JPH02109299A - X-ray generator of lazor excitation type - Google Patents

X-ray generator of lazor excitation type

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JPH02109299A
JPH02109299A JP63261936A JP26193688A JPH02109299A JP H02109299 A JPH02109299 A JP H02109299A JP 63261936 A JP63261936 A JP 63261936A JP 26193688 A JP26193688 A JP 26193688A JP H02109299 A JPH02109299 A JP H02109299A
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ray
vacuum chamber
vacuum
extraction window
chamber
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Akira Chiba
明 千葉
Yoshiki Okumura
奥村 喜紀
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Mitsubishi Electric Corp
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Mitsubishi Electric Corp
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Abstract

PURPOSE:To reduce the decrease in X-ray transmission so as to prevent deterioration of vacuum conditions in a vacuum chamber by forming a double aperture body of inner X-ray taking-out aperture inside the vacuum chamber and X-ray taking-out aperture on the outside atmosphere side, changing the inner X-ray taking-out aperture by a load lock system. CONSTITUTION:X-ray taking-out apertures 15, 16 fitted to a vacuum chamber 11 are formed of a double aperture body of inner X-ray taking-out aperture 15 inside the vacuum chamber 11 and X-ray taking-out aperture 16 on the outside atmospheric side. A load lock chamber 17 capable of being reduced in pressure spaced from a vacuum shield gate 18 is added to this chamber 11. The aperture 15 can be exchanged by a load lock system through these gate 18 and chamber 17. It is thus possible to prevent decrease in its X-ray transmission caused by the contamination of the aperture 15 stuck with fine particles flying therearound or to prevent deterioration of vacuum conditions in the vacuum chamber.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、レーザ励起型X線の発生装置に関し、さら
に詳しくは、半導体装置の製造におけるX線を用いた転
写技術のためのレーザ励起型X線の発生装置の改良に係
るものである。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a laser-excited X-ray generator, and more particularly, to a laser-excited X-ray generator for a transfer technique using X-rays in the manufacture of semiconductor devices. This invention relates to the improvement of an X-ray generator.

〔従来の技術) 従来例によるこの種のレーザ励起型X線の発生装置とし
て、こSでは、例えば、望月、他著「レーザ研究J第1
2巻10号(1984)p、603に記述されている「
レーザ励起型X線源」の概念を第2図に示しである。
[Prior art] As a conventional example of this type of laser-excited X-ray generator, this S uses, for example, the laser-excited X-ray generator described in Mochizuki et al.
2, No. 10 (1984), p. 603, “
The concept of a "laser-excited X-ray source" is shown in FIG.

すなわち、この第2図に示す従来例装置において、符号
1は図示しない真空チャンバー内に所定位置を占めて収
装されたxi*としてのターゲットであり、また、2は
このターゲット1に照射されるレーザ光、3はこのレー
ザ光2の照射面がら放射されるX線を示し、さらに、4
はこのX線3を真空チャンバー内から取り出すためのB
eなどからなるX線取り出し窓、5および6はX線を用
いた転写技術の適用対象となるマスクおよび半導体ウェ
ハである。
That is, in the conventional apparatus shown in FIG. 2, reference numeral 1 is a target xi* housed in a predetermined position in a vacuum chamber (not shown), and 2 is a target xi* that is irradiated to this target 1. The laser beam 3 indicates X-rays emitted from the irradiated surface of the laser beam 2, and 4
is B for taking out this X-ray 3 from inside the vacuum chamber.
5 and 6 are masks and semiconductor wafers to which transfer technology using X-rays is applied.

