JPH0155586B2 - - Google Patents

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JPH0155586B2
JPH0155586B2 JP335883A JP335883A JPH0155586B2 JP H0155586 B2 JPH0155586 B2 JP H0155586B2 JP 335883 A JP335883 A JP 335883A JP 335883 A JP335883 A JP 335883A JP H0155586 B2 JPH0155586 B2 JP H0155586B2
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semiconductor
light
led
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emitting device
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JPS59129466A (en
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Masaru Nakamura
Koichi Nitsuta
Takeshi Koseki
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Toshiba Corp
Original Assignee
Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
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Publication of JPH0155586B2 publication Critical patent/JPH0155586B2/ja
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/15Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の属する技術分野〕 この発明は半導体発光素子と半導体光検出素子
とからなる複合光半導体素子に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical field to which the invention pertains] The present invention relates to a composite optical semiconductor device comprising a semiconductor light emitting device and a semiconductor photodetecting device.

〔従来技術とその問題点〕[Prior art and its problems]

半導体発光素子としての発光ダイオード(以下
LEDと略称する)の出力特性は、半導体レーザ
に比べ温度変化が少く線形性も良く、応答性やパ
ワーレベルの問題を除けば非常に取り扱い易い光
源である。しかしながら、例えばアナログ伝送等
で実際に使用する際は、温度特性や線形性をさら
に補償して用いることが必要とされる。
Light emitting diode (hereinafter referred to as a light emitting diode) as a semiconductor light emitting device
Compared to semiconductor lasers, the output characteristics of LEDs (abbreviated as LEDs) have less temperature variation and better linearity, making them very easy to handle light sources except for problems with response and power level. However, when actually used in analog transmission, for example, it is necessary to further compensate for temperature characteristics and linearity.

この補償方法では、近時主として温度・線形性
の両方を同時に補償しかつ安定性に優れた広帯域
光・電気負帰還方式(S56電子通信学会総合全国
大会2226)が用いられる。この方式は、半導体発
光素子の光出力の一部を検出し半導体発光素子駆
動回路部に負帰還することで前記半導体発光素子
の非線形ひずみの補償を行うものである。このよ
うな非線形ひずみの補償を行うためには半導体発
光素子と半導体光検出素子とを一体化して形成す
ることが望ましい。
Recently, this compensation method mainly uses a broadband optical/electrical negative feedback method (S56 National Institute of Electronics and Communication Engineers General Conference 2226), which simultaneously compensates for both temperature and linearity and has excellent stability. This method compensates for nonlinear distortion of the semiconductor light emitting device by detecting a portion of the optical output of the semiconductor light emitting device and feeding it back negatively to the semiconductor light emitting device drive circuit. In order to compensate for such nonlinear distortion, it is desirable to form a semiconductor light emitting element and a semiconductor photodetector element in an integrated manner.

従来、半導体発光素子と半導体検出素子とを一
体化形成したものは一部を断面で示す第1図のよ
うな構造が考案されている。即ち、例えばLED
1−10からなる半導体発光素子の一方の表面の
ほぼ中央に、LED1−10からの光出力を外部
に通過させる光通過部1−30を中心に設けた、
例えばフオトダイオード(以下PDと略称する)
1−20からなる半導体光検出素子が層状に一体
化形成されている。
Conventionally, a structure in which a semiconductor light emitting element and a semiconductor detection element are integrally formed has been devised as shown in FIG. 1, which is partially shown in cross section. i.e. for example LED
A light passing section 1-30 for passing the light output from the LED 1-10 to the outside is provided at approximately the center of one surface of the semiconductor light emitting device consisting of the LED 1-10.
For example, a photodiode (hereinafter abbreviated as PD)
Semiconductor photodetecting elements consisting of 1-20 are integrally formed in a layered manner.

前記LED1−10は、例えばP型GaAsからな
る基板1−11上に、例えばN型GaAsからなる
電流狭窄層1−12を介して、例えばP型
GaAlAsからなる第1の組成層1−13が形成さ
れている。さらに前記第1の組成層1−13上
に、例えばN型GaAs又はGaAlAsからなる活性
層1−14を介して、例えばN型GaAlAsからな
る第2の組成層1−15が形成された構造となつ
ている。
The LED 1-10 is provided with a current confinement layer 1-12 made of, for example, N-type GaAs on a substrate 1-11 made of, for example, P-type GaAs.
A first composition layer 1-13 made of GaAlAs is formed. Further, a second composition layer 1-15 made of, for example, N-type GaAlAs is formed on the first composition layer 1-13 via an active layer 1-14 made of, for example, N-type GaAs or GaAlAs. It's summery.

