JPH01503307A - 主としてメタンからなりｈ２ｓ及びｃ２以上の炭化水素も含む気体混合物の選択的脱硫及びガソリン除去を極低温で同時に行う方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 主としてメタンからなりＨ２Ｓ及びＣ２以上の炭化水素も含む気体混合物の選択 的脱硫及びガソリン除去を極低温で同時に行う方法 本発明は、主としてメタンからなり、Ｅ、Ｓ及びＣ２以上の炭化水素も含み、場 合によっては不活性ガス、Ｈ２Ｏ、Ｃ０２、ＣＯＳ及びメルカプタンのうち１種 類以上の化合物も含む０．５８Ｐａより大きい絶対圧力下の気体混合物の選択的 脱硫及びガソリン除去を、極低温で同時に行う方法に係わる。この本発明の方法 は、前記タイプの気体混合物を下＝己の３つの成分に直接分離せしめるニ ー　主としてメタンからなり、Ｈ２Ｓ分圧が６５Ｐｉより小さく、処理すべき気 体混合物がＨ，Ｓ以外にＣＯ３及び／又はメタンを含んでいる場合には２６０Ｐ ａより小さい硫黄含有化合物総分圧を有する処理済みガス。

−処理すべき気体混合物中に存在するＣ２以上の炭化水素の８０モル％以上を含 む重質炭化水素留分。

−程度の差はあれかなり大量の酸性化合物Ｃ０２、ＣＯ５及びメルカプタンと混 合されていることもあるＨ、Ｓからなる酸性ガス流、この酸性ガス流は、処理す べき気体混合物中に前記化合物が存在している場合には、メタン当量で表してＨ ，Ｓ及び他の酸性化合物の５モル％未満の炭化水素と、処理すべき気体混合物中 に含まれたＨ２Ｓの８０％以上とを含み、且つ処理すべき気体混合物より大きい ａ、ｓ：ｃｏ、モル比を有する。

種々の天然ガスによって代表されるような前述のごとき気体混合物の処理に使用 される工業的方法は多数知られている。これらの方法は、脱酸性化（ｄ＆５ａｃ ｉｄｉｆｉｃａｔｉｏｎ）、即ちＨ，Ｓ及び他の酸性ガスを除去する操作と、ガ ソリン除去（ｄａｇａｚｏ　ｌ　ｉｎａｇｅ）、即ち前記気体混合物がら例えば Ｃ，以上の重質炭化水素を分離する操作とを含み、前記気体混合物を前述のごと き３つの成分に分別せしめる。前記脱酸性化及びガソリン除去操作は通常別個に 行われ、処理すべき気体混合物に関して実施される一連の操作の一部分をなす、 これら一連の操作は主として、酸性ガスの除去、乾燥、分子篩のような適当な固 体への水の吸着、天然ガス液体留分を得るための溶媒による抽出と任意に組合わ せられる−３０”Ｃ〜−９０℃での極低温蒸留による分離、並びに処理されたガ スを通常はガス販売網に供給すべく室温まで再加熱する操作を含む、　前記精成 成分を含む天然ガスタイプ気体混合物の前述のごとき処理法では、天然ガス液体 留分の製造の時だけ気体混合物の温度を低下させる必要があり、その他の操作は そのような低温では行われない。

このタイプの処理法は、互いに極めて異なる原理に基づき且つ様々な温度で実施 される複数の操作を逐次的に実施する上で大きな問題がある。温度統一の可能性 が殆どないため、処理コストがエネルギー面でも投資面て゛も極めて高い、また 、一般的に前記処理法の第１ステツプに相当し且つ通常は、Ｈ２Ｓに関して選択 的又は非選択的であり且つ再生可能な酸性気体化合物の溶媒、例えばアルカノー ルアミンもしくは炭酸カリウムの水溶液又は有機溶媒を用いて向流で処理用（処 理すべき）気体混合物を洗浄する操作からなる酸性ガス化合物除去ステップにお いても、処理すべき気体混合物がＣ７以上の炭化水素を含んでいると、その量が 十分に少ない場合も前記溶媒の選択範囲が限定される。

冥際、工業的に入手でき且つＨ２Ｓの他にＣＯ２、ＣＯ３のような酸性化合物及 びメルカプタンを効果的に溶解できる有機溶媒、例えば炭酸プロピレン、メタノ ール、Ｎ−メチルピロリドン、エチレングリコールもしくはＣ１〜Ｃ１□のポリ エチレングリコールのジメチルエーテルのような有機溶媒は、処理すべき気体混 合物の前Ｈ２炭化水素含量が極めて微ｉである時にしか使用できない、そうて゛ ない場合に使用すると、Ｃ２以上の炭化水素の多くが有機溶媒に吸収されて、溶 媒再生時に発生するＨ２Ｓ含有酸性ガス流中に含まれることになり、その結果、 一般的に行われているように前記酸性ガスを硫黄工場で使用した時に、工場の機 能に支障が生じる。

従って、アミン特にアルカノールアミン又は炭酸カリウムの水溶液からなる溶媒 を使用し有機溶媒を使用するのは避けた方が好ましい。

天然ガスタイプの気体混合物の処理法としては、気体混合物中に含まれる酸性ガ スの除去と、気体炭化水素及び液体炭化水素の製造とを同時に行うものも知られ ている。このタイプの処理法はＲＹＡＮ−ＨＯＬＭＥＳの方法と称し、Ｊ、ＲＹ ＡＮ及びＦ、５ＣＨＡＦＦＥＲＴによってＣＨＥＭＩＣＡＬ　ＥＮにＩＮＥＥＲ ＩＮＧ　ＰＲＯ（：ＲＥＳＳ。

１９８４年１０月、５３〜５６ページに記載されている。この種の方法では、処 理すべき天然ガスを通常の方法で脱水し且つ冷凍した後で、３つ又は４つの連続 的操作ステップで実施される低温蒸留にかける。この蒸留操作を３つのステップ で行う場合には、第１カラム（メタン除去カラム（ｄｌ！ｍＭｔｈａｎ　１ｓｅ ｕｒ））で、頭部に０４以上の炭化水素の液体フラクションからなる添加物を注 入しながら、前記脱水冷凍天然ガスな、メタン及びより軽質の化合物を含む気相 と、Ｃ１以上の炭化水素及び酸性ガスを含む液体フラクションとに分離する０次 いで、第２カラム（エタン除去カラム（ｄ！−１！ｔｂａｎｉｓｅｕｒ））で、 やはり前記添加物を適量導入しながら、前記液体フラクションを、ＣＯ２からな る上方フラクションと、０２以上の炭化水素及びＨ２Ｓｅ含む下方フラクション とに分離する。前記下方フラクションは更に第３カラムで、Ｈ，Ｓ含有Ｃ２〜Ｃ １炭化水素液体留分かちなる上方フラクションと、Ｃ６以上の炭化水素液体留分 からなる下方フラクションとに分離する。この下方フラクションは、処理用天然 ガス中に存在するブタン及び高級炭化水素の大部分を含み、この下方フラクショ ンがら適量が採取されて、第１及び第２カラムに注入する添加物として使用され る。このような添加物を使用するとメタン除去カラムの頭部でのＣＯ２の結晶化 が回避され、エタン及びＣ０２の間で形成される共沸状態が確実に破壊され、こ れらの化合物がエタン除去カラム内で容易に分離されるようになる０次いで、Ｈ ２Ｓ含有Ｃ２〜Ｃ１炭化水素液体留分をアミン水溶液で洗浄すれば、Ｃ２〜Ｃ１ 炭化水素精製液体留分と、Ｆｌ、Ｓの他に場合によってはＣＯ□も含み、ＣＬＡ ＵＳ装置での硫黄製造に使用できる酸性ガス流が得られる。

この種の方法では、メタン除去カラムの頭部でのＣＯ２の結晶化を回避し且つエ タン除去カラムでエタン及び００２間の共沸状態を破壊するために添加物を使用 しなければならないため、操作の実施がより複雑であり、従って費用も高くつく 。

天然ガスに含まれる酸性ガス特にＨ２Ｓは、一般的に−１０”Ｃ未満の操作温度 でメタノールのような溶媒によって洗浄すれば除去できることも知られている。

特に、文献ＦＲ−Ａ−２５５０９５６には、このタイプの方法であって、低温メ タノールによる天然ガスの洗浄を複数の洗浄ゾーンで行う方法が開示されている 。これらの洗浄ゾーンは直列に配置され、その中の操作温度は上流から下流へと 各ゾーン毎に優先的に低下していく。処理すべき天然ガスは第１ゾーンの入口に 導入され、各ゾーンを顆次通過し、酸性ガス濃度が大幅に減少した状態で最終ゾ ーンがら流出する。一方、低温メタノールは各ゾーン毎に注入され、対応ゾーン の出口で天されるメタノールは、対応ゾーンのすぐ下流のゾーンの出口で分離さ れた使用済みメタノールであり、第１ゾーンがら分離されたメタノールは再生後 に最終ゾーンに供給される。天然ガスは、メタノールでの洗浄処理の前に、特に 成る程度の量の酸性ガスを除去する目的で、透過による精製処理にかけることが でき、メタノールで洗浄した後の天然ガス、即ちＨ２Ｓを殆ど含まない天然ガス は液化処理にかけることができる。精製天然ガスは通常のガソリン除去処理にも かけ得るが、前記文献にはこの処理に関する記述が全くない、この文献にはまた 、溶媒の再生によって生じる酸性ガスの炭化水素含量も明記されていない。周知 のように前記濃度は、前記酸性ガスを処理する硫黄工場の良好な機能に係わる重 要な要素の１つである。

