JPH069041A - Direction changing conveying device for semiconductor - Google Patents
Direction changing conveying device for semiconductorInfo
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- JPH069041A JPH069041A JP10890592A JP10890592A JPH069041A JP H069041 A JPH069041 A JP H069041A JP 10890592 A JP10890592 A JP 10890592A JP 10890592 A JP10890592 A JP 10890592A JP H069041 A JPH069041 A JP H069041A
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- Branching, Merging, And Special Transfer Between Conveyors (AREA)
- Specific Conveyance Elements (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、半導体の方向変換搬送
装置に係り、特に完全密閉形電動モータで作動する4節
リンク機構により半導体を保持する回転フレームを回動
させることによって、エアシリンダや油圧シリンダの使
用を不要としてオイルミストや塵埃の発生を防止し、ま
た該回動の開始及び停止時の加速度を非常に小さくして
半導体へ与える衝撃を極めて少なくしたクリーンルーム
での作業を必要とする精密半導体の搬送に好適な半導体
の方向変換搬送装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor direction changing / conveying apparatus, and more particularly, to an air cylinder or an air cylinder by rotating a rotary frame for holding a semiconductor by a four-bar linkage mechanism operated by a completely sealed electric motor. It is not necessary to use a hydraulic cylinder to prevent the generation of oil mist and dust, and it is necessary to work in a clean room where the acceleration at the start and stop of the rotation is made extremely small and the impact on the semiconductor is extremely small. The present invention relates to a semiconductor direction changing and conveying device suitable for conveying precision semiconductors.
【0002】[0002]
【従来の技術】板状半導体の一例たる半導体ウェーハの
処理工程は、厚さ200μmから10mm程度の半導体
ウェーハにフォトレジストのコーティング、乾燥、パタ
ーンの焼付け、現像、エッチング処理、フォトレジスト
の剥離等の多数の処理からなり、該処理工程が自動処理
装置において施されて電子部品が製作されている。2. Description of the Related Art The process of processing a semiconductor wafer, which is an example of a plate-shaped semiconductor, includes coating a photoresist on a semiconductor wafer having a thickness of about 200 .mu.m to 10 mm, drying, pattern baking, development, etching, peeling of a photoresist, etc. An electronic component is manufactured by comprising a large number of treatments and performing the treatment steps in an automatic treatment device.
【0003】該板状半導体の自動処理装置への搬入、搬
出等の搬送は、通常板状半導体を水平にした状態で搬送
されていたが、近年板状半導体が大型化して6インチか
ら8インチもの大きさとなっているため、該水平搬送に
よると板状半導体の自重による撓みに加えて、処理時の
熱により割れが発生し易く、生産上の大きな問題となっ
ていた。When carrying in and out the automatic semiconductor processing apparatus, the plate-shaped semiconductors are usually carried in a horizontal state. However, in recent years, the plate-shaped semiconductors have grown in size to 6 to 8 inches. Since the size is so large, the horizontal transportation causes the plate-shaped semiconductor to bend due to its own weight, and cracks easily occur due to heat during processing, which is a serious problem in production.
【0004】一辺が40cmから60cmにもなる大型
液晶表示装置の搬送においても同様の問題が生じてお
り、大型半導体の効率的な生産において大きな障害とな
っていたが、該問題は板状半導体を垂直に立てた状態で
保持して搬送することにより大幅な改善が図られてい
る。A similar problem occurs in the transportation of a large-sized liquid crystal display device whose one side is 40 cm to 60 cm, which has been a major obstacle to the efficient production of large-sized semiconductors. Significant improvement has been achieved by holding and transporting it in a vertically standing state.
【0005】即ち板状半導体の搬送は回転フレームに板
状半導体を垂直に立てた状態で保持し、該回転フレーム
を垂直軸を中心として回動自在にシャトルフレームに配
設し該シャトルフレームを水平方向に移動させることに
よって板状半導体を搬送するようにされている。That is, for transporting the plate-shaped semiconductor, the plate-shaped semiconductor is held vertically in a rotating frame, the rotating frame is rotatably arranged around a vertical axis on a shuttle frame, and the shuttle frame is horizontally moved. The plate-shaped semiconductor is conveyed by moving in the direction.
【0006】ここで板状半導体の回転フレームへの装着
の作業性を良好に確保し、また多数の装置の組合せから
成る板状半導体の自動処理装置の効率的な配置のために
は、板状半導体を回転フレームと共に90°回転させて
次の装置に受け渡すことが必要であり、従来該板状半導
体の回転は、エアシリンダ又は空気圧を油圧に変換して
作動させるハイドロエアシリンダにより、板状半導体を
保持した回転フレームを回転させていた。Here, in order to ensure good workability in mounting the plate-shaped semiconductor on the rotary frame and to efficiently arrange the plate-shaped semiconductor automatic processing apparatus composed of a combination of a large number of devices, the plate-shaped semiconductor is required. It is necessary to rotate the semiconductor by 90 ° together with the rotating frame and deliver it to the next device. Conventionally, the rotation of the plate-shaped semiconductor is performed by an air cylinder or a hydro air cylinder that operates by converting air pressure into hydraulic pressure. The rotating frame holding the semiconductor was rotating.