次に、前記PD1−20は、上記N型GaAlAs
からなるN型層上に、例えばGaAlAs又はGaAs
からなる低不純物濃度層1−21を介して、例え
ばP型GaAsからなるP型層1−22が形成され
て、P−i−N構造となつており、またN型
GaAlAsからなるN型層は、前記LED1−10の
第2の組成層1−15と共用されている。なお、
LED1−10の一方の電極1−17は、LED1
−10の一方の表面でかつPD1−20の受光部
の外側に設けられ、他方の電極1−16はLED
1−10の他方の表面に設けられている。また、
PD1−20の一方の電極はLED1−10の一方
の電極1−17が兼用されており、他方の電極1
−23はPD1−20の受光部の一方の表面に設
けられている。
Next, the PD1-20 is the N-type GaAlAs
For example, GaAlAs or GaAs
A P-type layer 1-22 made of, for example, P-type GaAs is formed through a low impurity concentration layer 1-21 made of P-i-N structure.
The N-type layer made of GaAlAs is shared with the second composition layer 1-15 of the LED 1-10. In addition,
One electrode 1-17 of LED1-10 is connected to LED1-10.
-10 and outside the light receiving part of PD1-20, and the other electrode 1-16 is an LED.
1-10. Also,
One electrode of PD1-20 is also used as one electrode 1-17 of LED1-10, and the other electrode 1
-23 is provided on one surface of the light receiving section of PD1-20.

上述の構造に於いて、活性層1−14からの光
出力は、PD1−20で検出されるとともに、光
通過部1−30を通つて外部にも一部出力され光
フアイバ1−40へ入射する。さらに前記PD1
−20の出力は、外部に設けられた電子回路へ導
かれ前述の広帯域光・電気負帰還を構成してい
る。
In the above structure, the light output from the active layer 1-14 is detected by the PD 1-20, and is also partially outputted to the outside through the light passage section 1-30 and enters the optical fiber 1-40. do. Furthermore, the PD1
The -20 output is guided to an external electronic circuit and constitutes the broadband optical/electrical negative feedback described above.

しかしながら、この様な構造に於いては次の様
な問題点を有していた。
However, such a structure has the following problems.

広帯域光・電気負帰還方式を成す為には、光フ
アイバ1−40へ導かれる光出力とPD1−20
で受光される光出力は、それらの波形を相似とす
ることが歪補償の点から必要条件であるが、上述
の構造では相似波形とならないことが近年の研究
で明らかになつた。即ち、LED1−10を駆動
する電流の通路である第1の組成層1−13およ
び第2の組成層1−15からなるダブルヘテロ層
が非常に薄い層であるため、LED1−10を微
視的に見た第2図に示す等価回路図のごとく各部
微小LED2−21は拡がり抵抗2−22を介し
て接続されていることになる。そして、LED1
−10を駆動する電流の通路が長いため次のよう
な状況が生じる。
In order to implement a wideband optical/electrical negative feedback system, the optical output guided to the optical fiber 1-40 and the PD1-20
In terms of distortion compensation, it is a necessary condition for the optical outputs received by the optical system to have similar waveforms, but recent research has revealed that the above-mentioned structure does not result in similar waveforms. That is, since the double hetero layer consisting of the first composition layer 1-13 and the second composition layer 1-15, which is the path for the current that drives the LED 1-10, is a very thin layer, the LED 1-10 cannot be viewed microscopically. As shown in the equivalent circuit diagram shown in FIG. 2, the micro LEDs 2-21 in each part are connected via the spreading resistor 2-22. And LED1
The following situation occurs because the path of the current driving -10 is long.

