JPH0193179A - Temperature difference detector - Google Patents

Temperature difference detector

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Publication number
JPH0193179A
JPH0193179A JP62251347A JP25134787A JPH0193179A JP H0193179 A JPH0193179 A JP H0193179A JP 62251347 A JP62251347 A JP 62251347A JP 25134787 A JP25134787 A JP 25134787A JP H0193179 A JPH0193179 A JP H0193179A
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JP
Japan
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electrodes
substrate
thermoelectric elements
adjacent
temperature difference
Prior art date
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Pending
Application number
JP62251347A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Akira Kumada
明 久万田
Mitsuhiro Murata
充弘 村田
Norimitsu Kito
鬼頭 範光
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Murata Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Murata Manufacturing Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To produce an temperature difference detector simple in structure and high in sensitivity by a method wherein electrodes are provided on one surface of a semiconductor ceramic substrate to constitute pairs of hot and cold junctions, locations to serve as thermoelements between the electrodes are connected in series, and slits are provided between neighboring electrodes. CONSTITUTION:On one surface of a semiconductor ceramic substrate 12, a plurality of pairs of electrodes 13a, 13b, ...16a, 16b serving as a hot and cold junctions. A pair of electrodes and a part of the semiconductor ceramic substrate 12 constitute a thermoelement. Neighboring thermoelements are connected in series by conductive channels 19a-19c. In the substrate 12, between neighboring thermoelements, slits 21a-21f are provided. With a plurality of thermoelements being connected in series in one and the same substrate, it is easy to construct a multistage series type thermopile. In addition, slits provided between neighboring electrodes increases resistance in presence between the electrodes, which increases the thermoelement output voltage.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、ゼーベック効果を利用した温度差検知素子
に関し、特に半導体セラミックス基板を用いたものにお
いて構成素子の配列構造が改良された温度差検知素子に
関する。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a temperature difference sensing element that utilizes the Seebeck effect, and particularly to a temperature difference sensing element that uses a semiconductor ceramic substrate and has an improved arrangement structure of constituent elements. Regarding elements.

[従来の技術] 特開昭54−114090号公報には、還元性酸化チタ
ンよりなる半導体熱電素子を利用した熱線検知器が開示
されている。この熱線検知器は、第2図に示すように、
板状の還元性酸化チタン半導体基板1の一方主面にオー
ミックな金属膜2a。
[Prior Art] Japanese Unexamined Patent Publication No. 114090/1983 discloses a heat ray detector using a semiconductor thermoelectric element made of reducible titanium oxide. This heat ray detector, as shown in Figure 2,
An ohmic metal film 2a is formed on one main surface of a plate-shaped reducible titanium oxide semiconductor substrate 1.

2bを形成し、オーミックな金属膜2a、  2bと半
導体基板1との接合点の一方を温接点3、他方を冷接点
4とした熱電素子を複数枚用いて構成されている。すな
わち、第2図では平面的に3枚の熱電素子6a〜6Cが
図示されているが、これらの熱電素子6a〜6Cをリー
ド線7.8を用いて直列に接続し、熱線検知器とした構
造が開示されている。
2b, one of the junctions between the ohmic metal films 2a and 2b and the semiconductor substrate 1 is a hot junction 3, and the other is a cold junction 4. That is, although three thermoelectric elements 6a to 6C are shown in a plane in FIG. 2, these thermoelectric elements 6a to 6C are connected in series using lead wires 7.8 to form a heat ray detector. structure is disclosed.

ここでは、複数枚の熱電素子6a〜6Cを直列に接続す
ることにより、出力電圧を高めることが可能とされてい
る。
Here, it is possible to increase the output voltage by connecting a plurality of thermoelectric elements 6a to 6C in series.

[発明が解決しようとする問題点] しかしながら、第2図に示した熱電素子6a〜6Cを別
個に用意しなければならない。また、複数の熱電素子を
直列に接続するためには、第2図に示したように交互に
逆向きに配置し、リード線7.8を用いて接続しなけれ
ばならない。したがって製造工程も複雑となり、特に全
体の大きさを小型にした場合には、このような接続作業
は極めて困難であった。
[Problems to be Solved by the Invention] However, the thermoelectric elements 6a to 6C shown in FIG. 2 must be prepared separately. Furthermore, in order to connect a plurality of thermoelectric elements in series, they must be alternately arranged in opposite directions and connected using lead wires 7.8, as shown in FIG. Therefore, the manufacturing process becomes complicated, and especially when the overall size is reduced, such connection work is extremely difficult.

