを取り出すためのトレー取出しサポート16が装着さ
れており、該第1レーン選択ユニット12Aとトレー取
出しサポート16との間には第1ゲートバルブ18が、
また返送ダクト13と第2レーン選択ユニット12Bと
の間には第2ゲートバルブ19が装着されており、常時
は該第1及び第2ゲートバルブ18,19を閉鎖し、板
状半導体14が通過する時だけ該第1及び第2ゲートバ
ルブ18,19を開放して処理チャンバ9及び返送ダク
ト13を外部から遮断して清浄に保つようになつてい
る。
The first lane selection unit 12A is provided with a tray take-out support 16 for taking out a tray. A first gate valve 18 is provided between the first lane selection unit 12A and the tray take-out support 16. ,
A second gate valve 19 is mounted between the return duct 13 and the second lane selection unit 12B, and normally closes the first and second gate valves 18 and 19 so that the plate-shaped semiconductor 14 can pass therethrough. Only when this is done, the first and second gate valves 18 and 19 are opened to shut off the processing chamber 9 and the return duct 13 from the outside to keep them clean.

【0029】次に、図2から図4も参照して、半導体搬
送装置1について説明する。送りねじ2は、シャトルフ
レーム20を水平方向に移動させるためのものであっ
て、基台21に固定されたサーボ電動モータ22の回転
軸23に送りねじ2が水平方向に向けて固定されてい
る。
Next, the semiconductor carrier 1 will be described with reference to FIGS. The feed screw 2 is for moving the shuttle frame 20 in the horizontal direction, and the feed screw 2 is fixed to the rotating shaft 23 of the servo electric motor 22 fixed to the base 21 in the horizontal direction. .

【0030】該送りねじ2には、取付け板24を介して
シャトルフレーム20に固定されたナット25が螺合
し、サーボ電動モータ22で送りねじ2を回転させるこ
とにより、シャトルフレーム20を基台21上で矢印P
又はQ方向に移動させるようになっている。
The feed screw 2 is screwed with a nut 25 fixed to the shuttle frame 20 via a mounting plate 24, and the feed screw 2 is rotated by the servo electric motor 22, whereby the shuttle frame 20 is mounted on the base. Arrow P on 21
Alternatively, it is moved in the Q direction.

【0031】丸棒状ガイドレール3は、シャトルフレー
ム20を案内して摺動させるためのものであって、その
断面形状は下部が取付け部3aとして逆T字形に、また
上部がガイド部3bとして半円状の形状となっており、
長さ略1.5mの棒状に形成されている。
The round bar-shaped guide rail 3 is for guiding and sliding the shuttle frame 20, and has a cross-sectional shape in which the lower part is an inverted T-shape as an attachment part 3a and the upper part is a half as an guide part 3b. It has a circular shape,
It is formed in a rod shape having a length of about 1.5 m.

【0032】そして丸棒状ガイドレール3の取付け部3
aは、基台21の中間フレーム21aにボルト(図示せ
ず)によって送りねじ2と平行に2本固定されている。
The mounting portion 3 of the round bar-shaped guide rail 3
“a” is fixed to the intermediate frame 21 a of the base 21 by bolts (not shown) in parallel with the feed screw 2.

【0033】摺動体4は、丸棒状ガイドレール3上でシ
ャトルフレーム20を摺動させるためのものであって、
丸棒状ガイドレール3のガイド部3bを包み込むような
形状に形成されており、丸棒状ガイドレール3との接触
部には複数のボール(図示せず)が装着されて該丸棒状
ガイドレール3上をガタなく、滑らかに転動して摺動体
4を丸棒状ガイドレール3に沿って移動させるようにな
っている。
The sliding member 4 is for sliding the shuttle frame 20 on the round bar-shaped guide rail 3.
A plurality of balls (not shown) are mounted on the contact portion with the round bar-shaped guide rail 3 so as to surround the guide portion 3b of the round bar-shaped guide rail 3, and a plurality of balls (not shown) are mounted on the round bar-shaped guide rail 3. Are smoothly rolled without any backlash, and the sliding body 4 is moved along the round bar-shaped guide rail 3.