【0007】しかし該従来の回転装置によると、エアシ
リンダ又はハイドロエアシリンダからオイルミストや圧
縮空気中に含まれる塵埃が発生し、処理中の板状半導体
に付着して電子部品の性能を劣化させるという欠点があ
った。However, according to the conventional rotating device, dust contained in oil mist or compressed air is generated from the air cylinder or the hydro air cylinder and adheres to the plate-shaped semiconductor being processed to deteriorate the performance of electronic parts. There was a drawback.
【0008】エアシリンダやハイドロエアシリンダから
発生するオイルミストや塵埃を防止するためには高度の
処理装置を必要とし、装置が大型となるばかりでなく、
電子部品のコストが高くなってしまうという欠点があっ
た。In order to prevent oil mist and dust generated from an air cylinder or a hydro air cylinder, a high-level processing device is required, which not only makes the device large, but also
There is a drawback that the cost of electronic parts becomes high.
【0009】またエアシリンダ又はハイドロエアシリン
ダにより駆動される従来の回転装置によると、該回転の
開始及び停止時において急速な動きの変化があり、大き
な加速度や衝撃を板状半導体に与えていたので、極端な
場合には薄板の板状半導体を破損してしまう等の欠点が
あった。Further, according to the conventional rotating device driven by the air cylinder or the hydro air cylinder, there is a rapid change in the movement at the time of starting and stopping the rotation, which gives a large acceleration or impact to the plate-shaped semiconductor. In an extreme case, there is a defect that the thin plate semiconductor is damaged.
【0010】更にエアシリンダ又はハイドロエアシリン
ダに作動流体を供給するための配管を要し、配管作業が
大変であるばかりでなく、配管によって制限されて該エ
アシリンダ又はハイドロエアシリンダを最適位置に配置
することができない場合が生じるという欠点があった。Further, the piping for supplying the working fluid to the air cylinder or the hydro air cylinder is required, and the piping work is not only difficult, but the air cylinder or the hydro air cylinder is arranged at the optimum position by being restricted by the piping. There was a drawback that there were cases where it could not be done.
【0011】[0011]
【発明が解決しようとする課題】本発明は,上記した従
来技術の欠点を除くためになされたものであって、その
目的とするところは、完全密閉形電動モータにより板状
半導体が装着された回転フレームを回転させることによ
り、オイルミストや塵埃の発生を完全に防止することで
あり、またこれによって、処理中の板状半導体にオイル
ミストや塵埃が付着するのを防止して高性能の電子部品
を製作できるようにすることである。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in order to eliminate the above-mentioned drawbacks of the prior art. The object of the present invention is to mount a plate-shaped semiconductor by a completely sealed electric motor. By rotating the rotating frame, it is possible to completely prevent the generation of oil mist and dust, which also prevents the oil mist and dust from adhering to the plate-shaped semiconductor being processed, thus providing high-performance electronic equipment. It is to be able to manufacture parts.
【0012】また他の目的は、上記構成により作動流体
を供給するための配管を不要として設計の自由度を増
し、最適位置に回転フレーム駆動機構を配設できるよう
にすることである。Another object of the present invention is to increase the degree of freedom in design by eliminating the piping for supplying the working fluid by the above-mentioned structure and to dispose the rotary frame drive mechanism at the optimum position.
【0013】更に他の目的は、完全密閉形電動モータの
回転を4節リンク機構を介して回転フレームに伝達する
ように構成し、電動モータを上死点及び下死点で停止さ
せて180°ずつ間欠回転させ回転フレームを揺動回動
させることによって、回転フレームの回動開始時及び停
止時の加速度を非常に小さくして板状半導体へ与える衝
撃を極めて少なくすることであり、またこれによって薄
板の板状半導体を少しも傷付けることなく回動させるこ
とができるようにすることである。Still another object is to transmit the rotation of a completely sealed electric motor to a rotating frame via a four-bar linkage and to stop the electric motor at top dead center and bottom dead center by 180 °. By rotating the rotating frame by rotating the rotating frame intermittently, the acceleration at the time of starting and stopping the rotating frame can be made very small, and the impact on the plate-shaped semiconductor can be extremely reduced. It is to be able to rotate a thin plate semiconductor without damaging it at all.