よって、この発明の目的は、より簡単な工程で得ること
ができる構造を備えた高感度の温度差検知素子を提供す
ることにある。
Therefore, an object of the present invention is to provide a highly sensitive temperature difference sensing element having a structure that can be obtained through a simpler process.

[問題点を解決するための手段] この発明の温度差検知素子は、単一の半導体セラミック
スよりなる基板を基本的構成要素とする。
[Means for Solving the Problems] The temperature difference sensing element of the present invention has a single substrate made of semiconductor ceramic as a basic component.

すなわち、この基板の少なくとも一方の面に、温接点お
よび冷接点を構成するために対をなすように複数対の電
極が形成されている。対をなす電極と、この対をなす電
極間の半導体セラミックス基板部分とにより、複数個の
熱電索子が単一の基板を用いて構成されている。さらに
、この複数個の熱電索子を直列に接続するために導電路
が備えられている。また、少なくとも一つの隣り合う熱
電素子の電極間の基板部分にはスリットが形成されてい
る。
That is, a plurality of pairs of electrodes are formed on at least one surface of this substrate to form a hot junction and a cold junction. A plurality of thermoelectric cables are constructed using a single substrate, including a pair of electrodes and a semiconductor ceramic substrate portion between the pair of electrodes. Further, a conductive path is provided to connect the plurality of thermoelectric cables in series. Furthermore, a slit is formed in the substrate portion between the electrodes of at least one adjacent thermoelectric element.

[作用] 半導体セラミックスよりなる単一の基板を用いて複数個
の熱電素子が構成されているので、容易に多段直列型の
サーモパイルが得られる。また、直列に接続される複数
個の熱電素子は基板上で接続されるものであるため、リ
ード線等を用いずとも各熱電素子を構成するための電極
と同様に導電ペースト等を用いて同工程で形成すること
ができる。
[Operation] Since a plurality of thermoelectric elements are constructed using a single substrate made of semiconductor ceramics, a multi-stage series thermopile can be easily obtained. In addition, since multiple thermoelectric elements connected in series are connected on the board, they can be connected using conductive paste, etc., in the same way as the electrodes for configuring each thermoelectric element, without using lead wires. It can be formed in a process.

さらに、少なくとも一つの隣り合う熱電素子の電極間の
基板部分にスリットが形成されているので、隣り合う冷
接点電極間および隣り合う温接点電極間のセラミックス
半導体基板部分により生じる抵抗が増大される。よって
、後述する実施例から明らかなように、1段あたりの熱
電索子出力電圧が効果的に増大される。
Furthermore, since the slit is formed in the substrate portion between the electrodes of at least one adjacent thermoelectric element, the resistance caused by the ceramic semiconductor substrate portion between adjacent cold junction electrodes and between adjacent hot junction electrodes is increased. Therefore, as will be clear from the embodiments described later, the thermoelectric cable output voltage per stage is effectively increased.

[実施例の説明] 第1図は、この発明の一実施例の温度差検知素子11を
示す。この温度差検知素子11は、半導体セラミックス
よりなる基板12を用いて構成されている。基板12を
構成する半導体セラミックスとしては、たとえばn型セ
ラミック半導体であれば、還元雰囲気中で処理を施した
BaTio、。
[Description of Embodiment] FIG. 1 shows a temperature difference sensing element 11 according to an embodiment of the present invention. This temperature difference sensing element 11 is constructed using a substrate 12 made of semiconductor ceramics. As the semiconductor ceramic constituting the substrate 12, for example, if it is an n-type ceramic semiconductor, it is BaTio treated in a reducing atmosphere.

5rTiO,、CaTl0.や、La、Ce、Nd等の
希土類元素を添加し原子価制御を施したBaTio、、
、5rTiO=等を用いることができる。また、p型セ
ラミック半導体であれば、酸化雰囲気中で処理を施した
Nip、Coo、FeOや、Li2O等を添加したNi
p、Coo、FeO、M n OsまたはSrO,Ca
O等を添加したLaMn0.、LaFe0.等を用いる
ことができる。
5rTiO, , CaTl0. BaTio, which has been subjected to valence control by adding rare earth elements such as La, Ce, and Nd.
, 5rTiO=, etc. can be used. In addition, for p-type ceramic semiconductors, Nip, Coo, FeO treated in an oxidizing atmosphere, Ni added with Li2O, etc.
p, Coo, FeO, M n Os or SrO, Ca
LaMn0. , LaFe0. etc. can be used.