こ\で、この従来例による装置構成の場合にあっては、
X線源としてのターゲットlに対し、高密度パワーのレ
ーザ光2を照射させることによって、このターゲット1
の照射面の一部が蒸発、気化され、プラズマとなってX
1i3を放射し、この照射面から放射されるX線3がB
eからなるX線取り出し窓4を経て外部に取り出され、
所定パターンのマスク5を通して、このマスク5のパタ
ーンを処理対象としての半導体ウニ八6上に転写させる
のである。
Now, in the case of the device configuration according to this conventional example,
By irradiating the target 1 as an X-ray source with a laser beam 2 of high density power, the target 1 is
A part of the irradiated surface is evaporated, vaporized, and becomes plasma.
1i3, and the X-ray 3 emitted from this irradiation surface is B
The X-rays are taken out to the outside through the X-ray extraction window 4 consisting of
Through a mask 5 having a predetermined pattern, the pattern of this mask 5 is transferred onto a semiconductor surface 6 to be processed.

なおこSで、XIII取り出し窓4を構成するBeは、
公知のように数多くある物質中で、X線を効率よく透過
させ得る物質として知られており、例えば、電子線励起
型とかその他のXi1発生装置でのX線取り出し窓とし
て使用されている。
In Naoko S, Be that constitutes the XIII take-out window 4 is,
Among many known substances, it is known as one that can efficiently transmit X-rays, and is used, for example, as an X-ray extraction window in electron beam excitation type or other Xi1 generators.

〔発明が解決しようとする?a題〕[What does invention try to solve? Title a]

しかしながら、前記構成からなる従来のレーザ励起型X
線の発生装置においては、前記したようにターゲットl
への高密度パワーのレーザ光2の照射により、このター
ゲット1の照射面の−・部が蒸発、気化されてプラズマ
となるが、レーザ光2のスポット径に比較するとき、X
線源としてのターゲットlの表面積が非常に大きくとら
れいて、しかも一方で、レーザビーム径が比較的小さい
ことから、照射面での局部的な範囲が急激に加熱されて
、結果的に、この照射面に温度勾配の非常に大きい領域
が形成されて熱爆発を生じ、プラズマ化された微粒子が
周囲に飛散することがあり、この微粒子によって、真空
チャンバー内が汚染されるほか、xlil取り出し窓4
に付着されて、そのX線透過率を低下させたり、ときに
はピンホールを形成して真空チャンバー内の真空度を劣
化させると云う好ましくない問題点があった。
However, the conventional laser excitation type X having the above configuration
In the line generator, as mentioned above, the target l
By irradiating the laser beam 2 with high density power, the - part of the irradiated surface of the target 1 is evaporated and vaporized to become plasma, but when compared with the spot diameter of the laser beam 2,
Since the surface area of the target l as a radiation source is very large, and the laser beam diameter is relatively small, the local area on the irradiated surface is rapidly heated, resulting in this An area with a very large temperature gradient is formed on the irradiated surface, causing a thermal explosion, and particles turned into plasma may be scattered around.These particles not only contaminate the inside of the vacuum chamber, but also cause the xlil extraction window 4
There is an undesirable problem in that the X-ray transmittance is reduced by the adhesion to the surface of the vacuum chamber, and the degree of vacuum in the vacuum chamber is deteriorated by forming pinholes.

この発明は、従来のこのような問題点を改善するために
なされたもので、その目的とするところは、プラズマ化
された微粒子の付着によるX線取り出し窓の汚染、ひい
ては、そのX線透過率の低下を少なくさせ、併せて、真
空チャンバー内での真空度の劣化を防止し得るようにし
た。この種のレーザ励起型X線の発生装置を提供するこ
とである。
This invention was made in order to improve these conventional problems, and its purpose is to prevent contamination of the X-ray extraction window due to the adhesion of fine particles turned into plasma, and to reduce its X-ray transmittance. In addition, the deterioration of the degree of vacuum inside the vacuum chamber can be prevented. An object of the present invention is to provide a laser-excited X-ray generator of this type.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

前記目的を達成するために、この発明に係るレーザ励起
型X線の発生装置は、真空チャンバーに装着されるX線
取り出し窓を、真空室内側の内部X線取り出し窓と、外
部大気圧側のX線取り出し窓との2重窓に形成させ、内
部X線取り出し窓をロードロック方式によって交換し得
るようにしたものである。
In order to achieve the above object, the laser-excited X-ray generator according to the present invention has an X-ray extraction window attached to a vacuum chamber, an internal X-ray extraction window on the inside of the vacuum chamber, and an internal X-ray extraction window on the outside atmospheric pressure side. It is formed into a double window with an X-ray extraction window, and the internal X-ray extraction window can be replaced using a load-lock system.

