JPH0145898B2 - - Google Patents

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JPH0145898B2
JPH0145898B2 JP56503143A JP50314381A JPH0145898B2 JP H0145898 B2 JPH0145898 B2 JP H0145898B2 JP 56503143 A JP56503143 A JP 56503143A JP 50314381 A JP50314381 A JP 50314381A JP H0145898 B2 JPH0145898 B2 JP H0145898B2
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sma
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JP56503143A
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JPS57501497A (ja
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Robaato Daburyuu Hooruman
Yuujiin Eru Ranguraisu
Ronarudo Jii Booanon
Dominitsuku Bii Rubitsuku
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NATSUPU SHISUTEMUZU YUU ESU EI Inc
Original Assignee
NATSUPU SHISUTEMUZU YUU ESU EI Inc
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Publication date
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Publication of JPH0145898B2 publication Critical patent/JPH0145898B2/ja
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/54Absorbers, e.g. of opaque materials
    • G03F1/56Organic absorbers, e.g. of photo-resists
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F3/00Colour separation; Correction of tonal value
    • G03F3/10Checking the colour or tonal value of separation negatives or positives
    • G03F3/101Colour or tonal value checking by non-photographic means or by means other than using non-impact printing methods or duplicating or marking methods covered by B41M5/00

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Color Printing (AREA)
  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)

Description

請求の範囲  基材、 䞊蚘基材䞊に配眮された厚さ玄0.5〜3.0ミクロ
ンの画像局であ぀お、珟像剀に可溶性であり、分
子量1000〜150000の双峰スチレン―マレむン酞無
氎物コポリマヌ、そのハヌプステルおよびアン
モニりムハヌフアミドを含有するフむルム圢成性
ポリマヌ暹脂、該ポリマヌ暹脂の少なくずも20重
量の高分子量スチレン―マレむン酞無氎物コポ
リマヌ、そのハヌプステルおよびアンモニりム
ハヌフアミドおよび該ポリマヌ暹脂の少なくずも
20重量の䜎分子量スチレン―マレむン酞無氎物
コポリマヌ、そのハヌプステルおよびアンモニ
りムハヌフアミドを含み、か぀該高分子量コポリ
マヌの平均分子量玄10000を越え、䜎分子量コポ
リマヌが平均分子量玄5000未満である有機画像
局、および 䞊蚘画像局䞊に配眮された厚さ玄0.5〜2.0ミク
ロンのレゞスト局であ぀お、䞊蚘珟像剀に関する
その溶解性が化孊線に察するこのレゞスト局の露
光によ぀お倉化する材料である感光性レゞスト局
を有する感光性画像圢成材料。  感光性レゞスト局が感光補ゞアゟ化合物およ
びポリマヌ暹脂を含む第項蚘茉の材料。  画像局が曎に着色媒質を含む第項たたは第
項蚘茉の材料。  ゞアゟ化合物がキノンゞアゞドおよび芳銙族
ゞアゟニりム化合物からなる矀から遞択される第
項蚘茉の材料。  レゞスト局が通垞連続盞ず通垞䞍連続盞から
成る感光性フむルム構造䜓であり、䞊蚘連続盞が
構造䜓の副次成分であ぀お、珟像剀に察する溶解
性が化孊線に察する露光によ぀お倉化する感光性
材料から成り、䞊蚘䞍連続盞が構造䜓の䞻芁成分
であ぀お、溶媒に実質的に䞍溶性の粒状物質を含
有する重合䜓゚マルシペン〜分散䜓から成り、䞊
蚘䞡盞がフむルム構造䜓党䜓を通じお均䞀に盞互
分散されおおり、 䞊蚘副次盞材料がキノンゞアゞドおよび芳銙族
ゞアゟニりム化合物の塩から成る矀から遞ばれる
ゞアゟ化合物を含む第項の材料。  レゞスト材料が化孊線に露光前には珟像剀に
可溶性であり、露光によ぀お䞍溶性にな぀お、感
光性画像圢成材料をネガチブ䜜甚性にする第項
の材料。  レゞスト材料が化孊線に露光前には珟像剀に
䞍溶性であり、露光によ぀お可溶性にな぀お、画
像圢成材料をポゞチブ䜜甚性にする第項の材
料。  感光性ゞアゟ化合物が芳銙族キノンゞアゞド
のスルポステル、スルホアミドおよびスルホン
酞塩から遞択される第項蚘茉の材料。 発明の背景 本発明は感光性画像圢成組成物、曎に詳しくは
二局匏感光性画像圢成フむルムに関する。 最も䞀般的に採甚される感光性画像圢成システ
ムでは、倚くの堎合、ハロゲン化銀ベヌス組成物
が䜿甚されおいる。䟋えば、ハロゲン化銀コンタ
クトフむルムは、長幎の間広く䜿甚されおおり、
たた今たでも産業での暙準である。同様に広範な
各皮のハロゲン化銀カラヌプルヌフフむルムずコ
ンタクトペヌパヌが共通しお䜿甚されおいる。プ
リント配線レゞストでさえ、䞀般にはハロゲン化
銀ベヌス感光性システムに頌぀おいる。 ハロゲン化銀感光性画像圢成組成物はその貯蔵
や䜿甚においお䞍利であり、光遮断容噚に貯蔵せ
ねばならず、その貯蔵寿呜は非垞に限られおい
る。曎に、凊理は暗条件においおたたは柔らかい
安党光条件䞋に実斜せねばならない。ハロゲン化
銀ベヌス組成物の珟像は、䞀般に、各別に珟像凊
理、定着凊理および氎掗凊理を必芁ずするマルチ
タむププロセスである。これらの凊理に䜿甚する
薬剀もたた、生態孊的に望たしくなく、しばしば
毒性を有し、廃棄するこずが困難である。曎に、
凊理埌においおさえ、ハロゲン化銀ベヌス画像
は、早期に品質䜎䞋し、容易にスクラツチが぀
き、さもなければ衚面損傷を受けやすい。 曎にハロゲン化銀フむルムは、ハヌフトヌン画
像の䜜成を詊みるずきに困難性を䌎う。䟋えば、
均䞀な光孊濃床のハヌフトヌン画像を䜜成するこ
ずは党く困難であり、特に、画像のドツトやホヌ
ルの゚ツチングによ぀お画像衚面積を枛ずるこず
が曎に必芁であるような䜿甚においおそうであ
る。 ハロゲン化銀画像圢成組成物は非垞に限られた
゚ツチング寛容床をもたらし、ハロゲン化銀画像
に゚ツチング液を適甚するず、溶液は画像ハむ
ラむト郚におけるドツト、シダドヌ郚におけるホ
ヌルの呚囲およびその䞊に画像の頂面を攻撃す
る。埓぀お、画像の光孊濃床の枛少をもたらしな
がら、画像の厚さはその呚囲に沿぀お枛少され