本発明は、天然ガスタイプの気体混合物、即ち主としてメタンからなり、Ｈ２Ｓ 及び０２以上の炭化水素も含み、場合によっては不活性ガス、Ｈ２Ｏ、ＣＯ２、 ＣＯ３及びメルカプタンのうちの１つ以上の気体化合物も含み、且つ０．５８Ｐ ａより大きい絶対圧力下にある気体混合物の選択的脱硫及びガソリン除去処理を 極低温で同時に実施する方法を提案する。この方法は、気体混合物を前述のごと き３つの成分、即ち主としてメタンからなる処理済みガスと、重質炭化水素液体 留分と、Ｈ２Ｓ含有酸性ガス流とに分離するという目的を、公知の方法より簡単 に且つ低コストで達成せしめる。

本発明の方法は、前述のごとき気体混合物を洗浄ゾーンで下記のごとき溶媒、即 ち）１２Ｓ、　ＣＯＳ及びメルカプタンを優先的に溶解し、ＣＯ２は一部分だけ 溶解し、大気圧での沸点が４０℃より高＜、−４０℃での粘度がＯ，ｉＰａ、ｓ より小さい溶媒と接触させ、且つＨ２Ｓ及びその他の化合物を吸収した前記溶媒 の再生を行うタイプの方法であり、前記気体混合物及び溶媒の接触操作を十分に 低い温度で、且つ処理用気体混合物及び溶媒の質量流量比並びに洗浄用理論段数 を、主としてメタンからなりＨ，Ｓ分圧が６５Ｐａより小さく、処理すべき気体 混合物がＣＯＳ及び／又はメルカプタンも含んでいる場合には２６０Ｐａより小 さい硫黄含有化合物総合分圧を有する処理済ガスと、Ｈ，Ｓ及びその他の吸収化 合物を高濃度で含む溶媒並びに処理用気体混合物中に存在するＣ２以上の炭化水 素の８０モル％以上に相当する凝縮炭化水素フラクションからなるリッチ溶媒（ ｓｏｌｖａｎｔ　ｒｉｃｈｅ）と称する液相とが形成されるように選択して行い 、前記リッチ溶媒を少なくとも部分的なメタン除去処理にかけて、メタン濃度の 低下したメタン除去リッチ溶媒と称する液相とメタン濃度の高い気相とを形成し 、この気相を前記溶媒と接触させる前の処理用気体混合物に任意に合体させ、前 記メタン除去リッチ酸性化合物Ｂ２Ｓの他に溶媒中に溶解したｃｏｓ、　ｃｏ、 及びメルカプタンも任意に含み且つ炭化水素含量がメタン当量て′表して熔解酸 性化合物量の５モル％より低い精製リッチ溶媒と称する下方液体フラクションと 、メタン除去リッチ溶媒中に存在していた炭化水素の残りからなる重質炭化水素 第１留分と称する上方液体フラクションとを形成し、前記重質炭化水素第１留分 を前記精製リッチ溶媒から分離し、前記精製リッチ溶媒を再生処理にかけて、Ｈ ，Ｓの殆ど全部と精製リッチ溶媒中に任急に存在する他の酸性化合物とを含むと 共にメタン当量で表して肌着酸性化合物の５モル％未満の炭化水素を含む酸性カ ス流と再生溶媒とを形成し、この再生溶媒を洗浄ゾーン方向に再循環させること と特徴とする。

本発明では、「メタン当量（＆ｑｕｉｖａｌｅｎｔ　ｍｅｔｈａｎｅ）」とは、 当該炭化水素分子中の炭素原子数と同じだけの、炭素原子を１つだけ含む疑分子 （ｐｓｅｕｄｏ−ｍｏｌｅｃｕｌｅｓ）を示す。

Ｈ２Ｓ並びに他の化合ｇ　ｃｏｓ及びメルカプタンを吸収するために処理用気体 混合物と接触させる前述のごとき溶媒は、０．０５Ｐａ、ｓ未満の粘度を有する のが好ましい。

本発明で使用する前記溶媒はＩ］、Ｓに関して選択的な溶媒、即ちＨ，Ｓと前述 のごとき他の硫黄含有化合物とを吸収する能力が００２を吸収する能力より実質 的に大きく、従って溶媒再生時に発生する酸性ガス流中のＨ，Ｓ及び他の硫黄含 有化合物対ＣＯ２のモル比を処理すべき気体混合物中での同モル比より大きくす るような溶媒である。

本発明で使用する前記溶媒は特に、無水形態又は水との混合物の形態で使用され る１種類以上の液体吸収剤からなり得る。これら１種類以上の溶媒は、下記の式 で示されるアミン、 下記の式 で示されるアルデヒド、 下記の式 で示されるアセタール、 で示されるエステル、 Ｃ１〜Ｃ４のアルカノール、 式Ｃ１，０−ゴ２Ｈ４Ｃｎ−べＲ３のジエーテル、式Ｒ１０−Ｃ，Ｈ４−０−Ｃ ２）１．−ＯＲのジエーテルアルコール、及び炭酸プロピレンの中から選択され る。但し、前記式中Ｒ３及びＲ３は互いに同じか又は異なり、水素原子又はＣ１ もしくはＣ２のアルキル基と表し、Ｒ１はＣ５もしくはＣ１のアルキルであり、 Ｒ１及びＲ５は互いに同じか又は異なり、０１〜Ｃ２のアルキル基を表し、Ｒ６ は０２〜Ｃ１のアルキル基又は基−％−Ｃ２Ｈ、０−＋−Ｒ、［式中ＲｓはＣ１ もしくはＣｔのフルキ）ＩｙＭを表し、ｎは１もしくは２に等しいコ、Ｒ５はＣ １もしくはＣ２のアルキル基又は基−７−ｃ２Ｈ４０丹Ｔ吐、であり、Ｒ９はＣ ユ〜Ｃ１のアルキル基であり、Ｐは２〜４の整数て゛ある。

前記の諸式に対応する液体有機吸収剤の非限定的具体例としては、Ｎ、Ｎ−ジメ チルホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメトキシメタン、ジェト キシメタン、１，１−ジメトキシエタン、メタノール、エタノール、エチレング リコールのジメチルエーテル、ジエチレングリコールのジメチルエーテル、エチ レングリコールのモノメチルエーテル、ブチロラクトン、プロピオラクトン及び 炭酸プロピレンが挙げられる。

洗浄ゾーンで処理用気体温物を溶媒と接触させる温度は０°Ｃ〜−４５℃が好ま しい。

洗浄ゾーンは１つ以上の洗浄カラムがらなり、有利には各カラムが約１０段以上 、好ましくは２０Ｆ１以上の洗浄用理論段（！ｔａｋｅ　ｔｈｅｏｒｉｑｕｅ） を含む。これらのカラムは例えばプレート塔タイプ又は充填塔タイプである。各 洗浄カラム内の温度は、当該カラムの１つ以上の地点でそのカラム内の流体媒質 と冷却用流体との間に生じる間接的熱交換によって、好ましくは：！：５℃の誤 差内て゛維持すると有利である。

本発明の方法の特定実施Ｓ様の１つでは、処理すべき気体混合物を溶媒と接触さ せる前にＯ℃〜−３０℃の温度まで冷却して、主にＣ０以上の炭化水素及びＨ， Ｓを含む凝ｍ物（ｅｏｎｄｅｎｓａｔｓ）と称する液相と、予処理気体混合物と 称する気相とを形成し、次いて前記予処理気体混合物を洗浄ゾーンで溶媒と接触 させ、前記洗浄ゾーンから出た溶媒を前記冷却ステップの結果生じた凝縮物と一 緒にしてリッチ溶媒を形成し、このリッチ溶媒をメタン除去処理にかける。

本発明の方法の別の特定実施態様では、処理すべき気体混合物を溶媒と接触させ る前にＯ′Ｃ〜−３０℃の温度まで冷却して、主にＣ５以上の炭化水素及びＨ２ Ｓを含むＷｌａ物と称する液相と、予処理気体混合物と称する気相とを形成し、 次いで前記予処理気体混合物を洗浄ゾーンで溶媒と接触させ、前記洗浄ゾーンか ら出た溶媒からなる液相と、前記冷却ステップの結果生した凝縮物からなる液相 とと夫々別個にメタン除去処理し、これら別個のメタン処理にかけた後の溶媒及 び凝縮物を一緒にしてメタン除去リッチ溶媒を形成する。メタン除去処理時に生 じる気相は別個に又は混合して、冷却段の上流の処理用気体混合物方向に再循環 させるのが好ましい。

リッチ溶媒及び凝縮物に適用するメタン除去処理は２つのステップで実施すると 有利である。即ち、第１ステツプで、メタン除去処理すべき流体つまりリッチ溶 媒もしくは凝縮物を、当該流体中に溶解したメタンの多くを放出させるのに適し た中間圧力まで膨張させる第１膨張（ｄ６ｔｅｎｔｅ）処理にかけて第１の高メ タン濃度ガスとメタン予除去流体とを形成し、第２ステツプで、前記メタン子除 去流体を第２膨張処理にかけ次いで蒸留処理して、第２の高メタ〉′濃度ガスと メタン除去流体とを形成するのである。第２の高メタン濃度ガスは第１の高メタ ン濃度ガスの圧力まで圧縮し、次いで第１の高メタン濃度ガスと混合してメタン 濃度の高い気相を形成する。この気相は任意に処理用気体混合物方向へ再循環さ せる。メタン除去処理の第２ステツプでは、第２膨張処理に続く蒸留処理を、溶 媒と接触する前又は冷却する前に処理用気体混合物から採収した前記気体混合物 の少なくとも一部分からなる流体、又は再生溶媒の一部分からなる流体を用いて 、直列に配置された少なくとも２つの再沸騰ゾーンで再沸騰させることにより実 施するのが好ましい。

