JPH0161113B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0161113B2
JPH0161113B2 JP55139351A JP13935180A JPH0161113B2 JP H0161113 B2 JPH0161113 B2 JP H0161113B2 JP 55139351 A JP55139351 A JP 55139351A JP 13935180 A JP13935180 A JP 13935180A JP H0161113 B2 JPH0161113 B2 JP H0161113B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
amino
group
salts
cefem
substituted methyl
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP55139351A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5764699A (en
Inventor
Hiroshi Sadaki
Hiroyuki Imaizumi
Takihiro Inaba
Tatsuo Hirakawa
Yoshiharu Murotani
Makiko Morita
Junko Nagai
Isamu Saikawa
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toyama Chemical Co Ltd
Original Assignee
Toyama Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toyama Chemical Co Ltd filed Critical Toyama Chemical Co Ltd
Priority to JP55139351A priority Critical patent/JPS5764699A/ja
Publication of JPS5764699A publication Critical patent/JPS5764699A/ja
Publication of JPH0161113B2 publication Critical patent/JPH0161113B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

Landscapes

  • Cephalosporin Compounds (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、７―アミノ―３―置換メチルセフエ
ムカルボン酸類およびその塩、詳細には、 「式中、R1は水素原子を；R2はアミノ基を；
R3は水素原子またはカルボキシル保護形成基
を；R4CO―はアシル基を示す。」 で表わされる７―アミノ―３―置換メチルセフエ
ムカルボン酸類およびその塩並びにそれらの製造
法に関する。 本発明の目的は、公知あるいは新規なセフアロ
スポリン系抗生物質の合成中間体として有用性を
有する新規な〔〕式の７―アミノ―３―置換メ
チルセフエムカルボン酸類およびその塩並びにそ
れらの製造法を提供するにある。 本発明者らは、本発明の目的化合物の７位アミ
ノ基を公知の方法により種々のアシル化剤でアシ
ル化などを行なえば、容易に公知のあるいは新規
のセフアロスポリン系抗生物質を合成できること
に着目し、その中間体として有用な本発明の新規
な目的化合物を得るべく種々研究した結果、後述
する本発明方法によつて、有用な本発明の目的化
合物が得られることを見出し本発明を完成するに
至つた。 以下、本発明を更に詳細に説明する。 本発明において、 R3のカルボキシル保護形成基としては、通常
のカルボキシル基の保護基として使用し得るすべ
ての基を含み、たとえば、メチル、エチル、ｎ―
プロピル、イソプロピル、tert.―ブチル、ｎ―ブ
チル、ベンジル、ジフエニルメチル、トリチル、
ｐ―ニトロベンジル、ｐ―メトキシベンジル、ベ
ンゾイルメチル、アセチルメチル、ｐ―ニトロベ
ンゾイルメチル、ｐ―ブロモベンゾイルメチル、
ｐ―メタンスルホニルベンゾイルメチル、フタル
イミドメチル、トリクロロエチル、１，１―ジメ
チル―２―プロペニル、１，１―ジメチルプロピ
ル、アセトキシメチル、プロピオニルオキシメチ
ル、ピバロイルオキシメチル、１，１―ジメチル
―２―プロペニル、３―メチル―３―プチニル、
サクシンイミドメチル、１―シクロプロピルエチ
ル、メチルスルフエニルメチル、フエニルチオメ
チル、ジメチルアミノメチル、キノリン―１―オ
キサイド―２―メチル、ピリジン―１―オキサイ
ド―２―イル―メチル、ビス（ｐ―メトキシフエ
ニル）メチルなどの基が；水またはアルコールで
処理すれば脱離する性質を有する有機シリル基、
有機リン基または有機スズ基、たとえば、
（CH3）3Si―，（CH3）2Si，【式】 【式】（C2H5O）2P―，（C2H5）2P―， （C4H9）3Sn―などの基が；更に特開昭46―7073号
およびオランダ国公開公報7105259号に記載され
ているものが挙げられる。 また、R4CO―はアシル基を意味し、そのR4と
しては、たとえば、メチル、エチル、ｎ―プロピ
ル、iso―プロピル、ｎ―ブチル、iso―ブチル、
sec.―ブチル、tert.ブチル、ペンチル、ヘキシ
ル、ヘプチル、オクチル、ドデシルなどの直鎖お
よび分枝鎖アルキル基；ビニル、アリルなどのア
ルケニル基；１，３―ブタジエニル、１，３―ペ
ンダジエニルなどのアルカジエニル基；シクロプ
ロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロ
ヘキシル、シクロヘプチルなどのシクロアルキル
基；シクロペンテニル、シクロヘキセニルなどの
シクロアルケニル基；シクロペンタジエニル、シ
クロヘキサジエニルなどのシクロアルカジエニル
基；フエニル；ナフチルなどのアリール基；ベン
ジル、フエネチル、４―メチルベンジル、ナフチ
ルメチルなどのアルアルキル基；フリル、チエニ
ル、ベンゾフリル、ベンゾチエニル、クマリニ
ル、トリアゾリル、テトラゾリル、ピリドン―１
―イルなどの酸素、窒素および硫黄から選択され
た少なくとも１個の複素原子を含む複素環式基、
チエニルメチル、フリルメチルなどの複素環アル
キル基などが挙げられる。これらのR4の基は、
たとえば、ハロゲン原子、アルキル基ニトロ基、
ヒドロキシル基、アルコキシ基、オキソ基、チオ
キソ基、アルキルチオ基、アシルアミノ基、アシ
ル基、アシルオキシ基、アリールオキシ基、カル
ボキシル基、カルバモイル基、ヒドロキシアルキ
ル基、アルコキシアルキル基、カルボキシアルキ
ル基、アルコキシカルボニル基、アミノ基、アル
キルアミノ基、アミノアルキル基、Ｎ―アルキル
アミノアルキル基、スルホアルキル基、スルホ
基、スルフアモイル基、カルバモイルアルキル
基、アリール基またはフリル、チエニルなどの複
素環式基などの一種以上の置換基で置換されてい
てもよい。ここに於いて置換基としてヒドロキシ
ル基、アミノ基、カルボキシル基などを有すると
き、それらは通常知られているヒドロキシル保護
基、アミノ保護基、カルボキシル保護基などでそ
れぞれ保護されていてもよい。ヒドロキシル保護
基としては、たとえば、ベンジルオキシカルボニ
ル、４―ニトロベンジルオキシカルボニル、４―
ブロモベンジルオキシカルボニル、４―メトキシ
ベンジルオキシカルボニル、３，４―ジメトキシ
ベンジルオキシカルボニル、４―（フエニルア
ゾ）ベンジルオキシカルボニル、４―（４―メト
キシフエニルアゾ）ベンジルオキシカルボニル、
tert.―ブトキシカルボニル、１，１―ジメチルプ
ロボキシカルボニル、イソプロポキシカルボニ
ル、ジフエニルメトキシカルボニル、２，２，２
―トリクロロエトキシカルボニル、２，２，２―
トリブロモエトキシカルボニル、２―フルフリル
オキシカルボニル、１―アダマンチルオキシカル
ボニル、１―シクロプロピルエトキシカルボニ
ル、３―キノリルオキシカルボニルまたはトリフ
ルオロアセチルなどの脱離しやすいアシル基およ
びベンジル、トリチル、メトキシメチル、２―ニ
トロフエニルチオ、２，４―ジニトロフエニルチ
オ基などが挙げられる。 また、アミノ基の保護基としては、たとえばト
リクロロエトキシカルボニル、トリブロモエトキ
シカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、ｐ―
トルエンスルホニル、ｐ―ニトロベンジルオキシ
カルボニル、ｏ―ブロモベンジルオキシカルボニ
ル、ｏ―ニトロフエニルスルフエニル、クロロア
セチル、トリフルオロアセチル、ホルミル、tert.