【0014】[0014]
【課題を解決するための手段】本発明(請求項1)は、
板状半導体を垂直に立てた状態で保持する回転フレーム
を該回転フレームの垂直軸線を中心として回動自在にシ
ャトルフレームに配設し前記板状半導体を前記回転フレ
ームと共に回転させてその向きを変更し、また前記シャ
トルフレームを水平方向に移動させることにより前記板
状半導体を搬送するように構成した半導体搬送装置にお
いて、基台に固定され180°ずつ間欠回転する電動モ
ータと、該電動モータの回転軸に一端が固定されたクラ
ンクと前記回転フレームの回転中心軸に一端が固定され
た作動腕と前記クランクの他の一端及び前記作動腕の他
の一端とを回動自在に結合する結合リンクとから構成さ
れた4節リンク機構とを備えたことを特徴とするもので
ある。The present invention (Claim 1) includes:
A rotary frame that holds the plate-shaped semiconductor in an upright state is disposed on a shuttle frame so as to be rotatable about a vertical axis of the rotary frame, and the plate-shaped semiconductor is rotated together with the rotary frame to change its direction. Further, in a semiconductor transfer device configured to transfer the plate-shaped semiconductor by moving the shuttle frame in a horizontal direction, an electric motor fixed to a base and rotating intermittently by 180 ° and a rotation of the electric motor. A crank whose one end is fixed to a shaft, an operating arm whose one end is fixed to a rotation center axis of the rotary frame, and a coupling link which rotatably connects the other end of the crank and the other end of the operating arm. And a four-bar linkage mechanism composed of
【0015】また本発明(請求項2)は、板状半導体を
垂直に立てた状態で保持する回転フレームを該回転フレ
ームの垂直軸線を中心として回動自在にシャトルフレー
ムに配設し前記板状半導体を前記回転フレームと共に回
転させてその向きを変更し、また前記シャトルフレーム
を水平方向に移動させることにより前記板状半導体を搬
送するように構成した半導体搬送装置において、基台に
固定され180°ずつ間欠回転する電動モータと、該電
動モータの回転軸に一端が固定されたクランクと前記回
転フレームの回転中心軸に一端が固定された作動腕と前
記クランクの他の一端及び前記作動腕の他の一端とを回
動自在に結合する結合リンクとから構成された4節リン
ク機構とを備え、前記電動モータを上死点及び下死点で
停止させて180°ずつ間欠回転させ前記回転フレーム
を揺動回動させて前記板状半導体の方向を変換するよう
に前記4節リンク機構を構成したことを特徴とするもの
である。According to the present invention (claim 2), a rotating frame for holding the plate-shaped semiconductor in an upright state is arranged on the shuttle frame so as to be rotatable about a vertical axis of the rotating frame. In a semiconductor transfer device configured to transfer the plate-shaped semiconductor by rotating the semiconductor together with the rotating frame to change its direction and moving the shuttle frame in the horizontal direction, the semiconductor transfer device is fixed to a base and is fixed at 180 °. An electric motor that intermittently rotates, a crank whose one end is fixed to a rotation shaft of the electric motor, an operating arm whose one end is fixed to a rotation center axis of the rotating frame, the other end of the crank, and the other of the operating arm. 180 degree by stopping the electric motor at top dead center and bottom dead center. It is characterized in that the four-bar linkage mechanism is configured so as to intermittently rotate each of them and swing and rotate the rotary frame to change the direction of the plate-shaped semiconductor.
【0016】[0016]
【実施例】以下本発明を図面に示す実施例に基いて説明
する。図1から図6を参照して、本発明に係る半導体の
方向変換搬送装置50は、電動モータ35と、4節リン
ク機構43とを備えている。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below with reference to the embodiments shown in the drawings. With reference to FIGS. 1 to 6, a semiconductor direction changing and conveying device 50 according to the present invention includes an electric motor 35 and a four-bar linkage mechanism 43.
【0017】まず図1を参照して、半導体の方向変換搬
送装置50が組み込まれた半導体搬送装置1が使用され
ている半導体処理装置5の全体構成を説明する。First, with reference to FIG. 1, a description will be given of the overall configuration of a semiconductor processing apparatus 5 in which a semiconductor carrier device 1 incorporating a semiconductor direction changing carrier device 50 is used.
【0018】半導体処理装置5は、自動半導体着脱部6
として構成された半導体搬送装置1と、手動半導体着脱
部8と、半導体ウェーハへのフォトレジストのコーティ
ング、乾燥、パターンの焼付け、現像、エッチング処
理、フォトレジストの剥離等の多数の処理装置が内蔵さ
れた処理チャンバ9と、方向転換部10と、中間ユニッ
ト11と、第1レーン選択ユニット12Aと、返送ダク
ト13と、第2レーン選択ユニット12Bとが互いに連
結されて組み合わされて全体が構成され、図1に示すダ
ブルレーンの装置においてはその大きさは幅約8m,長
さ約15m,高さ約2mの大きさとなっている。The semiconductor processing apparatus 5 includes an automatic semiconductor attachment / detachment unit 6
The semiconductor transfer device 1 configured as described above, the manual semiconductor attachment / detachment unit 8, and a large number of processing devices for coating a semiconductor wafer with photoresist, drying, pattern baking, development, etching, peeling of photoresist, and the like are built-in. The processing chamber 9, the direction changing unit 10, the intermediate unit 11, the first lane selection unit 12A, the return duct 13, and the second lane selection unit 12B are connected to each other and combined to form the whole, In the double lane device shown in FIG. 1, the size is about 8 m wide, about 15 m long and about 2 m high.
【0019】半導体処理装置5への板状半導体14の装
着が自動装着される場合には、板状半導体14は矢印A
方向に搬送され自動半導体着脱部6の回転フレーム15
に垂直に立てた状態で装着された後、回転フレーム15
と共に矢印P方向に搬送され、また手動装着の場合には
手動半導体着脱部8に矢印C方向に搬送されて回転フレ
ーム15に垂直に立てた状態で装着されるようになって
いる。When the plate-like semiconductor 14 is automatically attached to the semiconductor processing apparatus 5, the plate-like semiconductor 14 is indicated by an arrow A.
Rotating frame 15 of the automatic semiconductor attachment / detachment unit 6 conveyed in the direction
After being installed vertically upright, the rotating frame 15
At the same time, it is transported in the direction of arrow P, and in the case of manual mounting, it is transported in the direction of arrow C to the manual semiconductor attachment / detachment unit 8 and mounted vertically on the rotating frame 15.
