JPH019165Y2 - - Google Patents

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JPH019165Y2
JPH019165Y2 JP1983077260U JP7726083U JPH019165Y2 JP H019165 Y2 JPH019165 Y2 JP H019165Y2 JP 1983077260 U JP1983077260 U JP 1983077260U JP 7726083 U JP7726083 U JP 7726083U JP H019165 Y2 JPH019165 Y2 JP H019165Y2
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JP
Japan
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wafer
transfer arm
holding
suction
working device
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JP1983077260U
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JPS59182932U (en
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【考案の詳細な説明】 本考案は、たとえばウエハーの面取り加工、鏡
面研摩、あるいは厚さ測定等を行なう作業装置に
対して各々のウエハーを搬入および搬出するため
のウエハー搬送装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a wafer transfer device for loading and unloading each wafer into and out of a work device that performs, for example, chamfering, mirror polishing, or thickness measurement of wafers.

従来におけるこの種の装置は第1図に示される
ように構成されている。
A conventional device of this type is constructed as shown in FIG.

すなわち、ウエハーWの面取り加工、鏡面研
摩、あるいは厚さ測定等を行なう作業装置Mに対
して各々のウエハーWを搬入および搬出する機構
としては、エアーによる吸着保持部2を下方に有
する搬送アーム1が設けられ、ウエハーWはこの
吸着保持部2にて搬送アーム1の下方に吸着保持
された状態で搬送される。
That is, the mechanism for loading and unloading each wafer W into and out of the work device M that performs chamfering, mirror polishing, thickness measurement, etc. of the wafer W is a transfer arm 1 having an air suction holding section 2 below. is provided, and the wafer W is transported while being suction-held under the transport arm 1 by the suction-holding section 2 .

しかしながら、上記従来の装置においては、未
作業のウエハーWを作業装置Mに搬入する際に搬
送アーム1の一往復を要し、かつ作業済のウエハ
ーWを作業装置Mから搬出する際にさらに搬送ア
ーム1の一往復を要する。すなわち、1個のウエ
ハーWに面取り加工等の作業を行なうために搬送
アーム1には二往復することになり、作業の能率
が極めて悪いという欠点を有していた。
However, in the above-mentioned conventional apparatus, when carrying an unworked wafer W into the working apparatus M, the transfer arm 1 needs to make one reciprocation, and when carrying out the processed wafer W from the working apparatus M, it is necessary to carry it further. One round trip of arm 1 is required. That is, in order to perform work such as chamfering on one wafer W, the transfer arm 1 has to make two reciprocating movements, which has the drawback of extremely low work efficiency.

本考案は、上記実情にかんがみてなされたもの
で、作業装置に対するウエハーの搬入および搬出
を搬送アームの一往復にて行ない得るように構成
することにより、作業の能率を著しく向上させる
ことができるウエハー搬送装置を提供することを
目的とする。
The present invention has been developed in view of the above-mentioned circumstances, and is capable of significantly improving work efficiency by configuring the wafer to be loaded into and taken out of the working device in one reciprocating motion of the transfer arm. The purpose is to provide a conveyance device.

以下、第2図および第3図を参照して本考案に
よるウエハー搬送装置を具体的に説明する。
Hereinafter, the wafer transfer apparatus according to the present invention will be specifically explained with reference to FIGS. 2 and 3.

第2図において作業装置MはウエハーWの面取
り加工、鏡面研摩、厚さ測定あるいはその他の作
業を行なうものである。この作業装置Mそのもの
については本考案の要旨ではないため具体的な構
成についての説明は省略するが、公知の構成のも
のを採用することができる。
In FIG. 2, a working device M performs chamfering, mirror polishing, thickness measurement, or other operations on a wafer W. As this working device M itself is not the gist of the present invention, a detailed explanation of its configuration will be omitted, but a known configuration can be adopted.

