JPH02108221A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPH02108221A JPH02108221A JP26202588A JP26202588A JPH02108221A JP H02108221 A JPH02108221 A JP H02108221A JP 26202588 A JP26202588 A JP 26202588A JP 26202588 A JP26202588 A JP 26202588A JP H02108221 A JPH02108221 A JP H02108221A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cobalt
- magnetic recording
- compd
- magnetic
- recording medium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 10
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 abstract description 17
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 9
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract description 9
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Substances [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 9
- 239000002253 acid Substances 0.000 abstract description 8
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 abstract description 4
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 abstract description 4
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 229910001429 cobalt ion Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 229910001453 nickel ion Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- XLJKHNWPARRRJB-UHFFFAOYSA-N cobalt(2+) Chemical compound [Co+2] XLJKHNWPARRRJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 abstract description 3
- VEQPNABPJHWNSG-UHFFFAOYSA-N Nickel(2+) Chemical compound [Ni+2] VEQPNABPJHWNSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 abstract description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 abstract description 2
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 abstract description 2
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 abstract description 2
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 abstract description 2
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 abstract description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 abstract description 2
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 abstract description 2
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 abstract description 2
- YPTUAQWMBNZZRN-UHFFFAOYSA-N dimethylaminoboron Chemical compound [B]N(C)C YPTUAQWMBNZZRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-M phosphinate Chemical group [O-][PH2]=O ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 18
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 5
- -1 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 150000001869 cobalt compounds Chemical class 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-N phosphinic acid Chemical class O[PH2]=O ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003058 platinum compounds Chemical class 0.000 description 2