【0020】自動半導体着脱部6の回転フレーム15に
装着された板状半導体14は、後に詳述する半導体の方
向変換搬送装置50を作動させて該回転フレーム15を
矢印E方向に90°回転させた後、矢印G方向に搬送し
て手動半導体着脱部8に受け渡された後、また手動半導
体着脱部8に装着された板状半導体14は、同様に半導
体の方向変換搬送装置50を作動させて回転フレーム1
5を矢印E方向に90°回転させて処理チャンバ9に搬
入されるようになっている。The plate-shaped semiconductor 14 mounted on the rotary frame 15 of the automatic semiconductor attachment / detachment section 6 operates the semiconductor direction changing and conveying device 50, which will be described in detail later, to rotate the rotary frame 15 in the direction of arrow E by 90 °. After being conveyed in the direction of arrow G and transferred to the manual semiconductor attaching / detaching portion 8, the plate-shaped semiconductor 14 attached to the manual semiconductor attaching / detaching portion 8 also activates the semiconductor direction change conveying device 50. Rotating frame 1
5 is rotated by 90 ° in the direction of arrow E to be loaded into the processing chamber 9.
【0021】板状半導体14は、処理チャンバ9内を矢
印H方向に搬送されながらフォトレジストのコーティン
グ、乾燥、パターンの焼付け、現像、エッチング処理、
フォトレジストの剥離等の多数の処理が自動的に施され
加工されるようになっている。The plate-shaped semiconductor 14 is transferred in the processing chamber 9 in the direction of the arrow H, and is coated with photoresist, dried, printed with a pattern, developed, and etched.
A large number of processes such as stripping of photoresist are automatically performed and processed.
【0022】処理チャンバ9で処理された板状半導体1
4は、方向転換部10に受け渡され、該方向転換部10
において自動半導体着脱部6において回転したと同様に
して矢印I方向に90°回転され、中間ユニット11内
を矢印J方向に搬送されて第1レーン選択ユニット12
Aに受け渡されるようになっている。The plate-shaped semiconductor 1 processed in the processing chamber 9
4 is transferred to the direction changing unit 10 and the direction changing unit 10
In the same manner as the automatic semiconductor attachment / detachment section 6 is rotated by 90 ° in the direction of arrow I, the intermediate unit 11 is conveyed in the direction of arrow J and the first lane selection unit 12 is moved.
It is to be handed over to A.
【0023】そして該第1レーン選択ユニット12Aで
も同様に矢印K方向に90°回転した後、返送ダクト1
3内を矢印L方向に搬送されて第2レーン選択ユニット
12Bに受け渡されるようになっている。Similarly, in the first lane selection unit 12A as well, after rotating 90 ° in the direction of arrow K, the return duct 1
3 is conveyed in the direction of the arrow L and is transferred to the second lane selection unit 12B.
【0024】第2レーン選択ユニット12Bに受け渡さ
れた板状半導体14は、同様に半導体の方向変換搬送装
置50を作動させて矢印M方向に回転し、次いで矢印O
方向に搬送されて自動半導体着脱部6に受け渡されるよ
うになっている。The plate-shaped semiconductor 14 transferred to the second lane selection unit 12B is also rotated in the direction of arrow M by operating the semiconductor direction changing / transporting device 50, and then arrow O.
It is conveyed in the direction and is delivered to the automatic semiconductor attachment / detachment unit 6.
【0025】自動処理の場合には該自動半導体着脱部6
において回転フレーム15を同様に矢印F方向に回転さ
せた後、板状半導体14を回転フレーム15と共に矢印
Q方向に搬送し矢印B方向に取り出すようになってい
る。In the case of automatic processing, the automatic semiconductor attaching / detaching portion 6
In the same manner, after rotating the rotary frame 15 in the arrow F direction in the same manner, the plate-shaped semiconductor 14 is conveyed together with the rotary frame 15 in the arrow Q direction and taken out in the arrow B direction.
【0026】また手動処理の場合には、第2レーン選択
ユニット12Bから自動半導体着脱部6に受け渡された
板状半導体14は、更に矢印G方向に搬送された後、矢
印F方向に回転して矢印D方向に取り出されるようにな
っている。In the case of manual processing, the plate-shaped semiconductor 14 transferred from the second lane selection unit 12B to the automatic semiconductor attachment / detachment section 6 is further conveyed in the arrow G direction and then rotated in the arrow F direction. Is taken out in the direction of arrow D.
【0027】処理チャンバ9及び返送ダクト13には、
図示しないクリーンユニットが装着されていて、該処理
チャンバ9及び返送ダクト13内を常に高度なクリーン
状態に保持して板状半導体14に塵埃等が付着するのを
防止するように構成されている。In the processing chamber 9 and the return duct 13,
A clean unit (not shown) is mounted, and the inside of the processing chamber 9 and the return duct 13 is always kept in a highly clean state so as to prevent dust and the like from adhering to the plate-like semiconductor 14.