すなわち、この発明は、真空チャンバー内に装入されて
X線発生源となるターゲットを設け、このターゲットを
高密度パワーのレーザ光により照射してX線を発生、放
射させ、この放射されるX線をBeからなるX線取り出
し窓から取り出し得るようにしたレーザ励起型X線の発
生装置において、前記真空チャンバーに装着されるX線
取り出し窓を、真空室内側の内部X線取り出し窓と、外
部大気圧側のxlI取り出し窓との2重窓に形成させる
と共に、真空チャンバーには、真空遮断ゲートを隔てメ
減圧可能なロードロック室を併設させ、これらの真空遮
断ゲートおよびロードロック室を介して、前記内部X線
取り出し窓をロードロック方式により交換し得るように
構成したことを特徴とするレーザ励起型X線の発生装置
である。
That is, the present invention provides a target that is inserted into a vacuum chamber and serves as an X-ray generation source, and irradiates this target with a high-density power laser beam to generate and emit X-rays. In a laser-excited X-ray generator in which rays can be extracted from an X-ray extraction window made of Be, the X-ray extraction window attached to the vacuum chamber is separated from an internal In addition to forming a double window with the xlI extraction window on the atmospheric pressure side, the vacuum chamber is also equipped with a load-lock chamber that can reduce the pressure with a vacuum cut-off gate in between. , a laser-excited X-ray generator characterized in that the internal X-ray extraction window is configured to be replaceable by a load-lock system.

〔作   用〕[For production]

従って、この発明においては、X線源としてのターゲッ
トに対する高密度パワーのレーザ光の照射に伴ない、タ
ーゲットでの照射面の蒸発、気化によるプラズマ化に際
して、周囲に飛散される微粒子の付着によりX線取り出
し窓が汚染され、そのX線透過率が低下したり、あるい
は、ピンホールを生じたりした場合には、真空チャンバ
ー内での真空度を劣化させることなしに、ロードロック
方式を利用し、この内部X線取り出し窓をして、汚染が
なくてピンホールのない新しい内部X線取り出し窓に容
易に交換し得るのである。
Therefore, in this invention, when the target as an X-ray source is irradiated with a laser beam of high density power, the irradiated surface of the target becomes plasma due to evaporation and vaporization, and the adhesion of fine particles scattered around the target generates X-rays. If the radiation extraction window becomes contaminated and its X-ray transmittance decreases or pinholes occur, use the load lock method without degrading the degree of vacuum in the vacuum chamber. This internal x-ray extraction window can be easily replaced with a new internal x-ray extraction window that is free of contamination and has no pinholes.

〔実 施 例〕〔Example〕

以下、この発明に係るレーザ励起型X線の発生装置の一
実施例につき、第1図を参照して詳細に説明する。
Hereinafter, one embodiment of a laser-excited X-ray generator according to the present invention will be described in detail with reference to FIG.

第1図はこの実施例を適用したX線発生装置の概要を模
式的に示す構成説明図である。
FIG. 1 is a structural explanatory diagram schematically showing an outline of an X-ray generator to which this embodiment is applied.

すなわち、この第1図に示す実施例構成において、符号
11はX線を発生させる真空チャンバー12はこの真空
チャンバー11内に所定位置を占めて収装されたX線源
としてのターゲットであり、13はこのターゲット12
に照射されるレーザ光、■4はこのレーザ光13の照射
面から放射されるX線を示している。
That is, in the embodiment shown in FIG. 1, reference numeral 11 denotes a vacuum chamber 12 for generating X-rays, which is a target as an X-ray source housed in a predetermined position within the vacuum chamber 11; is this target 12
4 shows the X-rays emitted from the irradiated surface of the laser beam 13.

