JPH01316394A - ハイグロマイシンの合成中間体 - Google Patents

ハイグロマイシンの合成中間体

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JPH01316394A
JPH01316394A JP1080592A JP8059289A JPH01316394A JP H01316394 A JPH01316394 A JP H01316394A JP 1080592 A JP1080592 A JP 1080592A JP 8059289 A JP8059289 A JP 8059289A JP H01316394 A JPH01316394 A JP H01316394A
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hygromycin
toluene
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Seiichiro Ogawa
誠一郎 小川
Noritaka Senda
千田 憲孝
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Takeda Chemical Industries Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は抗豚赤痢剤ハイグロマイシンならびにその誘導
体の製造に有用な合成中間体に関する。
従来の技術および発明が解決しようとする課頭ハイグロ
マイシン(hygromyc in)については、Rl
C、P ittenberg等が1953年に、ストレ
プトミセス・ハイグロスコピクス(S 1.repto
myceshygroscopicus)の培養液中よ
り発見し、その抗菌スペクトルおよび感染実験の結果に
ついて報告したのがはじめてである。[アンチバイオテ
イクスアニュアル(Antibiotics  Ann
ual)1953〜1954年、157頁1゜その後、
1957年R、L 、 Mann等がその化学構造を決
定した[ジャーナル・オブ・ザ・アメリカン・ケミカル
・ソサイテイ(Journal  of  the  
AmericanChemical  S ociet
y)第79巻、120頁(1957年)]。又、ストレ
プトミセス・アトロファシェンス(Streptomy
ces  atrofaciens)が、同一物質を生
産することが知られている(米国特許3,100,17
6号(1963年8月6日)。
一方、ハイグロマイシンに近縁の抗生物質としてY 、
 S umiki等によって報告されたストレプトミセ
ス蟲ノボリドエンシス(S treptomycesn
obor i toens is)の生産する抗結核抗
生物質ホモマイシン(homomyc in) [ジャ
ーナル・オブ・アンチバイオティクス(Journal
  of  Antibiotics)シリーズ A、
第8巻、170頁、1955年]は、その後に、l5o
no等のハイグロマイシンとの比較研究の結果、両者は
同一物質であることが判明した[ジャーナル・オブ・ア
ンチバイオティクス(J ournal  of  A
 ntibiotics)第10巻、21頁。
■957年]。また比較的最近にK 、 K akin
uma等によって報告された5T−4331はハイグロ
マイシンと同定され、その絶対構造が提出されている[
ジャーナル・オブ・アンチバイオティクス(J our
nal of Antibiotics)第29巻、7
71頁。
1976年]が、その後、Wakisaka等によって
、ハイグロマイシンの絶対構造の訂正とエビハイグロマ
イシン(epihygromycin)の存在およびそ
の絶対構造が提出されている[ジャーナル・オブ・アン
チバイオティクス(Journal of Antib
iotics)第33巻、695頁(1980年)]。
なお、大村ら。
ジャーナル・オブ・アンチバイオティクス 第40巻1
619頁(1987年)にはハイグロマイシンがハイグ
ロマイシンAとして記載されているが、これらは同一物
質である。
以上のように、R,L、Mann等の分解生成物の研究
〔ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサイテ
ィ・第79巻、120頁(1957年)〕やK 、 K
 akinuma等によるNMRスペクトルの解析〔ア
グリカルチュラル・アンド・バイオロジカル・ケミスト
リー(A gricultural  andB io
logical  Chemistry)第42巻、2
79頁(1978年)〕からハイグロマイシンの絶対構
造が推定され、提出されているが、従来のハイグロマイ
シンの製造はいずれもストレプトミセス属のハイグロマ
イシン生産菌を用いる発酵生産によるものであり、化学
的合成についての報告は全くされていない。
課題を解決するための手段 本発明者らはハイグロマイシンの化学的全合成を目的と
し鋭意検討した結果、ハイグロマイシンの製造に有用な
合成中間体を得、さらに研究を進めハイグロマイシン類
の合成製造法を確立した。
すなわち、本発明は (1)式 〔式中、X、、X2.X、はそれぞれ保護されていても
よい水酸基を示し、Rはホルミル基またはメチル基を示
す〕で表わされる化合物、および(2)式 〔式中、X r 、 X 2 、 X sはそれぞれ保
護されていてもよい水酸基を示す〕で表わされる化合物
またはその反応性誘導体と、4位にアミノ基を有し、該
アミノ基以外の官能基が保護されていてもよいアミノサ
イクリトールまたはアミノグリコシドとを縮合反応に付