【0034】そして摺動体4は、ボルト(図示せず)に
よりシャトルフレーム20の下フレーム20aに固定さ
れている。
The sliding body 4 is fixed to the lower frame 20a of the shuttle frame 20 by bolts (not shown).

【0035】シャトルフレーム20の下フレーム20a
と上フレーム20bの中央には、夫々回転軸受30が固
定されており、回転フレーム15に固定された回転軸3
1が回動自在に嵌合し、その垂直軸線VLを中心として
回転フレーム15を回動自在に保持している。
The lower frame 20a of the shuttle frame 20
A rotating bearing 30 is fixed to the center of the upper frame 20b and the rotating shaft 3 fixed to the rotating frame 15, respectively.
1 rotatably fits, and holds the rotating frame 15 rotatably about its vertical axis VL.

【0036】図5及び図6も参照して、本発明の主要部
である半導体の方向変換搬送装置50について説明す
る。半導体の方向変換搬送装置50は、電動モータ35
と4節リンク機構43とから構成されており、実施例に
おいては自動半導体着脱部6、手動半導体着脱部8、方
向転換部10、第1レーン選択ユニット12A、第2レ
ーン選択ユニット12Bに同一の機構が配設されてい
る。
Referring to FIGS. 5 and 6, a semiconductor direction changing and transporting device 50 which is a main part of the present invention will be described. The semiconductor direction changing and transporting device 50 includes an electric motor 35
In the embodiment, the automatic semiconductor attaching / detaching unit 6, the manual semiconductor attaching / detaching unit 8, the direction changing unit 10, the first lane selection unit 12A, and the second lane selection unit 12B are the same. A mechanism is provided.

【0037】下方の回転軸31は、回転軸受30を貫通
してシャトルフレーム20の下方に突出し、作動腕32
が固定されている。
The lower rotating shaft 31 penetrates the rotating bearing 30 and protrudes below the shuttle frame 20 to form an operating arm 32.
Has been fixed.

【0038】作動腕32には、結合リンク33の一端3
3aがピン34によって回動自在に結合され、結合リン
ク33の他の一端33bは、シャトルフレーム20に固
定されている電動モータ35の回転軸36に固定された
クランク37にピン38によって回動自在に結合され、
作動腕32、結合リンク33及びクランク37によって
4節リンク機構43が構成されている。
The operating arm 32 has one end 3 of the coupling link 33.
The other end 33b of the connecting link 33 is rotatably connected to a crank 37 fixed to a rotating shaft 36 of an electric motor 35 fixed to the shuttle frame 20 by a pin 38. Joined to
The operating arm 32, the coupling link 33 and the crank 37 constitute a four-bar linkage 43.

【0039】結合リンク33の中間部には、該結合リン
ク33の長さを調節するためのねじ部3cが配設されて
いて回転フレーム15の回動角度を調整できるようにな
っている。
A screw portion 3c for adjusting the length of the connecting link 33 is provided at an intermediate portion of the connecting link 33 so that the rotation angle of the rotating frame 15 can be adjusted.

【0040】クランク37には、遮蔽板51が固定され
ており、クランク37と共に回動して下フレーム20a
に固定されているフォトセンサ52を所定の位置で遮蔽
して信号を送出し、矢印R方向に回転する電動モータ3
5を上死点及び下死点で停止させて180°ずつ間欠回
転させ、回転フレーム15を矢印S及びTで示す如く9
0°揺動回動させるように構成されている。
A shield plate 51 is fixed to the crank 37, and rotates together with the crank 37 to rotate the lower frame 20a.
The electric motor 3 that rotates in the direction of the arrow R by transmitting a signal while shielding the photo sensor 52 fixed to the
5 is stopped at the top dead center and the bottom dead center, intermittently rotated by 180 °, and the rotating frame 15 is rotated by 9 as shown by arrows S and T.
It is configured to swing by 0 °.

【0041】回転フレーム15には、板状半導体14を
垂直状態に保持するためのガイドローラ39が装着され
ている。
A guide roller 39 for holding the semiconductor plate 14 in a vertical state is mounted on the rotating frame 15.

