JPH01502356A - 流動床反応装置 - Google Patents

流動床反応装置

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JPH01502356A JP62502781A JP50278187A JPH01502356A JP H01502356 A JPH01502356 A JP H01502356A JP 62502781 A JP62502781 A JP 62502781A JP 50278187 A JP50278187 A JP 50278187A JP H01502356 A JPH01502356 A JP H01502356A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 流動床反応装置 本発明は、ガス分配板を備え、そこを通って一次ガスがその中に供給される反応 室、および前記分配板上方の空間に二次ガスを供給する装置を備えた流動床反応 装置に関する。
流動床反応装置は、現在多くの興なった用途、たとえば燃焼装置、ガス化装置お よび化学ならびに冶金工程に使用されている。その訳は、それらがたとえばガス と処理される材料の有効な接触、高反応速度、均一な温度、および工程のよい制 御１ｆｉを得ることができるからである。
しかし反応装置が大きくなるにつれて、一層の問題が安定な工程条件および工程 条件の変更のｌｌｌ１ｌに対して生じた。したがって大きい反応装置は屡々例え ば米国特許第４．１８４．４５５号明細書に開示された方法で構成され、そこで ｍｍ室は管状壁によって並行して作用する小室に分割され、前記各小室はそれぞ れの燃料および空気供給装置を備えている。それらの反応装置において、ガス分 配板を通して供給される一次ガスに加えて、二次ガスが前記分配板上方の空間に 供給され、前記作用は主として燃焼室周辺の開口を通して行なわれる。燃焼室の 襞と中心の距離が離れた大きい反応装置において、全横断面を通る二次ガスの均 一な分布は不確実である。５０〜１ＱＱＨＷｅｌＸ上の循環式流動床反応１ｆｌ において、反応装置底部に亘る均一な二次ガスの供給は前記のように達成が困難 である。
この問題点を解決する提案の一例はフィンランド特許出願第８３３１７１９明１ １１ｉＩ＆：開示されたような流体床で燃料を処理する方法および装置であり、 −次ガスは格子に形成された管の底部の孔を通って供給され二次ガスは格子を通 って走る導管を通して供給され、前記導管は前記格子上方の開口に終っている。
しかしながら流動化空気および二次空気の均一な分配は、もし格子が大きければ “過大な”圧力差を必要とする。
フィンランド特許出願第８５０７０８号明細書は、固定流動床が隔壁によって小 室に分割された蒸気ボイラを開示している。二次空気の供給は、開示されない方 法で小室の上部に配置されている。
本発明の目的は、循環床理論で作用する、大きい流動床反応装置において二次ガ スが反応装置の異なった高さで供給されかつ反応装置の横断面上に所望の方法で 分配される、解決法を得ることにある。
本発明による装置は、反応室のガス分配板上方の空間が二次ガス用排出開口を有 する隔壁によって小室に分割されることを特徴としている。
本発明は構造が簡単で、たとえば、下記の利点を有する。すなわち、 一一層有効な噴射、したがって、一層完全な燃焼およ特表千１−５０２３５ｆ； 　（２） び一層有効な硫黄の除去を生ずる、二次空気の一層良い混合、 −ＮＯｘ減少が二次空気の一層均一な分配によりいちじるしく良くなり、 一分配板上方における圧力差が一層均一になり、一層均一な流動化をもたらす。
本発明はざらに、例示として、図面に基づいて説明されるが、その中で、 第１図は本発明による装置の垂直断面図。
第２図は第１図のＡ−Ａ線に沿う拡大断面図。
循環式流動床反応装置１は、空気のような一層ガスを、反応装置ｉ底部に設けら れた空気苗または箱２の入口同口３を通ってうけ入れる。空気はついで反応室４ と空気箱２との間に設けられたガス分配板５を通って反応室４底部に導かれる。
反応室４の底部に、かつ分配板５の頂部に隔壁７が設けられ、隔！！！７は前記 分配板５上方の空間を小室６に分割し、前記隔壁７はたとえば空気のような二次 ガス供給排出開口９に通じる導管８を有している。
隔壁７は、分配板５の面上方、０．５ないし４ｍ、好ましくは１．５ないし２， ５ｍの高さに達している。二次空気は隔壁７の開口９を通って反応室４内に導か れ、また燃焼室を囲む壁の開口１０を通って反応室４に導かれる。間１７の開口 はたとえば０．６および２ｍのような異なった高さで列をなして配置されている 。陽１１７の異なった高さに配置された開口９に対して異なった導管８を連結す ることができ、反応装置に対して垂直に二次空気の所望の分配をもたらすように 導管８に対して異なった空気供給源に連結することができる。さらに、二次空気 排出開口９および１ｏならびに各小室の空気箱２に対してそれぞれの空気供給源 に連結し異なった小室の空気供給を別々に制御することができる。
燃料は反応装置内で陽！７上方の空間に供給されガス分離器１３において煙道ガ スから分離された固体は反応＠獣の壁の開口１１および１２を通って反応１ｉｌ ｌｔに戻される。
本発明はいずれにしても例示として記載された実施例に限定されるものでなく、 異なった変型および変更ならびに応用が下記の請求の範囲に記載された本発明の 概念および範囲から離れることなくなしうるものである。
ＦＩＧ、１ ＦＩＧ、２ 特表千１−５０２３５［；　（３） 、１１．−＾−―−−，ＰＣＴ／ｒＩ８７１０００５５

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. １．反応室であってガス分配板を有しかつその板を通して一次ガスが前記反応室 に供給される前記反応室と、二次ガスを前記分配板上方の空間に導入する装置を 備えた流動床反応装置において、反応室（４）のガス分配板（５）上方の空間が 隔壁（７）によって小室（６）に分配され該隔壁が二次ガス供給用排出開口（９ ）を設けられたことを特徴とする、前記流動床反応装置。
  2. ２．前記小室（６）間の隔壁（７）が前記ガス分配板（５）の面上方０．６ない し４ｍ、好ましくは１．５ないし２．５ｍまで延びていることを特徴とする、請 求の範囲第１項記載の流動床反応装置。
  3. ３．前記隔壁（７）の排出開口（９）が異なった高さに配置されていることを特 徴とする、請求の範囲第１項または第２項記載の流動床反応装置。
  4. ４．異なった前記小室（６）へのガス供給が別々に調節されうることを特徴とす る、請求の範囲第１項、第２項または第３項のいずれか一項に記載の流動床反応 装置。
JP62502781A 1986-04-30 1987-04-27 流動床反応装置 Granted JPH01502356A (ja)

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