し、必要に応じて保護基を脱離させることを特徴とする
式 〔式中、X、、X、、X3はそれぞれ前記と同意義を有
し、Aは4位のアミノ基以外の官能基が保護されていて
もよい4−アミノサイクリトールまたは4−アミノグリ
コシド残基を示す〕で表わされる化合物の製造法である
上記式中、X、、X2.X3でそれぞれ表わされる保護
されていてもよい水酸基の保護基としては、例えばメチ
ル、エチル、i−ブチル、t−ブチルなどの低級アルキ
ル基、ビニル、アリル(Allyl)などの低級アルケ
ニル基、2.2.2−)リクロロエチルなどのハロ低級
アルキル基、メトキシメチル、1−エトキシエチル、1
−(i−プロポキシ)エチル、L−ブトキシメチル、2
−メトキシエトキシメチル。
■−メチルー1−メトキシエチルなどの低級アルコキシ
基で置換されたアルキル基、ベンジル、p−メトキシベ
ンジル、p−ニトロベンジル、ジフェニルメチル、トリ
フェニルメチルなどのフェニル基で置換された低級アル
キル基、ホルミル、アセチル、クロロアセチル、トリク
ロロアセチル、メトキシアセチル、トリフェニルメトキ
シアセチル、フェノキシアセチル、インブチリル、ピバ
ロイル1アダマントイル、ベンゾイル、2,4.6−ト
リメチルベンゾイル、3−ベンゾイルプロピオニル、α
−ナフトイルなどの置換されていてもよいアシル基、p
−クロロフェニル、9−アントリル、p−ニトロフェニ
ルなどの置換されていてもよいフェニル基、トリメチル
シリル、トリエチルシリル、イソプロピルジメチルシリ
ル、t−ブチルジメチルシリル、E−ブチルジフェニル
シリルなどの置換されていてもよいシリル基、テトラハ
イドロピラニル、テトラハイドロチオピラニルなどの置
換されていてもよいピラニル基、テトラハイドロフラニ
ル、テトラハイドロチオフラニルなどの置換されていて
もよいフラニル基、メチルチオメチル、メトキシカルボ
ニル、S−ベンジルチオカルボニル、N−フェニルカル
バモイル、ニトロ、2.4−ジニトロフェニルスルフェ
ニルなどカ挙ケラレル。X i、 X 2+X、はそれ
ぞれ同一あるいは相異っていてもよく、また、X I、
 X zの保護基は両者で環を形成するようなメチレン
、エチリデン、プロピリデン、アセトニデン、ベンジリ
デン、p−メトキシベンジリデン。
メトキシメチレン、ジメトキシメチレンなどであっても
よい。 上記した保護基のなかでもアシル基。
フェニルで置換された低級アルキル基が好ましく、とり
わけアセチル、ベンジルが好ましい。
上記式(I)で表わされる化合物は例えば、〔式中、X
、、X2は前記と同意義〕で表わされる化合物と、式 〔式中、X、、Rは前記と同意義〕で表わされる化合物
とを縮合反応に付し、得られるα体とβ体との混合物か
らβ体を分離することにより製造することができる。
該縮合反応としては、例えば光延反応CM、 S。
Mauhasら、 J、 Chem、 Soc、、上、
461(1975)〕によって行うことができる。すな
わち、上記化合物(IV)と化合物(V)をテトラハイ
ドロフラン(以下、THFと略記することがある)中、
窒素雰囲気下トリフェニルホスフィンとジエチルアゾジ
カルボキシレートとを加え、室温付近で約2時間撹拌す
ることによって行うことができる。また、得られるα体
とβ体との混合物の分離は、例えばシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーなどによって行うことができる。
上記式(IV)で表わされる化合物は、例えばJ。
Am、 Chem、 Soc、、  63.1727(
1941)に記載の方法により製造された式 で表わされる化合物(1)を出発原料とし、中高らの方
法(Tetrahedron  Lett、、 24 
、2285 (1967))を改良した以下に示す反応
式によって製造することができる。
〔式中、Ph、Me、Acはそれぞれフェニル、メチル
アセチルを示し、X、、X、は前記と同意義を有する〕 すなわち、化合物(1)のエポキシを水酸化カリラムを
用いてトランス−シアクシアル開環してアルトロ型の化
合物(2)とした後、2位と3位の水酸基を保護し化合
物(3)とする。化合物(3)を脱ベンジリデン化して
化合物(4)とした後、光延反応(Oyo  Mits
unobu、 5ynthesis、 l 、(198
1))により6位の水酸基のみをヨウ素化し化合物(5
)とする。化合物(5)を塩基(DBU:1,8−ジア
ザビシクロ[5,4,0]ウンデク−7−エン)によっ
て処理しオレフィン体の化合物(6)とした後、酸性樹
脂によって処理して五員環の化合物(IV)を得ること
かできる。また、化合物(5)を無水酢酸で処理しアセ
チル体の化合物(7)を得、これを塩基(DBU)で処
理してヨウ素が脱離した化合物(8)とし、さらにナト
リウムメトキサイドによって処理して化合物(6)とし
た後、酸性樹脂によって処理して五員環の化合物(rV
)を得ることもできる。
一方、上記式(V)で表わされる化合物は、例えとし、
以下に示す反応式によって製造することができる。
すなわち、化合物(9)をN、 W、 Bristow
の方法(J、 Chem、 Soc、、  513(1
957))と同様な方法により化合物(10)とし、次
いでChrisLerHanssonらの方法(Act
a、 Chem、 5cand、、 B30 。
871(1976))と同様な方法により化合物(V)
を得ることができる。
かくして得られる上記式CI)で表わされる化合物は新
規物質であり、ハイグロマイシン類すなわちハイグロマ
イシンならびにその誘導体の製造に有用である。
化合物(I)中、Rがホルミル基である化合物(I′)
はそのまま以下に示すハイグロマイシン類の製造に用い