上記作業装置Mに対してウエハーWを搬入およ
び搬出する搬送アーム11は、たとえばモータ
(図示せず)あるいは制御部14により空気圧制
御されるエアーシリンダー等を備えたアーム駆動
部10によつて往復駆動されるように構成されて
いる。搬送アーム11の先端上方には、ウエハー
Wを載置状態にして保持する保持部12が設けら
れ、かつ先端下方にはウエハーWを吸着保持する
吸着保持部13が設けられている。この吸着保持
部13は、中空成分13aとこの中空成分13a
から下方に連通した複数の透孔13bとを有して
いる。そして、吸着保持部13の中空部分13a
はエアーパイプ15により制御部14に連結され
ていて、この制御部14による空気圧制御により
ウエハーWを適宜吸着保持するように構成されて
いる。
The transfer arm 11 that carries the wafer W into and out of the working device M is reciprocated by an arm drive unit 10 equipped with, for example, a motor (not shown) or an air cylinder whose pneumatic pressure is controlled by the control unit 14. is configured to be A holding section 12 for holding the wafer W in a mounted state is provided above the tip of the transfer arm 11, and a suction holding section 13 for holding the wafer W by suction is provided below the tip. This adsorption holding part 13 has a hollow component 13a and a hollow component 13a.
It has a plurality of through holes 13b that communicate with each other downward. Then, the hollow part 13a of the suction holding part 13
is connected to a control section 14 by an air pipe 15, and is configured to adsorb and hold the wafer W as appropriate under air pressure control by the control section 14.

上記の如く搬送アーム11の吸着保持部13の
空気圧を適宜制御する制御部14は、真空ポンプ
を備えていると共に、装置全体の動作順序を制御
するシーケンス回路をも備えている。
As described above, the control section 14, which appropriately controls the air pressure of the suction holding section 13 of the transfer arm 11, is equipped with a vacuum pump, and is also equipped with a sequence circuit that controls the operating order of the entire apparatus.

次に、第2図および第3図を参照して上記ウエ
ハー搬送装置の作動について説明する。
Next, the operation of the wafer transfer device will be explained with reference to FIGS. 2 and 3.

まず、第3図Aに示される如く一番目の未作業
のウエハーW1が搬送アーム11の保持部12に
載せられて、第3図Bに示されるように作業装置
Mに搬入される。搬入されたウエハーW1は第3
図Cに示される如く作業装置Mによつて面取り加
工、鏡面研摩あるいは厚さ測定等の適宜の作業が
行なわれ、搬送アーム11は元の位置に戻る。
First, as shown in FIG. 3A, the first unworked wafer W1 is placed on the holding portion 12 of the transfer arm 11, and is carried into the working device M as shown in FIG. 3B. The loaded wafer W1 is the third one.
As shown in FIG. C, appropriate operations such as chamfering, mirror polishing, thickness measurement, etc. are performed by the working device M, and the transport arm 11 returns to its original position.

作業が完了すると第3図Dに示される如く搬送
アーム11の吸着保持部13に未作業の第二のウ
エハーW2が吸着保持されて作業装置Mに搬入さ
れる。そして、第3図Eに示される如く、作業済
の、第一のウエハーW1は搬送アーム11の保持
部12に載せられて搬出され、搬入された第二の
ウエハーW2は第3図Fに示す如く作業装置Mに
よつて第一のウエハーW1と同様に適宜の作業が
施される。
When the work is completed, as shown in FIG. 3D, the unworked second wafer W2 is suction-held by the suction-holding section 13 of the transfer arm 11 and carried into the working device M. Then, as shown in FIG. 3E, the processed first wafer W 1 is placed on the holding part 12 of the transfer arm 11 and carried out, and the second wafer W 2 carried in is carried out as shown in FIG. 3F. As shown in FIG. 2, appropriate operations are performed on the wafer W1 by the operation device M in the same manner as on the first wafer W1.

第二のウエハーW2の作業が完了すると第3図
Gに示される如く第一のウエハーW1が取り除か
れて搬送アーム11は保持部12に未作業の第三
のウエハーW3を載せた状態で作業装置Mに搬入
する。そして、作業装置Mによつて第三のウエハ
ーW3に適宜の作業が施されると共に、作業済の
第二のウエハーW2は吸着保持部13に吸着保持
された状態で搬送アーム11により搬出される。
When the work on the second wafer W2 is completed, the first wafer W1 is removed and the unworked third wafer W3 is placed on the holding part 12 of the transfer arm 11, as shown in FIG. and carry it into the working device M. Then, the third wafer W 3 is subjected to appropriate work by the work device M, and the second wafer W 2 that has been worked on is carried out by the transfer arm 11 while being held by the suction holding section 13. be done.