―ブトキシカルボニル、ｐ―メトキシベンジルオ
キシカルボニル、３，４―ジメトキシベンジルオ
キシカルボニル、４―（フエニルアゾ）ベンジル
オキシカルボニル、４―（４―メトキシフエニル
アゾ）ベンジルオキシカルボニル、ピリジン―１
―オキサイド―２―イル―メトキシカルボニル、
２―フリルオキシカルボニル、ジフエニルメトキ
シカルボニル、１，１―ジメチルプロポキシカル
ボニル、イソプロポキシカルボニル、１―シクロ
プロピルエトキシカルボニル、フタロイル、サク
シニル、１―アダマンチルオキシカルボニル、８
―キノリルオキシカルボニルなどのアシル基が挙
げられ、更に、トリチル、２―ニトロフエニルチ
オ、２，４―ジニトロフエニルチオ、２―ヒドロ
キシベンジリデン、２―ヒドロキシ―５―クロロ
ベンジリデン、２―ヒドロキシ―１―ナフチルメ
チレン、３―ヒドロキシ―４―ピリジルメチレ
ン、１―メトキシカルボニル―２―プロピリデ
ン、１―エトキシカルボニル―２―プロピリデ
ン、３―エトキシカルボニル―２―ブチリデン、
１―アセチル―２―プロピリデン、１―ベンゾイ
ル―２―プロピリデン、１―〔Ｎ―（２―メトキ
シフエニル）カルバモイル〕―２―プロピリデ
ン、１―〔Ｎ―（４―メトキシフエニル）カルバ
モイル〕―２―プロピリデン、２―エトキシカル
ボニルシクロヘキシリデン、２―エトキシカルボ
ニルシクロペンチリテン、２―アセチルシクロヘ
キシリデン、３，３―ジメチル―５―オキソシク
ロヘキシリデンなどの脱離しやすい基または、ジ
―もしくはトリ―アルキルシリルなどのアミノ基
の保護基が挙げられる。更に、カルボキシル基の
保護基としては、たとえば、前述したR3のカル
ボキシル保護形成基と同様のものが挙げられる。 また、一般式〔〕で表わされる化合物の塩と
しては、アミノ基における塩と、カルボキシル基
における塩とがあるが、いずれの場合も、ペニシ
リンおよびセフアロスポリン分野で通常知られて
いる塩を挙げることができ、アミノ基における塩
としては、たとえば、塩酸または硫酸などの鉱酸
との塩；シユウ酸、ギ酸、トリクロロ酢酸または
トリフルオロ酢酸などの有機カルボン酸との塩；
メタンスルホン酸、ｐ―トルエンスルホン酸また
はナフタレンスルホン酸などのスルホン塩との塩
を、また、カルボキシル基に於ける塩としては、
たとえば、ナトリウムまたはカリウムなどのアル
カリ金属との塩；カルシウムまたはマグネシウム
などのアルカリ土類金属との塩；アンモニウム
塩；プロカイン、ジベンジルアミン、Ｎ―ベンジ
ル―β―フエネチルアミン、１―エフエナミン、
Ｎ，Ｎ―ジベンジルエチレンジアミンなどの含窒
素有機塩基との塩またはトリエチルアミン、トリ
メチルアミン、トリブチルアミン、ピリジン、ジ
メチルアニリン、Ｎ―メチルピペリジン、Ｎ―メ
チルモルホリン、ジエチルアミン、ジシクロヘキ
シルアミンなどの他の含窒素有機塩基との塩を挙
げることができる。 次に、本発明の目的化合物の製造方法について
説明する。すなわち、本発明の製造方法は、 一般式 「式中、R1は水素原子を；R2はアミノ基を；
R3は水素原子またはカルボキシル保護形成基
を；Ｘは置換されていてもよいアシルオキシ基を
示す。」 で表わされる７―アミノ―３―置換メチルセフエ
ムカルボン酸類またはその塩に、有機溶媒中、プ
ロトン酸、ルイス酸または酸の錯化合物の存在
下、 一般式 R4CN 「式中、R4は前述のR4CO―で表わされるアシ
ル基からカルボニル基を除いた残基である。」 で表わされる化合物を反応させ、さらに水を作用
させることを特徴とする一般式〔〕で表わされ
る７―アミノ―３―置換メチルセフエムカルボン
酸類またはその塩の製造法に関する。 一般式〔〕におけるＸのアシルオキシ基とし
ては、たとえば、アセトキシ、プロピオニルオキ
シ、ブチリルオキシなどのアルカノイルオキシ
基；アクリロイルオキシなどのアルケノイルオキ
シ基；ベンゾイルオキシ、ナフトイルオキシなど
のアロイルオキシ基；フエニルアセトキシ、フエ
ニルプロピオニルオキシなどのアルアルカノイル
オキシ基などが挙げられ、これらの基は、ハロゲ
ン原子、ニトロ基、アルキル基、アルコキシ基、
アルキルチオ基、アシルオキシ基、アシルアミノ
基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、スルフア
モイル基、カルバモイル基、カルボアルコキシカ
ルバモイル基、アロイルカルバモイル基、カルボ
アルコキシスルフアモイル基、アリール基、カル
バモイルオキシ基などの１つ以上の基で置換され
ていてもよい。 本発明方法で使用されるプロトン酸としては、
たとえば硫酸類または超強酸類（超強酸とは100
％硫酸より強い酸を意味する）が挙げられ、硫酸
類としては、硫酸、クロル硫酸またはフルオロ硫
酸などが、超強酸類としては、過塩素酸、マジツ
ク酸（FSO3H―SbF5），FSO3H―AsF5，
CF3SO3H―SbF5，HF―BF3，H2SO4―SO3など
が挙げられる。好ましいプロトン酸としては、た
とえば、硫酸が挙げられる。 また、ルイス酸としては、たとえば、三弗化硼
素などが挙げられ、ルスイ酸の錯化合物として
は、たとえば、上記したルイス酸とジエチルエー
テル、ジ―ｎ―プロピルエーテル、ジ―ｎ―ブチ
ルエーテルなどとのジアルキルエーテル錯塩；蟻
酸エチル、酢酸エチルなどのカルボン酸エステル
錯塩；酢酸、プロピオン酸などとの脂肪酸錯塩；
またはアセトニトリル、プロピオニルトリルなど
のニトリル類とのニトリル錯塩などが挙げられ
る。 また、一般式〔）の塩としては、一般式
〔〕の塩で説明した塩が挙げられる。 次に、本発明方法の実施態様を説明する。 本発明方法を実施するには、まず一般式〔〕
で表わされる化合物またはその塩に、有機溶媒
中、プロトン酸、ルイス酸またはルイス酸の錯化
合物の存在下、一般式〔〕で表わされる化合物
を反応させる。 この反応に使用することのできる有機溶媒とし
ては、反応に悪影響を与えない有機溶媒または一
般式〔〕で表わされる化合物自体を挙げること
ができ、たとえば、ニトロメタン、ニトロエタ
ン、ニトロプロパンなどのニトロアルカン類；ギ
酸、酢酸、プロピオン酸、トリフルオロ酢酸など
の有機カルボン酸類；アセトン、メチルエチルケ
トン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類；
ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジ
オキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコ
ールジメチルエーテル、アニソールなどのエーテ
ル類；アセトニトリル、プロピオニトリル、ベン
ジルアニドなどのニトリル類；酢酸エチル、酢酸
メチルなどのエステル類；スルホランなどのスル
ホラン類または、これら溶媒を二種以上混合した
ものを挙げることができる。 プロトン酸、ルイス酸またはルイス酸の錯化合
物の使用量は、一般式〔〕で表わされる化合物
またはその塩に対し、当モル以上であればよく、
個々の場合に応じ適宜増減することができる。特
に、２〜10倍モル量の使用が好ましい。ルイス酸
の錯化合物を用いる場合には、これ自体を溶媒と
して用いることができ、二種以上の錯化合物を混
合して用いてもよい。 また、一般式〔〕で表わされる化合物の使用
量は、一般式〔〕で表わされる化合物またはそ
の塩に対し当モル以上であればよいが、特に、
