JPH0136605B2 - - Google Patents

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JPH0136605B2
JPH0136605B2 JP15700481A JP15700481A JPH0136605B2 JP H0136605 B2 JPH0136605 B2 JP H0136605B2 JP 15700481 A JP15700481 A JP 15700481A JP 15700481 A JP15700481 A JP 15700481A JP H0136605 B2 JPH0136605 B2 JP H0136605B2
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JP
Japan
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film
cermet
metal
ceramic
deposited
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JP15700481A
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English (en)
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JPS5858527A (ja
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Shigekazu Nakamura
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Nidec Precision Corp
Original Assignee
Nidec Copal Corp
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Publication date
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Publication of JPS5858527A publication Critical patent/JPS5858527A/ja
Publication of JPH0136605B2 publication Critical patent/JPH0136605B2/ja
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Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03BAPPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B9/00Exposure-making shutters; Diaphragms
    • G03B9/08Shutters

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Diaphragms For Cameras (AREA)
  • Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は光学機械用プラスチツク製羽根、詳細
には、ポリエステルフイルムを素材とするプラス
チツク製羽根に関する。
例えば、カメラ等に用いられる光学機械用羽根
(シヤツタ羽根、絞り羽根)は感光材料の前面を
おおつて光をさえぎるものであるから、本質的に
遮光性を有していなければならないし、表面で光
が反射しない様に効率良く光を吸収しなければな
らないので、羽根は黒色であつてしかもつや消し
が施されていなければならない。その上、羽根は
互に重り合つて作動するので平面性が良好で耐摩
耗性に優れ、且つ帯電防止能がなければならな
い。このことは高速で開閉動作するシヤツタ羽根
において特に重要な事である。
従つて、羽根の素材選定に際してはこの過酷な
使用環境に鑑み、一般には50μ〜100μ程度の金属
シートが用いられていたが、近年の羽根の軽量化
の要望に基づいて、一部では金属シートに代つて
黒色化したポリエステルフイルムを素材とする羽
根が提供され始めている。尚、ポリエステルフイ
ルムがこの種の目的に用いられるプラスチツク材
として最良のものである事はすでに認められてい
る。例えば、特開昭49−54022号公報においてこ
のことは述べられている。
ところが、ポリエステルフイルムを素材とする
従来の羽根は遮光性において十分であるが表面反
射のために光吸収性が悪いので、サンドブラスト
等によつて表面を粗面化させたり、黒色つや消し
塗料を塗布したりしている。
このため、従来のポリエステルフイルム製羽根
は耐擦傷性、耐久性の点で劣つていた。
更に、従来の羽根は帯電防止のために、カーボ
ンの如き導電性の黒色顔料を多量に含んだ樹脂で
コーテイングするか、一般的な界面活性剤系の帯
電防止剤を表面に付着させたりしている。
しかし、帯電防止効果を発揮する程度にカーボ
ン等の導電性物質を含有させた塗膜は疵が付き易
いと共に、摩耗粉として他に害を及ぼす等の欠点
があり、耐久性も劣つている。また、一般的な界
面活性剤系の帯電防止剤は低湿度では効果がな
く、持続性の点で劣つており、特に高速でこすり
合つて開閉動作するシヤツタ羽根には不向きであ
つた。
更に、従来の羽根は耐集光熱性(例えば、カメ
ラを太陽に向けた様な場合、レンズを通つた光が
シヤツタ羽根の一点に集光してシヤツタ羽根が焼
損することがあるが、この様な焼損が生じない特
性を耐集光熱性という。)を得るために、ポリエ
ステルフイルム製素材の表面にニツケル、アルミ