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- VBWYZPGRKYRKNV-UHFFFAOYSA-N 3-propanoyl-1,3-benzoxazol-2-one Chemical class C1=CC=C2OC(=O)N(C(=O)CC)C2=C1 VBWYZPGRKYRKNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWSLGOVYXMQPPX-UHFFFAOYSA-N 5-[3-(trifluoromethyl)phenyl]-2h-tetrazole Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC(C2=NNN=N2)=C1 KWSLGOVYXMQPPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- RJTANRZEWTUVMA-UHFFFAOYSA-N boron;n-methylmethanamine Chemical compound [B].CNC RJTANRZEWTUVMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910000361 cobalt sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940044175 cobalt sulfate Drugs 0.000 description 1
- KTVIXTQDYHMGHF-UHFFFAOYSA-L cobalt(2+) sulfate Chemical compound [Co+2].[O-]S([O-])(=O)=O KTVIXTQDYHMGHF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- SAXCKUIOAKKRAS-UHFFFAOYSA-N cobalt;hydrate Chemical compound O.[Co] SAXCKUIOAKKRAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 150000002816 nickel compounds Chemical class 0.000 description 1
- LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate Chemical compound [Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000363 nickel(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- LJCNRYVRMXRIQR-OLXYHTOASA-L potassium sodium L-tartrate Chemical compound [Na+].[K+].[O-]C(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O LJCNRYVRMXRIQR-OLXYHTOASA-L 0.000 description 1
- 229940074439 potassium sodium tartrate Drugs 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910001379 sodium hypophosphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011006 sodium potassium tartrate Nutrition 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は磁気記録媒体に係り、特に磁気ディスク、フロ
ッピーディスク、磁気テープ等の磁気記録装置に用いら
れる磁気記録媒体であって、その保磁力特性が改善され
た磁気記録媒体に関するものである。
ッピーディスク、磁気テープ等の磁気記録装置に用いら
れる磁気記録媒体であって、その保磁力特性が改善され
た磁気記録媒体に関するものである。
[従来の技術]
磁気ディスク、フロッピーディスク、磁気テープ等の磁
気記録装置に用いられる磁気記録媒体には、近年、高記
録密度化の観点から、金属薄膜型の磁気記録媒体がバイ
ンダーを用いる塗布型の磁気記録媒体に代わって用いら
れ始めている。
気記録装置に用いられる磁気記録媒体には、近年、高記
録密度化の観点から、金属薄膜型の磁気記録媒体がバイ
ンダーを用いる塗布型の磁気記録媒体に代わって用いら
れ始めている。
この金属薄膜型の磁気記録媒体は、無電解めっぎ、電気
めっき、スパッタ、蒸着等の方法で容易に作成される。
めっき、スパッタ、蒸着等の方法で容易に作成される。
これらのうち無電解めっき法は、高い生産性と長年の技
術蓄積による技術面の向上から、広く実用化が進められ
ている。
術蓄積による技術面の向上から、広く実用化が進められ
ている。
従来、無電解めっき法により製造される磁気記録媒体は
、その磁性薄膜がCo(コバルト)−P(リン)又はC
o−Niにッケル)−pよりなるものが主流であり、一
部は既に製品化されている。
、その磁性薄膜がCo(コバルト)−P(リン)又はC
o−Niにッケル)−pよりなるものが主流であり、一
部は既に製品化されている。
を発明が解決しようとする課題]
しかしながら、Co−P又はCo−N1−Pよりなる磁
性薄膜を有する従来の媒体は、高記録密度化に望ましい
十分な高保磁力を得ることができないという欠点を有し
ている。
性薄膜を有する従来の媒体は、高記録密度化に望ましい
十分な高保磁力を得ることができないという欠点を有し
ている。
本発明は上記従来の問題点を解決し、高保磁力を有する
磁気記録媒体を提供することを目的とする。
磁気記録媒体を提供することを目的とする。
[課題を解決するための手段]
本発明の磁気記録媒体は、非磁性基板上にC0−P系磁
性膜が形成された磁気記録媒体において、該Co−P系
磁性膜がCoに対して0.01〜10重量%のpt(白
金)を含有することを特徴とする。
性膜が形成された磁気記録媒体において、該Co−P系
磁性膜がCoに対して0.01〜10重量%のpt(白
金)を含有することを特徴とする。
以下に本発明の詳細な説明する。
本発明の磁気記録媒体は、COに対して0.01〜10