前記溶媒の相互部分的混合な生起させるために、該溶媒をメタン除去リッチ溶媒 の温度より低い温度に冷却する時の冷却温度は、−２５℃〜−８０”Ｃが有利で ある。

精製リッチ溶媒の再生は、液体中に溶解した気体化合物を放出させることができ る任意の処理法、例えば膨張及び７／又は蒸留によって実施し得る。精製リッチ 溶媒の再生処理は特に、精製リッチ溶媒を１００ＫＰａより大きい圧力、好まし くは１５０ＫＰａ〜３００ＫＰａの圧力まで膨張させ、次いで前記膨張溶媒を少 なくとも１回の部分的蒸発処理にかけて、少なくとも１つの酸性ガスフラクショ ンと、温度が少なくと６０℃に等しく圧力が前記膨張溶媒より小さくて少なくと も１００ＫＰａに等しい半再生溶媒とを形成する部分的再生ステップ、並びに主 に再沸騰を使用する蒸留によって前記半再生溶媒を完全に再生し、酸性ガスフラ クションと再生溶媒とを形成する完全再生ステップを含み得る。前記再生溶媒は 適当に冷却した後で洗浄ゾーン方向に再循環させ、種々の酸性ガスフラクション は合体させて酸性ガス流にする。この酸性ガス流の炭化水素濃度は、メタン当量 で表して、酸性化合物の５モル％より低い。

精製リッチ溶媒の部分的再生ステップでは、膨張溶媒の部分的蒸発処理を次のよ うに実施すると有利である。即ち、先ず前記溶媒を第１の部分的蒸発処理にかけ て、第１の酸性ガスフラクションと、温度が０℃より低い第１０液相とと形成し 、次いで前記第１の液相を第２の部分的蒸発処理にかけて、第２の酸性ガスフラ クションと、温度が０℃以上であり且つ圧力が膨張溶媒より小さくて少なくとも １００ＫＰａに等しい第２の液相とを形成する。前記第２の液相は半再生溶媒と して完全再生ステップで処理し、第１の酸性ガスフラクションは０℃以上の温度 まで加熱した後で第２の酸性ガスフラクション及び半再生溶媒の完全再生処理の 結果生じる酸性ガスフラクションと合体させて、炭化水素含量がメタン当量で表 して酸性化合物の５モル％未満である酸性ガス流を形成する。

蒸留による半再生溶媒の完全再生処理は、複数の理論段を含み、再生された溶媒 が底部から排出されるようになっているカラムを用いて実施する。

この場合、半再生溶媒は２つの流れに分離し得る。一方の流れは蒸留カラムの頭 部プレートに送り、もう一方の流れは、カラムから排出された再生溶媒で向流式 に再加熱した後で、カラムの中間理論段レベルに導入する。

精製リッチ溶媒は再生前に、炭化水素を除去するための補足的処理にかけてもよ い、この処理は、好ましくは４つ以上の抽出用理論段を含む第１液体−液体抽出 ゾーンで、主にｎ−ペンタンより大きい分子質量をもつ炭化水素からなる抽出剤 に前記溶媒を接触させて前記精製リッチ溶媒から第２の炭化水素液体留分を分離 し、この第２留分を第１の重質炭化水素留分と合体させ、このようにして形成さ れた混合物を加熱し且つ蒸留処理して、処理用気体混合物中に存在するＣ１以上 の炭化水素の８０モル％以上を含む重質炭化水素留分を形成し、前記抽出剤を回 収してその大部分を、メタン除去リッチ溶媒の相互部分混合発生時の温度とほぼ 同じ温度まで冷却した後で、第１液体−液体抽出ゾーン方向に再循環させること からなる。

有利には、洗浄ゾーンから流出した処理済みガスを少なくとも１５℃だけ冷却し て冷却処理済みガスと液体留分とを形成し、この液体留分をリッチ溶媒と混合し てメタン除去処理にかける。前記冷却処理済みガスは、第１抽出ゾーンで使用さ れなかった分の抽出剤を用いて補足的抽出ゾーンで補足的抽出処理にかけ、純度 のより高い処理済みガスと液体フラクションとを形成するようにしてもよい、前 記液体フラクションは第１及び第２炭化水素留分の混合物の蒸留に使用すべく再 循環させる。

総ての処理の前に、処理用気体混合物を蒸留による乾燥及びペンゾール除去（ｄ ＆ｂｅｎｚｏｌａｇｅ）操作にかけ且つ無水溶媒と接触させて、芳香族炭化水素 特にベンゼンの含量が０．１重量％未満の乾燥気体混合物と、処理用気体混合物 中に存在する芳香族炭化水素の大部分並びに水含有溶媒からなる液体を含む炭化 水素留分とを形成するようにしてもよい。

本発明をより明らかにすべく、以下に添付図面第１Ｉ２！から第４図に簡単に示 した装置を用いる本発明の３つの実施態様を説明する。

図面の簡単な説明 第１図では、導管１を介して供給された処理用気体混合物が冷却ゾーン２で例え ば０℃〜−３０℃の温度に冷却され、分離器２ａ内で、主にＣ５以上の炭化水素 及びＩ（２Ｓを含み導管４を介して当該分離器の底部から排出されることになる 凝縮物と称する液相と、導管３を介して分離器の頭部から排出される予処理気体 混合物と称する気相とに分離される。前記予処理気体混合物は、少なくとも２０ 個の洗浄用理論段を含むのが好ましい洗浄カラム５の下方部分に導入され、この カラム内で、導管６を介してカラム５の上方部分に注入された溶媒と向流式に接 触する。この接触は例えば０℃〜−４５℃の温度で実施される。カラム５０頭部 では、主にメタンからなりＨ２Ｓ濃度は低下した処理済みガスが導管７を介して 回収され、該カラムの底部では！（２Ｓ及び他の吸収化合物を高濃度で含む溶媒 からなる液相が導管８を介して排出される。

前記液相は導管９ａ内で、導管４を介して分離器２ａから排出された′ａ縮物と 合体し、リッチ溶媒と称する液相を構成する。ゾーン２での冷却処理のｆｉ終湿 温度Ｏ℃〜−３０℃の範囲で選択し、カラムＳ内での予処理気体混合物と溶媒と の接触は０℃〜−４５℃の範囲の十分に低い温度て゛実施する。また、処理用気 体混合物及び溶媒の質量流量比（ｒａｐｐｏｒｔ　ｄｅｓｄｅｂｉｔｓ　ｍａｓ ｓｉｑｕｅｓ）は、カラム５の頭部で導管７を介して回収される処理済みガスが ６５Ｐａより低いＨ２Ｓ分圧を有し、処理すべき気体混合物がＨ２Ｓ以外にＣＯ ３及び／又はメルカプタンを含んでいる場合には２６０Ｐａより小さい硫黄含有 化合物総分圧を有するように、且つ導管９ａを通るリッチ溶媒が処理すべき気体 混合物中に存在するＣ２以上の炭化水素の８０モル％以上を含むように選択する 。

導管９ａを流れるリッチ溶媒は、再沸騰式蒸留カラムからなるメタン除去カラム ９の上方部分に導入され、このカラム内でメタン濃度の高い気相とメタン濃度の 低いメタン除去リッチ溶媒と称する液相とに分別され、前記気相は導管１０を介 してカラム９の頭部から排出され、前Ｅ液相は導管１１を介して前記カラムの底 部から排出される。前記メタン除去リッチ溶媒は冷却ゾーン１２に送られ、そこ で例えば−２５℃〜−８０°Ｃの範囲にあり且つ洗浄ゾーン５内の温度より十分 に低い温度に冷却される。その結果、前記メタン除去リッチ溶媒の相互部分的混 合が生じるため、該溶媒が分離器１２ａ内で分離して、下方液体フラクションが 導管１４を介して分離器から排出されると共に、上方液体フラクションが導管１ ３を介して分離器１２ａから排出される。前記下方液体フラクションは精製リッ チ溶媒と称し、酸性化合物Ｈ，Ｓの他に溶媒に溶解したＣＯ，、ＣＯ８及びメル カプタンを任急に含み、且つ炭化水素をメタン当量て表して前記酸性化合物の５ モル％未満含む。また、前記上方液体フラクションは重質第１炭化水素留分と称 し、メタン除去リッチ溶媒中に存在していた炭化水素の残りで福成され、処理用 気体混合物中に含まれたＣ２以上の炭化水素の８０モル％以上を含む。

精製リッチ溶媒は次いで闇張弁１５を通過することによって１００ＫＰａを超え る圧力、好ましくは１５０ＫＰａ〜３００ＫＰａの圧力まで膨張し、膨張した溶 媒は再加熱器１６な通りそこで部分的蒸発処理にかけられる。この蒸発処理の結 果生じた流体は分離器１６ａに送られ、その結果前記分離器の頭部がち導管１７ を介してＭ性ガスフラクションが排出され、底部がらは導管１８を介して半再生 溶媒と称する液体が排出される。

精製リッチ溶媒を部分的に再生するための精製リッチ溶媒の膨張処理及び膨張溶 媒の部分的蒸発処理は、温度がＯ’Ｃ以上であり且つ圧力が膨張溶媒の圧力より 小さくて１００ＫＰａ以上であるような半再生溶媒が得られるように実施する。