【0028】第1レーン選択ユニット12Aには、トレ
ーを取り出すためのトレー取出しサポート16が装着さ
れており、該第1レーン選択ユニット12Aとトレー取
出しサポート16との間には第1ゲートバルブ18が、
また返送ダクト13と第2レーン選択ユニット12Bと
の間には第2ゲートバルブ19が装着されており、常時
は該第1及び第2ゲートバルブ18,19を閉鎖し、板
状半導体14が通過する時だけ該第1及び第2ゲートバ
ルブ18,19を開放して処理チャンバ9及び返送ダク
ト13を外部から遮断して清浄に保つようになつてい
る。A tray take-out support 16 for taking out a tray is attached to the first lane selection unit 12A, and a first gate valve 18 is provided between the first lane selection unit 12A and the tray take-out support 16. ,
A second gate valve 19 is mounted between the return duct 13 and the second lane selection unit 12B, and the first and second gate valves 18 and 19 are normally closed to allow the plate-shaped semiconductor 14 to pass. Only when this is done, the first and second gate valves 18 and 19 are opened to shut off the processing chamber 9 and the return duct 13 from the outside and keep them clean.
【0029】次に、図2から図4も参照して、半導体搬
送装置1について説明する。送りねじ2は、シャトルフ
レーム20を水平方向に移動させるためのものであっ
て、基台21に固定されたサーボ電動モータ22の回転
軸23に送りねじ2が水平方向に向けて固定されてい
る。Next, the semiconductor carrier device 1 will be described with reference to FIGS. The feed screw 2 is for moving the shuttle frame 20 in the horizontal direction, and the feed screw 2 is fixed in the horizontal direction on the rotary shaft 23 of the servo electric motor 22 fixed to the base 21. .
【0030】該送りねじ2には、取付け板24を介して
シャトルフレーム20に固定されたナット25が螺合
し、サーボ電動モータ22で送りねじ2を回転させるこ
とにより、シャトルフレーム20を基台21上で矢印P
又はQ方向に移動させるようになっている。A nut 25 fixed to the shuttle frame 20 via a mounting plate 24 is screwed onto the feed screw 2, and the feed screw 2 is rotated by a servo electric motor 22 to thereby make the shuttle frame 20 a base. 21 on arrow P
Alternatively, it is moved in the Q direction.
【0031】丸棒状ガイドレール3は、シャトルフレー
ム20を案内して摺動させるためのものであって、その
断面形状は下部が取付け部3aとして逆T字形に、また
上部がガイド部3bとして半円状の形状となっており、
長さ略1.5mの棒状に形成されている。The round bar-shaped guide rail 3 is for guiding and sliding the shuttle frame 20, and its cross-sectional shape is such that the lower portion has an inverted T-shape as the mounting portion 3a and the upper portion has a semi-guide portion 3b. It has a circular shape,
It is formed in a rod shape having a length of about 1.5 m.
【0032】そして丸棒状ガイドレール3の取付け部3
aは、基台21の中間フレーム21aにボルト(図示せ
ず)によって送りねじ2と平行に2本固定されている。The mounting portion 3 of the round bar-shaped guide rail 3
Two a are fixed to the intermediate frame 21a of the base 21 by bolts (not shown) in parallel with the feed screw 2.
【0033】摺動体4は、丸棒状ガイドレール3上でシ
ャトルフレーム20を摺動させるためのものであって、
丸棒状ガイドレール3のガイド部3bを包み込むような
形状に形成されており、丸棒状ガイドレール3との接触
部には複数のボール(図示せず)が装着されて該丸棒状
ガイドレール3上をガタなく、滑らかに転動して摺動体
4を丸棒状ガイドレール3に沿って移動させるようにな
っている。The sliding body 4 is for sliding the shuttle frame 20 on the round bar-shaped guide rail 3,
The round bar-shaped guide rail 3 is formed in such a shape as to wrap around the guide portion 3b, and a plurality of balls (not shown) are attached to the contact portion with the round bar-shaped guide rail 3 so that the round bar-shaped guide rail 3 is mounted on the round bar-shaped guide rail 3. It is adapted to smoothly roll without moving and to move the sliding body 4 along the round bar-shaped guide rail 3.
【0034】そして摺動体4は、ボルト(図示せず)に
よりシャトルフレーム20の下フレーム20aに固定さ
れている。The sliding body 4 is fixed to the lower frame 20a of the shuttle frame 20 by bolts (not shown).
【0035】シャトルフレーム20の下フレーム20a
と上フレーム20bの中央には、夫々回転軸受30が固
定されており、回転フレーム15に固定された回転軸3
1が回動自在に嵌合し、その垂直軸線VLを中心として
回転フレーム15を回動自在に保持している。Lower frame 20a of shuttle frame 20
Rotating bearings 30 are fixed to the centers of the upper frame 20b and the upper frame 20b, respectively.
1 is rotatably fitted and holds the rotating frame 15 rotatably about its vertical axis VL.
【0036】図5及び図6も参照して、本発明の主要部
である半導体の方向変換搬送装置50について説明す
る。半導体の方向変換搬送装置50は、電動モータ35
と4節リンク機構43とから構成されており、実施例に
おいては自動半導体着脱部6、手動半導体着脱部8、方
向転換部10、第1レーン選択ユニット12A、第2レ
ーン選択ユニット12Bに同一の機構が配設されてい
る。With reference to FIGS. 5 and 6, a semiconductor direction changing and conveying device 50, which is a main part of the present invention, will be described. The semiconductor direction changing and conveying device 50 includes an electric motor 35.