1.0〜1.5倍モル量の使用が好ましい。 本反応は、通常０℃〜80℃の温度にて行なわ
れ、数分〜数十時間で完結する。この反応の系内
に水分があると原料または生成物のラクトン化お
よびβ―ラクタム環の開裂等好ましくない副反応
を惹起する恐れがあるので、反応系内を無水の状
態に保つことが望ましい。 この要望を満たすために、反応系内に適当な脱
水剤、たとえば、五酸化リン、ポリリン酸、五塩
化リン、三塩化リン、オキシ塩化リンなどのリン
化合物；Ｎ，Ｏ―ビス（トリメチルシリル）アセ
トアミド、トリメチルシリルアセトアミド、トリ
メチルクロロシラン、ジメチルジクロロシランな
どの有機シリル化剤；アセチルクロリド、ｐ―ト
ルエンスルホニルクロリド等の有機酸クロリド；
無水酢酸、無水トリフルオロ酢酸などの酸無水
物；無水硫酸マグネシウム、無水塩化カルシウ
ム、モレキユラーシーブ、カルシウムカーバイド
などの無機乾燥剤などを添加してもよい。 上記反応終了後、ついで水または水を有機溶媒
との混合溶媒を作用させることによつて目的化合
物を得ることができる。便法として反応系内に空
気中の湿気を導入することによつて目的化合物を
生成させてもよい。 このようにして得られる［］式の化合物の
R3のカルボキシル保護形成基は、一般に反応後、
加水分解もしくは常法によつて処理すれば、カル
ボキシル基の保護基を脱離することができ、カル
ボキシル基に変換できる。また〔〕式の化合物
のカルボキシル保護形成基の種類によつては、反
応処理方法により保護基が脱離し、R3が水素原
子に変換された〔〕式の化合物を得ることがで
きる。 R4の置換基であるヒドロキシル基、アミノ基、
カルボキシル基等が保護されている場合、常法に
より保護基脱離反応に付すことにより、所望の置
換基とすることができる。 この反応は、R3のカルボキシル保護形成基の
脱離反応とともに行うこともできる。またこの脱
離反応は、生成物を単離することなく続けて行う
こともできる。 以上の如くして得られる本発明の△3―セフエ
ム化合物は有用な薬理作用を有する公知のあるい
は新規な△3―セフアロスポリン類の直接の中間
体として利用される点において好ましいものであ
り、またその△3―セフエム化合物を［］式の
△3―セフエム化合物またはその塩から直接合成
する本発明方法はすぐれた方法である。 次に、本発明を実施例により説明するが、これ
らは本発明を限定するものではない。 実施例 １ (i) ７―アミノセフアロスポラン酸2.72ｇを無水
アセトニトリル15ml中に懸濁し、これに三弗化
硼素・ジエチルエーテル錯塩5.68ｇを加えて溶
解させた後、室温で５時間反応させる。反応終
了後、減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物
を含水アセトン（水を50％容量含む）20mlに溶
解させ、氷令下28％アンモニア水を用いてPH
3.5に調整する。析出晶を取し、含水アセト
ン（水を50％容量含む）５mlおよびアセトン５
mlで順次洗浄した後、乾燥すれば、融点155℃
（分解）を示す７―アミノ―３―アセチルアミ
ノメチル―△3―セフエム―４―カルボン酸
2.14ｇ（収率79％）を得る。 IR（KBr）cm-1：νC＝Ｏ 1795，1640，1610，
1520 NMR（CF3COOD）ppm値； 2.37（3H；ｓ；―CH3）， 3.82（2H；ｓ；【式】）， 4.60（2H；ｓ；【式】）， 5.41（2H；bs；C6―Ｈ，C7―Ｈ） (ii) (i)で得られた７―アミノ―３―アセチルアミ
ノメチル―△3―セフエム―４―カルボン酸
2.71ｇをメタノール30ml中に懸濁させ、これに
ｐ―トルエンスルホン酸１水和物1.90ｇを加え
て溶解させる。次いで室温下ジフエニルジアゾ
メタン４ｇを徐々に加え、同温度で30分間反応
させる。反応終了後、減圧下に溶媒を留去し、
残留物を水20mlおよび酢酸エチル20mlから成る
混合溶媒に溶解させた後、炭酸水素ナトリウム
を用いてPH7.0に調整する。析出晶を取し、
水で十分洗浄し、乾燥すれば、融点190〜194℃
（分解）を示す７―アミノ―３―アセチルアミ
ノメチル―△3―セフエム―４―カルボン酸ベ
ンズヒドリルエステル2.84ｇ（収率65％）を得
る。 IR（KBr）cm-1：νC＝Ｏ 1758，1720，1647 NMR（CDCl3）ppm値； 1.87（3H；ｓ；―CH3）， 3.59（2H；ｓ；【式】）， 3.65，4.27（2H；ABq；Ｊ＝14cps；
【式】）， 4.71（1H；ｄ，Ｊ＝5cps；C6―Ｈ）， 4.89（1H；ｄ，Ｊ＝5cps；C7―Ｈ）， 6.12（1H；bs；―NHCO―）， 6.90（1H；ｓ；―COOCH）， 7.36（10H；ｓ；【式】） 実施例 ２ ７―アミノセフアロスポラン酸2.72ｇをトリフ
ルオロ酢酸19ml中に溶解させ、これに三弗化硼
素・ジエチルエーテル錯塩5.68ｇとブチロニトリ
ル0.97ｇを加えた後、室温で４時間反応させる。
反応終了後、減圧下に溶媒を留去し、得られた残
留物を含水アセトン（水を70％容量含む）20mlに
溶解させ、氷冷下28％アンモニア水を用いてPH
3.5に調整する。析出晶を取し、含水アセトン
（水を70％容量含む）５mlおよびアセトン10mlで
順次洗浄した後乾燥すれば、融点168〜170℃（分
解）を示す７―アミノ―３―ブチリルアミノメチ
ル―△3―セフエム―４―カルボン酸2.27ｇ（収
率76％）を得る。 IR（KBr）cm-1：νC＝Ｏ 1795，1635，1610，
1520 NMR（CF3COOD）ppm値； 1.05（3H；ｔ，Ｊ＝7cps；―CH2CH2 CH3 ）， 1.44〜2.21（2H；ｍ；―CH2 CH2 CH3）， 2.58（2H；ｔ；Ｊ＝7cps；―CH2 CH2CH3）， 3.78（2H：ｓ；【式】）， 4.55（2H；ｓ；【式】）， 5.36（2H；ｓ；C6―Ｈ，C7―Ｈ） 同様にして次の化合物を得た。 Γ ７―アミノ―３―（２―メチルブチリル）ア
ミノメチル―△3―セフエム―４―カルボン酸 融点 170〜172℃（分解） IR（KBr）cm-1：νC＝Ｏ 1795，1635，1620，
1520 NMR（CF3COOD）ppm値； 1.00（3H；ｔ，Ｊ＝cps；CHCH2 CH3 ）， 1.31（3H；ｄ，Ｊ＝7cps；CHCH3 ）， 1.40〜2.09（2H；ｍ；CHCH2 CH3）， 2.22〜2.95（1H；ｍ；CHCH2CH3）， 3.78（2H；ｓ；【式】）， 4.56（2H；ｓ；【式】）， 5.83（2H；ｓ；C6―Ｈ，C7―Ｈ） Γ ７―アミノ―３―（３―エトキシプロピオニ
ル）アミノメチル―△3―セフエム―４―カル
ボン酸 融点 173〜175℃（分解） IR（KBr）cm-1：νC＝Ｏ 1800，1640，1610，
1530 NMR（CF3COOD）ppm値； 1.33（3H；ｔ，Ｊ＝7cps；―OCH2 CH3 ）， 2.87（2H；ｔ，Ｊ＝7cps；―COCH2 CH2O
―）， 3.60〜4.21（6H；ｍ；―COCH2 CH2 Ｏ―，―
ＯCH2 CH3，【式】）， 4.56（2H；bs；【式】）， 5.33（2H；ｓ；C6―Ｈ，C7―Ｈ） 実施例 ３ ７―アミノセフアロスポラン酸2.72ｇをトリフ
ルオロ酢酸19ml中に溶解させ、これに三弗化硼
素・ジエチルエーテル錯塩5.68ｇとアクリロニト
リル0.74ｇを加えた後、室温で４時間反応させ