基板12の一方主面には、複数の電極13a〜16a、
13b〜16bが形成されている。このうち、電極13
a〜16aは基板12の一方主面上において一方の長手
方向端縁に沿って分散されて形成されている。他方、電
極13b〜16bは、基板12の他方端縁側において、
電極13a〜16aと対向するように分散形成されてい
る。ここでは、電極13aと電極13bとが、この発明
の温接点および冷接点を構成するための対をなす電極を
構成している。同様に、電極14a〜16aと、電極1
4b〜16bとが、それぞれ、対をなしている。
On one main surface of the substrate 12, a plurality of electrodes 13a to 16a,
13b to 16b are formed. Of these, electrode 13
a to 16a are formed on one main surface of the substrate 12 so as to be distributed along one longitudinal edge. On the other hand, the electrodes 13b to 16b are on the other edge side of the substrate 12,
They are formed in a dispersed manner so as to face the electrodes 13a to 16a. Here, the electrode 13a and the electrode 13b constitute a pair of electrodes for constructing a hot junction and a cold junction of the present invention. Similarly, electrodes 14a to 16a and electrode 1
4b to 16b each form a pair.

この実施例では、上述した対をなす電極、たとえば電極
13a、13bと、該対をなす電極13a〜13b間の
半導体セラミックス基板部分とにより、一つの熱電素子
が構成されている。したがって、全体としては、4個の
熱電素子が単一の基板12を用いて構成されている。
In this embodiment, one thermoelectric element is constituted by the pair of electrodes described above, for example, electrodes 13a and 13b, and the semiconductor ceramic substrate portion between the pair of electrodes 13a and 13b. Therefore, in total, four thermoelectric elements are constructed using a single substrate 12.

電極13a 〜16aおよび電極13b〜16bは、一
方が温接点を構成するために形成されており、他方が冷
接点を構成するために形成されている。いずれの電極の
側を温接点あるいは冷接点としてもよいが、説明を容易
とするために、ここでは電極13a〜16aの方を基板
12と協働して温接点17を構成するものし、電極13
b〜16bを冷接点18を構成するものとする。したが
って、この実施例では、4個の熱電素子が、それぞれの
温接点あるいは冷接点を構成する電極が隣゛り合うよう
に矩形の基板12上に並置されていることがわかる。
One of the electrodes 13a to 16a and the electrodes 13b to 16b is formed to constitute a hot junction, and the other is formed to constitute a cold junction. Either electrode side may be used as a hot junction or a cold junction, but for ease of explanation, here, the electrodes 13a to 16a cooperate with the substrate 12 to constitute the hot junction 17, and the electrodes 13
b to 16b constitute the cold junction 18. Therefore, it can be seen that in this embodiment, four thermoelectric elements are arranged side by side on the rectangular substrate 12 such that the electrodes constituting the respective hot or cold junctions are adjacent to each other.

各熱電素子は、基板12上に形成された接続用導電路1
9a〜19cにより電気的に接続され、したがって結果
として4個の熱電索子が直列に接続されている。
Each thermoelectric element has a connecting conductive path 1 formed on a substrate 12.
9a to 19c, thus resulting in four thermocouples being connected in series.

上記した電極13a〜16bは、オーミックな接触を与
える金属材料、たとえばニッケル、アルミニウム、金、
インジウムなどの金属またはこれらの合金により形成す
ることができる。形成方法は、印刷による厚膜形成方法
または蒸着あるいはスパッタ等の種々の薄膜形成方法を
用いることができる。しかも、好ましくは、接続用導電
路19a〜19cを電極13a〜16bと同一材料で構
成する゛場合には、電極13 a〜16bと同時に形成
することができる。もっとも、接続用導電路19a〜1
9cについては、電極材料と異なる導電性材料で形成し
てもよい。また、導電路19a〜19cとしては、セラ
ミック半導体と非オーミツクな接触を与える金属材料を
用いてもよい。
The electrodes 13a to 16b described above are made of a metal material that provides ohmic contact, such as nickel, aluminum, gold, or
It can be formed from a metal such as indium or an alloy thereof. As a forming method, various thin film forming methods such as a thick film forming method by printing or vapor deposition or sputtering can be used. Preferably, when the connecting conductive paths 19a to 19c are made of the same material as the electrodes 13a to 16b, they can be formed at the same time as the electrodes 13a to 16b. However, the connection conductive paths 19a to 1
9c may be formed of a conductive material different from the electrode material. Further, as the conductive paths 19a to 19c, a metal material that provides non-ohmic contact with the ceramic semiconductor may be used.

