JPH0145046B2 - - Google Patents
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- JPH0145046B2 JPH0145046B2 JP7741580A JP7741580A JPH0145046B2 JP H0145046 B2 JPH0145046 B2 JP H0145046B2 JP 7741580 A JP7741580 A JP 7741580A JP 7741580 A JP7741580 A JP 7741580A JP H0145046 B2 JPH0145046 B2 JP H0145046B2
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 44
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 19
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 8
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 17
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 12
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 3
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/04—Processes or apparatus for producing holograms
- G03H1/20—Copying holograms by holographic, i.e. optical means
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Holo Graphy (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、ホログラムの製造方法に関する。
ホログラムは、多岐にわたつて利用されている
が、その一例として光ビーム走査装置に利用した
ものがある。ホログラムを用いた光ビーム走査装
置は、ホログラムを回折格子として利用し、ホロ
グラム内で格子周期に分布があるホログラムを一
次元的に移動することによつて、回折角を変化さ
せて光偏向を行う。この様な光ビーム走査装置に
使用されるホログラムに記録されるべきホログラ
ム上の干渉縞の位相分布は、解析されており、ホ
ログラム上に極座標をとり動径をγとすると、位
相分布φ1（γ）は、 φ1（γ）＝2π／λN 〓n=1 （√2＋2−fn） (1) となる。ここに、λは干渉光の波長、N 〓n=1 １／fnはホ ログラムの１次回折光の焦点距離の逆数、Ｎは整
数である。(1)式で表わされる位相分布を持つ、ホ
ログラムの製造方法としては、Ｎ個の球面波をホ
ログラムを介して位相減算して、合成する方法が
あり、Ｎ＝２の場合が、特願昭53−11711号で、
Ｎ≧３の場合が、特願昭54−78495号で特許出願
されている。
が、その一例として光ビーム走査装置に利用した
ものがある。ホログラムを用いた光ビーム走査装
置は、ホログラムを回折格子として利用し、ホロ
グラム内で格子周期に分布があるホログラムを一
次元的に移動することによつて、回折角を変化さ
せて光偏向を行う。この様な光ビーム走査装置に
使用されるホログラムに記録されるべきホログラ
ム上の干渉縞の位相分布は、解析されており、ホ
ログラム上に極座標をとり動径をγとすると、位
相分布φ1（γ）は、 φ1（γ）＝2π／λN 〓n=1 （√2＋2−fn） (1) となる。ここに、λは干渉光の波長、N 〓n=1 １／fnはホ ログラムの１次回折光の焦点距離の逆数、Ｎは整
数である。(1)式で表わされる位相分布を持つ、ホ
ログラムの製造方法としては、Ｎ個の球面波をホ
ログラムを介して位相減算して、合成する方法が
あり、Ｎ＝２の場合が、特願昭53−11711号で、