ることができ、一方Rがメチル基である化合物は、例え
ば水酸基の保護基をアセチルに変換し、次いで硝酸2ア
ンモニウムセリウム(IVXCAN)によって酸化して
Rがホルミル基である化合物(■′)に導き、以下に示
すハイグロマイシン類の製造に用いることができる。
以下に、式 〔式中、X + 、 X 2 、 X 3は前記と同意
義を有する〕で表わされる化合物を出発原料とするハイ
グロマイシン類の合成製造法の一例を示す。
Xl  (I’) 〔式中、Ph、Me、Bu  はそれぞれフェニル、メ
チル、L−ブチルを示し、X、、X、、X3は前記と同
意義を有する〕 すなわち、化合物(■′)をWitLig反応により増
炭してL−ブチルエステル体の化合物(11)とし、次
いでt−ブチルエステルを脱保護してカルボン酸の化合
物(n)とした後、4位にアミノ基を有し、該アミノ基
以外の官能基が保護されていてもよいアミノサイクリト
ール(以下、単に4−アミノサイクリトールと略記する
ことがある)または4位にアミノ基を有し、該アミン基
以外の官能基が保護されていてもよいアミノグリコシド
(以下、単に4−アミノグリコシドと略記することがあ
る)と縮合反応に付し、必要に応じて保護基を脱離する
ことによって化合物(II[)を得ることができる。
化合物(I[)から化合物([1)への反応における縮
合反応は、たとえば通常のアミド結合形成反応によって
行うことができる。すなわちジシクロへキシルカルボジ
イミド(DCC)、N、N’−カルボニルジイミダゾー
ル、ジフェニルリン酸アジド、シアノリン酸ジエチルな
どのアミド形成試薬を単独で用いるか、もしくは化合物
(II)をたとえば2.4゜5−1−!、l口口フェノ
ール、ペンタクロロフェノール、ペンタフルオロフェノ
ール、2−ニトロフェノール、4−ニトロフェノールな
どのフェノール類またはN−ヒドロキシスクシンイミド
、l−ヒドロキシベンズトリアゾール、N−ヒドロキシ
ピペリジン、N−ヒドロキシ−5−ノルボルネン−2,
3−ジカルボキシイミドなどのN−ヒドロキシ化合物を
ジシクロヘキシルカルボジイミドなどの触媒の存在下に
縮合させ活性なエステル体に変換した後、4−アミノサ
イクリトールまたは4−アミノグリコシドと反応させる
か、もしくは化合物(II)をクロル炭酸エチル、クロ
ル炭酸イソブチル、クロル炭酸ベンジルなどの酸塩化物
と反応させ混合酸無水物体に変換した後4−アミノサイ
クリトールまたは4−アミノグリコシドと反応させるこ
とによって行うことができる。本アミド結合反応は、化
合物(n)をそのままあるいは化合物(■)の反応性誘
導体(例、活性なエステル体、混合酸無水物体など)に
変換した後4−アミノサイクリトールまたは4−アミノ
グリコシドと反応させるいずれの場合も、好ましくは有
機塩基たとえば三級アミン類、(例、トリエチルアミン
、N−メチルピペリジン)の添加によって促進させるこ
とができる。反応温度は通常−20°〜+50°C程度
であり好ましくは一1O°〜+25°C程度であり、通
常用いる溶媒としてはたとえばジオキサン、テトラヒド
ロ7ラン、アセトニトリル、ピリジン、N。
N−ジメチルホルムアミド(DMF)、N、N−ジメチ
ルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、N−メチルピ
ロリドン、クロロホルム、塩化メチレンなどがあげられ
、単独もしくは混合溶媒として用いてもよい。
また化合物(II[)は、化合物(II)を適当な有機
溶媒(例、ベンゼン、トルエン、エーテルなど)中、塩
基(例、ピリジン、ジメチルアニリン、トリエチルアミ
ン)の存在下または非存在下、0〜120°C程度で5
o−W、C式中、Wはハロゲン夏子を示す〕またはオキ
シ塩化リンを反応させて化合物(II)の酸ハライド(
化合物(n)の反応性誘導体)とした後、4−アミノサ
イクリトールまたは4−アミノグリコシドと反応させる
ことによっても製造することができる。本反応は通常、
水その他の有機溶媒(例、アセトニトリル、ジメチルホ
ルムアミド。
ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、テトラ
ヒドロフラン、ベンゼン、トルエン、酢酸エチル、クロ
ロホルム、塩化メチレンなど)の単独または混合溶媒の
存在下もしくは非存在下、−20゜〜+150°C程度
の温度範囲に保つことによって進行させることができる
。この際、反応速度促進の目的でたとえば炭酸カリウム
、水酸化ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、ピリジン、
トリエチルアミンなどの塩基を反応系中に共存させるこ
ともできる。
本発明における4位にアミノ基を有し、該アミン基以外
の官能基が保護されていてもよいアミノサイクリトール
(4−アミノサイクリトール)としては、例えばイノシ
トール、クエルシトール、ゲブラキトール、コンズリト
ール、ビブルニトール、ミチリトールなどのサイクリト
ールの4位にアミン基を有するものが挙げられる。該サ
イクリトールは該アミノ基以外の置換基を有していても
よく、また該アミノ基以外の官能基は保護されていても
よい。該官能基が水酸基である場合、保護基としては前
述のX r 、 X 2 、 X sでそれぞれ表わさ
れる保護されていてもよい水酸基の保護基と同様の保護
基が挙げられる。
なお、4−アミノサイクリトールが式 〔式中、X、、X5.X、はそれぞれ保護されていても
よい水酸基を示す〕で表わされる化合物である場合には
、化合物(n)と縮合反応に付すことによって式 〔式中、各記号は前記と同意義を有する〕で表わされる
ハイグロマイシンまたは水酸基が保護されたハイグロマ