る。光孊濃床の倧きな枛少は䞀般に倚くの甚途
䟋、カヌラヌプルヌフむングにおいおは受け
入れられないので、ハロゲン化銀ハヌフトヌン画
像の゚ツチングは非垞に限られた堎合のみ可胜で
ある。曎に、画像衚面が゚ツチング液から保護さ
れおいないような非ハロゲン化銀ベヌス画像にお
いおも同様な問題が起生する。 ハロゲン化銀感光性画像圢成組成物に代わる材
料が提案され、珟圚垂堎に提䟛されおいるが、こ
れらの代換え材料は倚くの理由のためにハロゲン
化銀材料ずは有意矩に眮換されおいない。䟋え
ば、これらの代換え材料はハロゲン化銀材料で認
められるず同じ欠点を倚くこうむ぀おおり、その
䞭には貯蔵が困難であるこず、貯蔵寿呜が短いこ
ず、安党光ずマルチステツプ珟像であるこず、生
態孊的に望たしくない凊理操䜜であるこずなどが
ある。たた、これらの代換え組成物は露光および
珟像の前埌の䞡者においおスクラツチや他の損傷
を受けやすい。その結果、ポスト珟像保護オヌバ
ヌコヌトがしばしば必芁である。曎に、ハロゲン
化銀組成物ずは異な぀お、これらの代換え組成物
はしばしばマルチステツプ露光が必芁である。最
埌に、倚分に最も重芁なこずであるが、これらの
代換え材料は䞀般に珟像や露光の寛容床が非垞に
限られおおり、そしお光孊濃床や鮮明床が䞍充分
な画像をもたらす。 発明および目的の芁玄 本発明は、埓来の感光性画像圢成組成物に結び
付いた各皮の困難を解消する二局匏感光性画像圢
成材料に関する。 最も広い意味においお、本発明は、基材、該基
材䞊に蚭けられた有機画像局および該画像局䞊に
蚭けられた有機レゞスト局から成る感光性画像圢
成材料に関する。本発明における重芁な新芏な点
は、特定な局成分ず厚さの付䞎にある。曎に、重
芁な特城は、この二局匏ハヌフトヌン画像の圢成
ず゚ツチングを包含するハヌフトヌン゚ツチング
法の発芋にある。 本発明の感光性画像圢成材料は、厚さ玄0.3〜
3.0ミクロンの画像局を有する基材から成る。画
像局は珟像剀に可溶でなければならず、䞀般に有
機フむルム圢成ビヒクルから成る。 フむルム圢成ビヒクルはスチレン―無氎マレむ
ン酞コポリマヌの特定のグルヌプから遞ぶこずが
奜たしく、これによいおは埌に詳述する。このグ
ルヌプのコポリマヌにおいお、特に重芁なサブグ
ルヌプは双峰のスチレン―無氎マレむン酞コポリ
マヌであり、これに぀いおも埌に詳述する。 画像局䞊に蚭けられるレゞスト局は、厚さ玄
0.5〜20ミクロンでなければならない。この局は
有機ベヌス材料から成り、その珟像剀に察する溶
解性は化孊電磁線に察するレゞスト局の露光によ
぀お倉化する。本発明の実斜においお奜適な特定
のレゞスト材料は、埌に詳述する。 埓぀お、本発明の重芁な目的は、特殊な取り扱
いを必芁ずせず、貯蔵するこずができ䞔぀日光条
件䞋で珟像できる二局匏感光性画像圢成材料を提
䟛するこずにある。 本発明の他の目的は、氎たたは匱アルカリ性珟
像液で凊理しお容易に耐久性の画像を圢成できる
感光性画像圢成材料を提䟛するこずにある。 本発明の曎に他の目的は、顕著な鮮明床ず光孊
濃床を有する画像を圢成でき、曎に耐久性で長期
間長持ちし䞔぀保護オヌバヌコヌテむングなしで
もスクラツチや他の衚面損傷に察しお盞圓に耐性
である感光性画像圢成材料を提䟛するにある。 本発明の曎に他の目的は、マルチプルステツプ
の露光たたは珟像を必芁ずしない感光性画像圢成
材料を提䟛するにある。 本発明の重芁な目的は、゚ツチングにより画像
の光孊濃床に倧いに圱響を䞎えるこずなく、゚ツ
チング皋床を容易に倉え埗る高品質ハヌフトヌン
画像が圢成可胜な感光性画像圢成材料を提䟛する
にある。 本発明の重芁な他の目的は、ハヌフトヌン画像
の改良された゚ツチング法を提䟛するにある。 本発明の他の目的および特色は、請求の範囲ず
共に次の明现曞および図面の審査により明らかず
なるのであろう。発明はここにおいおは奜たしい
かたたは䟋瀺的な実斜態様に関連しお述べられお
いるが、これらの実斜態様は発明を消耗たたは限
定するものではない。むしろ、本発明はすべおの
代換え技術、倉圢および均等物を包含するもので
あり、それらは添付請求の範囲によ぀お定矩され
る劂く発明の粟神ず範囲に包含され埗る。
【図面の簡単な説明】
第図は、網目スクリヌンを通じお化孊電磁線
に有利に露光するずきの本発明感光性画像圢成材
料を瀺す断面図である。第図は、網目スクリヌ
ンを通じお露光した埌に材料のレゞスト局に朜像
が圢成されたこずを瀺す第図の゚レメントの図
瀺である。第図は、レゞスト局の非露光郚ず画
像局の察応する郚分を陀去しお、基材䞊にハヌフ
トヌンハむラむトドツト画像を残存させた埌
の第図の補品の図瀺である。第図は、着色画
像局の゚ツチング埌の第図のハヌフトヌン画像
の断面図である。第図は、第図の゚ツチング
枈補品の平面図である。第図は、本発明による
感光性画像圢成材料で圢成された゚ツチング枈ハ
ヌフトヌンシダドりホヌル画像を瀺す第図
のそれず同様な平面図である。同じ参照番号は、
異な぀た図面を通じお察応する特色に適甚されお
いる。 奜たしい実斜態様の詳现な説明 図面に関しお、第図に図瀺の感光性画像圢成
材料は、基材、着色媒質を含む画像局
およびレゞスト局を有する。レゞスト局
䞊には、補品の画像方向ぞの露光のために網目
スクリヌンが䜍眮されおいる。 本発明の実斜に有甚な基材は、透明なプラスチ
ツクフむルムたたはガラスの堎合ず同様に透明で
あ぀およく、玙たたは金属のプレヌトやホむルの
堎合ず同様に䞍透明であ぀およく、たたは぀や消
しフむルムの堎合ず同様に半透明であ぀およい。
有甚な透明基材ずしおは、ボリ゚チレンフむル
ム、ポリ゚チレンテレフタレヌトフむルム、ポリ
カヌボネヌトフむルム䟋、ビスプノヌルず
ホスゲンの熱可塑性ポリカヌボネヌト瞮合生成物
Lexanが䟋瀺される。これらの透明フむルム
は、䞀般目的甚コンタクトフむルムやカラヌプル
ヌフフむルムの劂き感光性画像圢成材料の補造に
䜿甚するこずができる。有甚な䞍透明基材ずしお
は、充填剀入りポリプロピレン合成玙やポリ゚チ
レン被芆セルロヌズ玙の劂き各皮の玙が䟋瀺され
る。着色䞍透明基材もプリントペヌパヌやネガチ
ブおよびたたはポゞチブプルヌフペヌパヌを補
造するのに䜿甚できる。本発明感光性画像圢成材
料は平版版材を補造するのに䜿甚できるので、有
甚な平版基材は金属プレヌトや他の硬質支持䜓も
包含する。最埌に、有甚な半透明基材ずしおは、
補造時に぀や消しにしたりたたはその埌にコヌテ
むングを適甚したポリ゚チレンフむルムやポリ゚
チレンテレフタレヌトフむルムが䟋瀺される。こ
れらの基材で補造した画像圢成材料は、ゞアゟタ
むプ癜色プリントやセピアsepia甚にたた圓
業者に明らかな他の目的甚に奜適な゚ンゞニアリ
ング図面䞭間䜓ずしお䜿甚するこずができる。 本発明材料に䜿甚する画像局は、䜿甚する特定
のレゞスト局のための珟像剀に可溶な組成物でな
ければならない。本発明の実斜に特に有甚な珟像
剀ずしおは、氎および匱アルカリ性氎溶液が䟋瀺
される。これらの珟像剀はレゞスト局に関連しお
たた埌述の実斜䟋においお曎に説明する。 本発明組成物における固有の重芁な利点の倚く
は、画像局およびレゞスト局の厚さを泚意深くコ
ントロヌルするこずによ぀おもたらされる。 最初に画像局に着目しお、この局の厚さは玄
0.3〜3.0ミクロンの範囲でなければならないこず
が刀明した。より厚くなるず、画像局は珟像が䜎
䞋䞔぀困難ずなるず共に解像床が貧匱になり、厚
さ玄0.3ミクロン未満の画像局は必芁なフむルム
匷床ず密着が䞀般に欠劂し、たたコンタクトペヌ
パヌやカラヌプルヌフフむルムのための光孊濃床
を珟像できない。 画像局に぀いおの特定の厚さ範囲内においお、
ある皮の甚途では曎に厚さの制限が必芁であるこ
ずが刀明した。埓぀お、䟋えば、最高のカラヌプ
ルヌフフむルムは厚さ玄0.3〜1.0ミクロンの画像
局を必芁ずする。このこずが最高のカラヌ濃床ず
玔床ず共に顕著な解像床をもたらす。他方、䞀般
目的甚コンタクトフむルムは最適には玄1.0〜3.0
ミクロンのより広い範囲の厚さの画像局を有しお
いなければならない。 䞊述の劂く、画像局はレゞスト珟像剀に可溶な
有機フむルム圢成ビヒクルを含有する。倚数の有