Ｎ≧３の場合が、特願昭54−78495号で特許出願
されている。
これらの方法においては、発散球面波と集束球
面波との干渉で製作したホログラム（Ｎ＝２のホ
ログラム）を出発点として、Ｎ＝２のホログラム
を平面波で照射して得られる１次回折光が２つの
球面波の位相を減算した位相を持つ波面であるか
ら、この波面と球面波を干渉させてＮ＝３のホロ
グラムを製作する。次にＮ＝３のホログラムを出
発点として、同じプロセスを繰り返して行けば、
Ｎ個の球面波を合成したホログラムを製作でき
る。しかし、この方法では１次回折光を他の次数
の回折光と分離するために、一度、１次回折光と
平面波と干渉させて、ホログラムを製作し、ホロ
グラムを裏面から平面波で照射して、所望の１次
回折光波面をとり出すプロセスを踏まなければな
らない。したがつて、合成する球面波の数Ｎが増
すと、介在するホログラムの数が増すためノイズ
等が増加し、最終ホログラムの品質が劣化してし
まう欠点がある。又、ホログラムを撮影する毎に
光学配置を変えなければならないので、製作が非
常に複雑となり、製作精度も問題となる。光ビー
ム走査装置にホログラムを使う場合、Ｎが大きい
程、走査ビームの収差を小さくできるが、上記理
由により、Ｎが制限されるため、Ｎの大きなホロ
グラムが製造不可能であつた。
面波との干渉で製作したホログラム（Ｎ＝２のホ
ログラム）を出発点として、Ｎ＝２のホログラム
を平面波で照射して得られる１次回折光が２つの
球面波の位相を減算した位相を持つ波面であるか
ら、この波面と球面波を干渉させてＮ＝３のホロ
グラムを製作する。次にＮ＝３のホログラムを出
発点として、同じプロセスを繰り返して行けば、
Ｎ個の球面波を合成したホログラムを製作でき
る。しかし、この方法では１次回折光を他の次数
の回折光と分離するために、一度、１次回折光と
平面波と干渉させて、ホログラムを製作し、ホロ
グラムを裏面から平面波で照射して、所望の１次
回折光波面をとり出すプロセスを踏まなければな
らない。したがつて、合成する球面波の数Ｎが増
すと、介在するホログラムの数が増すためノイズ
等が増加し、最終ホログラムの品質が劣化してし
まう欠点がある。又、ホログラムを撮影する毎に
光学配置を変えなければならないので、製作が非
常に複雑となり、製作精度も問題となる。光ビー
ム走査装置にホログラムを使う場合、Ｎが大きい
程、走査ビームの収差を小さくできるが、上記理
由により、Ｎが制限されるため、Ｎの大きなホロ
グラムが製造不可能であつた。
この発明の目的は、介在するホログラムの数を
増すことなく、合成された球面波の数Ｎが大きな
ホログラムの製造方法を提供することにある。
増すことなく、合成された球面波の数Ｎが大きな
ホログラムの製造方法を提供することにある。
この発明のホログラムの製造方法は３つあり、
第１番目の方法は、干渉縞の位相分布φ1が(1)式
で表わされるホログラムを第１の平面波で照射し
て得られる±２次以上の次数の回折光のうちの任
意の回折光と第２の平面波、との干渉により生成
した干渉縞を記録媒体に記録することを特徴とす
るホログラムの製造方法で、第２番目の方法は、
干渉縞の位相分布φ1が(1)式で表わされるホログ
ラムを第１の平面波で照射して得られる±２次以
上の次数の回折光のうちの任意の回折光と、球面
波との干渉により生成した干渉縞を記録媒体に記
録することを特徴とするホログラムの製造方法
で、第３番目の方法は、干渉縞の位相分布φ1が、
(1)式で表わされるホログラムを第１の平面波で照
射して得られる±２次以上の次数の回折光のうち
の任意の回折光と、 干渉縞の位相分布φ2が、 φ2＝2π／λM 〓n=1 （√2＋2−gn） (2) （但し、λは干渉光の波長、γは第２のホログ
ラム上の任意の点の位置を示す座標、M 〓n=1 １／gnは、 第２のホログラムの１次回折光の焦点距離の逆
数、Ｍは整数） で表わされる第２のホログラムを第３の平面波で
照射して得られる０次以外の次数の回折光との干
渉により生成した干渉縞を記録媒体に記録するこ
とを特徴とするホログラムの製造方法である。
第１番目の方法は、干渉縞の位相分布φ1が(1)式
で表わされるホログラムを第１の平面波で照射し
