JPH02102559A - Semiconductor manufacturing device - Google Patents
Semiconductor manufacturing deviceInfo
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- JPH02102559A JPH02102559A JP63256793A JP25679388A JPH02102559A JP H02102559 A JPH02102559 A JP H02102559A JP 63256793 A JP63256793 A JP 63256793A JP 25679388 A JP25679388 A JP 25679388A JP H02102559 A JPH02102559 A JP H02102559A
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Landscapes
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は半導体製造装置、詳しくは半導体ウェハのスク
ライブ工程に使用するスクライバの位置決め装置に関す
る。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION <Industrial Application Field> The present invention relates to a semiconductor manufacturing apparatus, and more particularly to a scriber positioning apparatus used in a semiconductor wafer scribing process.
〈従来の技術〉
一般に、モノリシックICは、単結晶化されたシリコン
インゴットから、ウェハスクライブするためにダイヤモ
ンドソーでシリコンウェハを輪切りにして切り出す。こ
のシリコンウェハの上に、論理回路等を構成するデバイ
スを作っていく。前工程である。<Prior Art> Generally, monolithic ICs are manufactured by cutting a silicon wafer into rings from a single-crystal silicon ingot using a diamond saw for wafer scribing. On top of this silicon wafer, devices that make up logic circuits and the like are made. This is the pre-process.
つぎにこのウェハをスクライブしてチップに分割した後
、リードフレームの上にチップを貼り付は組み立ててい
く。後工程である。Next, the wafer is scribed and divided into chips, which are then assembled by pasting them onto a lead frame. This is a post-process.
このスクラ、・イブ工程においては、ウェハを個々のチ
ップに分割するために、例えばダイヤモンドブレードで
スクライブラインに沿ってウェハ表面に切込みをいれて
いた。In this scrubbing process, in order to divide the wafer into individual chips, cuts are made in the wafer surface along the scribe line using, for example, a diamond blade.
従来の半導体ウェハのスクライブ工程にあっては、チッ
プがばらばらにならないように粘着テープに貼り付けた
後、スクライバによって該ウェハをその表面からスクラ
イブラインに沿って、ハーフカットまたはフルカットし
ている。スクライブを終了したウェハは洗浄し、ハーフ
カットの場合には裏側にローラのような治具で曲げ応力
をかけて個々のペレットに分離する。さらにこのあとの
工程を容易にするために、ウェハを貼り付けたシートを
引き延ばすことが行われる場合もある。In a conventional scribing process for semiconductor wafers, chips are attached to an adhesive tape to prevent them from falling apart, and then the wafer is half-cut or fully cut from the surface along the scribe line using a scriber. After scribing, the wafer is cleaned, and in the case of half-cutting, bending stress is applied to the back side using a jig such as a roller to separate it into individual pellets. Furthermore, in order to facilitate subsequent steps, the sheet to which the wafer is attached may be stretched.
この場合、ウェハのカットは、例えばダイヤモンドプレ
ートによってテープに貼り付けたウェハの表面から行っ
ている。そして、このウェハをスクライブするには、ウ
ェハ表面を観察し、スクライブラインを見て、表面内で
平行移動させてアライメントをしていた。In this case, the wafer is cut from the surface of the wafer which is attached to the tape, for example by a diamond plate. To scribe this wafer, the wafer surface was observed, the scribe line was observed, and alignment was performed by moving the wafer parallel within the surface.
〈発明が解決しようとする課題〉
しかしながら、このような従来の半導体製造装置にあっ
ては、半導体ウェハの表面側からのみしかスクライブで
きないという問題点があった。<Problems to be Solved by the Invention> However, such conventional semiconductor manufacturing equipment has a problem in that it is only possible to scribe from the front side of the semiconductor wafer.
そこで、本発明は、ウェハの裏面側から表側のスクライ
ブラインに沿ってスクライブすることができる半導体製
造装置を提供することをその目的としている。SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to provide a semiconductor manufacturing apparatus that can scribe along a scribe line from the back side of a wafer to the front side.