機フむルム圢成ビヒクルが公知であるが、ある皮
のスチレン―無氎マレむン酞コポリマヌが本発明
に関連しお予想倖の優れた性胜を瀺すこずが刀明
した。曎に、これらのコポリマヌは、ハヌフトヌ
ン画像圢成や゚ツチング奜適な感光性画像圢成材
料の補造の劂き特定甚途に容易に仕立お埗るこず
が刀明した。 本発明の実斜に特に有甚であるず刀明したスチ
レン―無氎マレむン酞SMAコポリマヌは、
1000〜150000の範囲の分子量ず以䞋の劂き構造を
有するものを包含する。 (1) SMAコポリマヌ 〔匏䞭、〜〜10である。〕 (2) SMAコポリマヌのハヌプステルおよびア
ンモニりムハヌフアミド 〔匏䞭、はOHONH2ONH4OR
ONH3RONH2R2ONHR3ONH3RNH2
ONaOKたたはOLiは必芁に応じおケト
ン、アルコヌル、゚ヌテル、゚ヌテルアルコヌル
たたはアリヌルの劂き官胜基を有するC1〜C10の
アルキル基、〜〜10である。〕 䞊蚘SMA組成ずブレンドしおよい有甚な添加
剀は、1000〜150000の範囲の分子量のフむルム圢
成ポリマヌを包含する。 〔匏䞭、およびは䞊蚘SMA匏(1)
および(2)に関連しお述べたものず同意矩。ぱ
チレンたたはメチルビニル゚ヌテル、は氎玠、
アルキルたたはアリヌルである。〕 ある甚途では、䞊蚘ポリマヌの特性を仕立おる
こずが望たしい。䟋えば、高分子量ポリマヌは氎
性珟像剀での溶解が䜎䞋する傟向が認められ、画
像局溶解性を改良するために添加剀を加える必芁
があるかもしれない。䞊蚘構造の䜎分子量ポリマ
ヌは溶解性改良のためにかかる堎合に䜿甚するこ
ずができる。䟋えば、匏(1)に基づくSMA暹脂
〔匏䞭、〜、〜、分子量1500
〜3000である。〕およびそのハヌプステルおよ
びアミン塩は、画像局溶解性の増倧に特に有甚で
ある。他の有甚な可溶化剀は、8000ず10000の間
の分子量を有する䞀般に線状の゚チレン無氎マレ
むン酞暹脂、およびそれらの酞、単䞀アンモニり
ム塩、耇アンモニりム塩、ハヌプステルおよび
ゞ゚ステル䜓を包含する。他の有甚な皮類は、分
子量5000〜100000のポリメチルビニル゚ヌテ
ル無氎マレむン酞暹脂およびそれらの察応する
ハヌプステル䜓である。これに関連しお有甚な
曎に他の皮類の氎溶性材料は、グリコヌル類であ
る。 䞊蚘可溶化剀に加えお、フむルム倉性剀が画像
局の有機フむルム圢成ビヒクルに加えられおよ
い。䟋えば、ポリビニルアセテヌトの劂き化合物
が画像局可撓性を改良するのに䜿甚されおよく、
たた゚ポキシ゚ステル類を摩擊抵抗を改良するの
に䜿甚するこずができる。 画像局は、圓業者に呚知の倚くの垞套のコ
ヌテむング技術のひず぀によ぀お基材に適甚
されおよい。䟋えば、溶媒および氎性の䞡泚型圢
成技術、䞊びに通垞のロヌラおよびグラビア適甚
凊理が䜿甚されおよい。 圓業者においお認められる劂く、本発明の堎合
ず同様に基材に察しお薄いコヌテむングを適甚す
るずきに密着問題が存圚する。この問題は、画像
局および倧なる皋床の密着融知性を瀺す基材材料
の遞定によ぀お解消できる。他の堎合においお
は、ポリ゚チレンフむルムやポリ゚チレンテレフ
タレヌトフむルムが䜿甚されるので、基材にサブ
コヌテむングを適甚するか、たたは特殊な前凊理
基材を䜿甚するこずが必芁ずなるかもしれない。
䟋えば、画像局が氎性泚型成圢である堎合、高分
子量SMAコポリマヌ平均分子量玄50000のメ
チル゚チルケトン溶液で基材をサブコヌトするこ
ずが特に有効であるかもしれない。溶媒泚型成圢
フむルムに関しおは、高分子量のSMAの同様な
サブコヌテむングも有効であろう。この副局の䜿
甚が氎性および溶媒䞡泚型成圢のためには曎に予
想倖の利点を有し、埗られる画像圢成材料は、基
材䞊の顔料保持たたはその着色の欠劂のため
により透明なバツクグラりンドを圢成する。より
少なくお奜たしい代換えは、基材に察する画像局
の密着を改良するために、密着性コヌテむングを
備える前凊理フむルムを䜿甚するこずである。 感光性画像圢成材料を平版版材ずしお䜿甚する
劂き甚途では、画像局に着色媒質を導入するこず
は䞍必芁である。しかし、本発明の奜たしい実斜
態様では、画像局はフむルム圢成ビヒクル内に均
䞀に分散された着色媒質を含有する。 着色媒質は、倚数の垂販顔料や染料の䞭から遞
ぶこずができる。着色媒質は、氎性圢態、溶媒可
溶䜓たたは分散圢態で䜿甚するこずができる。粒
状物質を䜿甚する堎合、粒子サむズは画像局の厚
さ以䞋でなければならない。奜たしくは、着色媒
質粒子は100〜5000オングストロヌムの範囲であ
る。より奜たしくは、該粒子は250〜2500オング
ストロヌムの範囲である。䞀般に、より小さな粒
子サむズが良奜な被芆、䞍透明およびフむルム匷
床を䞎える。 䜿甚する着色媒質の品質は、補品党䜓においお
少なくずも3.0の光孊濃床をもたらすのに充分な
ものでなければならない。重量基準では、着色媒
質ずフむルム圢成ビヒクルの比は〜
の範囲、奜たしくは〜の範囲にある
べきである。ビヒクルに察する着色媒質の比は、
密着性、可撓性および珟像速床の劂き倚くのフむ
ルム特性に圱響を䞎えるので、実際に䜿甚する顔
料の量は意図する甚途に䟝存する。 本発明の実斜に有甚な倚数の顔料および染料は
圓業者に明らかであるが、かかる有甚な材料のい
く぀かを䞋蚘テヌブルずに瀺す。 テヌブル 顔料 二酞化チタンルチル圢 酞化亜鉛 酞化鉄倩然 クロムオキサむドグリヌン モリブデヌトオレンゞ りルトラマリヌンブルヌ ハンザむ゚ロヌ トルむゞンレツド リ゜ヌルレツド リ゜ヌルルビン ゞアリヌラむドむ゚ロヌ キナクリドンバむロレツト19 フタロシアニンブルヌ カヌボンブラツク ラヌベン1000R リヌガル400R300 ゚ルフテツクス スペシダルシナワルツ4A モグル モナヌク74 アクアブラツクデむスパヌゞペン アりレスパヌスW7012 テヌブル 染料 メチルバむオレツト ロヌダミン フクシン メチレンブルヌ ノむクトリアブルヌ マラカむトグリヌン ビスマルクブラりン アリザリンオレンゞ レゞスト局は通垞のコヌテむング技術を再
び䜿甚しお画像局に適甚しおよい。本発明感光性
画像圢成材料の顕著な露光、珟像および解像特性
を埗るために、䞊蚘局の厚さは玄0.5〜2.0ミクロ
ンの範囲であるこずが䞀般に必芁である。厚さ
0.5ミクロン未満のレゞスト局では、䞀般にレゞ
スト匷床ず密着が䞍充分であり、たた耐スクラツ
チ性が貧匱である。他方、過剰な厚さのレゞスト
局では、解像ず貯蔵寿呜が貧匱ずなる。曎に、厚
いレゞスト局は珟像時間を増倧させ、たた䞀般に
䞍経枈であるので、そのようなこずは避けなけれ
ばならない。 レゞスト局は、珟像剀に察する可溶性が化孊線
の露光により倉化する材料から成る。非垞に各皮
のかかる材料が圓該分野においお呚知であるが、
本発明の顕著な利点は、以䞋に述べるレゞスト材
料で最良に埗るこずができる。 特に奜適なレゞスト材料は、1975幎月19日に
出願され、1977幎月15日出願の䞀郚系属出願番
号815899号のために攟棄され、今回1979幎月25
日出願の係属出願番号051652号のために攟棄され
た米囜特蚱出願番号588334号に開瀺されおおり、
その内容はここに参考のために導入されおいる。
これらの特蚱出願のレゞスト材料は、通垞連続し
た盞ず通垞䞍連続の盞から成り、連続盞は構造党
䜓の副次成分である。連続盞は、珟像剀に察する
溶解性が化孊線の露光により倉化する感光性材料
から成る。䞍連続盞は、構造党䜓の䞻芁成分であ
り、珟像剀に実質的に䞍溶の粒状材料から補造さ
れる重合䜓゚マルシペン〜分散䜓から成る。これ
ら぀の盞は、レゞスト局党䜓を通じお均䞀
に盞互分散されおいる。 䞊蚘レゞスト組成物の副次盞材料は、ゞアゟ化
合物、感光性暹脂、感光性染料、アゟ化合物およ
び重クロム酞塩の矀から遞ばれおよい。レゞスト
フむルムの゚マルシペン 分散䜓の重合䜓䞻芁盞
材料は、アクリル暹脂、酢酞塩ず゚チレンのコポ
リマヌ、スチレンずアクリレヌトのコポリマヌ、
ポリビニルアセテヌトおよびビニルアセテヌトず
アクリレヌトのコポリマヌの矀から遞ばれおよ
い。 䞊述の連続盞―䞍連続盞レゞスト局の奜たしい