まず、LED1−10を駆動する電流が小さい
ときは、拡がり抵抗2−22による電圧降下は小
さい為活性層1−14に均一に電流が流れ一様に
発光する。しかしながら、LED1−10を駆動
する電流を大きくしたときは、拡がり抵抗2−2
2による電圧降下が大きく、周辺の微小LEDに
は中心の微小LEDに比べて十分な電圧が印加さ
れないため中心の微小LEDの光出力が周辺の微
小LEDの光出力より増大する。この際の電流と
光出力の関係は、第3図に示すように、中心の微
小LEDに於いては電流の増大と共に光出力が増
える、下に凸状の曲線3−1を描き、周辺部はこ
れと対称的な逆曲線3−2を描いている。即ち、
従来の構造に於いては、LED1−10の中心に
設けられた光通過部1−30を通過し光フアイバ
1−40へ入射する光出力とLED1−10の周
辺の光を受光するPD1−20への光出力とは電
流値を上げるに従つて、その各波形を異にするこ
とになり高精度の広帯域光・電気負帰還を達成す
ることが出来なかつた。
First, when the current driving the LED 1-10 is small, the voltage drop caused by the spreading resistor 2-22 is small, so that the current flows uniformly through the active layer 1-14, emitting light uniformly. However, when the current driving LED1-10 is increased, the spreading resistance 2-2
2, the voltage drop is large and a sufficient voltage is not applied to the peripheral micro LEDs compared to the central micro LEDs, so the light output of the central micro LEDs is greater than the light output of the peripheral micro LEDs. The relationship between current and light output in this case is as shown in Figure 3, where the light output increases as the current increases in the small LED at the center, drawing a downwardly convex curve 3-1; depicts an inverse curve 3-2 that is symmetrical to this. That is,
In the conventional structure, the PD 1-20 receives the light output that passes through the light passage part 1-30 provided at the center of the LED 1-10 and enters the optical fiber 1-40, and the light around the LED 1-10. As the current value increases, the waveforms of the optical outputs of the optical outputs differ, making it impossible to achieve highly accurate broadband optical/electrical negative feedback.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

この発明は前述の問題点を考慮してなされたも
のであり、その目的とするところは半導体発光素
子の外部への光出力と相似な波形の光出力を検出
する半導体光検出素子を構成し、有効な広帯域
光・電気負帰還を行うことができる複合光半導体
素子を提供することである。
The present invention has been made in consideration of the above-mentioned problems, and its purpose is to configure a semiconductor photodetection element that detects a light output having a waveform similar to the light output to the outside of a semiconductor light emitting element, An object of the present invention is to provide a composite optical semiconductor device capable of performing effective broadband optical/electrical negative feedback.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

この発明は半導体発光素子上に、半導体発光素
子の光出力を検出するための半導体光検出素子を
複数に区分して形成し、これら複数の光検出部の
相互間に、半導体発光素子の光出力を外部へ出射
させるための光通過部をそれぞれ複数に区分して
形成した複合光半導体素子を得るようにしたもの
である。
In this invention, a semiconductor light detecting element for detecting the light output of the semiconductor light emitting element is formed on a semiconductor light emitting element by dividing it into a plurality of parts, and the light output of the semiconductor light emitting element is separated between the plurality of light detecting parts. A composite optical semiconductor device is obtained in which a plurality of light passage portions for emitting light to the outside are formed by dividing each into a plurality of sections.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

この発明によりLEDの外部への光出力と相似
な波形の光出力を検出することができるPDを構
成し、LEDの非線形ひずみ補償を行い、有効な
広帯域光・電気負帰還を行うことができる複合光
半導体素子を得ることができる。
This invention constitutes a PD that can detect optical output with a waveform similar to the external optical output of an LED, compensates for nonlinear distortion of the LED, and performs an effective wide-band optical/electrical negative feedback complex. An optical semiconductor device can be obtained.

〔発明の実施例〕[Embodiments of the invention]

この発明の第1の実施例を、一部を断面図で示
す第4図を参照して説明する。
A first embodiment of the invention will be described with reference to FIG. 4, which partially shows a cross-sectional view.

即ち、発光部を形成するP−N接合を有する、
例えばLED4−10からなる半導体発光素子の
一方の表面に、このLED4−10からの光出力
の一部を検出する、例えばPD4−20からなる
光検出素子が同心状に複数の環状構成となつてい
る。また、PD4−20の各間隙は光フアイバ1
−40への外部への光通過部2−30とされてい
る。
That is, it has a P-N junction that forms a light emitting part,
For example, on one surface of a semiconductor light emitting element consisting of LED4-10, a plurality of photodetecting elements consisting of PD4-20, for example, which detect a part of the light output from LED4-10, are arranged concentrically in a plurality of annular configurations. There is. Also, each gap of PD4-20 is an optical fiber 1
-40 as an external light passage section 2-30.