!i量%のptを含むCo−Pt−P系磁性膜を非磁性
基板上に形成したものである。ptの量がCOに対して
0.01重量%未満であっても、10重量%を超えても
、十分な保磁力の改善効果は得られない。ptの含有量
はCOに対して0.1〜5重量%であることが特に好ま
しい。
!i量%のptを含むCo−Pt−P系磁性膜を非磁性
基板上に形成したものである。ptの量がCOに対して
0.01重量%未満であっても、10重量%を超えても
、十分な保磁力の改善効果は得られない。ptの含有量
はCOに対して0.1〜5重量%であることが特に好ま
しい。
なお、本発明の磁気記録媒体において、Co−Pt−P
系磁性膜中のCO量は、磁性膜の総量に対して50〜9
8瓜量%、特に70〜98重量%であることが望ましい
。また、PはCOに対して1〜101i量%、特に2〜
7重量%であることが好ましい。このCo−Pt−P系
磁性膜は、更にCOに対して0.1〜60重量%、特に
1〜40ffi量%のNiを含有することが望ましい。
系磁性膜中のCO量は、磁性膜の総量に対して50〜9
8瓜量%、特に70〜98重量%であることが望ましい
。また、PはCOに対して1〜101i量%、特に2〜
7重量%であることが好ましい。このCo−Pt−P系
磁性膜は、更にCOに対して0.1〜60重量%、特に
1〜40ffi量%のNiを含有することが望ましい。
本発明に係る磁気記録媒体は、無電解めっき、電気めっ
き、スパッタリング、蒸着等の方法で常法に従って容易
に作成することが可能である。これらの方、法のうち、
無電解めっき法は前述の如く生産性が高く、しかも長年
の技術蓄積がある点で極めて有利である。従って、本発
明の磁気記録媒体の作成方法としては、無電解めっき法
が最適である。
き、スパッタリング、蒸着等の方法で常法に従って容易
に作成することが可能である。これらの方、法のうち、
無電解めっき法は前述の如く生産性が高く、しかも長年
の技術蓄積がある点で極めて有利である。従って、本発
明の磁気記録媒体の作成方法としては、無電解めっき法
が最適である。
無電解めっき浴中のコバルトイオン及びニッケルイオン
は水溶性化合物を用いて調製され、例えば、硫酸塩、塩
化物、硝酸塩、酢酸塩等の水溶性コバルト化合物又は水
溶性ニッケル化合物を用いて調製される6通常は硫酸塩
、塩化物が好適に用いられる。還元剤としては、次亜リ
ン酸塩、水素化ホウ素化合物、ヒドラジン、ジメチルア
ミンボラン等、好ましくは次亜リン酸塩が用いられる。
は水溶性化合物を用いて調製され、例えば、硫酸塩、塩
化物、硝酸塩、酢酸塩等の水溶性コバルト化合物又は水
溶性ニッケル化合物を用いて調製される6通常は硫酸塩
、塩化物が好適に用いられる。還元剤としては、次亜リ
ン酸塩、水素化ホウ素化合物、ヒドラジン、ジメチルア
ミンボラン等、好ましくは次亜リン酸塩が用いられる。
錯化剤としては、ジカルボン酸、オキシカルボン酸、ア
ミノ酸等の有機酸及びそれらの可溶性塩から選ばれる1
fffl又は2種以上が適宜用いられる。
ミノ酸等の有機酸及びそれらの可溶性塩から選ばれる1
fffl又は2種以上が適宜用いられる。
なお、無電解めっき洛中のコバルトイオン濃度は0.0
1〜0.5モル/iであることが好ましく、ニッケルイ
オン濃度は0.001〜0.1モル/℃であることが好
ましい。
1〜0.5モル/iであることが好ましく、ニッケルイ
オン濃度は0.001〜0.1モル/℃であることが好
ましい。
本発明に係る、Co−Pt−P系磁性膜を形成するため
の無電解めっき浴は、例えば、上記原料より調製される
従来のCo−P系磁性膜の製造に用いる無電解めっき浴
組成のものに、コバルト化合物の総量に対して0.05
〜10モル%の白金化合物を添加することにより調製す
ることができる。ここで、白金化合物としては、白金の
ハロゲン化物、クロロ白金酸化合物、ブロモ白金酸化合
物、ヨード白金酸化合物、アンミン白金塩化物系化合物
等、好ましくは白金のハロゲン化物、クロロ白金酸化合
物を用いることができる。
の無電解めっき浴は、例えば、上記原料より調製される
従来のCo−P系磁性膜の製造に用いる無電解めっき浴
組成のものに、コバルト化合物の総量に対して0.05
〜10モル%の白金化合物を添加することにより調製す
ることができる。ここで、白金化合物としては、白金の
ハロゲン化物、クロロ白金酸化合物、ブロモ白金酸化合
物、ヨード白金酸化合物、アンミン白金塩化物系化合物
等、好ましくは白金のハロゲン化物、クロロ白金酸化合
物を用いることができる。
無電解めっき法による磁性膜の形成には、このようにし
て調製される無電解めっき浴を、苛性ソーダ又はアンモ
ニア化合物によりpH8〜11に調整し、また浴温を6
0〜90℃に調整した後、非6n性基板を浸漬する。非
磁性基板の浸漬時間は目的とする磁性膜の厚さにより適
宜決定される。
て調製される無電解めっき浴を、苛性ソーダ又はアンモ
ニア化合物によりpH8〜11に調整し、また浴温を6
0〜90℃に調整した後、非6n性基板を浸漬する。非
磁性基板の浸漬時間は目的とする磁性膜の厚さにより適
宜決定される。
なお、磁性膜を形成する非磁性基板としては、金属、プ
ラスチック、セラミック、ガラス等の基板が用いられ、
通常、これらは公知の方法に従ってN1−P無電解めっ
き、Pd触媒化処理等の表面処理を施した後、磁性膜の
形成に供される。
ラスチック、セラミック、ガラス等の基板が用いられ、
通常、これらは公知の方法に従ってN1−P無電解めっ
き、Pd触媒化処理等の表面処理を施した後、磁性膜の
形成に供される。
[作用]
特定量のptはCo−P系磁性膜において、その保磁力
を増大させる作用を奏する。従って、COに対してPt
を0.01〜10重量%含有するCo−Pt−P系磁性
膜によれば、保磁力が大幅に高められる。
を増大させる作用を奏する。従って、COに対してPt
を0.01〜10重量%含有するCo−Pt−P系磁性
膜によれば、保磁力が大幅に高められる。
[実施例]
以下に実施例及び比較例を挙げて本発明をより具体的に
説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の
実施例に限定されるものではない。
説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の
実施例に限定されるものではない。
実施例1
硫酸コバルト0.05 mol/λ、硫酸ニッケル0.