イシンが得られる。
上記式(V[)において、X、、X、、X、でそれぞれ
表わされる保護されていてもよい水酸基の保護基として
は、前述のX、、X2.X、でそれぞれ表わされる保護
されていてもよい水酸基の保護基と同様の保護基が挙げ
られる。
上記式(■′)において、X 、、X 、、X 3+X
 、、x 5およびX6が全てアセチルであるハイグロ
マイシンへキサアセテートは、前述のアグリカルチュラ
ル・バイオロジカル・ケミストリー、第42巻、279
頁(1978年)に記載された公知化合物であり、本発
明の方法により得られたハイグロマイシンへキサアセテ
ートのNMRスペクトルの結果は上記文献値と一致する
ことが確認されている。
上記式(I[[)において、Aで表わされる4位のアミ
ノ基以外の官能基が保護されていてもよい4−アミノサ
イクリトール残基は、上記した4位にアミノ基を有し、
該アミノ基以外の官能基が保護されていてもよいアミノ
サイクリトール(4−アミノサイクリトール)から4位
のアミノ基を1つ際いた残基を意味し、該残基は4位に
結合手を1つ有する。
本発明における4位にアミノ基を有し、該アミン基以外
の官能基が保護されていてもよいアミノグリコシド(4
−アミノグリコシド)としては、グルコシド、マンノシ
ド、フルクトシトなどのグリコシドの4位にアミン基を
有するものが挙げられる。
該グリコシドは該アミノ以外の置換基を有していてもよ
く、また該アミノ基以外の官能基は保護されていてもよ
い。該官能基が水酸基である場合、保護基としては前述
のX、、X2.X、でそれぞれ表わされる保護されてい
てもよい水酸基の保護基と同様の保護基が挙げられる。
上記式(III)において、Aで表わされる4位のアミ
ノ基以外の官能基が保護されていてもよい4−アミノグ
リコシド残基は、上記した4位にアミン基を有し、該ア
ミノ基以外の官能基が保護されていてもよいアミノグリ
コシド(4−アミノグリコシド)から4位のアミノ基を
1つ除いた残基を意味し、該残基は4位に結合手を1つ
有する。
かくして得られる化合物(I[I)は反応物から通常用
いられる分離精製手段(例、抽出、濃縮、ろ過、再結晶
1分配あるいは液体クロマトグラフィー、薄層クロマト
グラフィー(tlc)など)を用いることにより単離す
ることができ、また必要に応じて公知の手段〔例、アル
カリ加水分解法(J、 Am、 Chem。
Soc、、  79,5060(1957))など〕で
保護基を脱離することができる。
正」 本発明の化合物(I)はハイグロマイシン類の製造にお
ける合成中間体として有用である。また、本発明のハイ
グロマイシン類合成製造法によれば、化学的にハイグロ
マイシン類を合成製造できるので、ハイグロマイシン関
連誘導体特にアミノサイクリトール部分に修飾を施した
ハイグロマイシン類似化合物を容易に製造することがで
きる。
従って、本発明はハイグロマイシンの合成および新規抗
生物質の提供を可能ならしめるものである。
実施例 以下に実施例を示して本発明をさらに具体的に説明する
が、本発明はこれらに限定されるべきものではない。
本明細書において用いる略号を第1表に例示する。
第  1  表 Ac    アセチル Bn    ベンジル Bu    t−ブチル Et    エチル Me    メチル Ph    フェニル DMSOジンチルスルホキシド THF   テトラヒドロフラン DCCジシクロへキシルカルボジイミドDMF   N
、N−ジメチルホルムアミドDBU   1.8−ジア
ザシクロ[5,4,01ウンデク−7−エン CAN   硝酸2アンモニウムセリウム(rV)tl
c    薄層クロマトグラフィー実施例1(1) メチル 4.6−0−ベンジリデン−2,3−ジー0−
ベンジル−α−D−アルドピラノシド[化合物(3)]
の合成 蒸留水(170m(2)に水酸化カリウム(6,64g
118 mmol)を溶解し、J、 Am、 Chem
、 Soc、、  63 。
1727(1941)に記載の方法により製造された化
合物(I X5.00g、 18.9mmol)を加え
均−系になるまで加熱還流した(約48時間)。展開系
トルエン:酢酸エチル=3:lのtlc上Rf=0.5
0の化合物(1)のスポットが消失し、Rf−0,13
に化合物(2)のスポットが認められた。反応液を室温
まで冷却した後、減圧濃縮(エタノールとトルエンで数
回ずつ共沸)、真空乾燥して、化合物(2)のカリウム
塩を得た。これをジメチルスルホキシド(DMS OX
60m12)に溶解し、室温で撹拌しながら塩化ベンジ
ル(13,5m12.118mmol)をDMSO(4
0+11(2)に溶かした溶液を約1時間かけて滴下し
、さらに室温にて3時間撹拌した。展開系トルエン:酢
酸エチル−3:■のtic上Rf=0.13の化合物(
2)のスポットが消失し、Rf=0.78に主生成物化
合物(3)のスポットが認められた。反応液を氷水に注
下し、塩化メチレン(500mffX 2)を用いて抽
出し、芒硝乾燥した。
減圧濃縮、真空乾燥して、得られた残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(150gを用い、最初にトル
エンだけ流し、次にトルエン:酢酸エチル=20:1の
溶媒を流した)にて精製して、得られた黄色シロップ状
残渣をエタノールから再結晶して化合物(3)を白色結
晶として得た。
収量 5.97g(化合物(1)からの収率68.3%
)m、p、  86−87.5°C [、r]18−1.21°(c  2.48.りact
ホルム)’HNMR(CDCI2.) δ−7,36m   15H 5,55s   IH 4,75dIH(Jl、2=3.0OH2)4.68−
