JPH01318988A - 放射線計測装置 - Google Patents

放射線計測装置

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JPH01318988A
JPH01318988A JP63150914A JP15091488A JPH01318988A JP H01318988 A JPH01318988 A JP H01318988A JP 63150914 A JP63150914 A JP 63150914A JP 15091488 A JP15091488 A JP 15091488A JP H01318988 A JPH01318988 A JP H01318988A
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radiation
signal processing
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勉 山河
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は、光電子増倍管(以下、rPMTJと略記する
)を用いた放射線計測装置に関する。
(従来の技術) 放射線入射により微小光を発するシンチレータと、この
光を電気信号に変換するPMTとを用いて、放射線計測
装置を形成することができる。
このような装置において、PMTのゲイン安定化は、放
射線計測精度を高める上で極めて重要となる。
第9図、第10図は従来装置におけるPMTのゲイン安
定化系を示している。
第9図の安定化系では、LEDコントローラ5の制御下
で発光ダイオード(LED)2よりの基準光をPMTI
に照射し、そのときのPMT出力をフィードバックコン
トローラ4に取込んでプリアンプ3のゲインを制御する
ことによりPMTlのゲインを等価的に安定させている
また、第10図の安定化系では、フィードバックコント
ローラ4によってPMT駆動用高電圧発生(HV)ユニ
ット6の出力電圧を制御することでPMTlのゲインを
等価的に安定させている。
(発明が解決しようとする課題) しかし、従来装置においては、プリアンプ及びこのプリ
アンプの後段に配置される電子回路のゲインやオフセッ
トが温度ドリフト等で変動した場合、その変動を補正す
ることができないために、放射線計測精度が低下すると
いう欠点がある。
そこで本発明は上記の欠点を除去するもので、放射線計
測精度の向上を図ることを目的としている。
[発明の構成] (課題を解決するための手段) 本発明は、PMTに基準光を照射する基準光照射手段と
、この基準光照射時におけるPMT出力のアナログ信号
処理後の信号成分に基づいて前記PMTのゲイン補正を
行うゲイン補正手段とを有するものである。
また、以下に述べる理由により、前記基準光照射時にお
ける前記PMT出力のアナログ信号処理後の信号成分に
基づいてオフセット補正を行うオフセット補正手段を設
けている。
(作 用) 本発明では、前記基準光照射手段による基準光照射時に
おける前記PMTの出力が、前記アナログ信号処理系を
介して前記ゲイン補正手段に取込まれ、このゲイン補正
手段により前記PMTのゲイン補正が行われる。このた
め、アナログ信号処理系のゲインが温度ドリフト等によ
り変動した場合でもこれを補正することができる。これ
により、放射線計測精度の向上を図ることができる。
また、PMTのアナログ信号処理後の信号成分を加算平
均した俄にゲイン補正値を算出し、これに基づいてゲイ
ン補正をすることにより、ゲイン補正精度を高めること
ができる。ここで、上記のゲイン補正は、前記アナログ
信号処理系におけるゲイン可変型増幅回路のゲインをフ
ィードバック制御することで、あるいは前記PMHの駆
動用高電圧値をフィードバック制御することで行い得る
更に、前記オフセット補正手段をも設けた場合には、前
記アナログ信号処理後の信号成分に基づいてオフセット
補正をも行うことができるので、放射線計測精度を更に
高めることができる。ここで上記のオフセット補正は、
互いに光量の異なる2種類の基準光を異なるタイミング
でPMHに照射し、このときの前記PMT出力のアナロ
グ信号処理後の信号成分に基づいて算出されたオフセッ
ト補正値を用いて行われる。
(実施例) 以下、本発明を実施例により具体的に説明する。
第1図は本発明の一実施例を示すもので、被検体に投与
されたラジオアイソトープ(RI)の集積像を得るディ