る。反応終了後、減圧下に溶媒を留去し、得られ
た残留物を水20mlに溶解させ、氷冷下28％アンモ
ニア水を用いてPH3.5に調整する。析出晶を取
し、水５mlおよびアセトン５mlで順次洗浄した後
乾燥すれば、融点165〜167℃（分解）を示す７―
アミノ―３―アクリロイルアミノメチル―△3―
セフエム―４―カルボン酸2.04ｇ（収率72％）を
得る。 IR（KBr）cm-1；νC＝Ｏ 1800，1650，1615，
1525 NMR（CF3COOD）ppm値； 3.77（2H；ｓ；【式】）， 4.68（2H；ｓ；【式】）， 5.34（2H；ｓ；C6―Ｈ，C7―Ｈ）， 5.63〜6.48（3H；ｍ；―CH＝CH2） 実施例 ４ ７―アミノセフアロスポラン酸2.72ｇをトリフ
ルオロ酢酸19ml中に溶解させ、これに三弗化硼
素・ジエチルエーテル錯塩5.68ｇとシアノ酢酸
1.19ｇを加えた後、室温で４時間反応させる。反
応終了後、減圧下に溶媒を留去し、得られた残留
物を水20mlに溶解させ、氷冷下28％アンモニア水
を用いてPH3.5に調整する。析出晶を取し、水
５mlおよびアセトン５mlで順次洗浄した後乾燥す
れば、融点192〜195℃（分解）を示す７―アミノ
―３―カルボキシアセチルアミノメチル―△3―
セフエム―４―カルボン酸1.36ｇ（収率43％）を
得る。 IR（KBr）cm-1；νC＝Ｏ 1755，1675，1620，
1580 NMR（CF3COOD）ppm値； 3.72（2H；ｓ；―COCH2 COOH）， 3.83（2H；ｓ；【式】）， 4.53（2H；bs；【式】）， 5.40（2H；ｓ；C6―Ｈ，C7―Ｈ） 実施例 ５ ７―アミノセフアロスポラン酸2.72ｇをトリフ
ルオロ酢酸19ml中に溶解させ、これに三弗化硼
素・ジエチルエーテル錯塩5.68ｇとベンジルシア
ナイド1.64ｇを加えた後、室温で４時間反応させ
る。反応終了後、減圧下に溶媒を留去し、得られ
た残留物を水20mlに溶解させ、氷冷下28％アンモ
ニア水を用いてPH3.5に調整する。析出晶を取
し、水５mlおよびアセトン５mlで順次洗浄した後
乾燥すれば、融点185〜190℃（分解）を示す７―
アミノ―３―フエニルアセチルアミノメチル―△
３―セフエム―４―カルボン酸2.45ｇ（収率71％）
を得る。 IR（KBr）cm-1；νC＝Ｏ 1795，1635，1620，
1520 NMR（CF3COOD）ppm値； 3.70（2H，ｓ；【式】）， 3.82（2H；ｓ；【式】）， 4.50（2H；bs；【式】）， 5.31（2H；ｓ；C6―Ｈ，C7―Ｈ）， 7.31（5H；ｓ；【式】）， 同様にして次の化合物を得た。 Γ ７―アミノ―３―エトキシカルボニルアセチ
ルアミノエチル―△3―セフエム―４―カルボ
ン酸 融点 185〜190℃（分解） IR（KBr）cm-1；νC＝Ｏ 1785，1730，1610，
1530 NMR（CF3COOD）ppm値； 1.36（3H；ｔ，Ｊ＝7cps；―CH2 CH3 ）， 3.80（2H；ｓ；【式】）， 4.31（2H；ｑ，Ｊ＝7cps；―CH2 CH3）， 4.54（2H；bs；【式】）， 5.32（2H；ｓ；C6―Ｈ，C7―Ｈ） Γ ７―アミノ―３―クロロアセチルアミノメチ
ル―△3―セフエム―４―カルボン酸 融点 185〜190℃（分解） IR（KBr）cm-1；νC＝Ｏ 1790，1650，1610，
1520 NMR（CF3COOD）ppm値； 3.80（2H；ｓ；【式】）， 4.20（2H；ｓ；―COCH2 Cl）， 4.58（2H；bs；【式】）， 5.33（2H，bs；C6―Ｈ，C7―Ｈ） 実施例 ６ (i) ７―アミノセフアロスポラン酸2.72ｇをトリ
フルオロ酢酸19ml中に溶解させ、これに三弗化
硼素・ジエチルエーテル錯塩5.68ｇと２―シア
ノフラン1.03ｇを加えた後、室温で４時間反応
させる。反応終了後、減圧下に溶媒を留去し、
得られた残留物を水20mlに溶解させ、氷冷下28
％アンモニア水を用いてPH3.5に調整する。析
出晶を取し、水５mlおよびアセトン５mlで順
次洗浄した後乾燥すれば、融点200〜204℃（分
解）を示す７―アミノ―３―（２―フロイル）
アミノメチル―△3―セフエム―４―カルボン
酸2.45ｇ（収率73％）を得る。 IR（KBr）cm-1；νC＝Ｏ 1780，1630，1590，
1510 NMR（CF3COOD）ppm値； 3.87（2H；bs；【式】）， 4.75（2H；bs；【式】）， 5.42（2H；bs；C6―Ｈ，C7―Ｈ）， 6.42〜7.80（3H，ｍ；【式】） 同様にして次の化合物を得た。 Γ ７―アミノ―３―ベンゾイルアミノメチル―
△3―セフエム―４―カルボン酸 融点 212〜214℃（分解） IR（KBr）cm-1；νC＝Ｏ 1793，1630，1610，
1520 NMR（CF3COOD）ppm値； 3.80（2H；ｓ；【式】）， 4.64（2H；ｓ；【式】）， 5.25（2H；bs；C6―Ｈ，C7―Ｈ）， 7.05〜8.05（5H；ｍ；【式】） Γ ７―アミノ―３―（２―テノイル）アミノメ
チル―△3―セフエム―４―カルボン酸 融点 189〜190℃（分解） IR（KBr）cm-1；νC＝Ｏ 1795，1620，1530 NMR（CF3COOD）ppm値； 3.91（2H；bs；【式】）， 4.76（2H；bs；【式】）， 5.42（2H；bs；C6―Ｈ，C7―Ｈ）， 7.12〜7.75（3H，ｍ；【式】） (ii) (i)で得られた７―アミノ―３―（２―フロイ
ル）アミノメチル―△3―セフエム―４―カル
ボン酸3.23ｇをメタノール30ml中に懸濁し、こ
れにｐ―トルエンスルホン酸１水和物1.90ｇを
加えて溶解させる。次いで室温下、ジフエニル
ジアゾメタン3.90ｇを除々に加え、同温度で30
分間反応させる。 反応終了後、減圧下に溶媒を留去し、残留物
を水20mlおよび酢酸エチル20mlから成る混合溶
媒に溶解させ、炭酸水素ナトリウムを用いてPH
7.0に調整する。ついで酢酸エチル層を分取し、
水15mlで２回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥した後、減圧下に溶媒を留去する。得られ
た残留物にジエチルエーテルを加え固化させ、
取すれば、融点167〜169℃（分解）を示す７
―アミノ―３―（２―フロイル）アミノメチル
―△3―セフエム―４―カルボン酸ベンズヒド
リルエステル3.8ｇ（77.7％）を得る。 IR（KBr）cm-1；νC＝Ｏ 1755，1718，1642 NMR（CDCl3）ppm値； 1.79（2H；bs；―NH2）， 3.62（2H；ｓ；【式】）， 3.75〜4.69（2H；ｍ；【式】）， 4.72（1H：ｄ，Ｊ＝5cps；C6―Ｈ）， 4.68（1H；ｄ，Ｊ＝5cps；C7―Ｈ）， ６，30〜7.08（3H；ｍ；【式】）， 6.90（1H；ｓ；―COOCH）， 7.08〜7.58（10H；ｍ；
【式】） 同様に次の化合物を得た。 Γ ７―アミノ―３―（２―テノイル）アミノメ
チル―△3―セフエム―４―カルボン酸ベンズ