導管１８を通る半再生溶媒は再沸騰式蒸留カラムの上方部分に導入され、このカ ラム内で完全に再生される。前記半再生溶媒は前記カラム２０内で蒸留により酸 性ガスフラクションと再生溶媒とに分離され、前記酸性ガスフラクションは導管 １９を介してカラムの頭部から排出され、前記再生溶媒は導管２１を介してカラ ムの底部から流出する。この再生溶媒は、冷却ゾーン２２で適当な温度に冷却さ れた後で、導管６を介して洗浄カラム５に再び導入される。

導管１７を介して分離器１６ａの頭部から排出された酸性ガスフラクション及び 導管１９を介してカラム２ｏがち排出された酸性ガスフラクションは互いに合流 して酸性ガス流を福成する。このガス流の炭化水素含量はメタン当量で表して酸 性化合物の５モル％未満である。

導管７を介して洗浄ゾーン５内の温度で回収した処理済みガスは、再加熱した後 で、又は必要に応じて１つ以上の補足的処理、例えば該ガス中に依然として存在 し得るＣＯ□を回収するための適当な溶媒での洗浄又は０２〜Ｃ５炭化水素を回 収するためのターボエキスパンダーでの処理にかけた後で、供給網に送り得る。

尚、処理済みガスがら分離されて回収された前記炭化水素は、導管１３を介して 分離器１２ａから排出された重質炭化水素留分と合流する。

第２区では、処理すべき気体混合物が導管１を介して導入され、冷却ゾーン２で 例えばＯ℃〜−３０°Ｃの温度に冷却され、分離器２ａ内で、主にＣ７以上の炭 化水素及びＨ，Ｓを含み導管４を介して当該分離器の底部から排出されることに なる凝縮物と称する液相と、導管３を介して分離器の頭部から流出する予処理気 体混合物と称する気相とに分にされる。前記予処理気体混合物は、少なくとも２ ０個の洗浄用理論段を含むのが好ましい洗浄カラム５の下方部分に導入され、こ のカラム内で、導管６を介してカラム５の下方部分に注入された溶媒と向流式に 接触する。この接触は例えばＯ”Ｃ〜−４５℃の温度で実施される。カラム５の 頭部では、主にメタンからなりＨ，Ｓ濃度は低下した処理済みガスが導管６４を 介して回収され、該カラムの底部ではＨ，Ｓ及び他の吸収化合物を高濃度で含む 溶媒からなる液相が導管Ｓを介して排出される。導管６４を流れる処理済みガス は冷却ゾーン５５で少なくとも１５℃だけ冷却され、次いで分離器５６内に流入 し、そこでゾーン５５での補足的冷却に起因して気相と液相とに分離される。前 記気相は導管７を介して分離器５６の頭部から回収され、前記液相は導管５７を 介して分離器の底部がら排出される。導管８を介してカラム５から排出されるＨ 、Ｓ及び他の酸性化合物の濃度が高い溶媒、並びに導管４を介して分離器２ａか ら排出される凝縮物は互いに合流してリッチ溶媒と称する液相を福成し、この液 相に分離器５６がら排出された液体留分が導管５７を介して加えられ、このよう にして形成された混合物が導管９ａを流れる。ゾーン２での冷却処理の最終温度 はＯ℃〜−３０℃の範囲で選択し、カラム５内での予処理気体混合物と溶媒との 接触は０℃〜〜４５℃の範囲の十分に低い温度で実施する。また、処理用気体混 合物及び溶媒の＠＊流量比は、導管６４を介してカラム５の頭部で回収される処 理済みガスが６５Ｐａより小さいＨ２Ｓ分圧を有し、処理すべき気体混合物がＨ ，Ｓ以外にＣＯ５及び／又はメルカプタンを含んでいる場合には２６０Ｐａより 小さい硫黄含有化合物総合分圧を有するように、且つ導管９ａを通るリッチ；Ｓ 媒が処理用気体混合物中に存在するＣ１以上の炭化水素の８０モル％以上を含む ように選択する。カラム５はその中の流体媒質、即ち溶媒と処理すべきガスとの 混合物が通る冷却器６１を２つ含み、前記媒質がこれらの冷却器を介して冷却流 体と間接的に熱交換するため、吸収による該媒質の温度上昇が制限され、カラム 内の温度プロフィルが±５℃の誤差内で均一になる。

導管９ａを流れるリッチ溶媒は膨張フラスコ２９の上方部分に導入され、そこで 該リッチ溶媒中に溶解したメタンの多くを放出せしめる中間圧力まで膨張し、そ の結果第１の高メタン濃度ガスとメタン予除去リッチ溶媒とが形成される。

前記第１の高メタン濃度ガスは導管３４を介してフラスコ２９の頭部から排出さ れ、前記メタン予除去リッチ溶媒は導管３５を介してフラスコ２９の底部から流 出する。

前記メタン子除去リッチ溶媒は第２の膨頭処理にかけ、更に蒸留カラム９で蒸留 処理する。この蒸留処理は、処理すべき気体混合物の少なくとも一部分又は再生 溶媒の少なくとも一部分からなる再沸Ｈ、Ｈ体３１を用いて、２つの直列に配置 された再沸騰器３０ａ及び３０ｂ内で再沸胱３０を行い、その結果、導管３２を 介してカラム９の頭部から排出される第２の高メタン濃度ガスと、導管１１を介 してカラム９の底部から排出されるメタン濃度の低下したメタン除去リッチ溶媒 と称する液相とが形成されるようにすることからなる。導管３２を流れる前記第 ２の高メタン濃度ガスは圧縮器３３に送られ、その結果導管３４を流れる第１の 高メタン濃度ガスとほぼ同じ圧力で導管３６を介して該圧縮器から排出される。

これら２つの高メタン濃度ガスは導管１０内で混合され、この混合物からなる気 相は圧縮器２３を通り、導管１を介して導入される処理用気体混合物方向へ送ら れて再使用される。

前記メタン除去リッチ溶媒は冷却ゾーン１２に送られ、そこで例えば−２５℃〜 −８０℃の範囲内にあり且つ洗浄ゾーン５内の温度より十分に低い温度に冷却さ れる。その結果前記メタン除去リッチ溶媒の相互部分的混合が生じるため、該溶 媒が分離器１２ａ内て゛下方液体フラクションと上方液体フラクションとに分離 される。前記下方液体フラクションは予精製溶媒と称し、酸性化合物Ｈ，Ｓの他 にすら合によってはＣ０２、ＣＯ８及びメルカプタンも含み、更に炭化水素も少 量含む溶液からなり、導管３８を介して分離器から排出される。

また、前記上方液体フラクションは重質第１炭化水素留分と称し、導管３７を介 して分離器１２ａから排出される。前記予精製溶媒は、抽出用理論段を４つ以上 含む第１液体−液体抽出ゾーン３９の上方部分に導入され、そこで導管４０を介 してゾーン３９の下方部分に導入された抽出剤と向流式に接触する。

前記抽出剤は主として、ｎ−ペンタンより大きい分子質量をもつ炭化水素からな る。この抽出処理によって、炭化水素の第２液体留分と精製リッチ溶媒とが形成 され、前記第２液体留分は導管６２を介して抽出ゾーン３９から排出され、前記 精製リッチ溶媒は導管１４を介してゾーン３９から排出される。この精製リッチ 溶媒は酸性化合物Ｈ，Ｓの他にＣＯ２、ＣＯＳ及びメルカプタンを溶解した状態 で任意に含み、且つ炭化水素もメタン当量で表して前記酸性化合物の５モル％未 満含む、導管６２を流れる第２炭化水素留分は導管３７を流れる第１炭化水素留 分と合流し、このようにして形成された混合物は再加熱器４１を通って蒸留カラ ム４２に送られ、そこで分別される。その結果カラム４２の頭部からは、処理用 気体混合物中に存在する０３以上の炭化水素の８０モル％以上を含む重質炭化水 素留分が導管１３を介して排出され、前記カラムの底部からは抽出剤が導管４３ を介して回収される。

前記抽出剤の大部分は、冷却ゾーン４４で相互部分的混合ゾーン１２内の温度と ほぼ同じ温度に冷却された後で、導管４０を介して抽出ゾーン３９方向に送られ 、再使用される。抽出剤の残りは導管４５す介して排出される。

導管１４を流れる精製リッチ溶媒はｍ張弁１５を通過することによって１００Ｋ Ｐａより大きい圧力、好ましくは１５０ＫＰａ〜３００ＫＰａの圧力まで膨張し 、膨張した溶媒は第１再加熱器４６で第１の部分的蒸発処理にかけられる。この 第１の部分的蒸発処理によって生じた流体は分離器４６ａに送られ、その結果該 分離器の頭部から導管４７を介して第１酸性ガスフラクシヨンが排出され、底部 からは導管５０を介してＯ’Ｃ未満の温度の第１液相が排出される。前記第１液 相は次いで第２再加熱器１６に送られ、そこで第２の部分的蒸発処理にかけられ る。この第２の部分的蒸発処理によって生じた流体は分離器１６ａに送られ、そ の結果該分離器の頭部がら導管１７を介して第２酸性ガスフラクシヨンが排出さ れ、底部からは導管１８を介して半再生溶媒と称する第２液相が排出される。