て得られる±２次以上の次数の回折光のうちの任
意の回折光と第２の平面波、との干渉により生成
した干渉縞を記録媒体に記録することを特徴とす
るホログラムの製造方法で、第２番目の方法は、
干渉縞の位相分布φ1が(1)式で表わされるホログ
ラムを第１の平面波で照射して得られる±２次以
上の次数の回折光のうちの任意の回折光と、球面
波との干渉により生成した干渉縞を記録媒体に記
録することを特徴とするホログラムの製造方法
で、第３番目の方法は、干渉縞の位相分布φ1が、
(1)式で表わされるホログラムを第１の平面波で照
射して得られる±２次以上の次数の回折光のうち
の任意の回折光と、 干渉縞の位相分布φ2が、 φ2＝2π／λM 〓n=1 （√2＋2−gn） (2) （但し、λは干渉光の波長、γは第２のホログ
ラム上の任意の点の位置を示す座標、M 〓n=1 １／gnは、 第２のホログラムの１次回折光の焦点距離の逆
数、Ｍは整数） で表わされる第２のホログラムを第３の平面波で
照射して得られる０次以外の次数の回折光との干
渉により生成した干渉縞を記録媒体に記録するこ
とを特徴とするホログラムの製造方法である。
次に、この発明の原理について説明する。(1)式
で表わされる干渉縞の、γ方向に沿つた波数Ｋ
（γ）は、 で表わされる。ホログラムの照射光、±ｍ次の回
折光のγ方向の波数を各々υ及びw±nとすると、
波数の整合から、 w±n＝υ±mK (4) となる。(4)式から±ｍ次の回折光に対しては、ホ
ログラムは、±mKの波数を持つホログラムとし
て作用していることが理解される。そこで波数
mKの式を考察すると、 ここに、fi＝fi+N＝fi+2N＝……＝fi+(n-1)N，ｉ＝
１，…，Ｎである。(5)式からＮ個の球面波を合成
したホログラムの±ｍ次回折光は、Ｎ×ｍ個の球
面波を合成したホログラムの±１次回折光と同じ
波面を持つ光であることがわかる。すなわち、こ
の発明の原理は、Ｎ個の球面波を合成したホログ
ラムの±ｍ次回折光をホログラムの製造に使うこ
とで、ホログラムを実質上Ｎ×ｍ個の球面波を合
成したホログラムとして作用させて、球面波を合
成するプロセスの数を減少させることにある。
で表わされる干渉縞の、γ方向に沿つた波数Ｋ
（γ）は、 で表わされる。ホログラムの照射光、±ｍ次の回
折光のγ方向の波数を各々υ及びw±nとすると、
波数の整合から、 w±n＝υ±mK (4) となる。(4)式から±ｍ次の回折光に対しては、ホ
ログラムは、±mKの波数を持つホログラムとし
て作用していることが理解される。そこで波数
mKの式を考察すると、 ここに、fi＝fi+N＝fi+2N＝……＝fi+(n-1)N，ｉ＝
１，…，Ｎである。(5)式からＮ個の球面波を合成
したホログラムの±ｍ次回折光は、Ｎ×ｍ個の球
面波を合成したホログラムの±１次回折光と同じ
波面を持つ光であることがわかる。すなわち、こ
の発明の原理は、Ｎ個の球面波を合成したホログ
ラムの±ｍ次回折光をホログラムの製造に使うこ
とで、ホログラムを実質上Ｎ×ｍ個の球面波を合
成したホログラムとして作用させて、球面波を合
成するプロセスの数を減少させることにある。
次に図面を参照して、この発明を詳細に説明す
る。第１図は、特願昭53−11711号で出願した合
成する球面波の数がＮ＝２のホログラムの製作光
学系を示す図で、点１から発散する発散球面波２
（焦点距離f1）と、ホログラム記録媒体５に対し
て、点２と同じ垂直軸上の点３に集束する集束球
面波４（焦点距離f2）との干渉縞がホログラム記
録媒体５に記録されてホログラムとなる。
る。第１図は、特願昭53−11711号で出願した合
成する球面波の数がＮ＝２のホログラムの製作光
学系を示す図で、点１から発散する発散球面波２
（焦点距離f1）と、ホログラム記録媒体５に対し
て、点２と同じ垂直軸上の点３に集束する集束球
面波４（焦点距離f2）との干渉縞がホログラム記
録媒体５に記録されてホログラムとなる。
第２図は、第１図で製作したホログラム５か
ら、２次回折光のみを分離するために２次回折光
をホログラムとして記録するための光学系を示す
図である。第２図で、Ｎ＝２のホログラム５を平