ヒドリルエステル 融点 192〜195℃（分解） IR（KBr）cm-1；νC＝Ｏ 1755，1720，1625 NMR（d6―DMSO）ppm値； 3.53（2H；ｓ；【式】）， 3.80〜4.70（2H；ｍ；【式】）， 4.78（1H；ｄ，Ｊ＝5cps；C6―Ｈ）， 4.97（1H；ｄ，Ｊ＝5cps：C7―Ｈ）， 6.90（1H；ｓ；―COOCH）， 6.95〜7.90（13H；ｍ；【式】 【式】）， 8.64（1H；ｔ，Ｊ＝6cps；―NHCO―） (iii) (ii)で得られた７―アミノ―３―ベンゾイルア
ミノメチル―△3―セフエム―４―カルボン酸
3.33ｇをメタノール35ml中に懸濁させ、これに
ｐ―トルエンスルホン酸１水和物1.90ｇを加え
て溶解させる。次いで、室温下ジフエニルジア
ゾメタン４ｇを徐々に加え、同温度で30分間反
応させる。反応終了後、減圧下に溶媒を留去
し、得られた残留物を水25mlおよび酢酸エチル
25mlからなる混合溶媒に溶解させ、炭酸水素ナ
トリウムを用いてPH7.0に調整する。析出晶を
取し、水で十分洗浄した後乾燥すれば、融点
218〜220℃（分解）を示す７―アミノ―３―ベ
ンゾイルアミノメチル―△3―セフエム―４―
カルボン酸ベンズヒドリルエステル3.08ｇ（収
率62％）を得る。 IR（KBr）cm-1；νC＝Ｏ 1755，1720，1638 NMR（d6―DMSO）ppm値； 2.21（2H；bs；―NH2）， 3.58（2H；bs；【式】）， 3.86〜4.72（2H；ｍ；【式】）， 4.85（1H；ｄ，Ｊ＝5cps；C6―Ｈ）， 5.05（1H；ｄ，Ｊ＝5cps；C7―Ｈ）， 6.96（1H；ｓ；―COOCH）， 7.10〜8.12（15H；ｍ；【式】 8.56（1H；ｔ，Ｊ＝6cps；NH） 実施例 ７ ７―アミノセフアロスポラン酸2.72ｇをトリフ
ルオロ酢酸19ml中に溶解させ、これに三弗化硼
素・ジエチルエーテル錯塩5.68ｇとｐ―トルニト
リル1.64ｇを加えた後、室温で４時間反応させ
る。反応終了後、減圧下に溶媒を留去し、得られ
た残留物を水20mlに溶解させ、氷冷下28％アンモ
ニア水を用いてPH3.5に調整する。析出晶を取
し、水５mlおよびアセトン５mlで順次洗浄した後
乾燥すれば、融点173〜178℃（分解）を示す７―
アミノ―３―（ｐ―トルオイル）アミノメチル―
△3―セフエム―４―カルボン酸2.12ｇ（収率61
％）を得る。 IR（KBr）cm-1；νC＝Ｏ 1790，1630，1615，
1530 NMR（CF3COOD）ppm値； 2.60（3H；ｓ；―CH3）， 4.01（2H；ｓ；【式】）， 4.88（2H；bs；【式】）， 5.50（2H；ｓ；C6―Ｈ，C7―Ｈ）， 7.45，7.80（4H；ABq，Ｊ＝8cps；
【式】） 同様にして次の化合物を得た。 Γ ７―アミノ―３―（ｐ―アニソイル）アミノ
メチル―△3―セフエム―４―カルボン酸 融点 188〜193℃（分解） IR（KBr）cm-1；νC＝Ｏ 1790，1620，1595，
1530 NMR（CF3COOD）ppm値； 3.82（2H；ｓ；【式】）， 3.97（3H；ｓ；―OCH3）， 4.71（1H；bs；【式】）， 5.38（2H；Ｓ；C6―Ｈ，C7―Ｈ）， 7.02，8.81（4H；ABq，Ｊ＝6cps；
【式】） Γ ７―アミノ―３―（ｐ―ヒドロキシベンゾイ
ル）アミノメチル―△3―セフエム―４―カル
ボン酸 融点 182〜184℃（分解） IR（KBr）cm-1；νC＝Ｏ 1795，1625，1600，
1530 NMR（CF3COOD）ppm値； 3.88（2H；ｓ；【式】）， 4.72（2H；bs；【式】）， ５，37（2H；ｓ；C6―Ｈ，C7―Ｈ）， 7.02，7.75（4H；ABq，Ｊ＝8cps；
【式】） Γ ７―アミノ―３―（ｐ―カルボキシベンゾイ
ル）アミノメチル―△3―セフエム―４―カル
ボン酸 融点 178〜183℃（分解） IR（KBr）cm-1；νC＝Ｏ 1800，1700，1630，
1530 NMR（CF3COOD）ppm値； 3.88（2H；ｓ；【式】）， 4.75（2H；ｓ；【式】）， 5.39（2H；ｓ；C6―Ｈ，C7―Ｈ）， 7.89，8.26（4H；ABq，Ｊ＝8cps；
【式】） Γ ７―アミノ―３―〔２―（５―メチルフロイ
ル）〕アミノメチル―△3―セフエム―４―カル
ボン酸 融点 188〜190℃（分解） IR（KBr）cm-1；νO＝Ｏ 1780，1630，1600，
1530 NMR（CF3COOD）ppm値； 2.40（3H；ｓ；―CH3）， 3.82（2H；bs；【式】）， 4.52，4.87（2H；ABq，Ｊ＝14cps；
【式】）， 5.38（2H；bs；C6―Ｈ，C7―Ｈ）， ６，23（1H；ｄ，Ｊ＝4cps；
【式】）， 7.21（1H；ｄ，Ｊ＝4cps；
【式】） Γ ７―アミノ―３―〔２―（３―メチルテノイ
ル）〕アミノメチル―△3―セフエム―４―カル
ボン酸 融点 175〜178℃（分解） IR（KBr）cm-1；νC＝Ｏ 1790，1630，1610，
1530 NMR（CF3COOD）ppm値； 2.54（3H；ｓ；―CH3）， 3.85（2H；bs；【式】）， 4.67（2H；ｓ；【式】）， 5.36（2H；bs；C6―Ｈ，C7―Ｈ）， 6.94（1H；ｄ，Ｊ＝6cps；
【式】）， 7.44（1H；ｄ，Ｊ＝6cps；
【式】） Γ ７―アミノ―３―〔４―（２―メチル―５―
フエニル―１，２，３―トリアゾイル）〕アミ
ノメチル―△3―セフエム―４―カルボン酸 融点 193〜195℃（分解） IR（KBr）cm-1；νC＝Ｏ 1790，1660，1610，
1530 3.90（2H；ｓ；【式】）， 4.40（3H；ｓ；―CH3）， 4.70（2H：ｓ；【式】）， 5.35（2H；ｓ；C6―Ｈ，C7―Ｈ）， 7.3〜8.0（5H；ｍ；【式】） Γ ７―アミノ―３―（３―クマリノイル）アミ
ノメチル―△3―セフエム―４―カルボン酸 融点 197〜199℃（分解） IR（KBr）cm-1；νC＝Ｏ 1790，1710，1640，
1600，1530 NMR（CF3COOD）ppm値； 3.90（2H；ｓ；【式】）， 4.70（2H；ｓ；【式】）， 5.35（2H；ｓ；C6―Ｈ，C7―Ｈ）， 7.6〜8.3（4H；ｍ；【式】）， 9.00（1H；ｓ；【式】） Γ ７―アミノ―３―〔３―（４―メチル―クマ
リノイル）〕アミノメチル―△3―セフエム―４
―カルボン酸 融点 210〜212℃（分解） IR（KBr）cm-1；νC＝Ｏ 1790，1710，1640，
1600，1530 NMR（CF3COOD）ppm値； 2.50（3H；ｓ；―CH3）， 3.90（2H；ｓ；【式】）， 4.70（2H；ｓ；【式】）， 5.35（2H；ｓ；C6―Ｈ，C7―Ｈ）， 7.6〜8.3（4H；ｍ；【式】） 実施例 ８ ７―アミノセフアロスポラン酸2.72ｇをアセト
ニトリル20ml中に懸濁し、これに氷冷下濃硫酸
9.0ｇを加えて溶解させた後、室温で６時間反応
させる。反応終了後、減圧下に溶媒を留去し、得
られた残留物を水15mlに溶解させ、氷冷下28％ア
ンモニア水を用いてPH3.5に調整する。析出物を
去し、得られた液にアセトン15mlを加えた後
析出する結晶を取し、含水アセトン（水を50％
容量含む）５mlおよびアセトン５mlで順次洗浄し
た後乾燥すれば、融点155℃（分解）を示す７―
アミノ―３―アセチルアミノメチル―△3―セフ
エム―４―カルボン酸1.95ｇ（収率72％）を得
る。 尚、この化合物の物性（IRおよびNMR）は、
実施例1.―(i)で得られたものと一致した。 実施例 ９ エチル＝７―アミノセフアロスポラネートのｐ