また、15および16は前記X線3を真空チャンバー1
1内から取り出すためのBeなどからなるチャンバー内
部減圧側、同外部大気圧側にそれぞわに配置された内部
、外部の各X線取り出し窓で、内部X線取り出し窓15
は、この場合1図示省略した移動自在なトレーなどに付
加され、後述するように取り替え交換可能にされており
、17は前記真空チャンバー11に併設されたロードロ
ック室であって、これらの真空チャンバー11とロード
ロック室】7との間には、前記トレーなどに付加された
内部X線取り出し窓15を取り替え交換させるための真
空ゲート18を介在させである。
Further, 15 and 16 transmit the X-ray 3 to the vacuum chamber 1.
The internal X-ray extraction window 15 is an internal X-ray extraction window and an external X-ray extraction window respectively arranged on the reduced pressure side inside the chamber and the atmospheric pressure side outside the chamber.
In this case, 1 is attached to a movable tray (not shown) and is replaceable as described later, and 17 is a load lock chamber attached to the vacuum chamber 11, and these vacuum chambers A vacuum gate 18 is interposed between the load lock chamber 11 and the load lock chamber 7 for replacing the internal X-ray extraction window 15 attached to the tray or the like.

さらに、I9および20は前記内部、外部の各X線取り
出し窓15.16を通して放射されるxlsを用いた転
写技術の適用対象となるマスクおよび半導体ウェハであ
る。
Furthermore, I9 and 20 are masks and semiconductor wafers to which a transfer technique using XLS emitted through the internal and external X-ray extraction windows 15 and 16 is applied.

しかして、前記実施例装置の構成においても、前記従来
例構成の場合と全く同様に、X線源としてのターゲット
12に対し、高密度パワーのレーザ光13を照射させる
ことによって、このターゲット12の照射面の一部が蒸
発、気化され、プラズマとなってX線14を放射し、こ
の照射面から放射されるX線14がBeからなる内部、
外部の各X線取り出し窓15.16を経て外部に取り出
され、所定パターンのマスク19を通して、このマスク
19のパターンを処理対象としての半導体ウェハ20上
に転写させることができる。
Therefore, in the configuration of the apparatus of the embodiment, as in the case of the conventional configuration, the target 12 as an X-ray source is irradiated with a laser beam 13 of high density power. A part of the irradiated surface is evaporated and vaporized, becomes plasma, and emits X-rays 14, and the X-rays 14 emitted from this irradiated surface have an interior made of Be,
The radiation is taken out to the outside through each of the external X-ray extraction windows 15 and 16, and passed through a mask 19 with a predetermined pattern, so that the pattern of this mask 19 can be transferred onto the semiconductor wafer 20 to be processed.

こSで、前記X線14の発生、放射を数多く繰り返えし
て行なうことにより、プラズマ化して遊離された微粒子
が周囲に飛散するために、特に、真空チャンバー11内
に面している内部X線取り出し窓j5が、著しく汚染さ
れてX線14の透過度が劣化する事態となる。
In this S, by repeating the generation and radiation of the X-rays 14 many times, the fine particles that are turned into plasma and released are scattered around, so the interior facing the vacuum chamber 11 is particularly affected. The X-ray extraction window j5 becomes extremely contaminated and the transmittance of the X-rays 14 deteriorates.