ジタルガンマカメラに適用した場合を示している。
本実施例装置は複数のPMT (PMT)10と、これ
に対応して配置された複数のLED (発光ダイオード
)12とを有する。各PMT10には、発光ダイオード
LED12より発せられた光が入射されるようになって
いる。このLEDl 2はLEDコントローラ27の制
御下で、第2図に示すように、互いに光量の異なる2種
類の基準光P1 。
P2をパルス状に発する。ここでこのLEDl 2が、
本発明における基準光照射手段の一例である。
また図面上省略しているが、PMTloの前段には、放
射線入射により微小光を発するシンチレータや、このシ
ンチレータよりの微小光をPMTloに導くライトガイ
ド等が配置されている。
更に第1図において、PMTloの後段にはアナログ信
号処理系14が配置されている。このアナログ信号処理
系14は、PMTloより出力されたアナログ信号の処
理を行うもので、プリアンプ15.サムアンプ19.及
び波形整形回路20を有して成る。プリアンプ15はP
MTIOに対応して複数配置され、それぞれオートゲイ
ンコントロール(AGC)機能16.18を有する。こ
のプリアンプ15のゲインはシステムコントローラ26
によって制御される。各プリアンプ15の出力はサムア
ンプ19を介して波形整形回路20に取込まれ、ここで
波形整形される。ここで前記プリアンプ15が、本発明
におけるゲイン可変型増幅回路に相当する。
そして、アナログ信号処理系14の後段には、A/D 
(アナログ・ディジタル)変換器24及び光重畳検出部
21が配置されている。A/D変換器24は、アナログ
信号処理系14の出力をディジタル信号に変換するもの
であり、このA/D変換出力はオフセット補正回路25
に取込まれるようになっている。
このオフセット補正回路25は、LEDl 2による各
パルス状基準光P1 、 P2  (第2図参照)照射
時におけるPMT出力のアナログ信号処理後の信号成分
に基づいて算出されたオフセット補正値に基づいて放射
線計測データのオフセット補正を行うものである。この
オフセット補正回路25が、本発明におけるオフセット
補正手段の一例である。ここで、オフセット補正値の算
出原理について説明する。
パルス状基準光PL 、 P2  (第2図参照)を互
いに異なるタイミングでP−MTIo、11に照射した
場合のA/D変換器24の出力のピーク点をプロットす
ると、例えば第3図のOPl 、OF2あるいはOP1
’ 、 OP2’となる。オフセットドリフトが無い場
合をOPl、OF2とし、このOPl、OF2を結ぶ線
が原点Oを通るように基準光P1 、P2の波高(光量
)が調整されているものとする。所定時間経過後にOP
t’ 、 OP2’がプロットされた場合、このOP1
’ 、 OP2’を結ぶ線はオフセットドリフトにより
原点を通らない。
第3図では負方向にずれており、このずれ値がオフセッ
トドリフト値である。そしてこのずれを修正し得る値が
オフセット補正値となる。
また、システムコントローラ26は本実施例装置全体の
動作制御を司るものであり、上記プリアンプ15 (A
GCl 6)、光重畳検出部21゜A/D変換器24.
オフセット補正回路25.及びLEDコントローラ27
等は、このシステムコントローラ26の制御下にある。
そしてこのシステムコントローラ26は、PMTloへ
の基準光照射時におけるA/D変換器24の出力に基づ
いてPMTIOのゲイン補正のための補正値を算出し、
この補正値に従ってプリアンプ15のゲインを制御する
ことにより、PMTloのゲインを等測的に安定させて
いる。また、このシステムコントローラ26においては
、上記のオフセット補正値の算出も行われる。PMTは
統計的なゆらぎを持つため、上記の補正値算出において
は、基準光測定を複数回実行し、それらの加算平均を行
うようにすると、補正値の精度が向上する。ここで本発
明におけるゲイン補正手段は、このシステムコントロー
ラ26によって機能的に実現される。
尚、上記のゲイン補正及びオフセット補正のための基準
光測定は、システムコントローラ26の制御により、本
実施例装置の放射線計測動作中に割込んで行われる。
更に、光重普検出部21は、上記のゲイン補正及びオフ
セット補正のための基準光測定において、基準光の他に
シンチレータ光(放射線入射による)がPMTIOに取
込まれた場合を検出するものでおる。この検出は、波形
整形回路20の出力波形をモニタすることで行われる。
すなわち、光重畳検出部21は、基準光照射開始より所