01 a+ol/u、塩化白金酸0.001mol/
It、次亜リン酸ナトリウム0. 2a+ol /11
゜ホウ酸0. 5 mol/j!、酒石酸カリウムナト
リウム0. 5 not/fの組成を有する無電解めっ
き浴(25℃)に、苛性ソーダ溶液を加えpHを9.0
に調整した。この浴を80℃に加温し、常法に従って、
脱脂、活性化処理の前処理を施したN1−P無電解めっ
き被覆アルミニウム基板をioo秒浸漬して、磁性膜を
形成した。この磁性膜の組成はCo:87!!!量%、
Niニア重量%、Pt:2重量%、P:4重量%であり
、ptはCOに対して2.3!i量%含有されていた。
01 a+ol/u、塩化白金酸0.001mol/
It、次亜リン酸ナトリウム0. 2a+ol /11
゜ホウ酸0. 5 mol/j!、酒石酸カリウムナト
リウム0. 5 not/fの組成を有する無電解めっ
き浴(25℃)に、苛性ソーダ溶液を加えpHを9.0
に調整した。この浴を80℃に加温し、常法に従って、
脱脂、活性化処理の前処理を施したN1−P無電解めっ
き被覆アルミニウム基板をioo秒浸漬して、磁性膜を
形成した。この磁性膜の組成はCo:87!!!量%、
Niニア重量%、Pt:2重量%、P:4重量%であり
、ptはCOに対して2.3!i量%含有されていた。
得られた磁気記録媒体の保磁力及び電磁変換特性を測定
し、結果を第1表に示した。
し、結果を第1表に示した。
なお、記録密度特性を表わす[)soをはじめとする電
磁変換特性の測定条件は以下の通りである。
磁変換特性の測定条件は以下の通りである。
ヘッド:薄膜ヘッド
ディスク回転数:3600rpm
周波数:3.33M)Iz/1.25MHz測定半径:
26mm 比較例1 実施例1において、塩化白金酸を用いなかったほかは全
く同様にして磁性膜を形成し、得られた磁気記録媒体の
特性を調べ、結果を第1表に示した。
26mm 比較例1 実施例1において、塩化白金酸を用いなかったほかは全
く同様にして磁性膜を形成し、得られた磁気記録媒体の
特性を調べ、結果を第1表に示した。
第 1 表
第1表より、本発明に係る磁気記録媒体は高保磁力を有
し、このため高記録密度に適した電磁変換特性を有する
ことが明らかである。
し、このため高記録密度に適した電磁変換特性を有する
ことが明らかである。
[発明の効果]
以上詳述した通り、本発明に係る磁気記録媒体は、CO
に対して0.01〜10重量%のptを含有するCo−
Pt−P系磁性膜を形成してなるものであって、この磁
気記録媒体によれば、著しく高い保磁力を有し、このた
め高記録密度化が可能な磁気記録媒体が提供される。
に対して0.01〜10重量%のptを含有するCo−
Pt−P系磁性膜を形成してなるものであって、この磁
気記録媒体によれば、著しく高い保磁力を有し、このた
め高記録密度化が可能な磁気記録媒体が提供される。
代理人 弁理士 瓜 野 剛
l 事件の表示
昭和63年特許願第262025号
2 発明の名称
磁気記録媒体
3 補正をする者
事件との関係 特許出願人
名 称 (596)三菱化成株式会社4 代理人
住 所 東京都港区虎ノ門1丁目15番7号〒105
TG115ビル 8階 6 補正の対象 明細書 7 補正の内容 (1) 明細書第1頁第13行〜第14行に「その保磁
力特性が改善された」とあるのを「高保磁力を有する1
と訂正する。
TG115ビル 8階 6 補正の対象 明細書 7 補正の内容 (1) 明細書第1頁第13行〜第14行に「その保磁
力特性が改善された」とあるのを「高保磁力を有する1
と訂正する。
(2) 同第2頁第4行及び第4頁第9行に「作成」と
あるのをそれぞれr作製1と訂正する。
あるのをそれぞれr作製1と訂正する。
(3) 同第8頁の第1表を下記のものに改める。
第 1 表
以
上
Claims (1)
- (1)非磁性基板上にCo−P系磁性膜が形成された磁
気記録媒体において、該Co−P系磁性膜がCoに対し
て0.01〜10重量%のPtを含有することを特徴と
する磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26202588A JPH02108221A (ja) | 1988-10-18 | 1988-10-18 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26202588A JPH02108221A (ja) | 1988-10-18 | 1988-10-18 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02108221A true JPH02108221A (ja) | 1990-04-20 |
Family
ID=17369979