さらに、この実施例では、4個の熱電素子の隣り合う電
極間にスリット21a〜21fが形成されている。スリ
ット21a〜21fは、基板12の長手方向端縁から内
側に基板の一部を切取ることにより形成されている。こ
のスリット21a〜21fは、各熱電索子の起電力出力
電圧を増大させるために設けられているものである。こ
れを、第3図〜第5図を参照して説明する。
Furthermore, in this embodiment, slits 21a to 21f are formed between adjacent electrodes of the four thermoelectric elements. The slits 21a to 21f are formed by cutting a portion of the substrate 12 inward from the longitudinal edge of the substrate 12. The slits 21a to 21f are provided to increase the electromotive force output voltage of each thermoelectric cable. This will be explained with reference to FIGS. 3 to 5.

第3図に略図的平面図で示すように、上記したスリット
を有しない温度差検知素子31を比較例として考えてみ
る。第3図の温度差検知素子31は、スリットが形成さ
れていないことを除いては第1図実施例と全く同様であ
る。よって、相当の部分につき、相当の参照番号を付す
ることにする。
As shown in a schematic plan view in FIG. 3, a temperature difference sensing element 31 having no slit described above will be considered as a comparative example. The temperature difference sensing element 31 shown in FIG. 3 is completely similar to the embodiment shown in FIG. 1 except that no slit is formed. Therefore, corresponding parts will be given corresponding reference numbers.

この温度差検知素子31の等価回路を、第4図に示す。An equivalent circuit of this temperature difference sensing element 31 is shown in FIG.

第4図において、Rrは1個の熱電素子における対をな
す電極間の基板抵抗を示し、RPは隣り合う熱電素子間
すなわち隣り合う冷接点側および温接点側の電極間の基
板抵抗を示す。なお、添字の数字は各熱電索子を示すも
のである。したがって、電極33aと、電極33b−3
4aとの間の電位差e1,2は、e+、2 ” e+ 
 ・Rp )/(Rr l+Rr + )となる。n個
の半導体熱電素子が構成されている場合には、全体の出
力e1...。
In FIG. 4, Rr indicates the substrate resistance between a pair of electrodes in one thermoelectric element, and RP indicates the substrate resistance between adjacent thermoelectric elements, that is, between adjacent electrodes on the cold junction side and the hot junction side. Note that the subscript numbers indicate each thermoelectric cable. Therefore, the electrode 33a and the electrode 33b-3
4a, the potential difference e1,2 is e+,2 '' e+
・Rp )/(Rr l+Rr + ). When n semiconductor thermoelectric elements are configured, the total output e1. .. .. .

−pe+ 、 1−1−Σ[ei−R1/(RrI+R
Pl)]ill+ となる。これに対して、第1図実施例では、スリット2
1a〜21fが形成されているので、RPはR,に比べ
て非常に大きな値となる。よって、第1図実施例の等価
回路では、第5図に示すようにRpを無視することがで
きるので、1段の熱電素子あたりの出力を増大させるこ
とができ、結果として全体の素子出力を増大させること
が可能されている。
-pe+, 1-1-Σ[ei-R1/(RrI+R
Pl)]ill+. On the other hand, in the embodiment shown in FIG.
Since 1a to 21f are formed, RP has a much larger value than R. Therefore, in the equivalent circuit of the embodiment in FIG. 1, Rp can be ignored as shown in FIG. 5, so the output per one stage thermoelectric element can be increased, and as a result, the overall element output can be It is possible to increase

なお、上述したスリット21a〜21fについては、第
1図のように隣り合う熱電索子の隣り合う電極間のすべ
てに形成する必要はなく、少なくとも1の隣り合う電極
間に形成すれば出力を増大させることができる。
Note that the above-mentioned slits 21a to 21f do not need to be formed between all the adjacent electrodes of adjacent thermoelectric cables as shown in FIG. 1, but if they are formed between at least one adjacent electrode, the output can be increased. can be done.