ニウム等の金属を真空蒸着法によつて数ミクロン
だけ付着させたりしている。例えば、実公昭53−
12192号公報には、ポリエチレンテレフタレート
の基材の表面に金属膜を蒸着し、その上に遮光性
塗料を被着したシヤツタ幕が示されている。
しかし、この様な手段であると、後工程処理が
必要であるという欠点を有している。
つまり、金属膜を蒸着することによつて耐集光
熱性は得られるが、金属膜による表面反射のため
に光吸収性が悪いので、黒色塗料を被着して表面
をつや消し状にしなければならない。従つて、前
述と同様に耐擦傷性、耐久性の点で劣つたり、蒸
着工程と塗装工程の異種工程を経なければならな
いので工程管理の点で劣つていた。
本発明は上述従来例の欠点に鑑みてなされたも
ので、簡単な構成、単純な処理でもつて遮光性、
光吸収性、耐擦傷性、耐久性、帯電防止能にすぐ
れているプラスチツク製羽根を提供することを目
的とするものであり、本発明の目的はポリエステ
ルフイルム製の素材に黒色のサーメツト薄膜を蒸
着することによつて達成される。
更に、本発明の目的はポリエステルフイルム製
の素材と黒色サーメツト薄膜の間に金属膜を介在
させることによつても達成される。
更にまた、本発明の目的は、セラミツクと金属
の合成比が膜厚方向において徐々に変化する様に
サーメツト薄膜を蒸着することによつても達成さ
れる。
以下図示した一実施例に基づいて本発明を説明
する。
先ず、第1図〜第3図は一般的な絞り羽根1、
レンズシヤツタ用のシヤツタ羽根2及びフオーカ
ルプレーンシヤツタ用のシヤツタ羽根3の形状を
示す平面図であり、第4図は本発明に係る羽根の
側断面図である。
そして図において、4は二軸延伸ポリエステル
(ポリエチレンテレフタレート)フイルムから成
る羽根の素材であり、黒色顔料等が混入されてい
る遮光性に優れている。ただし、この場合は遮光
性に優れていることは絶縁条件ではなく、ポリエ
ステルフイルム自身が遮光性を有していればより
好ましくなるという程度のものである。この点、
後述する他の実施例の場合も同様である。
5はセラミツクと金属の合成材である黒色のサ
ーメツト薄膜(例えば、Cr2O3・Cr、SiO・Cr、
Al2O3・M、…等)であり、該ポリエステルフイ
ルム4に蒸着されている。
尚、実施例では片面のみにサーメツト薄膜を蒸
着する場合を説明したが両面に蒸着しても良い。
更に、処理方法についても真空蒸着法に限定さ
れず、そのほか物理蒸着法に分類される。例えば
密着性のすぐれているイオンプレーテイング法で
も良いし、反応性イオンプレーテイングで行なつ
てセラミツクを蒸着しても良いし、更にはスパツ
タリング法、気相蒸着法でも良い。そしてこの場
合、ポリエステルフイルムの表面を予めマツト処
理しておいても良い。
その上、サーメツト薄膜を蒸着する場合、蒸発
源としてセラミツクと金属の合成材であるサーメ
ツトを配しても良いし、セラミツクと金属とを
別々に配してフイルム表面でサーメツト薄膜が得
られる様にしても良い。
ここに、セラミツク(例えばCr2O3、SiO、
Al2O、…等)と金属(例えばクロムCr)の合成
比が適正であるサーメツト膜は黒色で、且つ電気
伝導性にすぐれているので、他の処理を施すこと
なく遮光性、光吸収性、帯電防止能、にすぐれた
プラスチツク羽根が得られる。
次に他の発明を第5図に基づいて説明するが、
第4図と同じ構成は同一番号を付して再度の説明
は省略する。
図において、6は金属(例えばクロムCr)の
膜であり、前記ポリエステルフイルム4に蒸着さ
れている。そして、該金属の膜の上には更に前記
黒色サーメツト薄膜5が蒸着されている。
従つて、ポリエステルフイルム4に直接にサー
メツト薄膜5を蒸着する場合に比較して、第1
に、サーメツト薄膜の密着性が向上すると共に遮
光性のすぐれた羽根が得られ、第2に、耐集光熱
性のすぐれた羽根が得られるという効果がある。
勿論、密着性だけ向上させるのであればこの金属
膜6は薄くても良い、耐集光熱性も向上させるの
であれば若干厚くしなければならない。
つまり、ポリエステルフイルム4にサーメツト
薄膜5を直接に蒸着した場合(第4図)には、例
えばサーメツト薄膜5の面に太陽光が集光される
と光エネルギーは熱エネルギーに交換され、変換
された熱エネルギーはポリエステルフイルム4に
伝達され、ポリエステルフイルム4に局部的な焼
損が生じる。しかし、本発明の様に金属膜6を間
に介在させておくと、変換された熱エネルギーは
この金属膜6によつて広い面積に分散させられる
ことになり、ポリエステルフイルム4の面は局部
的に加熱されなくなる。従つて、耐集光熱性が向
上する。
続いて、更に他の発明を第6図に基づいて説明
するが、第4図と同じ構成は同一番号を付して再
度の説明は省略する。
図において、5′は薄膜で、100%のクロムCr
から成る金属層B、セラミツクとクロムCrの合
成材であるサーメツト層A+B、100%のセラミ
ツクからなるセラミツク層Aから構成されてい
る。そして、該サーメツト層A+Bは第7図に示
す様に、表面に向う程セラミツクの濃度が濃くな
る様にセラミツクとクロムCrの合成比が膜厚方
向に徐々に変化しているので、ある一部の層は黒
色サーメツトが得られる合成比となつており、且
つそのほかのサーメツト層及びその上のセラミツ
ク層Aは半透明であるので、矢印X方向から見た
場合、あたかも黒色のサーメツト層が蒸着されて
いる様な外観を呈する。
つまり、サーメツト薄膜が黒色となるためのセ
ラミツクと金属の合成比はある値(許容範囲は狭
い)に限定されており、その合成比が適正でなけ
ればサーメツト薄膜は黒色とならないが、本発明
の様に構成すると、サーメツト層の一部が必ずこ
の適正な合成比となるので必ず黒色のサーメツト
層が得られるという効果がある。
次に、上述構成の薄膜5′を得るための方法及