組成物は、ポリビニルアセテヌト―アクリルポリ
マヌ氎䞭゚マルシペン分散䜓ず、パラゞアゟゞフ
゚ニルアミン硫酞塩ずパラホルムアルデヒドの瞮
合生成物塩化亜鉛で安定化から圢成されおよ
い。奜たしい代換え䞍連続盞材料ずしおは、ポリ
アクリルアミド、ポリビニルアセテヌト、ポリス
チレンアリルアルコヌルおよびポリビニルブチラ
ヌルが䟋瀺される。 本発明のレゞスト組成物ずしお有甚な他の感光
性材料ずしおは、パラゞアゟゞプニルアミン硫
酞塩瞮合生成物ヒドロキシセルロヌズ
Hercules補Natrosol HHR250たたはパラゞ
アゟゞプニルアミン硫酞塩瞮合生成物ポリア
クリルアミド高分子量の劂き氎性ベヌスのゞ
アゟコロむド混合物が䟋瀺される。 有甚な溶媒ベヌスの代換えレゞスト材料ずしお
は、溶媒可溶のゞアゟおよび暹脂の混合物が䟋瀺
される。かかるゞアゟはテヌブルに瀺すものに
よ぀お代衚される。この堎合に有甚な暹脂はテヌ
ブルに瀺すものによ぀お代衚される。しかし、
これらのテヌブルは制限的なものず考えおはなら
ない。 テヌブル  の劂きナフタキノンゞアゞドのスルポス
テル類 の劂きナフタキノンゞアゞドのスルホンア
ミド類 (3) パラゞアゟゞプニルアミン硫酞塩―ホルム
アルデヒド暹脂ず、リンタングステン酞、リン
モリブデン酞、テトラフルオロホり酞、ヘキサ
フルオロリン酞、トル゚ンスルホン酞、ナフタ
レンゞスルホン酞、ビニルリン酞たたは
2′4′テトラヒドロキシベンゟプノ
ンずの反応生成物 テヌブル  プノヌルホルムアルデヒドノボラツク ―クレゟヌルホルムアルデヒドノボラツク ゚ポキシ暹脂゚ピクロロヒドリン―ビスプ
ノヌル ポリビニルアセテヌト ポリビニルブチラヌル ゚チルアクリレヌト―アクリル酞コポリマヌ ビニルアセテヌト―ビニルフタレヌトコポリマ
ヌ ポリアミド暹脂 プノヌル暹脂 プノキシ暹脂 ゚ポキシ゚ステル暹脂 ポリむミド暹脂 ビニリデン―アクリロニトリルコポリマヌ 䞊述のゞアゟ材料に関連しお特に有甚な埌露光
凊理液たたは珟像剀は、1978幎月日に出願さ
れ、今回1979幎月25日出願の米囜特蚱出願番号
051478号のために攟棄された米囜特蚱出願番号
875367号に開瀺されおいる。ここに述べられおい
る凊理液ずしおは、残存感光性ゞアゟが芪油物質
を圢成できなくするようにこれず反応可胜な氎溶
性枛感剀、および炭玠単䜍以䞋の氎溶性脂肪族
ポリオヌル、これらポリオヌルの酞誘導モノ゚ス
テルおよび該モノ゚ステルのアルカリ金属塩から
遞ばれるフむルム圢成剀が䟋瀺される。出願番号
875367号の党蚘述が参考のためにここに導入され
る。 再び、本発明の感光性画像圢成材料は通垞の方
法によ぀お圢成される。画像局が最初に芁すれば
連続通過によ぀お基材䞊に被芆され、続いお連続
通過によ぀お適甚されおもよいレゞスト局が被芆
される。これらの局は、レゞスト材料および画像
局フむルム圢成ビヒクルの遞定に埓぀お、溶媒か
らたたは氎性媒䜓から成圢できる。勿論、ほずん
どの堎合、レゞスト局を適甚する前に画像局をた
ず也燥し、そしおレゞスト局自䜓を也燥する。特
定の也燥枩床の必芁性は、䜿甚する配合の性質に
䟝存し、たた圓業者には明らかである。 本発明の感光性画像圢成材料の露光は、レゞス
ト局ず画像局の厚さず組成に䟝存する。䟋えば、
カラヌプルヌフフむルムでは、5KW氎銀蒞気源
2800マむクロワツトcm2䞋10〜30秒間の露光
が満足な画像をもたらす。平版フむルムでは、同
䞀源䞋で20〜180秒間が充分であるが、30〜60秒
間が奜たしい。 圓業者が予期する劂く、珟像時間はレゞスト局
ず画像局の厚さに盎接関連し、加えお着色媒質察
ビヒクル比、ポリマヌ分子量、ポリマヌ酞䟡、珟
像剀匷床䟋、濃床、PH、衚面匵力、むオン性成
分および画像局の熱凊理履歎にも関連する。䞀
般に珟像時間は15〜120秒間であるが、30〜90秒
間が奜たしい。ポゞチブ䜜甚性レゞストでは、ポ
ゞチブ䜜甚性レゞスト材料が露光により可溶化さ
れる堎合、露光時間は勿論、珟像時間を決定する
のにより䞀局重芁なフアクタヌである。 䞊蚘教瀺に通垞埓う感光性画像圢成材料は、ハ
ヌフトヌン画像の圢成に有甚であるが、特定のサ
ブグルヌプの有機フむルム圢成ビヒクルを利甚す
る感光性画像圢成材料は、ハヌフトヌン甚途にお
いお予想倖の顕著な性胜を瀺す。 ハヌフトヌン画像は実際には、ハむラむト郚の
小さなドツトの集たりずシダドヌ郚の小さなホヌ
ルの集たりから成る。ハヌフトヌン画像は、第
図に図瀺の劂く網点スクリヌンを通じお化孊線に
プルヌフむングフむルムの劂き感光性画像圢成材
料を露光させるこずによ぀お補造される。この図
においお、材料たたはフむルムの党䜓の各郚
は、基材、着色画像局およびネガチブ䜜
甚性レゞストである。露光埌、露光郚
䞎えられる溶媒に察しお䞍溶性ずな぀おいる
ず非露光郚同䞀溶媒に察するその溶解性は
未倉化のたたであるから成る朜画が圢成され
る。珟像では、必芁な珟像剀をフむルムの衚
面䞊に接觊させ、必芁に応じおラビングするこず
によ぀お実斜され、レゞスト可溶性郚分が画
像局の察応する可溶性郚分ず共に陀去され
る。このこずは第図に瀺す構造を残し、ドツト
は断面で瀺されおいる。これらのドツトは、
画像局の光孊濃床によ぀お予め決定された光
孊濃床を有し、前者の光孊濃床は順番に局厚、こ
れに分散たたは溶解した着色媒質の濃床ず性質、
および採甚した分散法の凜数である。 カラヌプルヌフむングおよび他のハヌフトヌン
甚途では、ハヌフトヌン画像が゚ツチング可胜で
あるこずが䞀般に望たしく、たたしばしば必芁で
ある。゚ツチングプロセスの目的は、ハむラむト
郚のドツトのサむズたは断面積を枛じ、䞔぀シダ
ドヌ郚のホヌルのサむズを増倧させお、色および
トヌンリプログクシペンを正しくするこずにあ
る。これらの甚途においおは、ドツトの光孊濃床
ずホヌル呚囲面積が、゚ツチングプロセスによ぀
お䞀般に倉化するこずなく残぀おいるこずが最も
重芁である。 䞊述の劂く、色分解ずしお䜿甚する埓来技術の
フむルムは、ドツトホヌル画像光孊濃床に圱響
を䞎えるこずなく゚ツチングするこずができず、
たたピンホヌルを圢成する可胜性がある。その理
由は、゚ツチング液が画像衚面ず画像呚囲の䞡者
を攻撃するからである。この埓来技術の材料の欠
点は、過床に厚いドツトを圢成する露光を採取す
るこずによ぀お非垞に限られた範囲で解消するこ
ずができ、だから癟分率でぱツチングによる濃
床の損倱は最小限である。しかしながら、この堎
合には、正垞なドツトが圢成される䞀般の堎合ず
共に、ピンホヌリングのある皋床の危険性ず光孊
濃床のある皋床の損倱が垞に存圚する。光孊濃床
の損倱が過床であるず、マスタヌは䜿甚できなく
なる。それは化孊線が枛少した濃床の郚分を通じ
お焌き付けるこずができるからである。しかし、
過床の濃床枛少がない堎合でも、フむルム䞊の光
孊濃床の倉化はフむルム露光寛容床を制限する。 埓来技術のハヌフトヌン系に比范しお、本発明
の新芏な構造では、゚ツチングにより、光孊濃床
に倧いに圱響を䞎えるこずなく、ドツト盎埄の枛
少ずホヌル盎埄の増倧を受ける。埓぀お、第図
ず第図から、ドツトレゞスト郚分がドツト画像
局の衚面を゚ツチング液およびスクラツ
チや他の衚面損傷から保護するこずがわかる。第
図のドツト画像が、最初に䜿甚したのず䞀般に
等しいかたたはより匷力な珟像剀で接觊により曎
に珟像たたぱツチングに付されるず、ドツト画
像局の呚囲郚分は、該局の厚さたたは濃床を
倉えるこずなく陀去され、盎埄がd1からd2に枛少
される。実際のドツト構造は第図に瀺され、こ
こではレゞストドツト郚分は倉化しおいない
が、ドツト画像局′は断面を充分に枛少され
おいる。第図のドツト画像の平面は第図で明
らかである。第図の゚ツチングされたドツト構
造に関連しお、レゞスト局の非支持瞁は萜䞋する
傟向にあり、これによ぀おハヌフトヌン画像の呚
囲が摩滅や未知物質ずの接觊ずによ぀お損傷する
こずから保護されるこずが、曎に認識されねばな
らない。 同様に第図は露光および゚ツチング埌のハヌ
フトヌン画像のシダドヌ郚を瀺し、゚ツチング凊
理によ぀おホヌルは盎埄がd3からd4ぞ倧きく
な぀おいるが、レゞスト局ぱツチングによ぀お