また、スリット21a〜21fは、隣り合う熱電素子の
電極間の抵抗を飛躍的に大きくすることにより、上述し
たRFを無視し得るものとして出力を増大させるために
設けられるものである。よって、スリット21a〜21
fに、絶縁材料を充填してもこの効果には変化が無い。
Furthermore, the slits 21a to 21f are provided to dramatically increase the resistance between the electrodes of adjacent thermoelectric elements, thereby increasing the output so that the above-mentioned RF can be ignored. Therefore, the slits 21a to 21
This effect does not change even if f is filled with an insulating material.

この場合には、スリット21a〜21fの形成により基
板強度の低下を防止することができ、また素子の熱伝導
率の補正を行なうことも可能である。
In this case, by forming the slits 21a to 21f, it is possible to prevent a decrease in substrate strength, and it is also possible to correct the thermal conductivity of the element.

さらに、スリット21a〜21fの形状についても、隣
り合う電極間の基板抵抗に比べて大きな抵抗を与えるも
のであれば、特に問うものではなく、基板12の長手方
向端縁に開いていない長孔状としてもよい。
Furthermore, the shape of the slits 21a to 21f is not particularly limited as long as it provides a resistance greater than the substrate resistance between adjacent electrodes; You can also use it as

第1図実施例では、基板12の一方面上に対をなす電極
13a 〜16a、13b 〜16bが形成されていた
が、基板12の他方面上にも対をなす電極を形成し、他
方面側において複数の熱電素子を構成してもよい。その
場合、好ましくは、両面に形成された熱電素子を相互に
直列に接続すればよく、それによって同一寸法の基板を
用いてより多段に熱電索子が接続されたサーモパイルを
得ることができる。
In the embodiment shown in FIG. 1, pairs of electrodes 13a to 16a and 13b to 16b were formed on one side of the substrate 12, but pairs of electrodes were also formed on the other side of the substrate 12, and the other side A plurality of thermoelectric elements may be configured on the side. In that case, it is preferable to connect the thermoelectric elements formed on both sides in series, thereby making it possible to obtain a thermopile in which thermoelectric elements are connected in more stages using a substrate of the same size.

基板12の形状についても、第1図に示したように略矩
形のものを用いる必要はなく、円形の基板を用いてもよ
い。円形の基板を用いた場合には、対をなす電極はたと
えば径方向に配置すれば、複数の熱電素子を放射状に並
置することができる。
Regarding the shape of the substrate 12, it is not necessary to use a substantially rectangular shape as shown in FIG. 1, but a circular substrate may also be used. When a circular substrate is used, a plurality of thermoelectric elements can be arranged radially side by side by arranging paired electrodes, for example, in the radial direction.

[発明の効果] この発明では、単一の半導体セラミックス基板を用いて
複数個の熱電素子が直列に接続されている。よって、従
来のように複数枚の基板を用意する必要もなく、また複
数枚の基板を貼り合わせたりリード線等を用いて接続し
たりする煩雑な作業を解消することができる。さらに、
各熱電索子間の接続が、基板上に導電路を形成するだけ
で可能である。よって、従来の多段直列型のセラミック
半導体サーモパイルに比べて製造工程を飛躍的に簡略化
することが可能となる。
[Effects of the Invention] In the present invention, a plurality of thermoelectric elements are connected in series using a single semiconductor ceramic substrate. Therefore, there is no need to prepare a plurality of substrates as in the past, and the complicated work of bonding a plurality of substrates together or connecting them using lead wires or the like can be eliminated. moreover,
Connection between each thermoelectric cord is possible by simply forming a conductive path on the substrate. Therefore, the manufacturing process can be dramatically simplified compared to conventional multi-stage series ceramic semiconductor thermopiles.

また、隣り合う熱電素子の温接点側あるいは冷接点側の
電極間の少なくとも1の部分においてスリットが形成さ
れているので、該スリットの形成されている部分におけ
る熱電素子の出力を大きくすることができるので、より
高感度の温度差検知素子を実現することができる。
Furthermore, since a slit is formed in at least one part between the electrodes on the hot junction side or the cold junction side of adjacent thermoelectric elements, the output of the thermoelectric element can be increased in the part where the slit is formed. Therefore, a temperature difference detection element with higher sensitivity can be realized.