く課題を解決するための手段〉
本発明は、半導体ウェハをその表面側から保持する保持
手段と、該保持手段によって保持された半導体ウェハの
裏面側に配設され、該半導体ウェハの裏面を切削するス
クライバと、該スクライバと半導体ウェハとを相対的に
位置決めする位置決め手段と、を備えた半導体製造装置
である。Means for Solving the Problems> The present invention includes a holding means for holding a semiconductor wafer from the front side thereof, and a holding means disposed on the back side of the semiconductor wafer held by the holding means to cut the back side of the semiconductor wafer. This is a semiconductor manufacturing apparatus including a scriber and positioning means for relatively positioning the scriber and a semiconductor wafer.
〈作用〉
本発明に係る半導体製造装置では、保持手段によって該
半導体ウェハをその表面側から保持する。<Operation> In the semiconductor manufacturing apparatus according to the present invention, the semiconductor wafer is held from the front side by the holding means.
゛そして、スクライバはこのウェハの裏面側に配設する
。さらに、位置決め手段によってこのスクライバとウェ
ハとの間の相対位置を位置決めする。``Then, the scriber is placed on the back side of this wafer. Further, the relative position between the scriber and the wafer is determined by positioning means.
そして、スクライバによってウェハの裏面側からウェハ
をスクライブラインに沿って切削する。Then, the wafer is cut along the scribe line from the back side of the wafer using a scriber.
〈実施例〉 以下、本発明の実施例を図面にもとづいて説明する。<Example> Embodiments of the present invention will be described below based on the drawings.
第1図は本発明の半導体製造装置の縦断面図である。FIG. 1 is a longitudinal sectional view of a semiconductor manufacturing apparatus according to the present invention.
この図において、11は半導体ウェハを示している。こ
のウェハ11はその表面がチャック13によって吸着さ
れて水平に保持されている。チャック13はウェハ11
の保持手段である。また、このチャック13は透明なガ
ラスで形成されており、その吸着したウェハ11の表面
のスクライブラインをチャック13を通して視認、観察
することができるものである。15はバキュームポンプ
に接続される連通路である。In this figure, 11 indicates a semiconductor wafer. The surface of this wafer 11 is attracted by a chuck 13 and held horizontally. Chuck 13 holds wafer 11
It is a holding means. Further, this chuck 13 is made of transparent glass, and the scribe line on the surface of the wafer 11 that is attracted can be visually recognized and observed through the chuck 13. 15 is a communication path connected to a vacuum pump.
また、チャック13は図示していない機構によって水平
面内で移動自在に設けられている。したがって、ウェハ
11は水平面内で平行移動、回転移動が可能である。Furthermore, the chuck 13 is provided movably within a horizontal plane by a mechanism not shown. Therefore, the wafer 11 can be translated and rotated within the horizontal plane.
ウェハ11の上方には位置確認用の顕微鏡21が移動(
上下動、回転、水平移動)自在に配設されている。また
、この顕微鏡21の接眼面には例えば中心線等の目安が
配設されている。A microscope 21 for position confirmation moves above the wafer 11 (
(vertical movement, rotation, horizontal movement) freely arranged. Furthermore, a guide such as a center line is provided on the eyepiece surface of the microscope 21.
ウェハ11の下方にはスクライバ31が配設されている
。スクライバ31はそのブレード33がウェハ11の裏
面(下面)に対して直角となるように配設されている。A scriber 31 is provided below the wafer 11. The scriber 31 is arranged so that its blade 33 is perpendicular to the back surface (lower surface) of the wafer 11.
そして、このスクライバ31自体は所定位置、すなわち
顕微鏡21の直下に所定距離だけ離れて固定されている
。The scriber 31 itself is fixed at a predetermined position, that is, directly below the microscope 21 at a predetermined distance.
したがって、上記顕微鏡21、およびチャック13を水
平移動、回転移動させる機構は、全体としてウェハ11
とスクライバ31との間の相対的な位置決めをなす位置
決め手段41を構成している。Therefore, the mechanism for horizontally and rotationally moving the microscope 21 and the chuck 13 as a whole
A positioning means 41 is configured to perform relative positioning between the scriber 31 and the scriber 31.
以上の構成・に係る装置にあっては、まずウェハ11を
保持しない状態でガラス製チャッ゛り13を通して顕微
鏡21によりブレード33を観察し、顕微鏡21を移動
し例えば接眼面の中心線をブレード33と一致させる。In the apparatus according to the above configuration, first, the blade 33 is observed through the glass chuck 13 with the microscope 21 without holding the wafer 11, and the microscope 21 is moved to, for example, align the center line of the eyepiece with the blade 33. match.