3.56   m   l0H3,42s   3H 実施例1(2) メチル 2,3−ジー0−ベンジル−α−D−アルトロ
ピラノシド[化合物(4)]の合成80%酢酸水溶液(
40顧)に化合物(3X7.00g、15.1mmol
)を加え、80〜85°Cにて30分間加熱撹拌した。
展開系トルエン:エタノール=5:1のtlc上Rf=
0.91の化合物(3)のスポットが消失し、Rf=0
.53に化合物(4)のスポットが認められた。反応液
を室温まで冷却した後、減圧濃縮(エタノールとトルエ
ンで交互に共沸)、真空乾燥してシロップ状残渣を得た
。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(100g、トルエン/アセトン=5/1)にて精製し
て化合物(4)を無色透明シロップとして得た。
収量 5.67g [ff]24+59.2°(c  1.64.りooホ
ルム)’HNMR(CD(1,) δ−7,30s  l0H 4,78−4,36m  5H 3,88−3,56m  6H 3,39s  3H 2,84bs  2H 実施例1(3) メチル 2,3−ジー0−ベンジル−6−ヨード−α−
D−アルトロピラノシド[化合物(5)1の合成 遮光、窒素雰囲気下、化合物(4X4.39g。
11 、7 mmol)とトリフェニルホスフィン(3
,69g、 14 、1 mmol)をTHF(25m
(2)に溶かし、0°Cにて撹拌下、アゾジカルボン酸
ジエチル(2,22mfl、 14 、1 mmol)
を加え、5分後ヨウ化メチル(0,88顧、14.1m
mol)を加えすぐ室温に上げて19時間撹拌した。展
開系トルエン:酢酸エチル=5:1のtlc上化金化合
物)のスポットが消失し、Rf=0.57に主生成物化
合物(5)のスポットが認められた。反応液を酢酸エチ
ル(300m4)に希釈し、飽和重曹水、飽和食塩水(
各200M1xl)で洗浄した後芒硝乾燥した。減圧濃
縮、真空乾燥して得られた黄色シロップ状残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(150g、トルエン:
酢酸エチル−20:1)にて精製して化合物(5)を無
色透明シロップとして得た。
収量 4.19g(化合物(4)から73.8%の収率
)[α]27+50.5°(c  1.00.クロロホ
ルム)’HNMR(CDCQ、) δ=7.43−7.24  m  l0H4,78−4
,26m  6H 3,88−3,10m  5H 3,49s  3H 元素分析 計算値(Cffi+HzsOgl) C: 52.08   H: 5.20(%)実験値 
C: 51.77   H: 5.11(%)パイルシ
ュタイン試験:  陽性 実施例1(4) 2.3〜ジー0−ベンジル−6−ゾオキシーD−アラビ
ノ−5−へキソウロフラノース[化合物(■月の合成 (5)          (6)         
(IV)化合物(5X5.01g、I 0.3mmol
)をトルエン(30TnIl)に溶かし、DBU(3,
10nα、20.7mmo1)を加え、80〜85℃に
て23時間撹拌した。展開系酢酸エチル:トルエン−1
=7のtic上Rf=0.45の化合物(5)のスポッ
トが消失し、Rf=0.28に化合物(6)のスポット
が認められた。反応液を酢酸エチル(200mQ)で希
釈し、0.5N硫酸、飽和重曹水、蒸留水(各200m
12)で洗浄し、芒硝乾燥した。減圧濃縮して得られた
残渣を、THF:H20=5:2の混合溶媒に溶かし、
アンバーライトI R’−120Bを加え、室温にて2
2時間撹拌した。展開系トルエン:酢酸エチル=7=1
のtic上Rf=0.28の化合物(6)のスポットが
消失し、Rf=0.23に化合物(IV)のスポットが
認められた。樹脂をろ別し、減圧濃縮して得られた残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(loOg、ト
ルエン:酢酸エチル=IO+1)にて精製して化合物(
IV)を無色透明シロップとして得た。
収量 2.36g(化合物(5)からの収率66.7%
)[α]D−20,3°(c  O,97,クロロホル
ム)(クロロホルム中で30分間放置後測定)[α]r
  −11,9°(c  O,72,クロロホルム)(
クロロホルム中で一晩放置後測定) ’HNMR(CD(13) δ−7,46−7,14m  l0H 5・49    bs  l/3H 5,40bs  2/3H 4,68−3,56m  4H 2,23s  IH 2,16s  2N IR(付着法)  3450(−0H)、1720(>
C=O)cm−’α:β#2:l 実施例1(5) メチル 4−0−アセチル−2,3−ジー0−ベンジル
−6−ヨード−α−D−アルトロピラノシド[化合物(
7)1の合成 OBn           0Bn 化合物(5X311mg、0.643mmol)を蒸留
ピリジン(2mQ)に溶かし、無水酢酸(2mg)を加
えて、室温にて24時間撹拌した。展開系トルエン:酢
Mエチル−7: l ノtlc上、Rf−0,50の化
合物(5)のスポットが消失し、Rf=0.65に化合
物(7)のスポットが認められた。減圧濃縮して得られ
た残渣を酢酸エチル(50頬)に溶かし、IN塩酸、飽
和重曹水、蒸留水(各5Qmi2)で洗浄し、芒硝乾燥
した。減圧濃縮、真空乾燥して化合物(7)を無色透明
シロップとして得た。
収量265 mg(化合物(5)からの収率78,2%
)’HNMR(CDC123) δ= 7.43−7.20  m  l0H5,00d
d  IHJ=4.0,8.6Hz4.68  d  
 IHJ=2.5Hz4.57  S   2H 4,53dd  2HJ−13,8,15−3Hz4.