In the embodiment, the automatic semiconductor attaching / detaching portion 6, the manual semiconductor attaching / detaching portion 8, the direction changing portion 10, the first lane selection unit 12A, and the second lane selection unit 12B are the same. A mechanism is provided.
【0037】下方の回転軸31は、回転軸受30を貫通
してシャトルフレーム20の下方に突出し、作動腕32
が固定されている。The lower rotary shaft 31 penetrates through the rotary bearing 30 and projects below the shuttle frame 20.
Is fixed.
【0038】作動腕32には、結合リンク33の一端3
3aがピン34によって回動自在に結合され、結合リン
ク33の他の一端33bは、シャトルフレーム20に固
定されている電動モータ35の回転軸36に固定された
クランク37にピン38によって回動自在に結合され、
作動腕32、結合リンク33及びクランク37によって
4節リンク機構43が構成されている。The operating arm 32 has one end 3 of the connecting link 33.
3a is rotatably connected by a pin 34, and the other end 33b of the connecting link 33 is rotatably connected by a pin 38 to a crank 37 fixed to a rotary shaft 36 of an electric motor 35 fixed to the shuttle frame 20. Combined with
The actuating arm 32, the coupling link 33, and the crank 37 constitute a four-bar linkage mechanism 43.
【0039】結合リンク33の中間部には、該結合リン
ク33の長さを調節するためのねじ部3cが配設されて
いて回転フレーム15の回動角度を調整できるようにな
っている。A screw portion 3c for adjusting the length of the coupling link 33 is provided at the intermediate portion of the coupling link 33 so that the turning angle of the rotary frame 15 can be adjusted.
【0040】クランク37には、遮蔽板51が固定され
ており、クランク37と共に回動して下フレーム20a
に固定されているフォトセンサ52を所定の位置で遮蔽
して信号を送出し、矢印R方向に回転する電動モータ3
5を上死点及び下死点で停止させて180°ずつ間欠回
転させ、回転フレーム15を矢印S及びTで示す如く9
0°揺動回動させるように構成されている。A shield plate 51 is fixed to the crank 37, and is rotated together with the crank 37 to rotate the lower frame 20a.
The electric motor 3 that rotates in the direction of arrow R by shielding the photo sensor 52 fixed to the predetermined position at a predetermined position and transmitting a signal.
5 is stopped at the top dead center and the bottom dead center and intermittently rotated by 180 °, and the rotating frame 15 is moved to 9 as shown by arrows S and T.
It is configured to swing and rotate by 0 °.
【0041】回転フレーム15には、板状半導体14を
垂直状態に保持するためのガイドローラ39が装着され
ている。A guide roller 39 for holding the plate-shaped semiconductor 14 in a vertical state is mounted on the rotary frame 15.
【0042】基台21の中間フレーム21aには、シャ
トルフレーム20の移動方向の一直線上に複数のフォト
センサ40が配設され、またシャトルフレーム20に
は、遮蔽板41が固定されており、シャトルフレーム2
0の移動により該遮蔽板41がフォトセンサ40を遮蔽
してシャトルフレーム20の現在位置の信号を送出する
ようになっている。A plurality of photosensors 40 are arranged on the intermediate frame 21a of the base 21 in a straight line in the moving direction of the shuttle frame 20, and a shield plate 41 is fixed to the shuttle frame 20. Frame 2
By the movement of 0, the shielding plate 41 shields the photo sensor 40 and sends a signal of the current position of the shuttle frame 20.
【0043】本発明は、上記のように構成されており、
以下その作用について説明する。図1から図6におい
て、板状半導体14を矢印A方向に搬入してガイドロー
ラ39で案内しながら回転フレーム15に垂直状態に保
持して装着する。The present invention is configured as described above,
The operation will be described below. 1 to 6, the plate-shaped semiconductor 14 is carried in the direction of the arrow A, and is guided by the guide roller 39 and is mounted while being held vertically on the rotary frame 15.
【0044】電動モータ35が回転してそれまで上死点
UDPに停止していたクランク37を矢印R方向に回動
させて下死点LDPで停止させる。The electric motor 35 rotates and the crank 37, which has been stopped at the top dead center UDP until then, is rotated in the direction of arrow R and stopped at the bottom dead center LDP.
【0045】該回動により4節リンク機構43が作動
し、結合リンク33、作動腕32及び回転軸31を介し
て回転フレーム15を垂直軸線VLを中心として矢印T
方向に90°回動させる。The rotation causes the four-bar linkage mechanism 43 to operate, and the rotary frame 15 is centered on the vertical axis VL via the connecting link 33, the operating arm 32, and the rotary shaft 31 as indicated by an arrow T.
Rotate 90 ° in the direction.
【0046】次いでサーボ電動モータ22が回転して送
りねじ2を回転させると、該送りねじ2に螺合するナッ
ト25の作用によりシャトルフレーム20が矢印P方向
に移動し、回転フレーム15と共に板状半導体14を矢
印P方向に搬送する。Then, when the servo electric motor 22 rotates to rotate the feed screw 2, the shuttle frame 20 moves in the direction of arrow P by the action of the nut 25 screwed on the feed screw 2, and the plate-like shape together with the rotary frame 15. The semiconductor 14 is conveyed in the arrow P direction.