前記半再生溶媒は温度が０℃以上であり、圧力が膨張溶媒より小さくて少なくと も１００ＫＰａに等しい、この一連の操作は精製リッチ溶媒の部分的再生ステッ プを精成する。半再生溶媒は次いで完全再生処理にかける。そのためには、導管 １８を介して分離器１６１Ｌから流出した半再生溶媒を２つの流れに分割し、一 方の流れ３複数の理論段を含む再沸騰式蒸留カラム２０の頭部プレートに導管５ １を介して導入し、もう一方の流れを間接的熱交換器５２ａで再加熱した後で導 管５２を介して前記カラムの中間点に注入する。カラム２０内では半再生？’ｉ ｉ　ｊＸが蒸留によって酸性ガスフラクションと再生溶媒とに分離され、前記酸 性ガスフラクションが導管１９を介してカラムの頭部から排出され、前記再生溶 媒が導管２１を介してカラムの底部から排出される。この再生溶媒は、冷却ゾー ン２２を通り導管６を介して洗浄カラムＳ内に再導入される前に、導管５２を介 してカラム２０に注入される半再生溶媒流を再加熱するための熱交換器５２ａで 使用され、その結果再生溶媒の温度がカラム５に注入するのに適した温度に低下 する。

導管４７を介して分離器４６ａがら排出された第１酸性ガスフラクシヨンは再加 熱器４９で０℃以上の温度に加熱され、次いで導管４８内で、分離器１６ａがら 導管１７を介して排出された第２酸性ガスフラクシヨン及び完全再生カラム２０ から導管１９を介して排出された酸性ガスフラクションと合流する。

これら３つの酸性ガスフラクションからなる混合物は、当該方法によって生じる 前述のごとき酸性ガス流、即ち炭化水素含Ｉがメタン当量で表して酸性化合物の ５モル％より少ない酸性ガス流を精成する。

導管７を介して分離器５６内の温度で回収した処理済みガスは、再加熱した後で 、又は所望であれば、第１図に基づ〈実施態様で説明したような１つ以上の補足 的処理にがけな後で供給網に送り得る。

第３図に示す本発明の方法の実施Ｓ様は、第２図に基づいて説明した実施態様の 操作ステップを総て含む他に、処理用気体混合物を総ての操作に先立って乾燥さ せ且つペンゾール除去処理するステップと、分離器５６０頭部から回収した冷却 処理済みガスを抽出処理にかけて更に精製するステップとを含む。

導管１を介して導入された処理用気体混合物は再沸騰カラム２５の下方部分に送 られ、そこでカラム２５の上方部分に連通する導管５４を介して注入された；Ｓ 媒と向流式に接触する。Ｎ記溶媒は熱交換器５２ａの下流で冷却ゾーン２２を通 過する前の再生溶媒から採取したものである。この接触の結果、芳香族炭化水素 特にベンゼンの含量が０．１重量％未満の乾燥気体混合物が導管２６を介してカ ラム２５から排出され、処理用気体混合物中に存在する芳香族炭化水素の大部分 を含む芳香族炭化水素含有留分が導管２７を介してカラム２５から排出され、且 つ水を吸収した溶媒からなる液体が導管２８を介してカラム２５から排出される 。

導管２６内を流れる前記乾燥気体混合物は次いで、第２図の実施Ｓ様で導管１を 介して導入される気体混合物と同じ処理にかけられる。但し、この場合は洗浄カ ラム５内の温度を調節すべく該カラム内の冷却器６１を３つ使用し、且つメタン 除去処理の結果生じて導管１０内を流れる高メタン濃度気相を、乾燥及びペンゾ ール除去カラム２５に導入する前の処理用気体混合物方向に送って再使用する。

分離器５６から排出された冷却処理済みガスは導管５８を介して補足的抽出ゾー ン６０の下方部分に導入され、そこで該カラムの上方部分に注入された抽出剤と 向流式に接触する。

その結果、ゾーン６０の頭部からは導管７を介して純度のより高い処理済みガス が排出され、ゾーン６０の底部がらは導管６１を介して液体フラクションが排出 され、この液体フラクションは再加熱器４１に送られる第１及び第２炭化水素留 分の混合物と合流する。抽出ゾーン６０に注入する抽出剤としては、蒸留カラム ４２から排出された抽出剤のうち第１抽出ゾーン３９には供給されない分を冷却 ゾーン５９で冷却した後で使用する。

導管７を介して抽出ゾーン６０内の温度で回収した処理済みガスは、再加熱した 後で、又は所望であれば、第１図及び第２図の実施態様で説明したような１つ以 上の補足的処理にかけた後で供給網に送り得る。

第４７では、導管１を介して供給された処理用気体混合物が塔７０の下方部分に 導入され、そこで例えば０℃〜−３０℃の温度まで冷却されて、主にＣ３以上の 炭化水素及びＨ，Ｓを含む凝縮物と称する液相と、予処理気体混合物と称する気 相とに分離され、前記液相が導管７１を介して塔７０の底部から排出され、前記 気相が導管３を介して塔７０の頭部から流出する。前記予処理気体混合物は、洗 浄用理論段を２０以上含むのが好ましい洗浄カラム５の下方部分に導入され、そ こで導管６を介してカラム５の上方部分に注入された低温溶媒と向流式に接触す る。この接触は例えば０℃〜−４５℃の温度で実施される。その結果、カラム５ の頭部からは主にメタンからなりＨ２Ｓ濃度の低下した処理済みガスが導管６４ 含介して排出され、前記カラムの底部からはＨ２Ｓ及び他の吸収化合物を高濃度 で含む溶媒からなる液相が導管Ｓを介して排出される。

導管７１を介して塔７０から排出された液相はカラム７２で蒸留処理され、その 結果凝縮物が導管７３を介して前記カラムから排出されると共に、気相が導管７ ２を介してカラム７２がら排出される。この気相は次いで冷却ゾーン７５で冷却 され、その後導管８を流れる前屈高濃度溶媒と合流してり・ノチ溶媒と称する液 相と精成する。このリッチ溶媒は導管Ｓａ内を流れる。塔７０内て゛の冷却処理 の温度はＯ℃〜−３０℃の範囲で選択し、カラム５内での予処理気体混合物と溶 媒との接触はＯ℃〜−４５°Ｃの範囲の十分に低い温度で行う、また、処理用気 体混合物及び溶媒の５ｉ流量比は、カラム５の頭部で導管６４を介して回収され る処理済みガスが６５Ｐａより低いＨ２Ｓ分圧を有し、処理用気体混合物がＨ， Ｓ以外にＣＯ３及び／′又はメルカプタンを含んでいる場合には２６０Ｐａより 小さい硫黄含有化合物総合分圧含有するように、且つ導管９ａを流れるリッチ溶 媒が処理用気体混合物中に存在する０３以上の炭化水素の８０モル％以上を含む ように選択する。カラム５はその中の流体媒質、部ち溶媒と処理すべきガスとの 混合物が通る２つの冷却器６１ａ及び６１ｂを含み、前記媒質がこれらの冷却器 を介して冷却流体と間接的に熱交換するため、吸収による該媒質の加熱が制限さ れ、カラム内の温度プロフィルが均一になる。

導管９ａを流れるリッチ溶媒は膨張フラスコ２９の上方部分に導入され、そこで 該リッチ溶媒中に溶解したメタンの多くな放出せしめる中量圧力まで膨損し、そ の結果第１の高メタン濃度ガスとメタン予除去リッチ溶媒とが形成される。

前記第１の高メタン濃度ガスは導管３４を介してフラスコ２９の頭部から排出さ れ、前だメタン予除去リッチ溶媒は導管３５シ介してフラスコ２９の底部から流 出する。前記メタン予除去リッチ溶媒は第２の膨張タユ理にがけられ、更に再沸 胱システム３０を含む蒸留カラム９て蒸留処理される。その結果、導管３２を介 してカラム９０５部から排出される第２の高メタン濃度ガスと、導管１１３介し てカラム９の底部から排出されるメタン濃度の低下したメタン除去リッチ溶媒と 称する液相とが形成される９導管３２を流れる前記第２の高メタン濃度ガスは圧 縮器３３に送られ、次いで導管３４を流れる第１の高メタン濃度ガスとほぼ同じ 圧力で導τ３６を介して該圧縮器から排出される。これら２つの高メタン濃度ガ スは導管１０内て゛混合され、この混合物からなる気相は圧縮器２３を通って冷 却ゾーン７６に送られ、そこで導管３を流れる予処理済み気体混合物とほぼ同じ 温度まで冷却される。冷却ゾーン７６から流出する気相は部分的に液化されてい る。

この部分的に液化した相は分笥器７７内に導入され、そこて・液相と気相とに分 離される。前記液相は導管７９を介して前記分離器から流出し、導管８を流れる エンリッチ溶媒と合流し、前記気相は導管７８シ介して分に器７７から排出され 、導管３を流れる予処理気体混合物と合流する。

前記メタン除去リッチ溶媒は冷却ゾーン１２に送られ、そこで例えば−２５°Ｃ 〜−８０℃の範囲内にあり且つ洗浄ゾーン５内の温度より十分に低い温度に冷却 される。その結果前記メタン除去リッチ溶媒のデミキシオンが生じるため、該溶 媒が分離器１２ａ内で下方液体フラクションと上方液体フラクションとに分離さ れる。前記下方液体フラクションは精製溶媒と称し、酸性化合物Ｈ２Ｓ以外に場 合によってはＣ０２、ＣＯＳ及びメルカプタンも溶解した状態で含み、更に炭化 水素も極めて少量含む溶液からなり、導管１４を介して分離器から排出される。

また、前記上方液体フラクションは重質第１炭化水素留分と称し、導管３７を介 して分離器１２ｍから排出される。

導管１４と流れる前記精製リッチ溶媒は次いで、第２図に基づいて説明した再生 処理にかけられる。その結果、再生溶媒と、当該方法で得られる前述のごとき酸 性ガス流、即ち炭化水素含量がメタン当量で表して酸性化合物の５モル％より少 ない酸性ガス流とが形成され、前記再生溶媒は冷却ゾーン２２３通ってカラム５ に注入するのに適した温度まで冷却された後で、導管６を介してカラム５方向に 送られる。