面波６で照射すると、直接透過光（０次回折光）
７のほか、点８に集束する１次回折光９、及び点
１０に集束する２次回折光１１が再生される。さ
らに高次回折光が負次数回折光は省略してある。
本発明のホログラムの製造方法で使う波面は、ホ
ログラム５上での２次回折光１１であるから２次
回折光１１を他次数回折光と分離できる位置で、
平面波１２と干渉させてホログラム記録媒体１３
に記録して、途中段階のホログラムとする。
ら、２次回折光のみを分離するために２次回折光
をホログラムとして記録するための光学系を示す
図である。第２図で、Ｎ＝２のホログラム５を平
面波６で照射すると、直接透過光（０次回折光）
７のほか、点８に集束する１次回折光９、及び点
１０に集束する２次回折光１１が再生される。さ
らに高次回折光が負次数回折光は省略してある。
本発明のホログラムの製造方法で使う波面は、ホ
ログラム５上での２次回折光１１であるから２次
回折光１１を他次数回折光と分離できる位置で、
平面波１２と干渉させてホログラム記録媒体１３
に記録して、途中段階のホログラムとする。
第３図は、本発明の第１番目の製造方法による
ホログラムの製作光学系を示す図である。第２図
で製作されたホログラム１３を、製作時の平面波
１２と逆方向から、平面波１４で照射すると、１
次回折光１５が再生される。１次回折光１５は、
第２図のホログラム５の２次回折光１１の逆進波
である。１次回折光１５は、第２図のホログラム
５に対応する位置で、平面波１６と干渉し、干渉
縞がホログラム記録媒体１７に記録され、本発明
の第１番目の製造方法によるホログラムが得られ
る。ホログラム１７は、Ｎ＝２のホログラムの２
次回折光を使つて製作しているので、Ｎ＝４のホ
ログラムとなる。
ホログラムの製作光学系を示す図である。第２図
で製作されたホログラム１３を、製作時の平面波
１２と逆方向から、平面波１４で照射すると、１
次回折光１５が再生される。１次回折光１５は、
第２図のホログラム５の２次回折光１１の逆進波
である。１次回折光１５は、第２図のホログラム
５に対応する位置で、平面波１６と干渉し、干渉
縞がホログラム記録媒体１７に記録され、本発明
の第１番目の製造方法によるホログラムが得られ
る。ホログラム１７は、Ｎ＝２のホログラムの２
次回折光を使つて製作しているので、Ｎ＝４のホ
ログラムとなる。
またホログラム１３を第２図に従つて、ホログ
ラム５の３次回折光を用いて製作し、このホログ
ラム１３を用いて上述と同様の方法でホログラム
１７を作製した場合は、ホログラム１７は、Ｎ＝
２のホログラム（ホログラム５）の３次回折光を
使つて作製したことになるのでＮ＝６のホログラ
ムとなる。このようにＮが大きくなつてもそのホ
ログラム作製のために必要なホログラムの数は少
なくて済む。Ｎ＝６のホログラムを特願昭54−
78495号で出願されている従来方法で製作すると、
介在するホログラムの数は４枚となり、本方法の
２枚に比べ倍のホログラムが介在し、製作が複雑
となる上、ノイズが増大し、良質なホログラムを
得るのが困難である。
ラム５の３次回折光を用いて製作し、このホログ
ラム１３を用いて上述と同様の方法でホログラム
１７を作製した場合は、ホログラム１７は、Ｎ＝
２のホログラム（ホログラム５）の３次回折光を
使つて作製したことになるのでＮ＝６のホログラ
ムとなる。このようにＮが大きくなつてもそのホ
ログラム作製のために必要なホログラムの数は少
なくて済む。Ｎ＝６のホログラムを特願昭54−
78495号で出願されている従来方法で製作すると、
介在するホログラムの数は４枚となり、本方法の
２枚に比べ倍のホログラムが介在し、製作が複雑
となる上、ノイズが増大し、良質なホログラムを
得るのが困難である。
第４図は、本発明の第２番目の製造方法による
ホログラムの製作光学系を示す図である。第４図
において、第２図で製作されたホログラム１３を
製作時の平面波１２と逆方向から平面波１４で照
射すると、１次回折光１５が再生される。１次回
折光１５は第２図のホログラム５の２次回折光１
１の逆進波である。１次回折光１５は、第２図の
ホログラム５に対応する位置で点１８に集束する
球面波１９と干渉し、干渉縞がホログラム記録媒