【0047】シャトルフレーム20が予め定められた所
定の位置にまで移動すると、フォトセンサ40が遮蔽板
41で遮蔽された信号が送出され、図示しない制御装置
の作用によりサーボ電動モータ22の回転を停止させて
板状半導体14を所定の位置に位置決めして次の装置に
受け渡す準備が終了する。When the shuttle frame 20 moves to a predetermined position, the photo sensor 40 sends a signal shielded by the shield plate 41, and the rotation of the servo electric motor 22 is stopped by the action of a control device (not shown). Then, the plate-shaped semiconductor 14 is positioned at a predetermined position and the preparation for delivery to the next device is completed.
【0048】板状半導体14を搬出する場合には、サー
ボ電動モータ22を先と逆の方向に回転させることによ
りシャトルフレーム20を矢印Q方向に搬送することが
できる。When the plate-shaped semiconductor 14 is carried out, the shuttle frame 20 can be carried in the direction of arrow Q by rotating the servo electric motor 22 in the opposite direction.
【0049】手動半導体着脱部8、方向転換部10、第
1レーン選択ユニット12A、第2レーン選択ユニット
12Bに配設されている半導体の方向変換搬送装置50
の作用は上記したと全く同様であり、板状半導体14の
搬送に従って順次作動して板状半導体14を回転フレー
ム15と共に回動させる。The semiconductor direction changing and conveying device 50 arranged in the manual semiconductor attaching / detaching portion 8, the direction changing portion 10, the first lane selecting unit 12A and the second lane selecting unit 12B.
The action is completely the same as described above, and the plate-shaped semiconductors 14 are sequentially operated in accordance with the conveyance of the plate-shaped semiconductors 14 to rotate the plate-shaped semiconductors 14 together with the rotating frame 15.
【0050】そして該回動は4節リンク機構43の上死
点UDPから下死点LDPに、又は下死点LDPから上
死点UDPに180°ずつ間欠回転するように構成され
ているので、回転フレーム15の回動は近似正弦波の変
移曲線に従うため、回動開始時及び停止時には、加速度
が非常に小さくその動きは緩やかであり、板状半導体1
4に衝撃を与えることなく理想的な回動運動を行う。Since the rotation is configured to rotate intermittently by 180 ° from the top dead center UDP to the bottom dead center LDP or from the bottom dead center LDP to the top dead center UDP, the four-bar linkage 43 has a structure. Since the rotation of the rotary frame 15 follows the transition curve of the approximate sine wave, the acceleration is very small at the start and the stop of the rotation, and the movement thereof is gentle.
Performs an ideal rotational movement without giving a shock to 4.
【0051】またシャトルフレーム20は、サーボ電動
モータ22により搬送するように構成したので、厚さ2
00μm程度の割れやすい板状半導体14を搬送する場
合には、サーボ電動モータ22をスタート時には次第に
回転速度を速めるスローアップ制御を、また停止時には
次第に回転速度を遅くするスローダウン制御することに
より、搬送する板状半導体14に最適な任意の速度で搬
送することができる。Further, since the shuttle frame 20 is configured to be conveyed by the servo electric motor 22, it has a thickness of 2 mm.
When a fragile plate-like semiconductor 14 having a size of about 00 μm is conveyed, the servo electric motor 22 is conveyed at a slow-up control for gradually increasing the rotation speed and at a stop for gradually reducing the rotation speed. The plate-shaped semiconductor 14 can be transported at an arbitrary speed that is optimal.
【0052】上記した如く回転フレーム15の回動及び
シャトルフレーム20の搬送は、4節リンク機構43及
び丸棒状ガイドレール3上を滑らかに転動しサーボ電動
モータ22で駆動される摺動体4の作用により極くわず
かの力で滑らかに板状半導体14を回動させ、また搬送
することができる。As described above, when the rotary frame 15 is rotated and the shuttle frame 20 is transported, the sliding body 4 smoothly rolled on the four-bar linkage 43 and the round bar-shaped guide rail 3 and driven by the servo electric motor 22. By the action, the plate-shaped semiconductor 14 can be smoothly rotated and transported with an extremely small force.
【0053】[0053]
【発明の効果】本発明は、上記のように完全密閉形電動
モータにより板状半導体が装着された回転フレームを回
転させるようにしたので、オイルミストや塵埃の発生を
完全に防止することができ、またこの結果処理中の板状
半導体にオイルミストや塵埃が付着するのを防止して高
性能の電子部品を製作できるようにすることである。As described above, according to the present invention, the rotating frame on which the plate-shaped semiconductor is mounted is rotated by the completely sealed electric motor as described above, so that the generation of oil mist and dust can be completely prevented. Further, as a result, it is possible to prevent oil mist and dust from adhering to the plate-shaped semiconductor being processed so that a high-performance electronic component can be manufactured.
【0054】また上記構成により作動流体を供給するた
めの配管が不要となるため、設計の自由度を増すことが
でき、最適位置に回転フレーム駆動機構を配設できると
いう効果がある。Further, with the above structure, since piping for supplying the working fluid is unnecessary, there is an effect that the degree of freedom in design can be increased and the rotary frame drive mechanism can be arranged at an optimum position.
【図1】半導体処理装置の全体平面図である。FIG. 1 is an overall plan view of a semiconductor processing apparatus.
【図2】半導体搬送装置の正面図である。FIG. 2 is a front view of a semiconductor carrier device.