び装置について説明する。
第8図は巻取式真空蒸着装置10の概略を示し
た側面図であり、図において14はポリエステル
フイルム4の供給ロール、15は巻き取りロー
ル、16はプラテンロール、17,18は遮蔽
板、19,20は熱源、Pは真空ポンプである。
尚、該熱源19からはクロムCr Bが蒸発し、該
熱源20からはセラミツクAが蒸発するが、その
蒸発範囲は一部で重なるようにしてある。
従つて、ポリエステルフイルム4の表面には、
先ず最初に、熱源19から蒸発されたクロムCr
が蒸着し、次に、熱源19から蒸発されたクロム
Crと熱源20から蒸発されたセラミツクが同時
に蒸着し(ただし、クロムCrの蒸着量はフイル
ムの送りが進むにつれて減少し、セラミツクの蒸
着量は送りが進むにつれて増加する。)、最後に、
熱源20から蒸発されたセラミツクが蒸着し、第
6図、第7図で説明した様な薄膜5′が得られる。
以上が本発明の実施例の説明であるが、本発明
はこの実施例に限定されないことは勿論である。
例えば、本実施例ではポリエステルフイルム4
に薄膜を直接に蒸着したが、第5図で示すように
金属膜6を介在させても良い。更に、本実施例で
は、Cr2O3、SiO、Al2O3等の酸化物をセラミツク
の蒸発源として用いて真空中で処理したが、Cr、
Si、Alを直接に蒸発源として酸素ガス雰囲気中
で処理するようにしても良い。
更にまた、遮蔽板17,18をプラテンロール
側に延長させて、熱源19,20から蒸発される
クロムCr及びセラミツクの一部を遮る様にして、
サーメツト薄膜のみが蒸着する様にしても良い。
つまり、第5図における金属層Bとセラミツク層
Aが存在しない状態でも良い。
以上のように本発明によれば、ポリエステルフ
イルムの表面に黒色のサーメツト薄膜を蒸着する
ことによつて、そのほかの処理を施すことなく、
遮光性、光吸収性、帯電防止能にすぐれ且つ耐擦
傷性、耐久性にすぐれたプラスチツク製羽根が得
られるという効果があり、また、ポリエステルフ
イルムとサーメツト薄膜の間に金属膜を介在させ
ることによつて、サーメツト薄膜の密着性が向上
すると共に、耐集光熱性にすぐれたプラスチツク
製羽根が得られるという効果がある。
更に、サーメツト薄膜におけるセラミツクと金
属の合成比を膜厚方向に徐々に変化させる様にす
ると、サーメツト薄膜の一部が必ず適正な合成比
となり、必ず黒色のサーメツト薄膜が得られると
いう効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図乃至第3図は一般的な羽根の形状を参考
程度に示す平面図、第4図は本発明に係る羽根の
拡大した側断面図、第5図は他の発明に係る羽根
の拡大した側断面図、第6図は更に他の発明に係
る羽根の拡大した側断面図、第7図は第6図の羽
根の合成比を示すグラフ、第8図は第6図の羽根
の表面処理のための真空蒸着装置の概略を示した
側面図である。 4……ポリエステルフイルムから成る羽根の素
材、5……黒色のサーメツト薄膜、5′……薄膜、
A……セラミツク層、B……金属層、A+B……
サーメツト層、6……金属膜、10……巻取式真
空蒸着装置、14……ポリエステルフイルム4の
供給ロール、19,20……熱源。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 ポリエステルフイルム製の素材にセラミツク
    と金属の合成材である黒色のサーメツト薄膜を蒸
    着したことを特徴とする光学機械用プラスチツク
    製羽根。 2 ポリエステルフイルム製の素材にセラミツク
    と金属の合成材であるサーメツト薄膜をセラミツ
    クと金属の合成比が膜厚方向において徐々に変化
    するように蒸着したことを特徴とする光学機械用
    プラスチツク製羽根。 3 ポリエステルフイルム製の素材に先ず金属の
    薄膜を蒸着し、その上にセラミツクと金属の合成
    材である黒色のサーメツト薄膜を蒸着したことを
    特徴とする光学機械用プラスチツク製羽根。 4 ポリエステルフイルム製の素材に先ず金属の
    薄膜を蒸着し、その上にセラミツクと金属の合成
    材であるサーメツト薄膜をセラミツクと金属の合
    成比が膜厚方向において徐々に変化するように蒸
    着したことを特徴とする光学機械用プラスチツク
    製羽根。
JP15700481A 1981-10-02 1981-10-02 光学機械用プラスチツク製羽根 Granted JPS5858527A (ja)

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Publication Number Publication Date
JPS5858527A JPS5858527A (ja) 1983-04-07
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ID=15640074

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JP15700481A Granted JPS5858527A (ja) 1981-10-02 1981-10-02 光学機械用プラスチツク製羽根

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH065333B2 (ja) * 1987-06-10 1994-01-19 松下電器産業株式会社 撮影装置

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JPS5858527A (ja) 1983-04-07

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