以上の説明を補足する意味て゛、以下に本発明の方法の実施例３４つ挙げる。

Ｘ差」■−： 第２図に簡単に示した前述のごとく機能する装置と類似の装置を用いて、下記の モル組成ともつ気体混合物を処理・ヘキサン　：　１％ ・Ｈ２Ｓ　：　１５％ １Ｊ１２０，０００Ｋｍｏｌｅｓ／ｈ、４度３０℃及び圧力５ＭＰａで導管１を 介して導入した処理すべき気体混合物を、リッチ溶媒のメタン除去処理の結果形 成され且つ圧縮器２３から送出された高メタン濃度気相と混合し、得られた気体 混合物を冷却ゾーン２で一１０℃まで冷却した。この冷却の結果、８７２Ｋｍｏ ｌｅｓ／ｈの凝縮物が導管４を介して分離器２ａがら排出され、且つ２１．０３ ９Ｋｍｏｌｅｓ／ｈの予処理ガスが導管３を介して分離器２ａがら流出した。こ のガスのモル組成は下記の通りであった：・メタン　：　７０．３１％ ・エタン　：　３．２０％ ・プロパン　：　０．８５％ ・ブタン　二　〇、５１％ ・ヘキサン　：　ｏ　、　１１　ｙ。

・Ｈ２Ｓ　：　１３．８９％ ・ＣＯ２：　１１．１３％ 前記予処理ガス混合物を、洗浄カラム５内で純粋メタノールからなる１４．ＯＯ ＯＫｍｏｌｅｓ／ｈの溶媒と接触させた。前記カラム５は洗浄用理論段を２８段 含み、且つ測方に冷却器６１を２つ備え、これらの冷却器は１つが１番目のプレ ートのレベルに配置され、他方が２Ｓ番目のプレートのレベルに配置され、夫々 ４０及び３７．８　に　Ｊｏｕｌｅｓ／ｈの出力を有していた。これらの冷却器 は、吸収に起因する温度上昇を制限して、カラム５内の温度プロフィルをヨ５° Ｃの誤差内で均一にする役割を果たす、前記カラムの操作温度は一１０℃であっ た。

その結果、カラム５の頭部から下記のモル％組成をもつ組成物が圧力４９５９Ｋ Ｐａ及び温度−１０℃で排出された：”：Ｓ：　１０ｐ、ｐ、ｍ、（体積） 前記処理済み気体混合物のＨ２Ｓ分圧は５０Ｐａに等しかった。

導管６４を介してカラム５から排出された処理済み気体混合物を冷却５５ゾーン で一４５℃まで冷却して、該気体混合物と共に洗浄カラム５の外に流出したメタ ノールの９０％以上を分離器５６で凝縮させた０分離器５６での凝縮によって生 じ、導管５７を介して１５Ｋｍｏｌｅｓ／ｈの流量で該分離器から排出された液 体留分は主にメタノール及びＣ０２を含んでいた。

導管４を介して分離器２ａから排出された凝Ｂ物、導管８を介してカラム５から 排出された酸性化合物濃度の高い溶媒、及び導管５７を介して分離器５６から排 出された液体留分は互いに合流して、メタン除去処理にかけるべきリッチ溶媒を 構成した。このリッチ溶媒の流量は２１．２７０Ｋｍｏｌｅｓ／ｈであり、その 組成はモル％で下記の通りであった：・プロパン　：　０．９７ ・ブタン　：　０．９９ ・ヘキサン　：　０．９５ ・メタノール　：　６５．８２ ・Ｈ２Ｓ　：　１５．９１ ・ＣＯ２：　８．０５ 前記リツチ溶媒のメタン除去処理は、先ず前記溶媒をフラスコ２９内で第１ｍ張 処理にかけて２４２０ＫＰａの圧力にｍ張させ、溶解メタンの６１％を分離させ ることから始めた。その結果６８モル％のメタンを含むガスがフラスコ２９の頭 部から導管３４を介して１１４９Ｋｍｏｌｅｓ／ｈ″ｉ″流出し、且つメタン予 除去リッチ溶媒が導管３５を介して前記フラスコから排出された。

次いで、前記メタン予除去リッチ溶媒を第２ｍ張処理にかけて１０５０ＫＰａま で膨張させ、その後理論プレートを１１個含むカラム９で蒸留処理した。前記カ ラムで処理すべき気体混合物を用いて再沸騰を行った結果、第２の高メタン濃度 ガスが１１４ＳＫｍｏｌｅｓ／ｈでカラム９の頭部から導管３２を介して流出し 、且つメタン除去リッチ溶媒が温度１３℃、圧力１０７０ＫＰａで得られた。こ の溶媒のモル％組成は下記の通りであった： ・プロパン　：　０．９４ 前記第２高メタン濃度ガスは圧縮器３３で２４２０ＫＰａまで圧縮し、次いで第 １の高メタン濃度ガスと混合してメタン濃度の高い気相を形成した。この気相は 圧縮器２３を通して処理用気体混合物方向へ送り再使用した。

前記メタン除去リッチ溶媒は冷却ゾーン１２で一７５℃まで冷却して相互部分的 混合を生起させた。その結果、Ｍ　Ｍｅ溶媒は分離器１２＆で２つのフラクショ ンに分硫し、重質第１炭化水素留分が導管３７を介して排出され、且っ予精製溶 媒が導管３８を介して排出された。

前記予精製溶媒は下記のモル％組成を有していた：・プロパン　：　０．５８ ・ブタン　：　０．４５ ・ヘキサン　：　０．０９ ・メタノール　ニア６．２０ 導管３Ｓを流れる予精製溶媒を、５つの理論段を含み一７５℃で作動する液体− 液体抽出装Ｗ３９内で、主にヘキサンからなる６００Ｋｍｏｌｅｓ／ｈの抽出剤 と接触させた。この接触の結果、液体第２炭化水素留分が導管６２３介して装置 ３９から排出され、且つ精製溶媒が導管１４を介して排出された。

前記精製溶媒は下記のモル９６組成を有していた：・プロパン　：　０．０４ ・メタノール　：　７９．０８ 導管６２３流れる第２炭化水素留分と導管３７を流れる第１炭化水素留分との合 流によって形成された混合物を再加熱器４１て再加熱し、次いてカラム４２内で 萎留して、重質炭化水素留分と抽出剤からなる液体フラクションとに分別した。

前記重質炭化水素留分は導管１を介して供給される処理用気体混合物中に含まれ るＣ５以上の炭化水素の９６モル％以上を含んでおり、導管１３を介して排出さ れ、前記液体フラクションは導管４３を介して排出された。前記抽出剤の大部分 を冷却ゾーン４４で一７５℃まで冷却し、その後導管４０を介して抽出装置３９ 方向に送った。

導管１４を流れる精製リッチ溶媒は、部分的再生ステップとその後の完全再生ス テップとを含む再生処理にかけた。

先ず部分的再生操作を実施するために、前記精製リッチ溶媒を膨張弁１５を介し て２３０ＫＰａに膨張させ、次いで再加熱器４６で一２５℃に再加熱することに よって第１の部分的蒸発処理にかけた。その結果、前記溶媒が分離器４６ａで分 離して、１７６７Ｋｍｏｌｅｓ／ｈの第１酸性ガスフラクシヨンが導管４７を介 して回収され、第１液相が導管５０を介して排出された。前記液相を更に再加熱 器１６で、１９０ＫＰａの圧力下で７℃に加熱することによって第２の部分的蒸 発処理にかけた結果、前記液相が分離器１６＆で分離して、１１３３Ｋｍｏｌｅ ｓ７′ｈの第２酸性ガスフラクシヨンが導管１７を介して排出され、半再生溶媒 が７℃に等しい温度で導管１８３介して排出された。

前記半再生溶媒の完全再生は、先ず前記溶媒を４５０ＫＰａまでボンピングし、 次いでこの溶媒を２つの流れに分割することによって開始した。一方の流れは、 ３５０ＫＰａの圧力で作動する蒸留カラム２０の頭部プレートに導管５１を介し て５０００Ｋｍｏｌｅｓ／ｈの流量で導入し、もう一方の流れは熱交換器５２ａ で、カラム２０から導管２１を介して排出された再生溶媒との間接的熱交換によ って８８℃まで再加熱した後でカラム２０の７番目の理論段に導入した。カラム ２０内での半再生溶媒の蒸留処理の結果、７９９Ｋｍｏｌｅｓ／ｂの酸性ガスフ ラクションが導管１９を介して回収され、且つ再生溶媒が導管２１を介して排出 された。前記再生溶媒は３０℃の温度で熱交換器５２ａから排出され、冷却ゾー ン２２て・−１０℃に冷却された後で導管６を介しでカラム５に送られた。

導管４７と流れる第１酸性ガスフラクシヨンは再加熱器４９て７℃に加熱された 後で、導管１７を流れる第２酸性ガスフラクシヨン及び導管１９を介してカラム ２０から排出された酸性ガスフラクションと合流し、圧力１９０ＫＰａ、流ｊｔ 　３６９９Ｋｍｏ　ｌ　ｅｓ／′ｈの酸性ガス流を形成した。この酸性ガス流は 更に、メタン当量で表して１．９モル％の炭化水素を含むと共にメタノールを１ ．１４重量％含んでいた。処理すべき気体混合物のＨ：Ｓ：Ｃｏ、、のモル比が １．５であったのに対し、前記酸性ガス流の前記比は２２２に等しかった。