体２０に記録され、本発明の第２番目の製造方法
によるホログラムが得られる。第４図で、ホログ
ラム１３の回折光の集束点２１と、球面波１９の
集束点１８は、ホログラム記録媒体２０に垂直な
共通光軸上に配置されている。ホログラム２０
は、Ｎ＝２のホログラムの２次回折光と、球面波
を使つて製作しているので、Ｎ＝５のホログラム
となる。
ホログラムの製作光学系を示す図である。第４図
において、第２図で製作されたホログラム１３を
製作時の平面波１２と逆方向から平面波１４で照
射すると、１次回折光１５が再生される。１次回
折光１５は第２図のホログラム５の２次回折光１
１の逆進波である。１次回折光１５は、第２図の
ホログラム５に対応する位置で点１８に集束する
球面波１９と干渉し、干渉縞がホログラム記録媒
体２０に記録され、本発明の第２番目の製造方法
によるホログラムが得られる。第４図で、ホログ
ラム１３の回折光の集束点２１と、球面波１９の
集束点１８は、ホログラム記録媒体２０に垂直な
共通光軸上に配置されている。ホログラム２０
は、Ｎ＝２のホログラムの２次回折光と、球面波
を使つて製作しているので、Ｎ＝５のホログラム
となる。
本発明の第３番目の製造方法によるホログラム
の製造方法は第４図の球面波１９にかえて、複数
の球面波を合成した波面を用いる方法で、さらに
Ｎが大きいホログラムが得られる。実際のプロセ
スを図面を使つて説明する。
の製造方法は第４図の球面波１９にかえて、複数
の球面波を合成した波面を用いる方法で、さらに
Ｎが大きいホログラムが得られる。実際のプロセ
スを図面を使つて説明する。
第５図は、複数の球面波を合成した集束波面を
得るためのホログラムを記録する光学系を示す図
である。第２図で製作したホログラム１３を製作
時の平面波１２と逆方向の平面波１４で照射する
と、１次回折光１５が再生される。１次回折光１
５を、点線２２で示したもとのホログラム５の位
置で集束波に変換するために１次回折光１５を、
点線２２で示した、もとのホログラム５よりも後
方の位置で平面波２３と干渉させ、ホログラム記
録媒体２４に記録し、途中段階のホログラム２４
を製作する。次にホログラム２４と、第２図の光
学系で製作したホログラム１３を使つて本発明の
第３番目の製造方法によるホログラムを製作す
る。
得るためのホログラムを記録する光学系を示す図
である。第２図で製作したホログラム１３を製作
時の平面波１２と逆方向の平面波１４で照射する
と、１次回折光１５が再生される。１次回折光１
５を、点線２２で示したもとのホログラム５の位
置で集束波に変換するために１次回折光１５を、
点線２２で示した、もとのホログラム５よりも後
方の位置で平面波２３と干渉させ、ホログラム記
録媒体２４に記録し、途中段階のホログラム２４
を製作する。次にホログラム２４と、第２図の光
学系で製作したホログラム１３を使つて本発明の
第３番目の製造方法によるホログラムを製作す
る。
第６図は、本発明の第３番目の製造方法による
ホログラムの製作光学系を示す図である。第５図
の光学系で製作したホログラム２４を製作時の平
面波２３と逆方向から、平面波２５で照射する
と、点２６に集束する１次回折光２７が再生され
る。一方、第２図の製作光学系で製作したホログ
ラム１３を製作時の平面波１２と逆方向から平面
波１４で照射すると、点２９に集束する１次回折
光１５が再生される。１次回折光２７と１次回折
光１５が、もとのホログラム５の位置に対応する
位置で干渉し、干渉縞がホログラム記録媒体２８
に記録され、本発明の第３番目の製造方法による
ホログラム２８が得られる。第６図で集束点２６
と２９は、ホログラム記録媒体２８に垂直な共通
光軸上に配置されている。ホログラム２８は、両
方の干渉光１５，２７共にＮ＝２のホログラムの
２次回折光を使つているのでＮ＝８のホログラム
となつている。
ホログラムの製作光学系を示す図である。第５図
の光学系で製作したホログラム２４を製作時の平
面波２３と逆方向から、平面波２５で照射する
と、点２６に集束する１次回折光２７が再生され
る。一方、第２図の製作光学系で製作したホログ
ラム１３を製作時の平面波１２と逆方向から平面