【図3】半導体搬送装置の左側面図である。FIG. 3 is a left side view of the semiconductor transfer device.
【図4】半導体搬送装置の平面図である。FIG. 4 is a plan view of a semiconductor carrier device.
【図5】半導体の方向変換搬送装置の正面図である。FIG. 5 is a front view of a semiconductor direction changing and conveying device.
【図6】半導体の方向変換搬送装置の平面図である。FIG. 6 is a plan view of a semiconductor direction change conveyance device.
1 半導体搬送装置 14 板状半導体 15 回転フレーム 20 シャトルフレーム 21 基台 31 回転中心軸 32 作動腕 33 結合リンク 35 電動モータ 36 電動モータの回転軸 37 クランク 43 4節リンク機構 50 半導体の方向変換搬送装置 VL 垂直軸線 UDP 上死点 LDP 下死点 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Semiconductor carrier device 14 Plate-shaped semiconductor 15 Rotating frame 20 Shuttle frame 21 Base 31 Rotation center axis 32 Actuating arm 33 Coupling link 35 Electric motor 36 Electric motor rotating shaft 37 Crank 43 Four-node link mechanism 50 Semiconductor direction changing carrier device VL Vertical axis UDP Top dead center LDP Bottom dead center
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 21/68 A 8418−4M ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 5 Identification code Office reference number FI technical display location H01L 21/68 A 8418-4M
Claims (2)
る回転フレームを該回転フレームの垂直軸線を中心とし
て回動自在にシャトルフレームに配設し前記板状半導体
を前記回転フレームと共に回転させてその向きを変更
し、また前記シャトルフレームを水平方向に移動させる
ことにより前記板状半導体を搬送するように構成した半
導体搬送装置において、基台に固定され180°ずつ間
欠回転する電動モータと、該電動モータの回転軸に一端
が固定されたクランクと前記回転フレームの回転中心軸
に一端が固定された作動腕と前記クランクの他の一端及
び前記作動腕の他の一端とを回動自在に結合する結合リ
ンクとから構成された4節リンク機構とを備えたことを
特徴とする半導体の方向変換搬送装置。1. A rotary frame for holding a plate-shaped semiconductor in an upright state is disposed on a shuttle frame so as to be rotatable about a vertical axis of the rotary frame, and the plate-shaped semiconductor is rotated together with the rotary frame. In the semiconductor transfer device configured to transfer the plate-shaped semiconductor by changing its direction and moving the shuttle frame in the horizontal direction, an electric motor fixed to a base and rotating intermittently by 180 °, A crank whose one end is fixed to a rotation shaft of the electric motor, an operating arm whose one end is fixed to a rotation center axis of the rotating frame, the other end of the crank and the other end of the operating arm are rotatable. A semiconductor direction changing and conveying device, comprising: a four-bar link mechanism including a coupling link for coupling.
る回転フレームを該回転フレームの垂直軸線を中心とし
て回動自在にシャトルフレームに配設し前記板状半導体
を前記回転フレームと共に回転させてその向きを変更
し、また前記シャトルフレームを水平方向に移動させる
ことにより前記板状半導体を搬送するように構成した半
導体搬送装置において、基台に固定され180°ずつ間
欠回転する電動モータと、該電動モータの回転軸に一端
が固定されたクランクと前記回転フレームの回転中心軸
に一端が固定された作動腕と前記クランクの他の一端及
び前記作動腕の他の一端とを回動自在に結合する結合リ
ンクとから構成された4節リンク機構とを備え、前記電
動モータを上死点及び下死点で停止させて180°ずつ
間欠回転させ前記回転フレームを揺動回動させて前記板
状半導体の方向を変換するように前記4節リンク機構を
構成したことを特徴とする半導体の方向変換搬送装置。2. A rotating frame for holding a plate-shaped semiconductor in an upright state is disposed on a shuttle frame so as to be rotatable about a vertical axis of the rotating frame, and the plate-shaped semiconductor is rotated together with the rotating frame. In the semiconductor transfer device configured to transfer the plate-shaped semiconductor by changing its direction and moving the shuttle frame in the horizontal direction, an electric motor fixed to a base and rotating intermittently by 180 °, A crank whose one end is fixed to a rotation shaft of the electric motor, an operating arm whose one end is fixed to a rotation center axis of the rotating frame, the other end of the crank and the other end of the operating arm are rotatable. A four-bar linkage composed of a coupling link for coupling, the electric motor is stopped at top dead center and bottom dead center, and intermittently rotated by 180 ° Semiconductor diverting conveying device, characterized in the frame is swung pivot that constitutes the four bar linkage so as to convert the direction of the plate-like semiconductor.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10890592A JP2958587B2 (en) | 1992-03-31 | 1992-03-31 | Directional transfer device for semiconductor |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10890592A JP2958587B2 (en) | 1992-03-31 | 1992-03-31 | Directional transfer device for semiconductor |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH069041A true JPH069041A (en) | 1994-01-18 |
JP2958587B2 JP2958587B2 (en) | 1999-10-06 |
Family
ID=14496610
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP10890592A Expired - Lifetime JP2958587B2 (en) | 1992-03-31 | 1992-03-31 | Directional transfer device for semiconductor |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP2958587B2 (en) |
-
1992
- 1992-03-31 JP JP10890592A patent/JP2958587B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2958587B2 (en) | 1999-10-06 |
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