―トルエンスルホン酸塩4.72ｇをアセトニトリル
40mlに溶解させ、これに三弗化硼素・ジエチルエ
ーテル錯塩7.1ｇを加え室温下12時間反応させる。
反応終了後、減圧下に溶媒を留去し、得られた残
留物に酢酸メチル30mlおよび水20mlを加えて溶解
させる。ついで、これに氷冷下炭酸水素ナトリウ
ムを加えてPH7.0に調整したのち有機層を分取す
る。水層はさらに酢酸エチル20mlで２回抽出し、
有機層をあわせて無水硫酸マグネシウムで乾燥す
る。減圧下に溶媒を留去し得られた残留物にジエ
チルエーテルを加え結晶化させ、これを取すれ
ば融点53〜60℃（分解）を示すエチル＝７―アミ
ノ―３―アセチルアミノメチル―△3―セフエム
―４―カルボキシラート1.55ｇ（収率51.8％）を
得る。 IR（KBr）cm-1；νC＝Ｏ 1760，1718，1645 NMR（CDCl3）ppm値； 1.35（3H；ｔ；Ｊ＝7cps；―COOCH2 CH3 ）， 2.03（3H；ｓ；―COCH3）， 2.46（2H；ｓ；―NH2）， 3.55（2H；ｓ；【式】）， 3.79，4.33（2H，ABq，Ｊ＝14cps；
【式】）， 4.31（2H；ｑ，Ｊ＝6cps；―COOCH2 CH3）， 4.76（1H；ｄ，Ｊ＝5cps；C6―Ｈ）， 4.92（1H；ｄ，Ｊ＝5cps；C7―Ｈ）， 6.79（1H；bs；NH） 実施例 10 (i) ｐ―ニトロベンジル＝７―アミノセフアロス
ポラネート4.07ｇをトリフルオロ酢酸30mlに溶
解させ、これに三弗化硼素・ジエチルエーテル
錯塩7.1ｇとアセトニトリル１ｇを加え室温下
４時間反応させる。反応終了後、減圧下に溶媒
を留去し得られた残留物に酢酸メチル30mlおよ
び水20mlを加えて溶解させる。ついでこれに氷
冷下炭酸水素ナトリウムを加えてPH7.0に調整
したのち有機層を分取する。水層はさらに酢酸
メチル20mlで２回抽出し、有機層をあわせて無
水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下に溶媒
を留去し残留物に酢酸エチル20mlを加えて溶解
させる。これにｐ―トルエンスルホン酸１水和
物1.7ｇを含む酢酸エチル20ml溶液を加える。
析出する結晶を、取すれば融点77〜82℃（分
解）を示すｐ―ニトロベンジル＝７―アミノ―
３―アセチルアミノメチル―△3―セフエム―
４―カルボキシラートのｐ―トルエンスルホン
酸塩3.53ｇ（収率61.1％）を得る。 IR（KBr）cm-1；νC＝Ｏ 1780，1722，1640 NMR（d6―DMSO）ppm値； 1.95（3H；ｓ；―COCH3）， 2.28（3H；ｓ；【式】）， 3.62（2H；bs；【式】）， 3.30〜4.11（2H；ｍ；【式】）， 5.20（2H；bs；C6―Ｈ，C7―Ｈ）， 7.08，7.51（4H；ABq，Ｊ＝8cps；
【式】）， 7.56，8.03（4H，ABq，Ｊ＝9cps：
【式】） (ii) ｐ―ニトロベンジル＝７―アミノ―３―アセ
チルアミノメチル―△3―セフエム―４―カル
ボキシラートのｐ―トルエンスルホン酸塩5.78
ｇをメタノール60ml、テトラハイドロフラン30
mlの混合溶媒に溶解させ、これに10％パラジウ
ム炭素5.2ｇを加え室温下水添を行なう。反応
終了後、反応液を過し液を減圧下に濃縮乾
固する。ついで得られた残留物に含水アセトン
（水を50％容量含む）20mlを加え氷冷下28％ア
ンモニア水でPH3.5に調整する。析出晶を取
し含水アセトン（水を50％容量含む）５mlおよ
びアセトン５mlで順次洗浄した後、乾燥すれ
ば、融点155℃（分解）を示す７―アミノ―３
―アセチルアミノメチル―△3―セフエム―４
―カルボン酸2.48ｇ（収率91.5％）を得る。 尚、この化合物の物性（IRおよびNMR）
は、実施例１―(i)で得られたものと一致した。 実施例 11 エチル＝７―アミノセフアロスポラネートのｐ
―トルエンスルホン酸塩4.72ｇをトリフルオロ酢
酸33mlに溶解させ、これに三弗化硼素・ジエチル
エーテル錯塩7.1ｇとベンゾニトリル1.54ｇを加
え、室温下、３時間反応させる。反応終了後、減
圧下に溶媒を留去し、得られた残留物に酢酸エチ
ル50mlおよび水20mlを加えて溶解させる。ついで
これに氷冷下、炭酸水素ナトリウムを加えてPH
7.0に調整したのち有機層を分取する。水層はさ
らに酢酸エチル20mlで抽出し、有機層を合わせて
無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下に溶媒
を留去し、得られた残留物にジエチルエーテルを
加え、結晶化させ、これを取すれば融点50〜58
℃（分解）を示すエチル＝７―アミノ―３―ベン
ゾイルアミノメチル―△3―セフエム―４―カル
ボキシラート2.36ｇ（収率65.4％）を得る。 IR（KBr）cm-1；νC＝Ｏ 1765，1715，1630 NMR（CDCl3―d6―DMSO）ppm値； 1.29（3H；ｔ，Ｊ＝7cps；―COOCH2 CH3 ）， 3.56（2H；ｓ；【式】）， 4.00〜4.44（6H；ｍ；【式】，―CH2CH3，―NH2）， 4.73（1H；ｄ，Ｊ＝5cps；C6―Ｈ）， 4.89（1H；ｄ，Ｊ＝5cps；C7―Ｈ）， 7.20〜7.93（5H；ｍ；【式】） 実施例 12 エチル＝７―アミノセフアロスポラネートのｐ
―トルエンスルホン酸塩4.72ｇをトリフルオロ酢
酸33mlに溶解させ、これに三弗化硼素・ジエチル
エーテル錯塩7.1ｇと２―シアノフラン1.40ｇを
加え、室温下３時間反応させる。反応終了後、減
圧下に溶媒を留去し、得られた残留物に酢酸エチ
ル50mlおよび水20mlを加えて溶解させる。 これに炭素水素ナトリウムを加えてPH7.0に調
整したのち、有機層を分取する。これを無水硫酸
マグネシウムにて乾燥し、減圧下に溶媒を留去
し、得られれた残留物にジエチルエーテルを加
え、結晶化させ、これを取すれば融点53―57℃
（分解）を示すエチル＝７―アミノ―３―（２―
フロイル）アミノメチル―△3―セフエム―４―
カルボキシラート1.89ｇ（収率53.8％）を得る。 IR（KBr）cm-1；νC＝Ｏ 1763，1715，1640 NMR（CDCl3）ppm値； 1.33（3H；ｔ，Ｊ＝7cps；―COOCH2 CH3 ）， 1.93（2H；ｍ；―NH2）， 3.62（2H；ｓ；【式】）， 3.99〜4.50（4H；ｍ；―CH2 CH3，
【式】）， 4.71（1H；ｄ，Ｊ＝5cps；C6―Ｈ）， 4.87（1H；ｄ，Ｊ＝5cps；C7―Ｈ）， 6.44（1H；dd，Ｊ＝3.6cps，Ｊ＝1.8cps；
【式】）， 7.04（1H；ｄ，Ｊ＝3.6cps：
【式】）， 6.9〜7.15（1H；ｍ；―NHCO―）， 7.40（1H；ｄ，Ｊ＝1.8cps；【式】） 実施例 13 エチル＝７―アミノセフアロスポラネートのｐ
―トルエンスルホン酸塩4.72ｇをアセトニトリル
40mlに溶解させ、これに氷冷下濃硫酸9.0ｇを加
えた後、室温下12時間反応させる。反応終了後、
減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物に酢酸メ
チル30mlおよび水20mlを加えて溶解させる。つい
でこれに氷冷下28％アンモニア水を加えてPH7.0
に調整したのち有機層を分取する。水層はさらに