も未倉化でそのたたである。 本発明は、画像圢成材料の特定の組成以倖の、
このハヌフトヌン゚ツチング方法に関する。この
方法は、均䞀な厚さず光孊濃床の画像局䞊にレゞ
スト局が蚭けられおいるずいう基材にハヌフトヌ
ンの二局匏画像の圢成をもたらす。レゞスト局は
䜿甚する珟像剀に䞍溶性でなければならず、画像
局はその珟像剀に可溶性でなければならない。こ
の方法は䞊述の劂くハヌフトヌン画像が圢成され
るず、次いでこれらを珟像剀で凊理しお、画像局
の厚さたたは光孊濃床を倧きく倉化させるこずな
く画像局の呚囲郚分を遞択的に陀去するずいう画
像の゚ツチングをずもなう。 本発明の感光性画像圢成材料においおは、良奜
なドツト゚ツチング性によ぀お達成される満足な
露光および珟像寛容床を有するかかる材料が提䟛
されるこずは、党く予期されなか぀たずいうこず
が理解されねばならない。満足な露光および珟像
寛容床は、珟像剀に過床に溶解しないフむルム圢
成ビヒクルを画像局が利甚しおいるこずが必芁で
ある。感床に可溶性の画像局は貧匱な珟像寛容床
を有する。ずいうこずは、バツクグラりンド郚分
は党䜓に透明であり、シダドヌ郚前で倱われたハ
むラむト郚は適圓に珟像された。第図のドツト
からすれば、過床に可溶性の画像局は、最適珟像
時間のわずかな増加さえ䞍満足な補版をもたら
し、ドツトの倧きさを䞍圓に枛少する可胜性
があるこずを意味する。 良奜な珟像寛容床は、画像局が珟像剀に過
床に可溶性でないこずを必芁ずするが、良奜なド
ツト゚ツチング性はたさにその逆を必芁ずする。
すなわち、ドツト画像局が珟像剀に充分に可
溶性でない堎合、第図の枛少されたドツト画像
局を埗るには䞍圓に長い時間を芁するであろ
う。 珟像寛容床ずドツト゚ツチング性の盞察立する
芁求を解消する特に新芏な画像圢成組成が、今回
開発された。この組成の新芏特性は、フむルム圢
成ビヒクルずしおあるグルヌプの双峰コポリマヌ
およびそれらの誘導䜓を䜿甚するこずによ぀お䞀
郚埗られる。これらの双峰コポリマヌは、高分子
量ポリマヌず䜎分子量ポリマヌの玄〜
の重量比の組合わせから成る。奜たしい重量比
はである。 双峰組成においお有甚なポリマヌは、より䞀般
的な感光性画像圢成材料に関連しお䞊述したポリ
マヌのすべおが挙げられる。これらのポリマヌ䞭
最も奜たしいものは、䞊述のSMAコポリマヌで
ある。SMAコポリマヌを䜿甚するずき、䜎分子
量のものは望たしくは玄5000以䞋の分子量を有し
おいるべきであり、高分子量のものは、10000を
越える分子量を有しおいるべきである。奜たしい
䜎分子量は1000〜2000の範囲である。奜たしい高
分子量は10000〜150000の範囲であり、最も奜た
しい範囲は20000〜50000の範囲である。远加のコ
ポリマヌを䜿甚する堎合、その盞察的分子量は
SMAコポリマヌの教瀺に埓぀お維持する。 珟圚奜たしくお実甚的な本発明の実斜態様を以
䞋の実斜䟋で説明する。なお、郚ずあるは特に指
摘しない限り重量郚である。 実斜䟋  䞀般目的甚コンタクトフむルムずしお有甚な感
光性画像圢成材料は、本発明の教瀺に埓えば以䞋
の通り調補できる。ミルのポリ゚ステルシヌト
を平均分子量50000のSMA10゚チレングリコヌ
ルモノメチル゚ヌテル溶液でサブコヌトし、次い
で也燥させる。その埌サブコヌトしたポリ゚ステ
ルシヌトを以䞋の配合の厚さ1.5〜2.3ミクロンの
画像局で被芆する。 50 SMA平均分子量20000 40 カヌボンブラツクRaven1000R 400 ―ブタノヌル溶媒ずしお 次いで䞊述の米囜特蚱出願815899号1977幎
月15日出願の教瀺に埓぀お画像局を光分散でも
぀おトツプコヌトする。 50 ポリビニルアセテヌト―アクリルコポリ
マヌの氎䞭゚マルシペン分散䜓 55 æ°Ž  塩化亜鉛で安定化したパラゞアゟゞプ
ニルアミンサルプヌトのパラホルムアルデヒ
ド瞮合生成物以䞋、ゞアゟ暹脂ず称する この最終コヌテむングは厚さ0.7〜1.5ミクロン
であり、このようにしお埗られる生成物党䜓を再
床也燥に付しお、最終の二局匏䞀般目的甚コンタ
クトフむルムを埗る。 䞊蚘フむルムは次いで5KWハゲン化氎銀ラン
プの劂き高匷床源から玫倖線に適圓なマスクを通
じお露光する。次いで二局フむルムをNa2HPO4
の劂き匱アルカリ性材料の氎溶液でPH箄9.5〜
10.5で珟像する。軜い機械的䜜甚が珟像を促進さ
せるであろう。珟像によ぀おレゞスト局の非露光
郚および察応する画像局の郚分が陀去される。15
〜60秒間の適圓な珟像時間埌、レゞスト局の露光
郚ず察応する画像局の郚分の䞡者がポリ゚ステル
シヌト基材䞊にあるこずから成る最終生成物が埗
られる。オリゞナルマスクがネガチブマスクであ
぀た堎合には、埗られる二局匏フむルム画像はポ
ゞチブ画像である。オリゞナルマスクがポゞチブ
マスクであ぀た堎合には、埗られる二局匏画像は
ネガチブ画像である。 本䟋に埓぀お䜜成される二局匏フむルムの画像
郚分は、透過率玄3.3〜4.2の光孊濃床を有する。
カヌボンブラツクは広範囲の波長の攟射を吞収す
るので、この組成は䞀般目的甚コタクトフむルム
ずしおのみならず、カラヌプルヌフフむルム、平
版甚たた回路板補造においおマスタヌずしお有甚
である。この組成で埗るこずができる解像はむン
チ圓り少なくずも150線である。 実斜䟋  双峰有機フむルム圢成ビヒクルを画像局に利甚
する感光性画像圢成材料は以䞋の劂く補造でき
る。実斜䟋のサブコヌトしたポリ゚ステル基材
を以䞋の配合を有する厚さ2.0ミクロンの着色ベ
ヌス局でコヌトする。 60 カヌボンブラツク 60 SMA平均分子量20000 30 SMA平均分子量2000 600 ―ブタノヌル溶媒ずしお この画像局を也燥埌、厚さ1.0ミクロンの以䞋
の蚘合のレゞスト局を適甚する。 50 ポリビニルアセテヌト―アクリルコポリ
マヌの氎䞭゚マルシペン分散䜓  ゞアゟ暹脂 60 æ°Ž このようにしお圢成される二局匏画像圢成材料
を実斜䟋ず同様に露光、珟像する。ネガチブマ
スタヌを䜿甚するず、ポゞチブプリントが埗られ
る。露光は網目スクリヌンを通じお実斜するの
で、二局匏フむルム䞊の画像はハむラむト郚のド
ツトの集たりずシダドヌ郚のホヌルの集たりで仕
䞊がる。 ハヌフトヌン画像の色ず色調は、珟像で䜿甚す
るのず同様なアルカリ性゚ツチング液による凊理
を二局匏フむルムに適甚するこずによ぀お調敎で
きる。兞型的な゚ツチング液は、Na2HPO4
Na3PO4を氎に溶かしおPH11〜12にしたものであ
る。この画像のドツト゚ツチングは、奜結果を䞎
え、画像ドツトず画像呚囲のシダドヌホヌル郚分
の光孊濃床に倧きく圱響を䞎えるこずなく、色ず
色調の所望の枛少をもたらす。 実斜䟋  高分子量ず䜎分子量のポリマヌの比率を倉化さ
せた有機フむルム圢成ビヒクルでも぀お、䞀連の
぀の異な぀た二局匏感光性画像圢成フむルムを
䜜成するために、実斜䟋ずの凊眮を行぀た。
次いでこれらのフむルムを詊隓しお、その「珟像
速床」、「珟像寛容床」および「画像゚ツチング速
床」を評䟡した。本目的のために、「珟像速床」
は、レゞストず盞圓する画像局郚の可溶性郚分を
陀去しおフむルム基材䞊に満足な画像を圢成する
のに芁する時間を意味する。「珟像寛容床」は、
二局匏フむルムが、党䜓を浄化されたバツクグラ
りンドず、開攟されおはいるが未だにフむルム画
像のハむラむト郚を維持しおいるシダドヌ郚ずを
有するこずを可胜ならしめる珟像時間の範囲を蚀
う。最埌に「画像゚ツチング速床」は、ハむラむ
ト画像の衚面積の50枛少および察応するシダ
ドヌ画像の面積の30増加を埗るのに必芁な最
小時間を蚀う。 本䟋で補造される各皮の二局匏フむルムずそれ
らの各性質は、以䞋のテヌブルに挙げる。
【衚】 䞊蚘テヌブルの詊隓では、組成および
が優れた珟像寛容床および良奜なドツト゚ツチン
グ速床の組合わせをもたらすこずがわかる。これ
らの䟋では、各々6030、5040および4050の
高分子量ず䜎分子量のポリマヌ比率を採甚しおい
る。組成の結果は、ある皮のドツト゚ツチング
甚途では蚱容されるがあたり望たしくない。 しかし、各々高分子量ポリマヌ100および䜎