定時間波形整形回路20の出力を積分する積分器22と
、この積分器22の出力Vintと基準電圧vrerと
の比較を行う比較器23とを有して成る。そして、ve
nt>vrerの場合に、システムコントローラ26に
データ取込み禁止信号を送出する。システムコントロー
ラ26はこの禁止信号が取込まれた場合、A/D変換器
24のA/D変換動作を禁止すると共に、当該基準光照
射時のアナログ信号処理系14の出力を、ゲイン補正及
びオフセット補正に関与させない。
次に、上記構成の作用について説明する。
°通常の放射線計測は次のように行われる。
尚、プリアンプ15におけるAGC16、及びオフセッ
ト補正回路25には、ゲイン、オフセット補正のための
適当な初期値が既に設定されているものとする。
被検体に投与されたR1よりの放射線(γ線)が、PM
TIOの前段に配置されたシンチレータに入射すると、
このシンチレータより微小光が発せられ、これがPMT
IOに入射されるdこの光入射によるPMT出力はプリ
アンプ15により増幅され、サムアンプ19及び波形整
形回路20を順に経由してA/D変換器24に取込まれ
、ここでディジタル信号に変換された後にオフセット補
正回路25を介して後段回路(図示せず)に伝達され、
RIの集積像形成に供される。
以上の放射線計測は、RIの集積像が形成されるまで行
われるのであるが、この放射線計測動作中に割込んで、
基準光測定及びその測定結果に基づくゲイン補正、オフ
セット補正が次のように実行される。
すなわち、システムコンローラ26は、誤計算を防止す
るために、これから補正を行う系列以外のプリアンプ出
力を禁止し、LEDコントローラ27に対して目的の系
列とLEDの光量レベルとを指定して発光命令を出す。
すると、LEDコントーラ27は、その命令に従い、該
当するLED12を発光させる。このしED光(基準光
)照射によるPMT出力はプリアンプ15によってそれ
ぞれ増幅された後に、サムアンプ19及び波形成形回路
20を介してA/D変換器24に入力される。そしてこ
のA/D変換器24の出力がシステムコントローラ26
に入力され、その後システムコントローラ26は全系列
のプリアンプの出力を許可し、本実施例装置を放射線計
測動作に戻す。
以上のルーチンが所定回数だけ繰返される。そして、シ
ステムコントローラ26は、上記のルーチン実行により
得られた基準光測定結果の加算平均を求め、同系列の初
期値若しくは前回の加算平均値と比較することにより゛
ゲインの変動を算出する。このゲインの変動には、PM
−下のゲイン変動の他にアナログ信号処理系14のゲイ
ンの変動が含まれている。そしてシステムコントローラ
26は、ゲイン変動の算出結果に基づいて、当該系列に
おけるプリアンプ15のAGC16に既に設定されてい
るゲイン補正値を更新する。ゲイン補正値の変更により
プリアンプのゲインが変化し、これにより当該系列のゲ
イン補正を終了する。
複数本のPMTloを有する装置では、上記のゲイン補
正が各系列毎に順次繰返される。
また、代表的な系列に対しては、上記のルーチンを、互
いに異なる2種類のLED光量で実行し、それらのゲイ
ンからオフセット補正値を算出し、その算出結果に基づ
いて、オフセット補正回路25に既に設定されているオ
フセット補正値を更新する。これにより、放射線計測時
におけるA/D変換出力データが、適切なオフセット補
正値によって補正されることになる。
次に、システムコントローラ26におけるオフセット補
正及びドリフト補正に関する処理の流れについて第5図
及び第6図のフローチャートを基に詳述する。
本フローチャートでは、n(nは正の整数)本のPMT
loを有するシステムにおいて、1系列当りm(mは正
の整数)回の加算平均を行う場合を示している。
先ず、システムコントローラ26は、システム起動直後
に、ゲイン、オフセットの初期値をそれぞれ各プリアン
プ15のAGC16及びオフセット補正回路25にセッ
トする(Sl)。そして変数iをOとしくS2)、1を
インクリメントする(S3)。更に変数jをOとしくS
4)、jをインクリメントする(S5)。
次に、i系列口(本フローでは1系列目)のゲイン測定
とその測定結果の加算処理を実行する(S6)。この処
理実行については後に第6図を基に説明する。
そして、12mが成立するか否かの判別を行う(S7)
。この判別において」2mが成立しない場合すなわちN
oと判断された場合には前記ステップS5に戻り、12