【0042】基台21の中間フレーム21aには、シャ
トルフレーム20の移動方向の一直線上に複数のフォト
センサ40が配設され、またシャトルフレーム20に
は、遮蔽板41が固定されており、シャトルフレーム2
0の移動により該遮蔽板41がフォトセンサ40を遮蔽
してシャトルフレーム20の現在位置の信号を送出する
ようになっている。
A plurality of photosensors 40 are arranged on the intermediate frame 21a of the base 21 in a straight line in the direction of movement of the shuttle frame 20, and a shielding plate 41 is fixed to the shuttle frame 20. Frame 2
The movement of 0 causes the shielding plate 41 to shield the photosensor 40 and transmit a signal of the current position of the shuttle frame 20.

【0043】本発明は、上記のように構成されており、
以下その作用について説明する。図1から図6におい
て、板状半導体14を矢印A方向に搬入してガイドロー
ラ39で案内しながら回転フレーム15に垂直状態に保
持して装着する。
The present invention is configured as described above,
Hereinafter, the operation will be described. 1 to 6, the plate-shaped semiconductor 14 is carried in the direction of arrow A, and is held while being vertically held on the rotating frame 15 while being guided by the guide rollers 39.

【0044】電動モータ35が回転してそれまで上死点
UDPに停止していたクランク37を矢印R方向に回動
させて下死点LDPで停止させる。
The electric motor 35 rotates and the crank 37 which has been stopped at the top dead center UDP until that time is rotated in the direction of arrow R and stopped at the bottom dead center LDP.

【0045】該回動により4節リンク機構43が作動
し、結合リンク33、作動腕32及び回転軸31を介し
て回転フレーム15を垂直軸線VLを中心として矢印T
方向に90°回動させる。
By the rotation, the four-link mechanism 43 is operated, and the rotating frame 15 is moved through the connecting link 33, the operating arm 32 and the rotating shaft 31 about the vertical axis VL as indicated by an arrow T.
In the direction 90 °.

【0046】次いでサーボ電動モータ22が回転して送
りねじ2を回転させると、該送りねじ2に螺合するナッ
ト25の作用によりシャトルフレーム20が矢印P方向
に移動し、回転フレーム15と共に板状半導体14を矢
印P方向に搬送する。
Next, when the servo electric motor 22 rotates to rotate the feed screw 2, the shuttle frame 20 moves in the direction of the arrow P by the action of the nut 25 screwed to the feed screw 2, and the shuttle frame 20 moves together with the rotary frame 15 in a plate shape. The semiconductor 14 is transported in the direction of arrow P.

【0047】シャトルフレーム20が予め定められた所
定の位置にまで移動すると、フォトセンサ40が遮蔽板
41で遮蔽された信号が送出され、図示しない制御装置
の作用によりサーボ電動モータ22の回転を停止させて
板状半導体14を所定の位置に位置決めして次の装置に
受け渡す準備が終了する。
When the shuttle frame 20 moves to a predetermined position, the photo sensor 40 sends a signal shielded by the shield plate 41, and the rotation of the servo electric motor 22 is stopped by the operation of a control device (not shown). Thus, the preparation for positioning the plate-shaped semiconductor 14 at a predetermined position and transferring it to the next device is completed.

【0048】板状半導体14を搬出する場合には、サー
ボ電動モータ22を先と逆の方向に回転させることによ
りシャトルフレーム20を矢印Q方向に搬送することが
できる。
When the semiconductor plate 14 is carried out, the shuttle frame 20 can be carried in the direction of arrow Q by rotating the servo motor 22 in the opposite direction.

【0049】手動半導体着脱部8、方向転換部10、第
1レーン選択ユニット12A、第2レーン選択ユニット
12Bに配設されている半導体の方向変換搬送装置50
の作用は上記したと全く同様であり、板状半導体14の
搬送に従って順次作動して板状半導体14を回転フレー
ム15と共に回動させる。
The semiconductor direction changing / conveying device 50 provided in the manual semiconductor attaching / detaching section 8, the direction changing section 10, the first lane selecting unit 12A and the second lane selecting unit 12B.
Is exactly the same as described above, and the plate semiconductors 14 are sequentially operated in accordance with the transport of the plate semiconductors 14 to rotate the plate semiconductors 14 together with the rotating frame 15.