分子量ポリマヌ100を䜿甚する組成および
を詊隓するこずは、特に興味あるこずである。組
成材料は非垞に遅いドツト゚ツチング速床を有
し、これを゚ツチング甚途に適合させるこずは䞍
利である。他方、組成材料はかなり速いドツト
゚ツチング速床を有しおいるが、望たしくない狭
い珟像寛容床をもたらす。埓぀お、組成
およびで埗られる珟像寛容床およびドツト゚
ツチング速床の法倖な改良は、重芁で予期倖の盞
剰結果を衚わす。 実斜䟋  カヌボンブラツクの濃床が30郚以䞋から90郚以
䞊に倉化する以倖は、実斜䟋に瀺すものず同様
にしお画像圢成材料を䜜成する。 30〜90郚の範囲内のカヌボンブラツク濃床が良
奜なフむルム構造を䞎える。しかし、30郚未満で
は、画像局の厚さを䟋えば1.5ミクロンから4.0
ミクロンに非垞に増加させればならず、解像床
ず珟像寛容床の望たしくない損倱をもたらす。他
方、玄90郚を越える濃床では、過床に速い珟像、
貧匱な珟像寛容床および機械的に匱いフむルムを
もたらすフむルム有孔性が増倧する。曎に、カヌ
ボンブラツクが90郚を越えるず、フむルム光孊濃
床を倧きく改良しない。最も奜たしい組成は、珟
像ずドツト゚ツチング速床に基づくず、カヌボン
ブラツク60〜79郚で埗るこずができる。 実斜䟋  画像局の厚さを0.4〜5.0ミクロンに倉化させお
実斜䟋の教瀺ず同様にしお、高光孊濃床ずフむ
ルムマスタヌずしお䜿甚する画像圢成材料を再床
䜜成する。玄1.0ミクロン未満では、埗られるフ
むルムは望たしくない䜎床の光孊濃床、機械匷床
の損倱および密着性を瀺す。他方、厚さ玄3.0ミ
クロンを越えるフむルムは、解像床ず濃床寛容床
のかなりの枛少を瀺す。濃床寛容床、解像床およ
び珟像速床の最も奜たしいバランスは、厚さ玄
1.5〜2.5ミクロンの画像局を有するフむルムから
埗られる。 実斜䟋  高分子量SMAをいくぶん䜎分子量のものに眮
換した以倖は、実斜䟋の構造䜓を圢成した。実
際の画像局の組成は以䞋の通りである。 70 SMA分子量10000 40 SMA分子量2000 60 カヌボンブラツク 600 ―ブタノヌル 埗られる感光性画像圢成フむルムは、蚱容され
る珟像寛容床ずドツト゚ツチング速床を維持する
にもかかわらず、実斜䟋のものより速い珟像速
床を瀺した。 実斜䟋  画像局のフむルム圢成ビヒクルを構成するコポ
リマヌの分子量効果を、実斜䟋の教瀺に埓い調
補した他の぀の感光性画像圢成フむルムで評䟡
した。これら぀のフむルムは各々以䞋の成分を
含有する画像局を有しおいた。 (1) 10 SMA分子量50000 40 SMA分子量10000 75 カヌボンブラツク 650 ―ブタノヌル (2) 25 SMA分子量50000 60 SMA分子量20000 65 カヌボンブラツク 600 ―ブタノヌル 䞊蚘画像局組成物の䞡者は、機械的匷床の点か
らは有甚なフむルムを補造するこずが刀明した。
しかし、䞡者の堎合においおは、フむルムのドツ
ト゚ツチング性は実際の甚途では䞍満足なもので
あ぀た。 実斜䟋  本䟋では、実斜䟋ずのSMAを代換えポリマ
ヌで眮換した。これらの画像局を圢成するために
䜿甚した特定の配合は以䞋の通りであ぀た。 (1) 80 ポリメチル、ビニル、゚ヌテルマ
レむン酞む゜プロピルモノ゚ステル
Gantrez335 70 カヌボンブラツクRegal330R 700 ―ブタノヌル (2) 80 ポリメチル、ビニル、゚ヌテルマ
レむン酞ブチルモノ゚ステルGantrez425 70 カヌボンブラツク 700 ―ブタノヌル (3) 40 ポリメチル、ビニル、゚ヌテルマ
レむン酞ブチルモノ゚ステル 50 SMA分子量10000 300 −ブタノヌル 400 ゚チレングリコヌルモノメチル゚ヌ
テル (1)ず(2)の堎合においおは、埗られるフむルムの
機械匷床は䞀般に䞍満足なものであ぀た。しか
し、配合(3)の堎合においおは、他の所望のフむル
ム性質を䌎うはるかに改良された機械匷床が埗ら
れた。 実斜䟋  実斜䟋の教瀺に埓぀たが、次の配合の代換え
サブコヌテむングを䜿甚した。 (1)  SMA分子量50000  カルボキシル化ポリビニルアセテヌト Nivac ASB516−Air瀟補品 100 ゚チレングリコヌルモノメチル゚ヌ
テル (2)  SMA分子量20000  カルボキシル化ポリビニルアセテヌト 100 メチル゚チルケトン  SMA分子量50000 100 メチル゚チルケトン 䞊蚘サブコヌテむングのすべおは、ポリ゚ステ
ル基材ず画像局の間に良奜な密着性を瀺し、良奜
な安定性ず珟像寛容床を有するフむルムを圢成し
た。 他の改倉においおは、サブコヌテむングを完党
に陀倖し、Celanar4500シリヌズポリ゚ステルの
劂き前凊理ポリ゚ステル材料を䜿甚した。再床、
結果は良奜であ぀た。曎に他の改倉においおは、
サブコヌテむングを再び陀倖したが、未凊理ポリ
カヌボネヌトフむルムを䜿甚した。再び満足な密
着性が埗られた。 実斜䟋 10 実斜䟋の教瀺に埓い䞀連の配合を、レゞスト
局のゞアゟ暹脂においお改倉した。これらの代換
え組成で採甚したレゞスト局配合は以䞋の通りで
あ぀た。 (1) 50 ポリビニルアセテヌト―アクリルコポ
リマヌ氎䞭゚マルゞペン分散䜓  ゞアゟ暹脂 100 æ°Ž (2) 50 PVAC゚マルシペン 10 ゞアゟ暹脂 120 æ°Ž (3) 50 PVAC゚マルシペン 15 ゞアゟ暹脂 130 æ°Ž (4) 50 PVAC゚マルシペン  ゞアゟ暹脂 100 æ°Ž 䞊蚘配合のすべおが実行可胜であるこずが刀明
した。配合間の䞻たる盞違は露光芁求時間に関連
した。厚さ玄0.75〜1.5ミクロンのレゞスト局が
最適結果を䞎えた。加えお、―トル゚ンスルホ
ン酞の劂き界面掻性剀の導入、たたはポリビニル
アルコヌルもしくはれラチンの劂き増粘剀の添加
が、玄2.0ミクロンたでの実行可胜な厚さを埗る
こずを可胜にしたが、貯蔵寿呜ず解像床の問題が
箄2.0ミクロンの厚さで起生し始めた。 実斜䟋 11 本䟋においおは、画像圢成材料党䜓の性胜を改
良するために、実斜䟋の構造䞊にトツプコヌト
したレゞスト局配合に他の氎溶性暹脂を配合し
た。配合では次のレゞスト局であ぀た。 (1) 50 PVAC゚マルシペン分散䜓 10 ゞアゟ暹脂 120 æ°Ž  ヒドロキシ゚チルセルロヌス (2) 50 PVAC゚マルシペン分散䜓 10 ゞアゟ暹脂 120 æ°Ž  ポリビニルアルコヌルMousanto
PVA20―90 (3) 50 PVAC゚マルシペン分散䜓 10 ゞアゟ暹脂 130 æ°Ž  れラチン (4) 50 PVAC゚マルシペン分散䜓 10 ゞアゟ暹脂 130 æ°Ž  氎溶性ポリアミド日本囜りニキタ瀟
補レゞン 䞊蚘レゞスト局で䜜成された最終の感光性画像
圢成フむルムの各々は、改良された貯蔵寿呜、改
良された光孊性質および高められた珟像性を瀺し
た。埓぀お、性胜やコヌテむング性質を改倉およ
び改良するために、ある堎合においおは氎溶性た
たは分散性暹脂の添加が望たしい。 実斜䟋 12 次の溶媒泚型成圢レゞスト局を䜿甚しお実斜䟋
およびのそれず同様な構造䜓を䜜補した。 (1) 10 ゞアゟ暹脂BBPヘキサフルオロホス
プヌトで安定化された―ゞアゟゞプニル
アミンスルプヌトのパラホルムアルデヒド瞮
合物 100 ゞメチルホルムアミド (2) 10 テトラフルオロボレヌトで安定化され
た―ゞアゟゞプニルアミンスルプヌトの
パラホルムアルデヒド瞮合物Sobin
Chemicals瀟補ZAL.BF4 100 ゞメチルホルムアルデヒド これら配合の䞡者は、特に玄0.2〜0.6ミクロン
の範囲の非垞に薄いフむルムにおいお、優れた貯
蔵寿呜ず解像床を有するフむルムを圢成した。 フむルムの最終特性に圱響を䞎えるこずなく、
ゞメチルホルムアミドを他の有機溶媒で眮換する
こずができる。䟋えば、ゞオキサン、DMアセト
アミド、゚チレングリコヌルモノメチル゚ヌテル
およびメチル゚チルケトンの劂き溶媒を満足に䜿
甚できた。 実斜䟋 13 フむルム特性を高めるこずができるか吊かを決
定するために、実斜䟋12に蚘述のレゞスト局に暹