mが成立する(YES)と判断されるまで前記ステップ
S5乃至$7が繰返される。これにより、当該i系列に
ついてのゲイン測定結果の加算平均処理が所定回数(m
)だけ行われる。
次にシステムコントローラ26は、オフセット補正を行
う必要があるか否かの判別を行う(S8)。
この判別において、「オフセット補正の必要が無い」と
判断された場合には当該系列についてのゲイン変動を算
出し、更にその算出結果よりゲイン補正値を算出し、当
該系列のプリアンプ15におけるAGC16にゲイン補
正値をセットする(S9)。
また、前記ステップS8の判別において、「オフセット
補正の必要が有る」と判断された場合には当該系列につ
いてのゲイン測定結果の加算値を適宜の記憶手段に記憶
した後(S10)、変数jをOとしく511)、jをイ
ンクリメントする(S12)。そして、i系列口のゲイ
ン測定とその測定結果の加算処理を実行する(313)
。ここでこのステップ313のゲイン測定においては、
前記ステップS6のゲイン測定の場合とはLED光量の
みが異なる。例えば前記ステップS6のゲイン測定にお
いて第2図のPlが用いられる場合には、ステップ51
3のゲイン測定においては第2図のP2が用いられる。
更に、上記と同様に12mが成立するか否かの判別が行
われ(314) 、12mが成立すると判断された場合
に、ゲイン変動及、びオフセット変動が算出され、更に
その算出結果よりゲイン補正値及びオフセット補正値が
算出され、当該系列のプリンアンプ15におけるAGC
16へのゲイン補正値セット、及びオフセット補正回路
25へのオフセット補正値セットが行われる(S15)
 、その後システムコントローラ26は前記ステップS
3に戻る。
以上の処理が全系列又は主要系列の全てについて実行さ
れる。
次に、前記ステップS6及び313の実行の詳細につい
て第6図を基に説明する。
前記ステップS6及び813の実行は放射線計測動作中
に割込んで行われるため、システムコントローラ26は
先ず通常動作(放射線計測動作)を禁止し、i系列以外
のプリアンプ出力を禁止する(S21)。そして、i系
列口のPMTIOに対応するLEDによる基準光の発光
を指令しく522)、当該基準光照射時における波形整
形処理及びA/D変換処理の実行を制御する(S23)
。そしてこのA/D変換値を取込み、データの加算処理
を実行した後に(324) 、通常動作に復帰する(3
25)。
また、本実施例では、光重畳を生じた場合に、当該基準
光照射時のデータを、ゲイン補正及びオフセット補正に
関与させないようにしている。すなわち、光重畳検出部
21において上記の光重畳が検出されると、システムコ
ントローラ26に対してデータ取込み禁止信号が送出さ
れ、この禁止信号によりシステムコントローラ26はA
/D変換器24のA/D変換動作を禁止すると共に補正
値算出への当該測定データの関与を禁止する。
ここで、光重畳検出の詳細について第4図を基に説明す
る 基準光にシンチレーション光が重畳されていない場合、
波形整形回路20の出力波形は第4図31のようになる
。また、基準光にシンチレーション光が重畳されている
場合、波形整形回路20の出力波形は同図32のように
なる。LEDI 2による基準光照射開始より数μsの
間、積分器22において波形整形回路20の出力を積分
する。光重畳が無い場合(波形31)の積分出力Vin
tの波形は、同図33のようになるが、光重畳を生じて
いる場合(波形32)の積分出力は同図34のようにな
り、波形33よりもレベルが高くなる。ここで、基準直
流電圧Vr’efを波形33の波高よりも若干高めに設
定しておく。すると、比較器23においてVintが波
形34の場合、Vint>Vrefが成立し、この比較
器23よりデータ取込み禁止信号が出力される。勿論、
Vintが波形33の場合、Vint< vrerであ
り、データ取込み禁止信号は出力されない。
次に、他の実施例について説明する。
1系列につき1回の基準光照射を行い、その場合のA/
D変換出力値を、前回までの一定回数分のデータに加算
し、これよりゲイン補正値を算出するようにしてもよい
。またオフセットについても1回の異なる光量での基準
光照射時のA/D変換出力と、前回までの一定回数分の
加算値とから補正値を算出するようにしてもよい。第7
図はこの場合のシステムコントローラ26にあける処理
の流れを示している。これを部課すると次のようになる
システム起動直後にシステムコントローラ26はゲイン
、オフセットの初期値をセレトしく831 )、変数i