導管２４を流りる前記酸性ガス流は次いで水による一般的洗浄処理にかけ、その 後ＣＬＡＵＳ硫黄装置に送った。

医１」Ｌに」工 第４図に簡単に示した前述のごとく機能する装置と類似の装置を用いて、実施例 １で処理した気体混合物と同じ組成の気体混合物をやはり同じ流ｉ、湯温度び圧 力て゛処理した。

使用した溶媒は実施例毎に異なり、夫々純粋炭酸プロピレン（実施例２）、純粋 ジメチルホルムアミド（実施例３）及び純粋γ−ブチロラクトン（実施例４）か らなっていた。

これら３つの実施例では下言己の操作方法を使用した。

処理すべき気体混合物を塔７０で一２４℃まで冷却して、１２２６Ｋｍｏｌｅｓ ／ｈの凝縮物を導管７１を介して回収し、且っＩＳ７７４ｌＳ７７４Ｋ／ｈの予 処理気体混合物を導管３を介して塔７ｏがら排出した。

前記予処理ガスはこれら３つの実施例では下記のモル％組成を有していた： ・プロパン　：　０．７９ ・Ｃｏ２：　１０．２に の予処理気体混合物と溶媒との接触を行ったカラム５は理論段を２１個含み且つ 使方に２つの冷却器６１ａ及び６１ｂ：備えていた。前記冷却器は夫々１１番目 及び２１′：ｌＦ目のプレートに配置し、その出力は吸収による温度上昇を制限 してカラム内の温度プロフィルを＝５℃の誤差内で均一に維持するように選択し た。

導管６４を介してカラム５の頭部から、４９５０ＫＰａの圧力と５Ｐａに等しい Ｈ２Ｓ分圧に相当するＨ０Ｓ含旦とを有する処理済みカスが回収された。

カラム５の底部では、Ｈ，Ｓ及び他の吸収化合物を高濃度で含む溶媒からなる液 相が導管Ｓを介して流出した。

塔７０で形成された凝縮物をカラム７２で蒸留処理した結果、新たな凝縮物とガ スとが形成された。前記凝縮物は導管７３を介して前記カラムから流出し、前記 ガスは冷却ゾーン７５て−２５°Ｃまで冷却した後、導管Ｓを流れる前記エンリ ッチ溶媒と混合してメタン除去込理にかけた。

導管９ａ内な流れるリッチ純溶媒のメタン除去処理は２つのステップで実施した 。先ず、膨張フラスコ２９内で、前記溶媒中に溶解しているメタンの約８０％念 分離せしめる２４５０ｋＰａの圧力に膨張させた結果、第１の高メタン濃度ガス が導管３４を介して排出され、且つメタン予除去リッチ溶媒が導管３５を介して 排出された。１０００ｋＰａの第２膨張処理にかけ、次いで理論プレートを１４ 個備えた蒸留カラム９内で蒸留処理した結果、第２の高メタン濃度ガスが導管３ ２を介して排出され、且つメタン除去リッチ溶媒が５℃の温度及び１０００ｋＰ ａの圧力で導管１１内に得られた。第２の高メタン濃度ガスを圧縮器３３で２４ ００ｋＰａまで圧縮し、次いで導管１０内の第１高メタン濃度ガスと混合し、得 られた混合物を圧縮器２３で５５００ＫＰａまで圧縮した。圧縮器２３から排出 された高メタン濃度圧縮ガスを冷却ゾーン７６に通し、そこで−２５℃まで冷却 して部分的に液化し、ゾーン７６から流出した部分的液化流体を分離器７７に導 入した。前記分離器から導管７８を介して排出された気体フラクションは洗浄カ ラム５に導入される予処理気体混合物と合流し、導管７９を介して分離器から排 出された液相は導管８を介してカラム５がら流出するエンリッチ溶媒と合流した 。

導管１１を介して流出するメタン除去リッチ溶媒を冷却ゾーン１２で冷却して相 互部分的混合を生起させ、分離器１２ａで２つのフラクションに分離した結果、 液体炭化水素留分が導管３７を介して排出され、且つ精製溶媒が導管１４を介し て流出した。

前記精製溶媒を更に、実施例１で説明したように、部分的再生ステップとそれに 続く完全再生ステップとを含む再生処理にかけた結果、炭化水素含量の極めて少 ない酸性ガス流が導管２４を介して排出され、且つ再生溶媒が導管２１を介して 回収された。この再生溶媒は冷却ゾーン２２で一２５℃まで冷却した後で、導管 ６′５：介して洗浄カラム５方向に送った。

各実施例の特定操作条件及び結果な以下の表に示す。

表（続き） ★）　ｐｐｍ（ｖ／ｖ）＝体積ｐｐｍ（ｐａｒｔ　ｐａｒ　＋ｎｉｌｌｉｏｎ） １５表千１−５０３３０７　（１７） 国際調量報告 国際調査報告 ＦＲεε００２２７