そこで、この実施例構成においては、このように内部X
線取り出し窓15が、著しく汚染された場合には、まず
、ロードロック室17内を真空チャンバー11内と等し
い真空状態に減圧させておき、真空ゲート18を開いて
、トレーなどに付加されたま)の汚染された内部X線取
り出し窓15をロードロック室17内に取り出した上で
、真空ゲート18を閉じ、ロードロック室17内を適宜
、大気圧に開放して、この汚染された内部X線取り出し
窓15を、新しい汚染されていない内部X線取り出し窓
15に、トレー上で交換する。
Therefore, in the configuration of this embodiment, the internal
If the wire take-out window 15 is significantly contaminated, first reduce the pressure in the load lock chamber 17 to the same vacuum state as the inside of the vacuum chamber 11, open the vacuum gate 18, and remove the wire from the tray, etc.) The contaminated internal X-ray extraction window 15 is taken out into the load-lock chamber 17, the vacuum gate 18 is closed, and the inside of the load-lock chamber 17 is appropriately opened to atmospheric pressure to release the contaminated internal X-rays. Replace the extraction window 15 with a new, uncontaminated internal X-ray extraction window 15 on the tray.

続いて、前記ロードロック室17内を再度、真空チャン
バーIJ内と等しい真空状態に減圧させると共に、真空
ゲート18を開いて、トレーなどに付加されたま\の新
しく交換された内部xls取り出し窓15を、真空チャ
ンバー11内の所定位置に適宜の手段で設置し直し上で
、再度、真空ゲート18を閉じるのであり、つまり、こ
のようにして汚染された内部X線取り出し窓15を、新
しい汚染されていない内部X線取り出し窓15に容易に
取り替え交換させ得るのである。
Next, the inside of the load lock chamber 17 is again depressurized to the same vacuum state as the inside of the vacuum chamber IJ, and the vacuum gate 18 is opened to open the newly replaced internal Then, the vacuum gate 18 is closed again after being reinstalled at a predetermined position in the vacuum chamber 11 using appropriate means. This allows the internal X-ray extraction window 15 to be easily replaced.

なお、前記実施例装置においては、ターゲットとして、
レーザ光のビームスポット径よりも大きいものとしてい
るが、同等の大きざか、あるいはこれよりも小さいもの
でも同様であり、また、内部X線取り出し窓をトレーな
どに付加して移動自在とし、その取り替え交換をなし得
るようにしているが、その他の同様な任意の手段をも適
用できることは勿論であって、同様な作用、効果が得ら
れる。
In addition, in the apparatus of the embodiment, as a target,
Although the diameter is larger than the beam spot diameter of the laser beam, it is also possible to use a diameter of the same size or smaller.Also, it is possible to add an internal X-ray extraction window to the tray to make it movable and replace it. Although exchange is possible, it goes without saying that any other similar means can also be applied, and similar effects and effects can be obtained.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上詳述したように、この発明によれば、真空チャンバ
ー内に装入されてX線発生源となるターゲットを設け、
このターゲットを高密度パワーのレーザ光により照射し
てX線を発生、放射させ、この放射されるX線を88か
らなるX線取り出し窓から取り出し得るようにしたレー
ザ励起型X線の発生装置において、真空チャンバーに装
着されるxB取り出し窓を、真空室内側の内部X線取り
出し窓と、外部大気圧側のX線取り出し窓との2重窓に
形成させると共に、真空チャンバーには、真空遮断ゲー
トを隔てさ減圧可能なロードロック室を併設させ、これ
らの真空遮断ゲートおよびロードロック室を介して、航
記内部X線取り出し窓をロードロック方式により交換し
得るように構成したので、X線源としてのターゲットに
対する高密度パワーのレーザ光の照射に伴ない、ターゲ
ットでの照射面の蒸発、気化によるプラズマ化に際して
、周囲に飛散される微粒子の付着によりX線取り出し窓
が汚染され、そのX線透過率が低下したり、あるいは、
ピンホールを生じたりした場合には、真空チャンバー内
での真空度を劣化、すなわち大気圧に戻したすせずに、
ロードロック方式を利用して、汚染された内部X線取り
出し窓を、汚染されていない、かつピンホールのない新
しい内部X線取り出し窓に容易に交換させることができ
るのであり、しかも、その構造も比較的簡単でかつ操作
も容易であるなどの優れた特長を有するものである。
As detailed above, according to the present invention, a target is provided which is inserted into a vacuum chamber and serves as an X-ray generation source,
In a laser-excited X-ray generator, the target is irradiated with a high-density laser beam to generate and emit X-rays, and the emitted X-rays can be extracted from an X-ray extraction window consisting of 88. The xB extraction window installed in the vacuum chamber is formed into a double window consisting of an internal X-ray extraction window on the side of the vacuum chamber and an X-ray extraction window on the external atmospheric pressure side, and the vacuum chamber is equipped with a vacuum cutoff gate. A load-lock chamber that can depressurize the space between the As the target is irradiated with a high-density laser beam, the irradiated surface of the target evaporates and becomes plasma due to vaporization, and the X-ray extraction window is contaminated by the adhesion of fine particles scattered around the target, causing the X-ray transmittance decreases, or
If a pinhole occurs, do not deteriorate the vacuum in the vacuum chamber, that is, return it to atmospheric pressure.
Using the load-lock system, a contaminated internal X-ray extraction window can be easily replaced with a new, uncontaminated, pinhole-free internal X-ray extraction window, and its structure is It has excellent features such as being relatively simple and easy to operate.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図はこの発明の一実施例を適用したX線発生装置の
概要を模式的に示ず構成説明図であり、第2図は同上従
来例によるX線発生装置の概要を模式的に示す構成説明
図である。 ■1・・・・真空チャンバー、12・・・・ターゲット
、1;1・・・・レーザ光、14・・・・X線、15・
・・・内部X線取り出し窓、】6・・・・外部X線取り
出し窓、17・・・・ロードロック室、I8・・・・真
空ゲート、19・・・・マスク、20・・・・半導体ウ
ェハ。 代理人  大  岩  増  雄
FIG. 1 is a diagram illustrating the structure of an X-ray generator to which an embodiment of the present invention is applied, and FIG. 2 schematically shows an outline of an X-ray generator according to the conventional example of the same. It is a configuration explanatory diagram. ■1...Vacuum chamber, 12...Target, 1;1...Laser beam, 14...X-ray, 15...
...Internal X-ray extraction window, ]6...External X-ray extraction window, 17...Load lock chamber, I8...Vacuum gate, 19...Mask, 20... semiconductor wafer. Agent Masuo Oiwa