LED4−10は、例えば不純物濃度が1×
1018/cm3で、厚さが100乃至200μmのP型GaAsか
らなる基板4−11上に、例えば不純物濃度が1
×1018/cm3で、厚さが4乃至5μmのN型GaAsか
らなる電流狭窄層4−12を介して、例えば不純
物濃度が1×1018/cm3で、厚さが4乃至5μmのP
型Ga1-xAlxAs(x=0.3乃至0.4)からなる第1の
組成層4−13が形成されている。さらに、この
第1の組成層4−13上には、例えば不純物濃度
が1×1018/cm3で、厚さが1μmのN型GaAs又は
Ga1-xAlxAs(x=0.06〜0.1)からなる活性層4−
14を介して、例えば不純物濃度が1×1018/cm3
で、厚さが5μmのN型Ga1-xAlxAs(x=0.3乃至
0.4)からなる第2の組成層4−15が形成され
た構造となつている。なお、電流狭窄層4−12
は、一部に電流集中を良くして高発光効率を得る
ために形成されたものである。また、このLED
4−10の一方の電極4−17は、第2の組成層
4−15の上部表面の一部に設けられており、他
方の電極4−16は基板4−11の下部表面に設
けられている。一方、PD4−20はN型層上に、
例えば厚さ10μmのGaAlAs又は5μmのGaAsから
なる低不純物濃度層4−21を介して、例えば不
純物濃度が1×1018/cm3で、厚さが3μmのP型
GaAsからなるP型層4−22が形成されP−i
−N構造となつている。なお、この際のN型層
は、LED4−10の第2の組成層4−15と共
用されている。このPD4−20の一方の電極4
−17は、LED4−10のN型層4−15の上
部表面の一部に設けられ、他方の電極4−23
は、各PD4−20のP型層4−22の一部にオ
ーミツクコンタクトを得るために形成された、例
えばP+型GaAsからなる拡散層4−26の上部表
面に設けられている。
For example, LED4-10 has an impurity concentration of 1×
10 18 /cm 3 and a thickness of 100 to 200 μm on a substrate 4-11 made of P-type GaAs with an impurity concentration of 1, for example.
×10 18 /cm 3 and a thickness of 4 to 5 μm, for example, through a current confinement layer 4-12 made of N-type GaAs with an impurity concentration of 1 × 10 18 /cm 3 and a thickness of 4 to 5 μm. P
A first composition layer 4-13 of type Ga 1-x AlxAs (x=0.3 to 0.4) is formed. Further, on this first composition layer 4-13, for example, N -type GaAs or
Active layer 4- consisting of Ga 1-x Al x As (x = 0.06 to 0.1)
For example, if the impurity concentration is 1×10 18 /cm 3
Then, N-type Ga 1-x AlxAs (x=0.3 to
0.4), the second composition layer 4-15 is formed. Note that the current confinement layer 4-12
is formed in part to improve current concentration and obtain high luminous efficiency. Also, this LED
One electrode 4-17 of the substrate 4-10 is provided on a part of the upper surface of the second composition layer 4-15, and the other electrode 4-16 is provided on the lower surface of the substrate 4-11. There is. On the other hand, PD4-20 has on the N-type layer,
For example, through a low impurity concentration layer 4-21 made of GaAlAs with a thickness of 10 μm or GaAs with a thickness of 5 μm,
A P-type layer 4-22 made of GaAs is formed and P-i
-N structure. Note that the N-type layer at this time is shared with the second composition layer 4-15 of the LED 4-10. One electrode 4 of this PD4-20
-17 is provided on a part of the upper surface of the N-type layer 4-15 of the LED 4-10, and the other electrode 4-23
is provided on the upper surface of a diffusion layer 4-26 made of, for example, P + type GaAs, which is formed to obtain ohmic contact with a part of the P-type layer 4-22 of each PD 4-20.