続いて、ガラス製チャック13によってウェハ11を表
面側から吸着して、これを水平に保持し顕微鏡21の下
方に位置させる。そして、顕微鏡21によってそのウェ
ハ11の表面を観察しながら位置決め手段41の移動機
構によってウェハ11を水平面に沿って平行移動し接眼
面の中心線とスクライブラインを一致させる。すなわち
、固定されたブレード33に対してウェハ110表面の
スクライブラインが適切に位置決めされることとなる。Subsequently, the wafer 11 is sucked from the front side by the glass chuck 13, held horizontally, and positioned below the microscope 21. Then, while observing the surface of the wafer 11 using the microscope 21, the wafer 11 is moved in parallel along a horizontal plane by the moving mechanism of the positioning means 41, so that the center line of the eyepiece surface and the scribe line are aligned. That is, the scribe line on the surface of the wafer 110 is appropriately positioned with respect to the fixed blade 33.
この水平面内でのアライメントの終了後、ウェハ11を
下降させてスクライバ31によってウェハIIの裏面を
スクライブラインに沿ってスクライブする。After the alignment in the horizontal plane is completed, the wafer 11 is lowered and the scriber 31 scribes the back surface of the wafer II along the scribe line.
係るその縦断面図である。FIG. 2 is a longitudinal sectional view thereof.
11・・・・・・・・半導体ウェハ、
13・・・・・・・・チャック(保持手段)、31・・
・・・・・・スクライバ、
41・・・・・・・・位置決め手段。11... Semiconductor wafer, 13... Chuck (holding means), 31...
...Scriver, 41 ...Positioning means.
なお、上記実施例において、保持手段としてガラス製チ
ャック13を使用したが、これに限られずにウェハの支
持強度を考慮することを条件として他の形式のチャック
、例えば二股状のチャックをも使用することもできる。In the above embodiments, the glass chuck 13 was used as the holding means, but the holding means is not limited to this, and other types of chucks, such as a bifurcated chuck, may also be used provided that the supporting strength of the wafer is considered. You can also do that.
Claims (1)
と、該保持手段によって保持された半導体ウェハの裏面
側に配設され、該半導体ウェハの裏面を切削するスクラ
イバと、該スクライバと半導体ウェハとを相対的に位置
決めする位置決め手段と、を備えたことを特徴とする半
導体製造装置。(1) A holding means for holding a semiconductor wafer from the front side thereof, a scriber disposed on the back side of the semiconductor wafer held by the holding means and cutting the back side of the semiconductor wafer, and a connection between the scriber and the semiconductor wafer. A semiconductor manufacturing apparatus comprising: positioning means for relatively positioning.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63256793A JPH02102559A (en) | 1988-10-11 | 1988-10-11 | Semiconductor manufacturing device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63256793A JPH02102559A (en) | 1988-10-11 | 1988-10-11 | Semiconductor manufacturing device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02102559A true JPH02102559A (en) | 1990-04-16 |
Family
ID=17297520
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63256793A Pending JPH02102559A (en) | 1988-10-11 | 1988-10-11 | Semiconductor manufacturing device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02102559A (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6588308B2 (en) | 1999-01-19 | 2003-07-08 | Meco Equipment Engineers B.V. | Method and device for separating products, mounted on a common substrate, from each other along (a) cutting line(s) |
CN102528950A (en) * | 2010-12-08 | 2012-07-04 | 北京中电科电子装备有限公司 | Debugging device of scribing machine material transmission system |
US11316313B2 (en) | 2017-12-27 | 2022-04-26 | Enplas Corporation | Opening/closing mechanism of opening/closing body |
-
1988
- 1988-10-11 JP JP63256793A patent/JPH02102559A/en active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6588308B2 (en) | 1999-01-19 | 2003-07-08 | Meco Equipment Engineers B.V. | Method and device for separating products, mounted on a common substrate, from each other along (a) cutting line(s) |
CN102528950A (en) * | 2010-12-08 | 2012-07-04 | 北京中电科电子装备有限公司 | Debugging device of scribing machine material transmission system |
CN102528950B (en) * | 2010-12-08 | 2014-12-10 | 北京中电科电子装备有限公司 | Debugging device of scribing machine material transmission system |
US11316313B2 (en) | 2017-12-27 | 2022-04-26 | Enplas Corporation | Opening/closing mechanism of opening/closing body |
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