酢酸メチル20mlで２回抽出し、有機層をあわせて
無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下に溶媒
を留去し得られた残留物にジエチルエーテルを加
え結晶化させ、これを取すれば融点53〜60℃
（分解）を示すエチル＝７―アミノ―３―アセチ
ルアミノメチル―△3―セフエム―４―カルボキ
シラート1.25ｇ（収率41.8％）を得る。 尚、この化合物の物性（IRおよびNMR）は、
実施例９で得られたものと一致した。 実施例 14 ベンズヒドリル＝７―アミノセフアロスポラネ
ート4.38ｇをトリフルオロ酢酸30mlに溶解させ、
これに三弗化硼素・ジエチルエーテル錯塩7.1ｇ
とアセトニトリル１ｇを加え室温下６時間反応さ
せる。反応終了後、減圧下に溶媒を留去し、得ら
れた残留物に含水アセトン（水を50％容量含む）
20mlを加え、氷冷下28％アンモニア水でPH3.5に
調整する。析出晶を取し、含水アセトン（水を
50％容量含む）４mlおよびアセトン４mlで順次洗
浄した後、乾燥すれば融点155℃（分解）を示す
７―アミノ―３―アセチルアミノメチル―△3―
セフエム―４―カルボン酸0.98ｇ（収率36.1％）
を得る。 尚、この化合物の物性（IRおよびNMR）は実
施例１―(i)で得られたものと一致した。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １ 一般式 「式中、R1は水素原子を；R2はアミノ基を；
    R3は水素原子またはカルボキシル保護形成基
    を；R4CO―はアシル基を示す。」 で表わされる７―アミノ―３―置換メチルセフエ
    ムカルボン酸類およびその塩。 ２ R4がアルキル基である特許請求の範囲第１
    項記載の７―アミノ―３―置換メチルセフエムカ
    ルボン酸類およびその塩。 ３ R4がメチル基である特許請求の範囲第２項
    記載の７―アミノ―３―置換メチルセフエムカル
    ボン酸類およびその塩。 ４ R4がｎ―プロピル基である特許請求の範囲
    第２項記載の７―アミノ―３―置換メチルセフエ
    ムカルボン酸類およびその塩。 ５ R4がsec.―ブチル基である特許請求の範囲第
    ２項記載の７―アミノ―３―置換メチルセフエム
    カルボン酸類およびその塩。 ６ R4が置換されたアルキル基である特許請求
    の範囲第１項記載の７―アミノ―３―置換メチル
    セフエムカルボン酸類およびその塩。 ７ R4がクロロメチル基である特許請求の範囲
    第６項記載の７―アミノ―３―置換メチルセフエ
    ムカルボン酸類およびその塩。 ８ R4がエトキシカルボニルメチル基である特
    許請求の範囲第６項記載の７―アミノ―３―置換
    メチルセフエムカルボン酸類およびその塩。 ９ R4が２―エトキシエチル基である特許請求
    の範囲第６項記載の７―アミノ―３―置換メチル
    セフエムカルボン酸類およびその塩。 １０ R4がカルボキシメチル基である特許請求
    の範囲第６項記載の７―アミノ―３―置換メチル
    セフエムカルボン酸類およびその塩。 １１ R4が置換されていてもよいアルケニル基
    である特許請求の範囲第１項記載の７―アミノ―
    ３―置換メチルセフエムカルボン酸類およびその
    塩。 １２ R4がビニル基である特許請求の範囲第１
    １項記載の７―アミノ―３―置換メチルセフエム
    カルボン酸類およびその塩。 １３ R4が置換されていてもよいアリール基で
    ある特許請求の範囲第１項記載の７―アミノ―３
    ―置換メチルセフエムカルボン酸類およびその
    塩。 １４ R4がフエニル基である特許請求の範囲第
    １３項記載の７―アミノ―３―置換メチルセフエ
    ムカルボン酸類およびその塩。 １５ R4がｐ―カルボキシフエニル基である特
    許請求の範囲第１３項記載の７―アミノ―３―置
    換メチルセフエムカルボン酸類およびその塩。 １６ R4がｐ―ヒドロキシフエニル基である特
    許請求の範囲第１３項記載の７―アミノ―３―置
    換メチルセフエムカルボン酸類およびその塩。 １７ R4がｐ―メトキシフエニル基である特許
    請求の範囲第１３項記載の７―アミノ―３―置換
    メチルセフエムカルボン酸類およびその塩。 １８ R4がｐ―メチルフエニル基である特許請
    求の範囲第１３項記載の７―アミノ―３―置換メ
    チルセフエムカルボン酸類およびその塩。 １９ R4が置換されていてもよい複素環式基で
    ある特許請求の範囲第１項記載の７―アミノ―３
    ―置換メチルセフエムカルボン酸類およびその
    塩。 ２０ R4が置換されていてもよいフリル、チエ
    ニル、トリアゾリルまたはクマリニル基である特
    許請求の範囲第１９項記載の７―アミノ―３―置
    換メチルセフエムカルボン酸類およびその塩。 ２１ R4が２―フリル基である特許請求の範囲
    第２０項記載の７―アミノ―３―置換メチルセフ
    エムカルボン酸類およびその塩。 ２２ R4が２―（５―メチルフリル）基である
    特許請求の範囲第２０項記載の７―アミノ―３―
    置換メチルセフエムカルボン酸類およびその塩。 ２３ R4が２―チエニル基である特許請求の範
    囲第２０項記載の７―アミノ―３―置換メチルセ
    フエムカルボン酸類およびその塩。 ２４ R4が２―（３―メチルチエニル）基であ
    る特許請求の範囲第２０項記載の７―アミノ―３
    ―置換メチルセフエムカルボン酸類およびその
    塩。 ２５ R4が４―（２―メチル―５―フエニル―
    １，２，３―トリアゾリル）基である特許請求の
    範囲第２０項記載の７―アミノ―３―置換メチル
    セフエムカルボン酸類およびその塩。 ２６ R4が３―（４―メチルクマリニル）基で
    ある特許請求の範囲第２０項記載の７―アミノ―
    ３―置換メチルセフエムカルボン酸類およびその
    塩。 ２７ R4が３―クマリニル基である特許請求の
    範囲第２０項記載の７―アミノ―３―置換メチル
    セフエムカルボン酸類およびその塩。 ２８ R4が置換されていてもよいアルアルキル
    基である特許請求の範囲第１項記載の７―アミノ
    ―３―置換メチルセフエムカルボン酸類およびそ
    の塩。 ２９ R4がベンジル基である特許請求の範囲第
    ２８項記載の７―アミノ―３―置換メチルセフエ
    ムカルボン酸類およびその塩。 ３０ 一般式 「式中、R1は水素原子を；R2はアミノ基を；
    R3は水素原子またはカルボキシル保護形成基
    を；Ｘは置換されていてもよいアシルオキシ基を
    示す。」 で表わされる化合物またはその塩に、有機溶媒
    中、プロトン酸、ルイス酸またはルイス酸の錯化
    合物の存在下、一般式 R4CN 「式中、R4は後述のR4CO―で表わされるアシ
    ル基からカルボニル基を除いた残基を意味する。」 で表わされる化合物を反応させ、ついで水を作用
    させることを特徴とする一般式 「式中、R1，R2およびR3は前記した意味を有
    し、R4CO―はアシル基を意味する。」 で表わされる７―アミノ―３―置換メチルセフエ
    ムエムカルボン酸類またはその塩の製造法。 ３１ R4が置換されていてもよいアルキル、ア