【0050】そして該回動は4節リンク機構43の上死
点UDPから下死点LDPに、又は下死点LDPから上
死点UDPに180°ずつ間欠回転するように構成され
ているので、回転フレーム15の回動は近似正弦波の変
移曲線に従うため、回動開始時及び停止時には、加速度
が非常に小さくその動きは緩やかであり、板状半導体1
4に衝撃を与えることなく理想的な回動運動を行う。
The rotation is configured so as to intermittently rotate by 180 ° from the top dead center UDP to the bottom dead center LDP from the top dead center UDP to the four-node link mechanism 43 or from the bottom dead center LDP to the top dead center UDP. Since the rotation of the rotating frame 15 follows the transition curve of the approximate sine wave, the acceleration is very small at the time of starting and stopping the rotation, and the movement is gradual.
4 performs an ideal turning motion without giving an impact to the motor.

【0051】またシャトルフレーム20は、サーボ電動
モータ22により搬送するように構成したので、厚さ2
00μm程度の割れやすい板状半導体14を搬送する場
合には、サーボ電動モータ22をスタート時には次第に
回転速度を速めるスローアップ制御を、また停止時には
次第に回転速度を遅くするスローダウン制御することに
より、搬送する板状半導体14に最適な任意の速度で搬
送することができる。
Further, since the shuttle frame 20 is configured to be conveyed by the servo electric motor 22, the thickness of the shuttle frame 20 is reduced.
When transporting the fragile plate-like semiconductor 14 of about 00 μm, the servo electric motor 22 is controlled by slow-up control in which the rotation speed is gradually increased when the motor is started, and slow-down control in which the rotation speed is gradually decreased when the servo motor is stopped. It can be conveyed at any speed optimal for the plate-shaped semiconductor 14 to be formed.

【0052】上記した如く回転フレーム15の回動及び
シャトルフレーム20の搬送は、4節リンク機構43及
び丸棒状ガイドレール3上を滑らかに転動しサーボ電動
モータ22で駆動される摺動体4の作用により極くわず
かの力で滑らかに板状半導体14を回動させ、また搬送
することができる。
As described above, the rotation of the rotating frame 15 and the transport of the shuttle frame 20 smoothly move on the four-node link mechanism 43 and the round bar-shaped guide rail 3 to move the sliding body 4 driven by the servo electric motor 22. By the action, the plate-shaped semiconductor 14 can be smoothly rotated and transported with a very small force.

【0053】[0053]

【発明の効果】本発明は、上記のように完全密閉形電動
モータにより板状半導体が装着された回転フレームを回
転させるようにしたので、オイルミストや塵埃の発生を
完全に防止することができ、またこの結果処理中の板状
半導体にオイルミストや塵埃が付着するのを防止して高
性能の電子部品を製作できるようにすることである。
According to the present invention, since the rotary frame on which the plate-shaped semiconductor is mounted is rotated by the completely enclosed electric motor as described above, generation of oil mist and dust can be completely prevented. It is another object of the present invention to manufacture a high-performance electronic component by preventing oil mist and dust from adhering to a plate-like semiconductor being processed.

【0054】また上記構成により作動流体を供給するた
めの配管が不要となるため、設計の自由度を増すことが
でき、最適位置に回転フレーム駆動機構を配設できると
いう効果がある。
In addition, since the above configuration eliminates the need for a pipe for supplying a working fluid, the degree of freedom in design can be increased, and the rotating frame drive mechanism can be disposed at an optimum position.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】半導体処理装置の全体平面図である。FIG. 1 is an overall plan view of a semiconductor processing apparatus.

【図2】半導体搬送装置の正面図である。FIG. 2 is a front view of the semiconductor carrier.

【図3】半導体搬送装置の左側面図である。FIG. 3 is a left side view of the semiconductor carrier.

【図4】半導体搬送装置の平面図である。FIG. 4 is a plan view of the semiconductor carrier.

【図5】半導体の方向変換搬送装置の正面図である。FIG. 5 is a front view of a semiconductor direction change transport device.