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 真空チャンバー内に装入されてX線発生源となるターゲ
ットを設け、このターゲットを高密度パワーのレーザ光
により照射してX線を発生、放射させ、この放射される
X線をBeからなるX線取り出し窓から取り出し得るよ
うにしたレーザ励起型X線の発生装置において、前記真
空チャンバーに装着されるX線取り出し窓を、真空室内
側の内部X線取り出し窓と、外部大気圧側のX線取り出
し窓との2重窓に形成させると共に、真空チャンバーに
は、真空遮断ゲートを隔てゝ減圧可能なロードロック室
を併設させ、これらの真空遮断ゲートおよびロードロッ
ク室を介して、前記内部X線取り出し窓をロードロック
方式により交換し得るように構成したことを特徴とする
レーザ励起型X線の発生装置。
A target is placed in a vacuum chamber to serve as an X-ray generation source, and this target is irradiated with a high-density laser beam to generate and emit X-rays. In the laser-excited X-ray generation device, the X-ray extraction window installed in the vacuum chamber is arranged so that the X-ray extraction window can be extracted from an internal X-ray extraction window on the side of the vacuum chamber and an X-ray extraction window on the outside atmospheric pressure side. In addition to forming a double window with an extraction window, the vacuum chamber is also provided with a load-lock chamber that can decompress with a vacuum cut-off gate, and the internal X-rays are 1. A laser-excited X-ray generator, characterized in that the extraction window is configured to be replaceable using a load-lock system.
JP63261936A 1988-10-18 1988-10-18 Laser excited X-ray generator Expired - Lifetime JPH0719669B2 (en)

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JPH0488652U (en) * 1990-12-14 1992-07-31

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JPH0719669B2 (en) 1995-03-06

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