    ルケニル、アリール、アルアルキルまたは複素環
    式基である特許請求の範囲第３０項記載の７―ア
    ミノ―３―置換メチルセフエムカルボン酸類また
    はその塩の製造法。 ３２ R4が置換されていてもよいフリル、チエ
    ニル、トリアゾリルまたはクマリニル基である特
    許請求の範囲第３０項記載の７―アミノ―３―置
    換メチルセフエムカルボン酸類またはその塩の製
    造法。 ３３ 有機溶媒が、有機カルボン酸類またはニト
    リル類である特許請求の範囲第３０項〜第３２項
    いずれか記載の７―アミノ―３―置換メチルセフ
    エムカルボン酸類またはその塩の製造法。 ３４ プロトン酸が、硫酸類である特許請求の範
    囲第３０項〜第３３項いずれか記載の７―アミノ
    ―３―置換メチルセフエムカルボン酸類またはそ
    の塩の製造法。 ３５ ルイス酸またはルイス酸の錯化合物が、三
    弗化硼素または三弗化硼素の錯化合物である特許
    請求の範囲第３０項〜第３３項いずれか記載の７
    ―アミノ―３―置換メチルセフエムカルボン酸類
    またはその塩の製造法。
JP55139351A 1980-10-07 1980-10-07 7-substituted- or unsubstituted-amino-3-substituted-methyl-cephemcarboxylic acid, its salt, and their preparation Granted JPS5764699A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP55139351A JPS5764699A (en) 1980-10-07 1980-10-07 7-substituted- or unsubstituted-amino-3-substituted-methyl-cephemcarboxylic acid, its salt, and their preparation

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP55139351A JPS5764699A (en) 1980-10-07 1980-10-07 7-substituted- or unsubstituted-amino-3-substituted-methyl-cephemcarboxylic acid, its salt, and their preparation

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5764699A JPS5764699A (en) 1982-04-19
JPH0161113B2 true JPH0161113B2 (ja) 1989-12-27

Family

ID=15243296

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP55139351A Granted JPS5764699A (en) 1980-10-07 1980-10-07 7-substituted- or unsubstituted-amino-3-substituted-methyl-cephemcarboxylic acid, its salt, and their preparation

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5764699A (ja)

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5764699A (en) 1982-04-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CA1200541A (en) Cephalosporins, processes for producing the same, intermediates thereof and process for producing the intermediates
US4317907A (en) Process for producing 7-(substituted)amino-3-substituted thiomethyl cephem carboxylic acids
US3993646A (en) Process for the ring expansion of penicillins to cephalosporin compounds
US4312986A (en) Process for producing 7-(substituted)amino-3-substituted thiomethyl-Δ3 -cephem-4-carboxylic acids
CS204988B2 (en) Process for preparing cephalosporine antibiotics
EP0267733A2 (en) Cephalosporin compounds, process for their preparation and pharmaceutical compositions containing them
US3728342A (en) 3-acyloxymethyl cephalosporins and method of preparation
JPH0161113B2 (ja)
CA1077925A (en) Process for producing novel penicillins and cephalosporins
JPS6052755B2 (ja) 新規セファロスポリン類
US3922268A (en) 3-Halomethyl-{66 {hu 3-Cephalosporin esters
JPS5934715B2 (ja) ７−置換アシルアミノ−３−置換−３−セフエム−４−カルボン酸類の製造法
CA1276139C (en) Cephalosporins, processes for producing the same, antibacterial agent containing the same, intermediates thereof and process for producing the intermediates
JPS6210512B2 (ja)
EP0150458B1 (en) Cephem compounds
JPH0121150B2 (ja)
JPS5932473B2 (ja) ７−アシルアミノ−２（または３）−セフエム−４−カルボン酸類の製造法
JPS6022719B2 (ja) ７−置換または非置換アミノ−３−置換チオメチルセフェムカルボン酸類の新規製造法
JPS6210995B2 (ja)
CA1048016A (en) Antibiotics
KR830000615B1 (ko) 7-(치환)아미노-3-치환티오메틸-△³-세펨-4-카르복실산의 제조방법
KR870001796B1 (ko) 세팔로스포린의 제조 방법
JP2648862B2 (ja) 置換オキシカルボニルアミノセフェム化合物の製法
JPH0357912B2 (ja)
EP0089216A2 (en) Cephalosporin compounds