波１４で照射すると、点２９に集束する１次回折
光１５が再生される。１次回折光２７と１次回折
光１５が、もとのホログラム５の位置に対応する
位置で干渉し、干渉縞がホログラム記録媒体２８
に記録され、本発明の第３番目の製造方法による
ホログラム２８が得られる。第６図で集束点２６
と２９は、ホログラム記録媒体２８に垂直な共通
光軸上に配置されている。ホログラム２８は、両
方の干渉光１５，２７共にＮ＝２のホログラムの
２次回折光を使つているのでＮ＝８のホログラム
となつている。
以上の実施例でわかる様に、本発明により介在
するホログラムの数を増すことなく、実質的に合
成した球面波の数Ｎが大きいホログラムが得られ
る。
するホログラムの数を増すことなく、実質的に合
成した球面波の数Ｎが大きいホログラムが得られ
る。
第７図は、本発明の製造方法で製作したホログ
ラムを使用した光ビーム走査装置を示す図であ
る。レーザ３０とレンズ３１とからなる光ビーム
発生器からの光ビーム３２がホログラムデイスク
３３の円周上に配置されたホログラム３４を照射
している図である。ホログラム３４の回折光４０
は、ホログラムデイスク３３がモータ４１で矢印
４２の方向に回転されることにより走査面４３上
を矢印４４の方向に走査され、走査線４５とな
る。モータ４１の回転によりホログラム３４〜３
９がくり返し走査する。
ラムを使用した光ビーム走査装置を示す図であ
る。レーザ３０とレンズ３１とからなる光ビーム
発生器からの光ビーム３２がホログラムデイスク
３３の円周上に配置されたホログラム３４を照射
している図である。ホログラム３４の回折光４０
は、ホログラムデイスク３３がモータ４１で矢印
４２の方向に回転されることにより走査面４３上
を矢印４４の方向に走査され、走査線４５とな
る。モータ４１の回転によりホログラム３４〜３
９がくり返し走査する。
本発明のホログラム製造方法では大きなＮのホ
ログラムができる。Ｎが大きい程、走査ビームの
収差を小さくできるので、収差の小さい光ビーム
走査装置が得られる。
ログラムができる。Ｎが大きい程、走査ビームの
収差を小さくできるので、収差の小さい光ビーム
走査装置が得られる。
第１図は、合成する球面波の数が２のホログラ
ムの製作光学系を示す図、第２図は、２次回折光
をホログラムとして記録するための光学系を示
す、第３図は、本発明の第１番目の製造方法によ
るホログラムの製作光学系を示す図、第４図は、
本発明の第２番目の製造方法によるホログラムの
製作光学系を示す図、第５図は、本発明の第３番
目の製造方法における途中段階のホログラムを製
作するための光学系を示す図、第６図は、本発明
の第３番目の製造方法によるホログラムの製作光
学系を示す図、第７図は、本発明の製造方法で製
作したホログラムを使用した光ビーム走査装置を
示す図である。 図において、２は発散球面波、４及び１９は集
束球面波、５，１３，１７，２０，２４及び２８
はホログラム記録媒体、６，１２，１４，１６，
２３，２５は平面波、９，１５及び２７は１次回
折光、１１は２次回折光、３０はレーザ、３１は
レンズ、３３はホログラムデイスク、３４〜３９
はホログラム、４０は回折光、４１はモータ、４
３は走査面、４５は走査線を各々表わす。
ムの製作光学系を示す図、第２図は、２次回折光
をホログラムとして記録するための光学系を示
す、第３図は、本発明の第１番目の製造方法によ
るホログラムの製作光学系を示す図、第４図は、
本発明の第２番目の製造方法によるホログラムの
製作光学系を示す図、第５図は、本発明の第３番
目の製造方法における途中段階のホログラムを製
作するための光学系を示す図、第６図は、本発明
の第３番目の製造方法によるホログラムの製作光
学系を示す図、第７図は、本発明の製造方法で製
作したホログラムを使用した光ビーム走査装置を
示す図である。 図において、２は発散球面波、４及び１９は集
束球面波、５，１３，１７，２０，２４及び２８
はホログラム記録媒体、６，１２，１４，１６，
２３，２５は平面波、９，１５及び２７は１次回
折光、１１は２次回折光、３０はレーザ、３１は
レンズ、３３はホログラムデイスク、３４〜３９