【図6】半導体の方向変換搬送装置の平面図である。FIG. 6 is a plan view of a semiconductor direction change transport device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 半導体搬送装置 14 板状半導体 15 回転フレーム 20 シャトルフレーム 21 基台 31 回転中心軸 32 作動腕 33 結合リンク 35 電動モータ 36 電動モータの回転軸 37 クランク 43 4節リンク機構 50 半導体の方向変換搬送装置 VL 垂直軸線 UDP 上死点 LDP 下死点 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Semiconductor conveyance apparatus 14 Plate-shaped semiconductor 15 Rotation frame 20 Shuttle frame 21 Base 31 Rotation center axis 32 Working arm 33 Coupling link 35 Electric motor 36 Electric motor rotation axis 37 Crank 43 Four-node link mechanism 50 Semiconductor direction change conveyance apparatus VL Vertical axis UDP Top dead center LDP Bottom dead center

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 板状半導体を垂直に立てた状態で保持す
る回転フレームを該回転フレームの垂直軸線を中心とし
て回動自在にシャトルフレームに配設し前記板状半導体
を前記回転フレームと共に回転させてその向きを変更
し、また前記シャトルフレームを水平方向に移動させる
ことにより前記板状半導体を搬送するように構成した半
導体搬送装置において、基台に固定され180°ずつ間
欠回転する電動モータと、該電動モータの回転軸に一端
が固定されたクランクと前記回転フレームの回転中心軸
に一端が固定された作動腕と前記クランクの他の一端及
び前記作動腕の他の一端とを回動自在に結合する結合リ
ンクとから構成された4節リンク機構とを備えたことを
特徴とする半導体の方向変換搬送装置。
1. A shuttle frame for holding a plate-shaped semiconductor in an upright state is provided on a shuttle frame so as to be rotatable about a vertical axis of the rotary frame, and the plate-shaped semiconductor is rotated together with the rotary frame. In a semiconductor transfer device configured to transfer the plate-shaped semiconductor by moving the shuttle frame in a horizontal direction by moving the shuttle frame in a horizontal direction, an electric motor fixed to a base and intermittently rotated by 180 °, A crank whose one end is fixed to the rotating shaft of the electric motor, an operating arm whose one end is fixed to the rotation center axis of the rotating frame, the other end of the crank, and the other end of the operating arm are rotatable. A semiconductor direction changing and transporting device, comprising: a four-joint link mechanism including a coupling link to be coupled.
【請求項2】 板状半導体を垂直に立てた状態で保持す
る回転フレームを該回転フレームの垂直軸線を中心とし
て回動自在にシャトルフレームに配設し前記板状半導体
を前記回転フレームと共に回転させてその向きを変更
し、また前記シャトルフレームを水平方向に移動させる
ことにより前記板状半導体を搬送するように構成した半
導体搬送装置において、基台に固定され180°ずつ間
欠回転する電動モータと、該電動モータの回転軸に一端
が固定されたクランクと前記回転フレームの回転中心軸
に一端が固定された作動腕と前記クランクの他の一端及
び前記作動腕の他の一端とを回動自在に結合する結合リ
ンクとから構成された4節リンク機構とを備え、前記電
動モータを上死点及び下死点で停止させて180°ずつ
間欠回転させ前記回転フレームを揺動回動させて前記板
状半導体の方向を変換するように前記4節リンク機構を
構成したことを特徴とする半導体の方向変換搬送装置。
2. A shuttle frame for holding a plate-shaped semiconductor in an upright state is provided on a shuttle frame so as to be rotatable about a vertical axis of the rotary frame, and the plate-shaped semiconductor is rotated together with the rotary frame. In a semiconductor transfer device configured to transfer the plate-shaped semiconductor by moving the shuttle frame in a horizontal direction by moving the shuttle frame in a horizontal direction, an electric motor fixed to a base and intermittently rotated by 180 °, A crank whose one end is fixed to the rotating shaft of the electric motor, an operating arm whose one end is fixed to the rotation center axis of the rotating frame, the other end of the crank, and the other end of the operating arm are rotatable. A four-link mechanism comprising a coupling link for coupling, the electric motor is stopped at a top dead center and a bottom dead center, and the electric motor is intermittently rotated by 180 ° to rotate the electric motor. Semiconductor diverting conveying device, characterized in the frame is swung pivot that constitutes the four bar linkage so as to convert the direction of the plate-like semiconductor.
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