10  dt  IHJ=8.6.9.8,4.0Hz
3.88  dd  IHJ=4.0,5.2Hz3.
65  dd  IHJ=2.5,5.2Hz3.36
  dd  IHJ−4,0,13,0Hz3.17 
 dd  IHJ=9.8,13.0Hz3.49  
s   3H 2,02s   3H IR(付着法)  1740cm−’ 実施例1(6) メチル 4−○−アセチルー2.3−0−ベンジル−5
−メチレン−α−D−アラビノピラノシド[化合物(8
)]の合成 OBn                  0Bn化
合物(7X159mg、0.302mmol)をトルエ
ン(2顧)に溶かし、DBU(90μQ、0.604m
mol)を加え、80−85°Cにて3.5時間加熱撹
拌した。展開系トルエンニ酢酸エチル=15:1のLl
c上(二重展開)Rf=0.64の化合物(7)のスポ
ットが消失し、Rf=0.58に化合物(8)のスポッ
トが認められた。反応液を室温まで冷却した後、酢酸エ
チル(20mn)で希釈して、0.5N塩酸、飽和重曹
水、蒸留水(各20mQ)で洗浄し、芒硝乾燥した。減
圧濃縮、真空乾燥して淡黄色シロップとして化合物(8
)を得た。
収量 104 mg(化合物(7)からの収率86.3
%)’HNMR(CDC0,3) δ−7,36s  l0H 5,73d  II(J、、、”’4.5Hz4.85
−4.58  m   6H 4,46d   IHJl、2=6.5H23,91−
3,42m   2H 3,59s   3H 2,09s   3H 実施例1(7) 2.3−ジー○−ベンジル−6−ゾオキシーD−アラビ
ノ−5−へキソウロフラノース[化合物(IV)]の合
成 P (8)         (IV ) 化合物(8XI O4mg、0.262mmol)をメ
タノール(2mIl)に溶かし、1Mナトリウムメトキ
サイド(262pQ、0.262mmol)を加え、室
温にて2時間撹拌した。展開系トルエン:酢酸エチル−
15:lのtlc上Rf=0.60の化合物(8)のス
ポットが消失し、Rf=0.22の化合物(6)のスポ
ットが認められた。減圧濃縮し、得られた残渣をTHF
/H20=5/2の混合溶媒に溶かし、アンバーライト
rR−120Bを加え、室温にて18時間撹拌した。展
開系トルエン:酢酸エチル=7=lのtie上Rf=0
.28の化合物(6)のスポットが消失し、Rf=0.
23に化合物(TV)のスポットが認められた。樹脂を
ろ別し、減圧濃縮。
真空乾燥して、無色透明シロップとして化合物(■)を
得た。
収量 89.4mg(化合物(8)からの収率99.7
%) 各種スペクトルデータは、実施例1(4)と一致し t
こ。
実施例1(8) 3.4−0−ペンジルーベンズアルデヒF[化合物(1
0)]の合成 化合物(9XI O,Og、72.4mmol)をエタ
ノール(50m(2)に溶かし、塩化ベンジル(20,
0mQ。
174 mmol)、炭酸カリウム(22,0g、15
9mmo+)、ヨウ化ナトリウム(500mg)を加え
、4時間加熱還流した。展開系トルエン:酢酸エチル=
7:lのtic上原点の化合物(9)のスポットが消失
し、Rf=0.66の化合物(lO)のスポットが認め
られた。反応液を室温まで冷却した後、蒸留水(2〇−
)を加えて、IN水酸化ナトリウム水溶液(160ma
)と氷(40g)の中に注下した。析出した結晶をろ過
し、エタノールから再結晶して化合物(10)を淡黄色
結晶として得た。
収量20 、1 g(化合物(9)からの収率89.1
%)ra、p−87,0−88,5°C (文献値 89°C) ’HNMR(CDCQ3) δ=9.90SIH 7,7Fr7.02  m  13H 5,29s  2H 5,24s   2H 実施例1(9) 3−○−ベンジルー4−ヒドロキシーベンズアルデヒド
[化合物(V)]の合成 OBn               0H(10)(
V) 60%水素化ナトリウム(2,60g、  65.0m
mo I )をn−ヘキサンにて洗浄した後、蒸留トル
エ:/(100m4)に懸濁させ、p−トルエンチオー
ル(8,07g、65.0mmol)を氷冷下加え、3
0分間撹拌した。これに化合物(IOXI 5.8g、
 49.6mmol)とへキサメチルリン酸トリアミド
(11,5mQ)を加え、22時間加熱還流した。展開
系トルエン:酢酸エチル=7:lのLlc上、Rf−0
,66の化合物(10)のスポットが消失し、Rf=0
.42の化合物(V)のスポットが認められた。反応液
を室温まで冷却し、塩化メチレン(300mc)で希釈
し、2N水酸化ナトリウム水溶液(250m12X 2
)で酸性成分を抽出した。水層を濃塩酸を用いてpH=
1に調製し、塩化メチレン(500m4)で再抽出し、
蒸留水(250m12)で洗浄し、芒硝乾燥した。減圧
濃縮、真空乾燥して得られた残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(200g、トルエン:酢酸エチル=
30:1)にて精製して得られた結晶をエタノールから
再結晶して化合物(V)を淡黄色結晶として得た。