をOとしく532) 、iをインクリメントする(33
3) 、そして、i系列目のLED発光を指令しく53
4) 、当該i系列目のLED発光による基準光照射時
のA/D変換器24の出力を取込み、ゲイン測定を行い
、ゲイン補正値を算出し、これを当該i系列目のプリア
ンプにおけるAGCにセットする(335)。次に、オ
フセット補正の必要があるか否かの判別を行う(33B
)。この判別において「オフセットの必要が無い」と判
断された場合には前記ステップ333の実行に戻り、ま
た「オフセットの必要が有る」と判断された場合にはi
系列目のLED発光を指令しく337 、但し、発光量
は前記ステップ334の場合と異なる)、当該i系列目
のLED発光による基準光照射時のA/D変換器24の
出力を取込み、ゲイン測定及びオフセット補正値の算出
を行い、この補正値をオフセット補正回路25にセット
する(33B)。そして前記ステップS33に戻る。。
このようにすると、上記実施例の場合よりも早い応答で
の補正が可能である。
また、第8図に示すように各PMT10に対応して配置
されたHVユニット28より出力されるPMT駆動用高
電圧値をフィードバック制御することでゲイン補正を行
うようにしてもよい。この場合、システムコントローラ
26によって算出されたゲイン補正値は各HVユニット
28にセットされ、この補正値に応じて変更された高電
圧がPMTに印加されることになる。上記実施例と異な
るのは、プリアンプのゲインを制御する代りにPMT駆
動用高電圧値を制御するようにした点のみであり、その
他の点については上記実施例と同様である。
更に上記実施例ではゲイン補正とオフセット補正との双
方を行うものについて説明したが、ゲイン補正のみでも
放射線計測制度の向上を図ることができる。
[発明の効果] 本発明は、以上説明したように構成されているので、以
下に記載されるような効果を奏する。
請求項1記載の放射線計測装置によれば、基準光照射時
におけるPMT出力のアナログ信号処理後の信号成分に
基づいてゲイン補正を行うようにしているので、アナロ
グ信号処理系のゲイン変動をも併せて補正することがで
き、放射線計測精度の向上を図ることができる。
また、請求項2記載の放射線計測装置によれば、アナロ
グ信号処理後の信号成分を加算平均した後に補正値算出
を行うようにしているので、PMHの統計的なゆらぎに
起因する、補正値算出の精度低下を防ぐことができる。
更に、請求項3記載の放射線計測装置によれば、ゲイン
可変型増幅回路のゲインをフィードバック制御するよう
にしており、そして、請求項4記載の放射線計測装置に
よれば、PMT駆動用高電圧値をフィードバック制御す
るようにしているので、いずれもPMTのゲイン補正を
適確に行うことができる。
また、請求項5記載の放射線計測装置によれば、アナロ
グ信号処理後の信号成分に基づいて放射線計測データの
オフセット補正をも行い得るので、放射線計測精度を更
に向上させることができる。
そして、請求項6記載の放射線計測装置によれば、互い
に先組の異なる2種類の基準光を用いることにより、オ
フセット補正値を精度良く算出することができ、このオ
フセット補正値を用いることにより、適確なオフセット
補正を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る放射線計測装置の一実施例を示す
ブロック図、第2図は基準光の波形図、第3図はオフセ
ットドリフト検出の原理説明のための特性図、第4図は
光重畳検出説明のための波形図、第5図及び第6図は第
1図の実施例装置における主要処理の流れ図、第7図は
他の実施例装置における主要処理の流れ図、第8図は他
の実施例装置のブロック図、第9図及び第10図は従来
例のブロック図である。 10・・・PMT (光電子増倍管)、12・・・LE
D (基準光照射手段)、14・・・アナログ信@処理
系、 15・・・プリアンプ(ゲイン可変型増幅回路)、21
・・・光重畳検出部、 25・・・オフセット補正回路 (オフセット補正手段)、 26・・・システムコントローラ (ゲイン補正手段)。 第7図

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)放射線入射によって生ずる微小光をアナログ電気
    信号に変換する光電子増倍管と、この光電子増倍管の出
    力信号の処理を行うアナログ信号処理系とを有し、放射
    線計測を可能とする放射線計測装置において、前記光電