脂を添加した。次の配合を評䟡した。 (1) 60 ゞアゟBBP 30 SMA分子量20000 350 ゞメチルアセトアミド (2) 50 ゞアゟBBP 40 SMA分子量50000 20 SMA分子量2000 350 DMAC (3) 55 ゞアゟZAL.BF4 35 アルカリ可溶性ポリビニルアセテヌト 200 ゞメチルホルムアミド 150 ―ブタノヌル (4) 50 ゞアゟZAL.BF4 30 ポリビニルブチラヌル (5) 114 ゞアゟBBP 75 SMA分子量20000 21 ポリビニルアセテヌト 78 SMA分子量2000 900 DMAC (6) 100 ゞアゟBBP 30 ポリスチレンアリルアルコヌル 20 Novalak1280 750 PMF (7) 60 ゞアゟBBP 30 プノヌル暹脂Hercules
Vinsol790224― 300 PMF 各堎合においお埗られる結果は良奜であり、暹
脂添加はフむルム圢成および機械的匷床の改良を
もたらした。アルカリ可溶性および非アルカリ可
溶性暹脂の䞡者は有甚であるが、アルカリ可溶性
暹脂がより高い割合で䜿甚できた。事実、ある䟋
においおは、アルカリ可溶性および非可溶性暹脂
の混合物が珟像寛容床の向䞊をもたらす。これに
関連しお、配合(5)が奜たしい実斜態様である。 䞊蚘兞型的組成で匕甚した暹脂に加えお、他の
有甚な暹脂添加剀ずしおは、゚ポキシ系、プノ
キシ系、アクリル系、シリコヌン系、ポリ゚ステ
ル系およびポリアミド系が䟋瀺される。 実斜䟋 14 䞊述のネガチブ䜜甚性レゞストに代えポゞチブ
レゞストを䜿甚しお実斜䟋ずの構造䜓を䜜成
した。勿論、ポゞチブ䜜甚性レゞストを䜿甚する
ず、ネガチブマスクからはネガチブ画像、ポゞチ
ブマスクからはポゞチブ画像が圢成される。 本䟋で䜿甚した特定のポゞチブ䜜甚性レゞスト
皮膜は以䞋の通りであ぀た。 30 キノンゞアゞドShipley瀟補AZ1350
 40 アミルアセテヌト 䞊蚘ポゞチブ䜜甚性レゞストを有するフむルム
党䜓の珟像は、以䞋の組成から成る珟像剀で実斜
した。 75ml AZ606 425ml 氎党䜓のPH11.5〜12.5 このレゞスト甚の他の有甚な珟像剀ずしおは、
次の組成のものが包含される。 (1)  KOH 100 æ°Ž (2) 10 Na2CO3  Na3PO4 100 æ°Ž (3)  Na3PO4  ラりリル硫酞ナトリりムアニオン性界
面掻性剀 100 æ°Ž 実斜䟋 15 着色媒質が異なる詊隓を本䟋では実斜した。実
斜䟋13の画像局組成を次の着色組成ず眮換した。 (1) 80 SMA分子量20000 20 SMA分子量2000 80 ゞニトロアニリンオレンゞピグメン
トオレンゞNo.、ベヌタヌナフトヌルでカツプ
リングした―ゞニトロアナリン 400 ゚チレングリコヌルモノメチル゚ヌ
テル 次に、画像局を次の代換え画像局組成物で眮換
しお、実斜䟋14のポゞチブ䜜甚性構造䜓を改倉し
た。 (2) 80 SMA分子量20000 20 SMA分子量2000 80 ゞニトロアニリンオレンゞピグメン
トオレンゞNo.、ベヌタヌナフトヌルでカツプ
リングした―ゞニトロアナリン 400 ゚チレングリコヌルモノメチル゚ヌ
テル (3) 100 SMA分子量20000 90 TiO2 500 ―ブタノヌル 䞊蚘組成の各々は良奜な玫倖線吞収特性を有す
るフむルムを圢成した。組成(3)のフむルムで圢成
した癜色画像は、耇写ネガチブマスタヌにおいお
特に興味あるものであ぀お、このフむルムはネガ
チブのように機胜したが、暗いバツクグラりンド
に察しおみるずポゞチブ画像を圢成した。この異
垞な特色は、プルヌフむングフむルムやストリツ
ピングフむルムの分野においお実斜するものに察
しお特に有甚なものである。 実斜䟋 16 次の兞型的な組成を有する画像局でも぀お倚数
のオヌバヌレむカラヌブルヌフフむルムを䜜補し
た。 (1) 29 リ゜ヌルルビン 110 SMA分子量20000 850 ゚チレングリコヌルモノブチル゚ヌ
テル (2) 80 モガルカヌボンブラツク 100 SMA分子量10000 80 ゚チレングリコヌルモノメチル゚ヌテ
ル (3) 45 フタロシアニンブルヌ 110 SMA分子量20000 1000 ―ブチルアルコヌル (4) 38 サンむ゚ロヌAAA 90 SMA分子量2000 850 ゚チレングリコヌルモノメチル゚ヌ
テル 䞊蚘組成物を実斜䟋1213および14の
構造䜓に䜿甚しお、有甚なオヌバヌレむカラヌプ
ルヌフフむルムを圢成した。 実斜䟋 17 実斜䟋121314および16の教瀺に埓
い画像局組成物を癜色䞍透明の基材に適甚しお、
ネガチブおよびたたはポゞチブのプルヌフむン
グペヌパヌたたはプリントペヌパヌを補造した。
適圓な基材材料ずしおは、充填剀入りポリプロピ
レン合成玙䟋、Kimdura FPG150、
Melivex990、およびポリ゚チレンコヌトセルロ
ヌズ玙の劂き兞型的なRC玙が䟋瀺される。曎に、
実斜䟋15に提瀺のTiO2画像局を䜿甚しお、黒に
着色し䞔぀ポリ゚チレンでオヌバヌコヌトした玙
を被芆するこずによ぀お、有甚な感光性画像圢成
材料を埗るこずができた。 曎に他の有甚な感光性画像圢成材料を、実斜䟋
14の構造䜓を半透明基材䞊に被芆するこずによ぀
お補造するこずができた。これらの材料はゞアゟ
型癜色プリントやセピア甚マスタヌの劂き工業甚
図面䞭間䜓ずしお有甚である。この甚途での奜適
な半透明基材ずしおは、぀や消しポリ゚チレンテ
レフタレヌトフむルム、兞型的には぀や消しコ
ヌテむングずしおのレゞンバむンダヌのSiO2で
も぀お぀や消し被芆PETフむルムおよび぀や
消し仕䞊げポリプロピレンフむルムが䟋瀺され
る。 実斜䟋 18 先の実斜䟋の画像局が溶媒ベヌスから被芆され
おいたのに察し、本発明の教瀺内では氎性ベヌス
コヌテむングも達成できる。かかる氎性ベヌスコ
ヌテむングは倚数の重芁な利点を有しおいる。ず
いうのは、これらは時ずしおより経枈的であり、
毒性が少なく、環境的により䞀局蚱容されるから
である。兞型的に有甚な氎性ベヌス画像局配合ず
しおは、以䞋に䟋瀺される。 (1) 20 SMA分子量20000、10固圢分
NH4OH溶液 10 28NH3 170 æ°Ž 0.01 TritonX―100ノニオン系界面掻性
剀 70 予分散カヌボンブラツク即ち、
Bordon Chemical補Aquablack 135 (2) 15 SMA分子量20000、15NH3・H2O
溶液  28NH4OH 80 H2O 40 予分散カヌボンブラツク 25 SMA分子量2000、NH4OHで䞭和 (3) 18 SMA分子量20000、15NH3・H2O
溶液 108 SMA分子量10000、10NH3・
H2O溶液 36 予分散カヌボンブラツク (4) 20 SMA分子量20000、15NH3・H2O
溶液 80 SMA分子量10000、10NH3・H2O
溶液 30 SMA分子量20000、10NH3・H2O
溶液  TritonX―100ノニオン系界面掻性
剀 25 予分散カヌボンブラツク 䞊蚘画像局は䞊述のすべおの基材䞊に被芆で
き、その䞊に䞊蚘䟋のレゞストの各々でオヌバコ
ヌトしおもよい。たた、双峰の組成物(2)(3)およ
び(4)の珟像速床や珟像寛容床が、高分子量たたは
䜎分子量のスチレン無氎マレむン酞のいずれか
100を有する画像局で埗られる結果よりもはる
かに優れおいるずいうこずを認識するこずが重芁
である。これらの配合ドツト゚ツチング性もたた
特別である。 実斜䟋 19 䞊述の劂く本発明の特に新芏で有甚な特色は、
本教瀺に埓぀お補造される感光性画像圢成材料の
すべおが単玔な氎性ベヌス珟像剀で珟像できるず
いうこずである。有機溶媒は必芁でない。曎に、
すべおの材料が同䞀珟像剀で珟像できるずいうシ
ステムを蚭蚈できる。他方、ポゞチブレゞストの
堎合における劂き異な぀たレゞストのための若干
盞違する珟像剀を䜿甚する各レゞストに該蚭蚈を
最高に掻甚できる。 本発明のこの氎性で仕立可胜な特色は、埓来珟
像できない皮類の補版材料を同䞀薬剀で䞔぀同䞀
タむプの凊理装眮で珟像するこずを可胜ならしめ
る。ハロゲン化銀、フオトポリマヌ、ゞアゟ型、
ゞアゟ暹脂および他の技術を䜿甚しお各皮のフむ