収:13.54g(化合物(lO)からの収率31.3
%)m、p、  113−114.5°C (文献値114°C) ’HNMR(CD(1,) δ−9,855lH 7,59−7,36m  7H 7,09d  IHJ=9.0Hz 5.17     S  2H 実施例1 (10) 2−O−ベンジル−4−ホルミルフェニル2 ’、 3
 ’−ジー0−ベンジルー6′−デオキシ−D−アラビ
ノ−5′−へキソフラノシド[化合物(■−1)]の合
成 (rV)     (V)        (I−1)
窒素雰囲気下、化合物(IVXl、79g、5.24m
mol)と化合物(VXl、32g、5.76mmol
)とトリフェニルホスフィン(1−65g、6.29m
mol)とをTHF(15mff)に溶かし、室温にて
撹拌中アゾジカルボン酸ジエチル(0,990m、6.
29mmo+)をTHF(5t12)に溶かした溶液を
20分間かけて滴下した。さらに室温にて2.5時間撹
拌した。
展開系n−ヘキサン:酢酸エチル=2:lのtlc上、
Rf=0.43の化合物(IV)のスポットとRf=0
.63の化合物(V)のスポットが消失し、Rf−0,
50,0,56の化合物(1−1)のスポットが認めら
れた。反応液を減圧濃縮し、得られた橙色シロップ状残
渣をシリカゲル力ラムクロマトクラフ(−(150g、
n−ヘキサン:酢酸エチル−4:1)にて精製して化合
物(I−1)を無色透明シロップとして得た。
収i2.22g(化合物(IV)からの収率76.8%
)’HNMR(CD Cff、) δ−9,87s  IH 7,57−6,61m  18H 5,98s  4/9H 5,81d  5/9HJl、z=4.5Hz5.15
−4.12  m  9H 2,15s  4/3H 2,03s  5/3H IR(付着法)  1720(>C−0)、1690(
−CHO)cm−’Massスペクトル M  計算値:C34H120アとして552.213
9実験値:         552.2152M+1
計算値:C34H3307として553.2226実験
値:         553.2222α:β#4:
5 実施例2 2−ヒドロキシ−4−メチルフェニル 6′−デオキシ
−β−D−アラビノー5′−へキソウロフラノシド[化
合物(I−2)]およびその]α−アンマー化合物(■
−2α)]の合成 化合物(I −IXl 92mg、0.347mmol
)を酢酸エチル(2戒)に溶解させ、20%水酸化パラ
ジウム−カーボン(40mg)を加え、室温水素ガス雰
囲気下、■5分間接触還元した。展開系トルエン:酢酸
エチル−7=lのtic上Rf=0.38の化合物(I
−1)のスポットが消失し、原点にスポットが認められ
、また展開系酢酸エチルのtic上ではRr−0,69
に化合物(■−2α)のスポットが、Rf−0,66に
化合物(1−2)のスポットが認められた。触媒をろ別
した後、減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー(和光ゲル C−300,5g計ル
エン:酢酸エチル−1=■)にて分離して化合物(1−
2)、化合物(■−2α)をそれぞれ無色透明シロップ
として得た。
収量 化合物(I −2): 42.9mg(化合物(
1−1)からの収率46.1%) 化合物(I −2a ): 36.1mg(化合物(I
−1)からの収率38.8%) ・化合物(I−2) [α]D141.2°(c  1.26.クロロホルム
)’HNMR(CDC(2s、400MHz)δ−6,
90d  IHJs −s = 8.54Hz6.74
  d  IHJs、s= 1.83Hz6.58  
dd IHJs、x=1−83Hz、Js、a−8,5
4Hz5.38  d  IHJ+’−z’−4,27
Hz4.44   む   IHJ2’ 、3’、  
 3’−4’−7−33H24.35  d  IHJ
=’、x’=7.32Hz4−27  dd IHJ2
’−+’=4−27H1,h’−x’−7−33z 2.22  s  3H 2,16s  3H 口CNMR(CDOff3,100MHz)δ−210
,2((ニー5’) 147.1 (C−1) 142.3 (C−2) 134.7 (C−4) 103.6 (C−1’)       0H86,0
(C−4’) 76.6 (C−2’) 76.6 (C−3’) 26.5 (C−6’) 20.8 (C−7) IR(付着法)  3350(−0H)、1710(>
C”O)cm−’Massスペクトル M  計算値二C1!H1406として268.094
7実験値:         268.093+・化合
物(I−2α) [a ]25+ 79.7°(c 1.16.クロロホ
ルム)’HNMR(CDCQ3) δ= 6.62     d  IHJs −a ” 
9.0Hz6.46−6.20  m  2H 5,40s  IH 4,3er4.OOm  3H 2,10s  6H IR(付着法)  3350(−0H)、1710(>
C=O)am−’Massスペクトル M  計算値:C13H+s○6として268.094