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．主としてメタンからなり、Ｈ２Ｓ及びＣ２以上の炭化水素も含み、場合によ っては不活性ガス、Ｈ２Ｏ、ＣＯ２、ＣＯＳ及びメルカブタンのうちの１つ以上 の気体化合物も含み、且つ０．５ＨＭＰａより大きい絶対圧力下にある気体混合 物の選択的脱硫及びガソリン除去処理を極低温で同時に実施する方法であって、 前記気体混合物を洗浄ゾーン（５）で、Ｈ２Ｓ、ＣＯＳ及びメルカブタンを優先 的に溶解し、ＣＯ２は一部分だけ溶解し、大気圧での沸点が４０℃より高く、− ４０℃での粘度が０．１Ｐａ．ｓより小さい液体からなる溶媒（６）と接触させ 、且つＨ２Ｓ及びその他の化合物を吸収した前記溶媒の再生を行い、再生溶媒を 洗浄ゾーンへ再循環させるタイプの方法であり、前記気体混合物及び溶媒の接触 操作を十分に低い温度で、且つ処理すべき気体混合物及び溶媒の質量流量比並び に洗浄用理論段数を、主としてメタンからなりＨ２Ｓ分圧が６５Ｐａより小さく 、処理すべき気体混合物がＨ２Ｓ以外にＣＯＳ及び／又はメルカブタンも含んで いる場合には２６０Ｐａより小さい硫黄含有化合物総分圧を有する処理済ガス（ ６４）と、Ｈ２Ｓ及びその他の吸収化合物を高濃度で含む溶媒並びに処理すべき 気体混合物中に存在するＣ３以上の炭化水素の８０モル％以上に相当する凝縮炭 化水素フラクションからなるリッチ溶媒と称する液相（８）とが形成されるよう に選択して行い、前記リッチ溶媒を少なくとも部分的なメタン除去処理（２９、 ９）にかけて、メタン濃度の低下したメタン除去リッチ溶媒（１１）と称する液 相とメタン濃度の高い気相（１０）とを形成し、前記メタン除去リッチ溶媒を洗 浄ゾーン内の温度より十分に低い温度に冷却（１２）して該メタン除去リッチ溶 媒の相互部分的混合を生起させることにより、酸性化合物Ｈ２Ｓの他に溶媒中に 溶解したＣＯ２、ＣＯＳ、及びメルカブタンも任意に含み且つ炭化水素含量がメ タン当量で表して酸性化合物量の５モル％より低い精製リッチ溶媒と称する下方 液体フラクション（３８）と、メタン除去リッチ溶媒中に存在していた炭化水素 の残りからなる重質炭化水素第１留分と称する上方液体フラクション（３７）と を形成し、前記重質炭化水素第１留分を前記精製リッチ溶媒から分離し、前記精 製リッチ溶媒を再生処理（４６、１６、２０）にかけて、Ｈ２Ｓの殆ど全部と精 製リッチ溶媒中に任意に存在する他の酸性化合物とを含むと共にメタン当量で表 して酸性化合物の５モル％未満の炭化水素を含む酸性ガス流（２４）と再生溶媒 （２１）とを形成し、この再生溶媒を洗浄ゾーン（５）方向に再循環（６）させ ることを特徴とする方法。 ２．処理すべき気体混合物と接触する溶媒が０．０５Ｐａ．ｓ．未満の粘度を有 することを特徴とする請求項１に記載の方法。 ３．処理すべき気体混合物と接触する溶媒が無水形態又は水との混合物の形態で 使用される１種類以上の有機液体吸収剤からなり、これら１種類以上の吸収剤が 、下記の式▲数式、化学式、表等があります▼及び▲数式、化学式、表等があり ます▼で示されるアミド、 下記の式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で示されるアルデヒド、 下記の式 ▲数式、化学式、表等があります▼及び▲数式、化学式、表等があります▼で示 されるアセタール、 下記の式 ▲数式、化学式、表等があります▼及び▲数式、化学式、表等があります▼で示 されるエステル、 Ｃ１〜Ｃ４のアルカノール、 式ＣＨ３Ｏ−［Ｃ２Ｈ４Ｏ］２−ＣＨ３のジエーテル、式Ｒ９Ｏ−Ｃ２Ｈ４−Ｏ −Ｃ２Ｈ４−ＯＨのジエーテルアルコール、式 ▲数式、化学式、表等があります▼のラクトン、及び炭酸プロピレン 【式中、Ｒ１及びＲ２は互いに同じか又は異なり、水素原子又はＣ１もしくはＣ ２のアルキル基を表し、Ｒ３はＣ３もしくはＣ４のアルキルであり、Ｒ４及びＲ ５は互いに同じか又は異なり、Ｃ１〜Ｃ３のアルキル基を表し、Ｒ６はＣ２〜Ｃ ４のアルキル基又は基−［Ｃ２Ｈ４Ｏ］ｎ−Ｒ８［式中Ｒ８はＣ１もしくはＣ２ のアルキル基を表し、ｎは１もしくは２に等しい］を表し、Ｒ７はＣ１もしくは Ｃ２のアルキル基又は基−［Ｃ２Ｈ４Ｏ］ｎ−Ｒ８、であり、Ｒ９はＣ１〜Ｃ４ のアルキル基であり、ｐは２〜４の整数である】の中から選択されることを特徴 とする請求項１又は２に記載の方法。 ４．処理すべき気体混合物を洗浄ゾーン内で溶媒と接触させる温度が０℃〜−４ ５℃であることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の方法。 ５．処理すべき気体混合物を溶媒と接触させるための洗浄ゾーンが１つ以上の洗 浄カラムからなり、各洗浄カラムが洗浄用理論段を１０個以上、好ましくは２０ 個以上含むことを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の方法。 ６．各洗浄カラム内の温度を、当該カラムの１つ以上の点で生起する該カラム内 の流体媒質と冷却用流体との間の間接的熱交検（６１）により、好ましくは±５ ℃の誤差内で維持することを特徴とする請求項５に記載の方法。 ７．処理すべき気体混合物を溶媒と接触させる前に０℃〜−３０℃の温度まで冷 却（２）して、主にＣ３以上の炭化水素及びＨ２Ｓを含む凝縮物と称する液相（ ４）と、予処理気体混合物と称する気相（３）とを形成し、次いで前記予処理気 体混合物を洗浄ゾーン（５）で溶媒と接触させ、前記洗浄ゾーンから出た溶媒（ ８）を前記冷却ステップの結果生じた凝縮物（４）と一緒にしてリッチ溶媒（９ ａ）を形成し、このリッチ溶媒をメタン除去処理にかけることを特徴とする請求 項１から６のいずれかに記載の方法。 ８．処理すべき気体混合物を溶媒と接触させる前に０℃〜−３０℃の温度まで冷 却（２）して、主にＣ３以上の炭化水素及びＨ２Ｓを含む凝縮物と称する液相（ ４）と、予処理気体混合物と称する気相（３）とを形成し、次いで前記予処理気 体混合物を洗浄ゾーンで溶媒と接触させ、前記洗浄ゾーンから出た溶媒（８）か らなる液相と、前記冷却ステップ（２）の結果生じた凝縮物（４）からなる液相 とを夫々別個にメタン除去処理し、これらのメタン除去処理によって生じた気相 を別個に又は混合して任意に冷却ステップ（２）の上流の処理すべき気体混合物 （１）方向に再循環させ、前記別個のメタン除去処理にかけた後の溶媒及び凝縮 物を一緒にしてメタン除去リッチ溶媒（１１）を形成することを特徴とする請求 項１から６のいずれかに記載の方法。 ９．リッチ溶媒及び凝縮物に適用するメタン除去処理を２つのステップで行い、 第１ステップでは、メタン除去処理すべき流体つまりリッチ溶媒もしくは凝縮物 を、当該メタン除去すべき流体中に溶解したメタンの多くを放出させ て第１の高メタン 濃度ガス（３４）とメタン予除去流体（３５）とを形成するのに適した中間圧力 まで膨張させる第１膨張処理（２９）にかけ、第２ステップでは、前記メタン予 除去流体を第２膨張処理にかけ次いで蒸留処理（９）して、第２の高メタン濃度 ガス（３２）とメタン除去流体（１１）とを形成し、第２の高メタン濃度ガスを 第１の高メタン濃度ガスの圧力まで圧縮し、次いで第１の高メタン濃度ガスと混 合してメタン濃度の高い気相（１０）を形成することを特徴とする請求項１から ８のいずれかに記載の方法。 １０．メタン除去処理の第２ステップで第２膨張処理に続く蒸留処理（９）を、 溶媒と接触する前もしくは冷却する前の処理すべき気体混合物から採取した気体 混合物の少なくとも一部分又は再生溶媒の一部分からなる流体（３１）を用いて 、直列に配置された少なくとも２つの再沸騰ゾーン（３０ａ、３０ｂ）で行われ る再沸騰により実施することを特徴とする請求項９に記載の方法。 １１．メタン除去リッチ溶媒の相互部分的混合を生起させるために該溶媒を冷却 （１２）する時の前記溶媒の温度より低い冷却温度が−２５℃〜−８０℃である ことを特徴とする請求項１から１０のいずれかに記載の方法。 １２．精製リッチ溶媒の再生処理が、精製リッチ溶媒を１００ＫＰａより大きい 圧力、好ましくは１５０ＫＰａ〜３００ＫＰａの圧力まで膨張させ（１５）、次 いで前記膨張溶媒を少なくとも１回の部分的蒸発処理（４６、１６）にかけて、 少なくとも１つの酸性ガスフラクション（４７、１７）と、温度が少なくとも０ ℃に等しく圧力が前記膨張溶媒の圧力より小さくて少なくとも１００ＫＰａに等 しい半再生溶媒（１８）とを形成する部分的再生ステップ、並びに主に再沸騰を 使用する蒸留（２０）によって前記半再生溶媒を完全に再生し、酸性ガスフラク ション（１９）と再生溶媒（２１）とを形成する完全再生ステップを含み、前記 再生溶媒が適当に冷却（２２）された後で洗浄ゾーン（５）方向に再循環し（６ ）、種々の酸性ガスフラクション（４７、１７、１９）が互いに合流して炭化水 素をメタン当量で表して酸性化合物の５モル％より低い濃度で含む酸性ガス流（ ２４）を形成することを特徴とする請求項１から１１のいずれかに記載の方法。 １３．精製リッチ溶媒の部分的再生ステップにおける膨張溶媒の部分的蒸発処理 を、先ず前記溶媒を第１の部分的蒸発処理（４６）にかけて、第１の酸性ガスフ ラクション（４７）と、温度が０℃より低い第１の液相（５０）とを形成し、次 いで前記第１の液相を第２の部分的蒸発処理（１６）にかけて、第２の酸性ガス フラクション（１７）と、温度が０℃以上であり且つ圧力が膨張溶媒の圧力より 小さくて少なくとも１００ＫＰａに等しい第２の液相（１８）とを形成するよう に行い、前記第２の液相を半再生溶媒として完全再生ステップで処理し、第１の 酸性ガスフラクション（４７）を０℃以上の温度まで再加熱（４９）した後で第 ２の酸性ガスフラクション（１７）及び半再生溶媒の完全再生処理の結果生じた 酸性ガスフラクション（１９）と合体させて、炭化水素含量がメタン当量で表し て酸性化合物の５モル％未満である酸性ガス流（２４）を形成することを特徴と する請求項１２に記載の方法。 １４．蒸留による半再生溶媒の完全再生処理を、複数の理論段を含み再生された 溶媒が底部から排出（２１）されるようになっているカラム（２０）を用いて行 い、半再生溶媒を２つの流れに分離して一方の流れ（５１）を前記蒸留カラムの 頭部プレートに送り、もう一方の流れ（５２）を前記カラムから排出された再生 溶媒で向流式に再加熱（５２ａ）した後でカラムの中間理論段レベルに導入する ことを特徴とする請求項１２又は１３に記載の方法。 １５．精製リッチ溶媒（１１）が再生前に炭化水素除去用補足的処理にかけられ 、この処理が、好ましくは４つ以上の抽出用理論段を含む第１液体−液体抽出ゾ ーン（３９）で、主にｎ−べンタンより大きい分子質量をもつ炭化水素からなる 抽出剤に前記溶媒を接触させて前記精製リッチ溶媒から第２の炭化水素液体留分 （６２）を分離し、この第２留分（６２）を第１の重質炭化水素留分（３７）と 合体させ、このようにして形成された混合物を加熱（４１）し且つ蒸留処理（４ ２）して、処理すべき気体混合物中に存在するＣ３以上の炭化水素の８０モル％ 以上を含む重質炭化水素留分（１３）を形成し、前記抽出剤（４３）を回収して その大部分を、メタン除去リッチ溶媒の相互部分的混合発生時の温度とほぼ同じ 温度まで冷却（４４）した後で、第１液体−液体抽出ゾーン（３９）方向に再循 環させることからなることを特徴とする請求項１から１４のいずれかに記載の方 法。 １６．洗浄ゾーンから流出した処理済みガスを少なくとも１５℃だけ冷却（５５ ）して冷却処理済みガス（５８）と液体留分（５７）とを形成し、この液体留分 をリッチ溶媒（９ａ）と混合してメタン除去処理にかけることを特徴とする請求 項１から１５のいずれかに記載の方法。 １７．冷却処理済みガスを、第１抽出ゾーン（３９）で使用されなかった抽出剤 部分（４５）を用いて補足的抽出ゾーン（６０）で補足的抽出処理にかけ、純度 のより高い処理済みガス（７）と液体フラクション（６１）とを形成し、この液 体フラクションを第１及び第２炭化水素留分の混合物の蒸留（４１、４２）で使 用すべく再循環させることを特徴とする請求項１５又は１６に記載の方法。 １８．総ての処理に先立って、処理すべき気体混合物を蒸留による乾燥（１５） 及びベンゾール除去操作にかけ且つ無水溶媒と接触させて、特にベンゼンである 芳香族炭化水素の含量が０．１重量％未満の乾燥気体混合物（２６）と、処理す べき気体混合物中に存在する芳香族炭化水素の大部分を含む炭化水素留分（２７ ）と、水を含んだ溶媒からなる液体（２８）とを形成することを特徴とする請求 項１から１７のいずれかに記載の方法。