    子増倍管に基準光を照射する基準光照射手段と、この基
    準光照射時における前記光電子増倍管出力のアナログ信
    号処理後の信号成分に基づいて前記光電子増倍管のゲイ
    ン補正を行うゲイン補正手段とを具備することを特徴と
    する放射線計測装置。
  2. (2)前記ゲイン補正手段は、前記光電子増倍管出力の
    アナログ信号処理後の信号成分を加算平均した後にゲイ
    ン補正値を算出し、該補正値に基づいて前記光電子増倍
    管のゲイン補正を行う請求項1記載の放射線計測装置。
  3. (3)前記アナログ信号処理系はゲイン可変型増幅回路
    を有し、前記ゲイン補正手段は、前記光電子増倍管出力
    のアナログ信号処理後の信号成分に基づいて前記ゲイン
    可変型増幅回路のゲインをフィードバック制御すること
    で前記光電子増倍管のゲイン補正を可能とする請求項1
    又は2記載の放射線計測装置。
  4. (4)前記ゲイン補正手段は、前記光電子増倍管出力の
    アナログ信号処理後の信号成分に基づいて前記光電子増
    倍管の駆動用高電圧値をフィードバック制御することで
    前記光電子増倍管のゲイン補正を可能とする請求項1又
    は2記載の放射線計測装置。
  5. (5)前記基準光照射時における前記光電子増倍管出力
    のアナログ信号処理後の信号成分に基づいて放射線計測
    データのオフセット補正を行うオフセット補正手段を設
    けた請求項1、2、3又は4記載の放射線計測装置。
  6. (6)前記基準光照射手段は互いに光量の異なる2種類
    の基準光を異なるタイミングでパルス状に照射し、前記
    オフセット補正手段は、各パルス状基準光照射時におけ
    る前記光電子増倍管出力のアナログ信号処理後の信号成
    分に基づいて算出されたオフセット補正値を用いて放射
    線計測データのオフセット補正を行う請求項5記載の放
    射線計測装置。
JP63150914A 1988-06-17 1988-06-17 放射線計測装置 Granted JPH01318988A (ja)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63150914A JPH01318988A (ja) 1988-06-17 1988-06-17 放射線計測装置
US07/365,385 US5004904A (en) 1988-06-17 1989-06-13 Method and system for controlling gain and offset in radiation measurement apparatus
DE68918501T DE68918501T2 (de) 1988-06-17 1989-06-14 Einrichtung zur Steuerung von Gewinn und Offsetspannung in Strahlungsmessapparaten.
EP89110817A EP0346878B1 (en) 1988-06-17 1989-06-14 System for controlling gain and offset in radiation measurement apparatus
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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EP3842771A4 (en) * 2018-08-22 2022-05-11 Hitachi High-Tech Corporation AUTOMATIC ANALYZER AND OPTICAL MEASUREMENT PROCEDURE

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009222439A (ja) * 2008-03-13 2009-10-01 Shimadzu Corp 核医学診断装置
EP3842771A4 (en) * 2018-08-22 2022-05-11 Hitachi High-Tech Corporation AUTOMATIC ANALYZER AND OPTICAL MEASUREMENT PROCEDURE
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