以下同様にして作業装置Mに対し順次ウエハー
Wの搬入および搬出が行なわれることにより、所
望数のウエハーWに対する作業が完了する。
Thereafter, the wafers W are sequentially loaded into and unloaded from the working device M in the same manner, thereby completing the work on the desired number of wafers W.

なお、上記具体的説明においては、搬送アーム
11の下方側のみにエアーによるウエハーWの吸
着保持部13を設けたものを例示したが、搬送ア
ーム11の上方側すなわち保持部12にも設ける
ことにより、ウエハーWをより確実に保持するよ
うに構成することもできる。
In the above specific explanation, the wafer W suction/holding section 13 using air is provided only on the lower side of the transfer arm 11. , the wafer W can be held more reliably.

本考案によるウエハー搬送装置は、上述の如く
搬送アーム11の上方にウエハーWを保持する保
持部12が設けられると共に、下方にウエハーW
を吸着保持する吸着保持部13が設けられ、これ
によつてウエハーWの搬入と搬出が全く同一工程
で行われている。したがつて搬送アーム11の一
往復で作業装置Mに対するウエハーWの搬入、搬
出を完了できるため、作業装置Mの動作に無駄が
なくて稼働効率が良く、その結果作業能率を大幅
に向上させることができ、かつ装置が小形化さ
れ、さらに搬送アームの発停回数を最小に止めて
装置の簡易化を達成したもので、本考案は産業上
きわめて有用なものといえる。
As described above, the wafer transfer device according to the present invention is provided with the holding section 12 for holding the wafer W above the transfer arm 11, and the wafer W held below.
A suction/holding section 13 is provided to suction and hold the wafer W, so that loading and unloading of the wafer W is performed in exactly the same process. Therefore, loading and unloading of the wafer W into and out of the working device M can be completed in one reciprocation of the transfer arm 11, so that there is no waste in the operation of the working device M, resulting in high operating efficiency, and as a result, work efficiency is greatly improved. The present invention can be said to be extremely useful industrially, since it is possible to achieve this, the device is miniaturized, and the number of times the transfer arm starts and stops is minimized, thereby simplifying the device.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は従来のウエハー搬送装置の要部を示す
図、第2図および第3図は本考案の実施例を示す
もので、第2図はウエハー搬送装置の全体を示す
図、第3図A〜Gは作動状態を示す要部の概略図
である。 11……搬送アーム、12……保持部、13…
…吸着保持部、M……作業装置、W……ウエハ
ー。
FIG. 1 shows the main parts of a conventional wafer transport device, FIGS. 2 and 3 show an embodiment of the present invention, FIG. 2 shows the entire wafer transport device, and FIG. A to G are schematic diagrams of main parts showing operating states. 11...transport arm, 12...holding section, 13...
...Adsorption holding unit, M...Working device, W...Wafer.

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】[Scope of utility model registration request] 作業装置に対して未作業のウエハーを保持して
搬入し、かつこの作業装置から作業済のウエハー
を保持して搬出する搬送アームを備えたウエハー
搬送装置において、前記搬送アームの上方にはウ
エハーを保持する保持部が設けられ、かつ下方に
はウエハーを吸着して保持する吸着保持部が前記
保持部の直下に設けられ、前記搬入、搬出が同一
行程を通つて行われることを特徴とするウエハー
搬送装置。
In a wafer transfer device that includes a transfer arm that holds and carries unworked wafers into a working device and that holds and carries processed wafers out of the working device, the wafer is placed above the transfer arm. A wafer is provided with a holding part for holding the wafer, and a suction holding part for sucking and holding the wafer is provided directly below the holding part, and the loading and unloading are performed through the same process. Conveyance device.
JP7726083U 1983-05-23 1983-05-23 Wafer transfer device Granted JPS59182932U (en)

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JPS513743U (en) * 1974-06-25 1976-01-12

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