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26202588A Pending JPH02108221A (ja) | 1988-10-18 | 1988-10-18 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02108221A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0997918A1 (en) * | 1998-10-26 | 2000-05-03 | Agfa-Gevaert N.V. | Preparation of a magnetic layer |
US6251475B1 (en) | 1998-10-26 | 2001-06-26 | Agfa-Gevaert | Preparation of a magnetic layer |
-
1988
- 1988-10-18 JP JP26202588A patent/JPH02108221A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0997918A1 (en) * | 1998-10-26 | 2000-05-03 | Agfa-Gevaert N.V. | Preparation of a magnetic layer |
US6251475B1 (en) | 1998-10-26 | 2001-06-26 | Agfa-Gevaert | Preparation of a magnetic layer |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4269625A (en) | Bath for electroless depositing tin on substrates | |
US3745039A (en) | Electroless cobalt plating bath and process | |
US5292361A (en) | Electroless palladium plating composition | |
US3245826A (en) | Magnetic recording medium and method of manufacture | |
US3219471A (en) | Process of depositing ferromagnetic compositions | |
JPS62246145A (ja) | 無電解沈着磁気記録媒体法 | |
EP0156212B1 (en) | Process for plating copper from electroless plating compositions | |
US4128691A (en) | Process for the production of a magnetic recording medium | |
JPH0247551B2 (ja) | ||
US5437887A (en) | Method of preparing aluminum memory disks | |
EP0164135B1 (en) | Magnetic recording medium | |
US6162343A (en) | Method of preparing hard disc including treatment with amine-containing zincate solution | |
JPH02108221A (ja) | 磁気記録媒体 | |
US3198659A (en) | Thin nickel coatings | |
JPH02503696A (ja) | 耐摩耗性金属コーティング用安定化非電解バス | |
US3269854A (en) | Process of rendering substrates catalytic to electroless cobalt deposition and article produced | |
JPH0250993B2 (ja) | ||
EP0247839B1 (en) | Magnetic recording medium | |
Kim et al. | Electroless Ni-Fe-B alloy plating solution using DMAB as a reducing agent | |
JPH0476811A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JPH0476812A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JPH02108222A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JPH01123079A (ja) | 非晶質Ni−P合金 | |
JPS59170254A (ja) | 無電解めっき方法 | |
JPH02108242A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 |