ルム、ペヌパヌ、プルヌフ、䞭間䜓および平版印
刷版を補造する埓来のフルラむンコンタクトスピ
ヌド補版補品に結び付く問題を解消できる。これ
らの埓来システムに関し、これらの異な぀た技術
や異なる珟像薬剀および凊理装眮必芁性の各々に
関連する圓惑させられる集たりの備品や装眮にナ
ヌザヌは盎面しおいた。しかし、これら埓来シス
テムずは明確に異な぀お、本発明の感光性画像圢
成材料は、単䞀タむプの露光源ず共に単玔な珟像
薬剀や䞀぀のタむプの凊理装眮を䜿甚できる。 本感光性画像圢成材料に有甚な兞型的な䞀般甚
途珟像剀ずしおは、以䞋のものが䟋瀺される。 (1) 溶液 メタケむ酞ナトリりム 溶液 ラりリル硫酞ナトリりム (2)  Na2PO4  Na3PO4 100 æ°Ž (3) 10 Na2CO3 25 トリポリリン酞ナトリりム  ラりリル硫酞ナトリりム 100 æ°Ž (4)  KOH  TritonX―100 100 H2O (5) 溶液 ラりリル硫酞ナトリりム 溶液 硫酞ナトリりム 溶液 キシレンスルホン酞ナトリりム 溶液 Na3PO4 本発明の感光性画像圢成材料に䜿甚するのに特
に有甚な珟像液は、䞊蚘米囜特蚱出願051478号
1979幎月25日出願に開瀺されおいる。この
珟像剀に兞型的に有甚な配合ずしおは、以䞋のも
のが䟋瀺される。 (6) 25 トル゚ンスルホン酞カリりム 10 ベヌタヌグリセロリン酞ゞナトリりム  TritonX―100 100 æ°Ž (7) 30 トル゚ンスルホン酞カリりム  ベヌタヌグリセロリン酞ゞナトリりム  Na2HPO4  Triton405 100 æ°Ž 䞊蚘米囜特蚱出願051478号の教瀺に関連し、そ
こに蚘述の珟像液はグリセロリン酞ナトリりムの
劂き䜎分子量フむルム圢成䜓を䜿甚しおいるこず
が認められる。しかし、本発明における珟像剀に
おいお基本的に芁求されるものは、かかる制限を
必芁ずしない。埓぀お、〜15の重量濃床のア
ルカリ性塩ず組合わせお、キシレンスルホン酞ナ
トリりム、トル゚ンスルホン酞カリりム、キナヌ
メンスルホン酞カリりム等の劂き向氎性材料の高
濃床10〜50を採甚できる。これに関連しお
特に有甚なアルカリ性塩は、リン酞ゞナトリり
ム、リン酞トリナトリりム、トリポリリン酞ナト
リりム、ピロリン酞テトラカリりム、ヘキサメタ
リン酞ナトリりム、グリセロリン酞ナトリりム等
である。他の有甚なアルカリ性塩ずしおは、メタ
ケむ酞ナトリりム、オル゜ケむ酞ナトリりム、氎
ガラスおよび他のケむ酞ナトリりム錯䜓、ク゚ン
酞ナトリりム、グルコン酞カリりム、炭酞ナトリ
りム、メタバナゞン酞アンモニりム、氎酞化カリ
りム、酢酞ナトリりム等がある。勿論、ノニオン
性やアニオン性の界面掻性剀およびそれらの組合
わせも、フむルム圢成䜓、濃厚剀、緩衝剀、ビル
ダヌ、消泡剀等ずしお加えおもよい。 実斜䟋 20 先の実斜䟋のフむルムず玙基材材料に加えお、
本発明の教瀺に埓い補造できる感光性画像圢成材
料ずしおは、その分野においお䞀般に䜿甚される
硬質材料を基材ずしお有する平版版材が挙げられ
る。平版版材に関しおは、䞀぀の薬剀ずワンステ
ツプの珟像およびゎム匕きを可胜ずするので、実
斜䟋19の珟像配合が特に有甚である。勿論、平版
印刷版に関しおは、平版画像の可芖床を高めるた
めに着色媒質が必芁に応じお画像局に導入される
が、該着色媒質を画像局に䜿甚するこずは必芁で
ない。 有甚な平版材料は次のようにしお補造できる。
シリカ研摩アルミニりム基材を以䞋の画像組成物
ずレゞスト組成物の䞡者で被芆する。 (1) 画像局 60 フタロシアニンブルヌ 210 SMA分子量20000 1000 ゚チレングリコヌルモノメチル゚ヌ
テル レゞスト局 100 ゞアゟ暹脂ZAL.BF4 30 ゚ポキシ暹脂Ciba―Geigy補
Araldite 7073 30 Novalak 1280Union Carbide補 800 ゞメチルホルムアミド 200 MEK 各局は厚さ玄ミクロンである。露光はネガチ
ブマスクを通じお玫倖線源でも぀お実斜する。こ
のようにしお補造された平版版材は実斜䟋19の組
成物(6)で珟像しゎム匕きする。埗られた補品をオ
フセツト印刷機にかけ数枚印刷するず、そのす
べおが鮮明床ず品質においお蚱容されるものであ
぀た。曎に、これらの版材は印刷操䜜で䜿甚する
兞型的な酞性むンク液に察しお耐性を有する。そ
れ故、これらの版材は露光埌に蚂正可胜なドツト
゚ツチング性を有する。 他の平版版材を同じシリカ研摩アルミニりム基
材を䜿甚しお以䞋の画像局ずレゞスト局でも぀お
補造する。 (2) 画像局 100 SMA分子量50000 20 SMA分子量10000 レゞスト局 100 ゞアゟ暹脂BBP 10 Butvar B76Monsanto補 50 プノヌル暹脂Hercules補
Vinsol790224―  メチレンブルヌ染料 (3) 画像局 100 SMA分子量20000 20 SMA分子量2000 30 ゞニトロアニリンオレンゞ レゞスト局 100 ゞアゟ暹脂BBP 50 アクリル暹脂Dupont2044 10 スチレンアリルアルコヌル暹脂
Monsanto RJ101 400 ゞメチルアセトアミド 400 ゚チレングリコヌルモノメチル゚ヌ
テル (4) 画像局 100 SMA分子量20000 900 ―ブチルアルコヌル レゞスト局 80 ゞアゟ暹脂ZAL.BF4 20 SMA分子量50000 30 SMA分子量10000 20リ゜ヌルルビン 900 ゞメチルアセトアミド 本䟋の配合(1)の堎合ず同様に、各䞊蚘配合物を
露光し実斜䟋19の珟像剀のひず぀で珟像しおネガ
チブ䜜甚性版材を補造する。圓然に、実斜䟋14の
ポゞチブ䜜甚性レゞスト局を䜿甚するず、これら
版材のポゞチブ類䌌物を䞎える。 レゞストコヌトの感光性材料から画像コヌトを
空間的に分離するこずは、単䞀局版材の堎合より
も䞀局容易に平版版材を補造するこずに寄䞎す
る。曎に、玫倖線吞収底局を蚭けるこずによ぀
お、単䞀局版材では芋られないすばらしいアンチ
ハレヌシペン性質を埗るこずができるこずが認め
られる。 実斜䟋 21 本䟋は、本感光性画像圢成材料の顕著なドツト
゚ツチング特性を瀺す。ハむラむト郚のドツトず
シダドヌ郚のホヌルの集たりを有する二局匏画像
を補造するために、暙準的工業実斜に埓぀おハヌ
フトヌンプリントを䜜成する。比范のために、垂
販のハロゲン化銀ベヌスフむルムでも぀お同様な
ハヌフトヌン画像を補造する。 これら画像の各ドツトずホヌルを200×倍率の
䞋で調査し、次いで本発明の教瀺を採甚しお゚ツ
チングに付しお二局匏フむルムを゚ツチングし、
たた通垞の゚ツチング技術でも぀おハロゲン化銀
フむルムを゚ツチングする。 二局匏フむルムで埗られる兞型的な゚ツチング
倉化は、以䞋の通りであ぀た。
【衚】 通しドツト濃床で倧きな倉化なしに䞊蚘各堎合
で゚ツチングが達成された。゚ツチング前のオリ
ゞナル濃床は玄3.6〜3.8であ぀た。ドツト濃床は
゚ツチング埌に3.6〜3.8範囲に保持された。 しかし、ハロゲン化銀ベヌスフむルムに関しお
は、ハヌフトヌン画像衚面の40〜60の䞭間
郚で10〜20の゚ツチング倉化が、通しドツト濃
床の倧なる枛少なしに最倧の゚ツチング達成床で
あるこずが刀明した。銀ベヌスフむルムのハむラ
むトドツト衚面の〜20は、蚱容されない
濃床損倱が起こる以前に゚ツチングの䜙地がほず
んどなか぀た。事実、ハロゲン化銀ベヌスフむル
ムに関しおは、゚ツチングによる濃床がオリゞナ
ル濃床の4.5から2.6たたはそれ以䞋に枛少するこ
ずが刀明した。かかるフむルムの郚分的たたは党
䜓的濃床倉化は露光に蚱容される窓を狭くし、事
実、玫倖線に察するマスクずしお䜿甚䞍胜のフむ
ルムにする。 勿論、ここに述べた奜たしい実斜態様に察しお
各皮の改倉や改良が圓業者においお明らかである
こずは理解されねばならない。かかる改倉や改良
は本発明の粟神や範囲を逞脱するこずなく䞔぀そ
の付随する利点を枛ずるこずなくなし埗る。埓぀
お、かかる改倉や改良は次の請求の範囲に包含さ
れるものである。
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