上述の複数の環状構成となつているPD4−2
0は、その円環幅を例えば数μm程度で形成すれ
ば、LED径が通常、例えば200乃至300μmである
ことを考慮すると数十個の微細PDを構成するこ
とができる。
PD4-2 having the above-mentioned multiple ring configuration
If the annular ring width is formed to be, for example, several micrometers, several tens of fine PDs can be constructed considering that the LED diameter is usually 200 to 300 micrometers, for example.

このように構成することにより、PD4−20
と光通過部4−30とが数μmの間隔で交互に配
置されている為、LED4−10の上部表面のPD
4−20は空間配置的には均等に形成されている
と見做すことができる。尚、複数のPDを設ける
ことによる拡がり抵抗の問題は特に考慮する必要
はない。それは、PD4−20等の複数のPDにつ
いての第2の組成層4−15内での電流通路の長
さは、LED4−10の電流通路の長さに比べて
短かいためである。そして、LED4−10の電
流通路が長いことによる拡がり抵抗の増大及びこ
れに基づくモニタ光としての光出力むらを複数の
PDで検出することにより補償している。
With this configuration, PD4-20
Since the light passing portions 4-30 and 4-30 are arranged alternately at intervals of several μm, the PD on the upper surface of the LED 4-10
4-20 can be considered to be uniformly formed in terms of spatial arrangement. Note that there is no need to particularly consider the problem of spreading resistance caused by providing a plurality of PDs. This is because the length of the current path within the second composition layer 4-15 for a plurality of PDs such as PD 4-20 is shorter than the length of the current path of LED 4-10. The increase in spreading resistance due to the long current path of LED4-10 and the unevenness of the light output as a monitor light due to this are
Compensation is made by detecting with PD.

従つて、LED4−10を微視的に見た際の各
部の電圧降下の不均等から生ずる外部への光出力
の波形とPDへの光出力の波形との非相似の問題
を大幅に軽減することができる。さらに、光通過
部4−30とPD4−20の面積を可変とするこ
とで光フアイバ1−40への外部への光出力や
PD4−20の検出する光出力を自由に設定する
ことができる。
Therefore, the problem of dissimilarity between the waveform of the optical output to the outside and the waveform of the optical output to the PD, which is caused by uneven voltage drops at various parts when viewing the LED 4-10 microscopically, is greatly reduced. be able to. Furthermore, by making the areas of the light passing section 4-30 and PD 4-20 variable, the light output to the outside of the optical fiber 1-40 and
The optical output detected by PD4-20 can be freely set.

なお、上述の第1の実施例ではPD4−20を
同心状に複数の環状構成としたが、この形状は三
角形、四角形等の多角形または楕円であつても同
心状に複数個設けられかつ空間配置的に均等に形
成されていれば良いことは明らかである。
In the first embodiment described above, the PD4-20 is arranged concentrically in a plurality of annular configurations, but even if this shape is a polygon such as a triangle or a quadrilateral or an ellipse, a plurality of PD4-20s can be provided concentrically and spaced. It is clear that it is sufficient if they are formed evenly in terms of arrangement.

次に、この発明の第2の実施例を第5図を参照
して説明する。
Next, a second embodiment of the invention will be described with reference to FIG.

上述の第1の実施例では、PD4−20および
光通過部4−30は同心状に交互に複数の環状に
形成されているが、この第2の実施例は、LED
4−10の一方の表面に円状のPD5−20が島
状に複数個均等に分散され形成されている。
In the first embodiment described above, the PD 4-20 and the light passing section 4-30 are formed concentrically and alternately in a plurality of annular shapes, but in this second embodiment,
A plurality of circular PDs 5-20 are evenly distributed and formed on one surface of 4-10 in the form of islands.

ここでLED4−10およびPD5−20の組
成、不純物濃度等は第1の実施例と同じである。
即ち、LED4−10の一方の表面でPD5−20
を形成していない部分である光通過部5−30と
PD5−20とが第1の実施例と同様に空間配置
的に均等と見做すことができる。
Here, the composition, impurity concentration, etc. of LED4-10 and PD5-20 are the same as in the first embodiment.
That is, PD5-20 on one surface of LED4-10
The light passing section 5-30, which is the part that does not form the
PD5-20 can be considered to be equally spaced in the same way as in the first embodiment.