この発明は、種々の赤外線センサや熱流センサに用いる
ことができるものであることを指摘しておく。
It should be pointed out that this invention can be used in various infrared sensors and heat flow sensors.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は、この発明の一実施例の斜視図、第2図は従来
の熱線検知器に用いられるセラミック半導体サーモパイ
ルの一例を説明するための略図的平面図、第3図は第1
図実施例に対する比較例としてのスリットを有しない温
度差検知素子を示す平面図、第4図は第3図に示した温
度差検知素子の等価回路図、第5図は第1図実施例の等
価回路図である。 図において、11は温度差検知素子、12は半導体セラ
ミックスよりなる基板、13a〜16bは電極、19a
〜19cは接続用導電路、21a〜21fはスリットを
示す。 第2図
FIG. 1 is a perspective view of an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a schematic plan view for explaining an example of a ceramic semiconductor thermopile used in a conventional heat ray detector, and FIG.
Figure 4 is a plan view showing a temperature difference sensing element without a slit as a comparative example for the embodiment; Figure 4 is an equivalent circuit diagram of the temperature difference sensing element shown in Figure 3; It is an equivalent circuit diagram. In the figure, 11 is a temperature difference detection element, 12 is a substrate made of semiconductor ceramics, 13a to 16b are electrodes, and 19a
-19c are conductive paths for connection, and 21a-21f are slits. Figure 2

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)半導体セラミックスよりなる基板と、前記基板の
少なくとも一方の面に、温接点および冷接点を構成する
ために対をなすように形成された複数対の電極とを備え
、 前記対をなす電極と該対をなす電極間の半導体セラミッ
クス基板部分とにより複数個の熱電素子が構成されてお
り、 該複数個の熱電素子を基板上で直列に接続するための導
電路をさらに備え、 少なくとも一つの隣り合う熱電素子の電極間の基板部分
にスリットが形成されている、温度差検知素子。
(1) A substrate made of semiconductor ceramics, and a plurality of pairs of electrodes formed on at least one surface of the substrate to form a hot junction and a cold junction, the paired electrodes and a semiconductor ceramic substrate portion between the pair of electrodes to form a plurality of thermoelectric elements, further comprising a conductive path for connecting the plurality of thermoelectric elements in series on the substrate, and at least one A temperature difference sensing element with a slit formed in the substrate between the electrodes of adjacent thermoelectric elements.
(2)前記スリットには、絶縁材料が充填されている、
特許請求の範囲第1項記載の温度差検知素子。
(2) the slit is filled with an insulating material;
A temperature difference sensing element according to claim 1.
(3)前記半導体セラミックスよりなる基板の両面に、
前記複数個の熱電素子が構成されており、双方の面に構
成された熱電素子が相互に直列に接続されている、特許
請求の範囲第1項または第2項記載の温度差検知素子。
(3) On both sides of the substrate made of semiconductor ceramics,
The temperature difference sensing element according to claim 1 or 2, wherein the plurality of thermoelectric elements are configured, and the thermoelectric elements configured on both surfaces are connected to each other in series.
(4)隣接する熱電素子間で、温接点および冷接点を構
成するための電極が隣り合うように、複数の熱電素子が
基板上に並置されており、前記スリットは、隣り合う温
接点を構成するための電極および隣り合う冷接点を構成
するための電極の少なくとも一方において、少なくとも
一つの電極間部分に形成されている、特許請求の範囲第
1項〜第3項のいずれかに記載の温度差検知素子。
(4) A plurality of thermoelectric elements are arranged side by side on a substrate so that electrodes for forming hot junctions and cold junctions are adjacent to each other between adjacent thermoelectric elements, and the slits form adjacent hot junctions. The temperature according to any one of claims 1 to 3, which is formed in at least one inter-electrode portion of at least one of the electrodes for forming an adjacent cold junction and the electrodes for forming an adjacent cold junction. Difference sensing element.
JP62251347A 1987-10-05 1987-10-05 Temperature difference detector Pending JPH0193179A (en)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP62251347A JPH0193179A (en) 1987-10-05 1987-10-05 Temperature difference detector
US07/253,719 US4938244A (en) 1987-10-05 1988-10-05 Temperature difference detecting element using semiconductive ceramic material

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP62251347A JPH0193179A (en) 1987-10-05 1987-10-05 Temperature difference detector

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JPH0193179A true JPH0193179A (en) 1989-04-12

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015015990A1 (en) 2013-08-01 2015-02-05 Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha Vehicle rear portion structure with inlet pipe
CN107255650A (en) * 2017-07-05 2017-10-17 合肥工业大学 One kind is on thermoelectric material Seebeck coefficient testing methods

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015015990A1 (en) 2013-08-01 2015-02-05 Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha Vehicle rear portion structure with inlet pipe
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