はホログラム、４０は回折光、４１はモータ、４
３は走査面、４５は走査線を各々表わす。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 干渉縞の位相分布φ1が φ1＝2π／λN 〓n=1 （√2＋2−fn） （但し、λは干渉光の波長、γはホログラム上
の任意の点の位置を示す座標、N 〓n=1 １／fnは、ホログ ラムの１次回折光の焦点距離の逆数、Ｎは整数） で表わされるホログラムを第１の平面波で照射し
て得られる±２次以上の次数の回折光のうち任意
の次数の回折光と第２の平面波との干渉により生
成した干渉縞を記録媒体に記録することを特徴と
するホログラムの製造方法。 ２ 干渉縞の位相分布φ1が φ1＝2π／λN 〓n=1 （√2＋2−fn） （但し、λは干渉光の波長、γはホログラム上
の任意の点の位置を示す座標、N 〓n=1 １／fnは、ホログ ラムの１次回折光の焦点距離の逆数、Ｎは整数） で表わされるホログラムを第１の平面波で照射し
て得られる±２次以上の次数の回折光と、球面波
との干渉により生成した干渉縞を記録媒体に記録
することを特徴とするホログラムの製造方法。 ３ 干渉縞の位相分布φ1が φ1＝2π／λN 〓n=1 （√2＋2−fn） （但し、λは干渉光の波長、γはホログラム上
の任意の点の位置を示す座標、N 〓n=1 １／fnは、ホログ ラムの１次回折光の焦点距離の逆数、Ｎは整数） で表わされるホログラムを第１の平面波で照射し
て得られる±２次以上の次数の回折光と、 干渉縞の位相分布φ1が φ2＝2π／λM 〓n=1 （√2＋2−gn） （但し、λは干渉光の波長、γは第２のホログ
ラムの任意の点の位置を示す座標、M 〓n=1 １／gnは、第 ２のホログラムの１次回折光の焦点距離の逆数、
Ｍは整数） で表わされる第２のホログラムを第３の平面波で
照射して得られる０次以外の次数の回折光との干
渉により生成した干渉縞を記録媒体に記録するこ
とを特徴とするホログラムの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7741580A JPS574083A (en) | 1980-06-09 | 1980-06-09 | Production of hologram |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7741580A JPS574083A (en) | 1980-06-09 | 1980-06-09 | Production of hologram |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS574083A JPS574083A (en) | 1982-01-09 |
| JPH0145046B2 true JPH0145046B2 (ja) | 1989-10-02 |
Family
ID=13633303
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7741580A Granted JPS574083A (en) | 1980-06-09 | 1980-06-09 | Production of hologram |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS574083A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR950000047Y1 (ko) * | 1990-08-30 | 1995-01-07 | 주식회사 금성사 | 코일형상의 고저항체를 가지는 음극선관 |
-
1980
- 1980-06-09 JP JP7741580A patent/JPS574083A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS574083A (en) | 1982-01-09 |
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