従つて、LED4−10の外部への光出力とPD
5−20への光出力をほぼ相似波形として得るこ
とができ、また光フアイバ1−40への光出力や
PD4−20の検出する光出力を自由に設定する
ことができる。
Therefore, the external light output of LED4-10 and PD
The optical output to the optical fiber 1-40 can be obtained as a substantially similar waveform, and the optical output to the optical fiber 1-40 and
The optical output detected by PD4-20 can be freely set.

なお、上述の第2の実施例では円状のPD5−
20を複数個形成したが、この形状は三角形、四
角形等の多角形または楕円であつても複数個均等
に分散して形成されていれば良いことは明らかで
ある。
In addition, in the second embodiment described above, the circular PD5-
Although a plurality of 20 are formed, it is clear that the shape may be a polygon such as a triangle or a quadrangle, or an ellipse as long as a plurality of the shapes are evenly distributed.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は、LEDとPDとを一体化形成した従来
例の一部を断面で示す斜視図、第2図は第1図に
示す従来例の等価回路図、第3図はLEDの駆動
電流と光出力との関係図、第4図はこの発明の第
1の実施例を示す複合光半導体素子の一部を断面
で示す斜視図、第5図はこの発明の第2の実施例
を示す複合光半導体素子の一部を断面で示す斜視
図である。 1−40……光フアイバ、2−21……微小
LED、2−22……拡がり抵抗、4−10……
LED、4−11……基板、4−12……電流狭
窄層、4−13……第1の組成層、4−14……
活性層、4−15……第2の組成層、4−16…
…LEDの電極、4−17……LEDおよびPDの電
極、4−20,5−20……PD、4−21……
低不純物濃度層、4−22……P型層、4−23
……PDの電極、4−30,5−30……光通過
部。
Figure 1 is a perspective view showing a part of a conventional example in which an LED and PD are integrally formed, Figure 2 is an equivalent circuit diagram of the conventional example shown in Figure 1, and Figure 3 is an LED drive current. FIG. 4 is a perspective view showing a cross section of a part of a composite optical semiconductor device showing a first embodiment of the invention, and FIG. 5 shows a second embodiment of the invention. FIG. 2 is a perspective view showing a part of the composite optical semiconductor device in cross section. 1-40...Optical fiber, 2-21...Minute
LED, 2-22... Spreading resistor, 4-10...
LED, 4-11...Substrate, 4-12...Current confinement layer, 4-13...First composition layer, 4-14...
Active layer, 4-15... Second composition layer, 4-16...
...LED electrode, 4-17...LED and PD electrode, 4-20, 5-20...PD, 4-21...
Low impurity concentration layer, 4-22...P type layer, 4-23
...PD electrode, 4-30, 5-30...light passage section.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 半導体発光素子と、この半導体発光素子の一
方の表面上に層状に一体化形成された複数の半導
体光検出素子とを備え、前記半導体発光素子から
の光出力の一部を前記複数の半導体光検出素子で
検出すると共に前記半導体発光素子からの光出力
の他の一部を前記複数の半導体光検出素子間に形
成された光通過部を介して外部に取り出すように
したことを特徴とする複合光半導体素子。 2 前記複数の半導体光検出素子は、前記半導体
発光素子の一方の表面に互いに同心状に形成され
ていることを特徴とする特許請求の範囲第1項記
載の複合光半導体素子。 3 前記複数の光検出素子は、前記半導体発光素
子の一方の表面に島状に形成されていることを特
徴とする特許請求の範囲第1項記載の複合光半導
体素子。
[Scope of Claims] 1. A semiconductor light-emitting device comprising a semiconductor light-emitting device and a plurality of semiconductor photo-detecting devices integrally formed in a layer on one surface of the semiconductor light-emitting device, wherein a portion of the light output from the semiconductor light-emitting device is is detected by the plurality of semiconductor photodetecting elements, and another part of the light output from the semiconductor light emitting element is taken out to the outside via a light passing section formed between the plurality of semiconductor photodetecting elements. A composite optical semiconductor device characterized by: 2. The composite optical semiconductor device according to claim 1, wherein the plurality of semiconductor photodetecting devices are formed concentrically with each other on one surface of the semiconductor light emitting device. 3. The composite optical semiconductor device according to claim 1, wherein the plurality of photodetecting elements are formed in an island shape on one surface of the semiconductor light emitting device.
JP58003358A 1983-01-14 1983-01-14 Composite optical semiconductor element Granted JPS59129466A (en)

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