7実験値:         268.0930実施例
3 2−0〜アセチル−4−メチルフェニル 2′。
3′−ジー0−アセチル−6′−デオキシ−β−D−ア
ラビノー5′−へキソウロフラノシド[化合物(I−3
)]の合成 化合物(I−28275mg、1.03mmol)を蒸
留ピリジン(1m)に溶かし、無水酢酸(1−)を加え
て室温で30分間撹拌した。展開系トルエン:酢酸エチ
ル=6:1のtlc上、原点の化合物(I−2)のスポ
ットが消失し、Rf=0.32に化合物(I−3)のス
ポットが認められた。反応液を減。
圧濃縮(トルエンと共沸)して得られI:残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(和光ゲル C−300
12g、 トルエン:酢酸エチル=lO:l)にて精製
して化合物(I−3)を無色透明シロップとして得た。
収量 386 mg(化合物(1−2)からの収率95
.6%) [ff ]D−132,7°(c  1.41.りoa
ホルム)’HNMR(CD(13) δ=7.34−6.85  m  3H6−04−5,
78m  2H 5,20dd  IHJl’、2’−4,5Hz、J、
’、、’ −6,0Hz 4.33     d  IHJ3’、4’−4,81
(Z2.31      s  6H 2,11s  6H IR(付着法)  1750.1720(>C=O)c
m−’Massスペクトル M  計算値:C+*Hz*Osとして394.126
4実験値二        394 、1267実施例
4 2−0−アセチル−4−ホルミルフェニル2’、3’−
ジーO−アセチルー6′−デオキシ−β−D−アラビノ
ー5′−ヘキソウロフラノシド[化合物(1−4)]の
合成 化合物(1−3046,1mg、0.117mmol)
をアセトニトリル(0,5m12)に溶かし、0℃にて
撹拌しながら、硝酸ニアンモニウムセリウム(■)(2
56mg、0.468mmol)を蒸留水1mlに溶か
した溶液を15分間かけて滴下した。さらに0〜5℃で
2日間撹拌した。展開系n−ヘキサン:酢酸エチル=1
;1のtlc上、Rf=0.51の化合物(I−3)の
スポットが消失し、Rf=0.30の化合物(I−4)
のスポットとRf=0.40の副生成物のスポットが認
められた。反応液を酢酸エチル(20m12)で希釈し
、5%チオ硫酸ナトリウム水溶液、飽和重曹水、蒸留水
(各15−)で洗浄し、芒硝乾燥した。減圧濃縮して得
られた残渣をシリカゲルカラl、クロマトグラフィー(
和光ゲル C−3002g、n−ヘキサン:酢酸エチル
−2:l)にて精製し、化合物(1−4)を無色透明シ
ロップとして得た。また、ジエチルエーテル−酢酸エチ
ル−n−ヘキサンにて結晶化したものを分析用試料とし
た。
収量 16.7mg(化合物(I−3)からの収率35
.0%) m、p、  114 116°C [a ] 22−240.2°(c  O,54,クロ
ロホルム)’ HN M R(CD C(2s、400
M Hz)δ=9.90  s  IH 7,77dd  IHJs−s−1−83Hz、Js、
5−8−54)1z7.60  d  IHJ3.S−
1,83H27,36d  IHJa、s−8,55H
z6.05  d  IHJl’−z’−4−28Hz
5.85  dd  IHJ3’−z’−6,1lHz
、J3’、4’=4.89Hz 5.22  adIHJz’、i’−6,11nz、J
、’、、’−4 、28Hz 4.38  d  IHJ4’、3’−4,88H22
,34s  3H 2,13s  6H 2,07s  3H ”CNMR δ=204.6 (C−5’) 189.8 (c−7) 152.5 (C−1) 123.9 (C−6) 115.0 (C−3) 98.5 (C−1’) 84.9 (C−4’)  アセチル−カルボニル76
.4 (C−2’)   170.1.169.6.1
68.274.2 (C−3’)  アセチル−メチル
25.8 (C−6’)   20.8.20.3.2
0.3IR(付着法)  1750(>CmO)、16
90(−CHO)Cm−’M assスペクトル M  計算値:C、、H2,Otoとして408.10
57実験値:          408.1039実
施例5(1) 窒素雰囲気下、化合物(1−4)178mg(0,43
5mmol)をc H2C12z(3,51I12)に
溶かし、室温e で撹拌中、イリド(Ph、P’\。。Jut) 187
mg(0,478mmol)1.leqをCH2C(h
  3.5rmに溶かしたものを約15分かけて滴下し
、室温で10時間撹拌した。反応液を濃縮した後シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー[和光ゲル C−300
゜15gJ酸エチル昂−ヘキサンー1:2]にて精製し
て無色透明シロップとして化合物(11)を得た(19
0mg、84%)。なお、展開系酢酸エチル:n−へキ
サ/−1:lのtlc上、Rf−0,58の化合物(l
 l)のスポットが認められた。
・’ HN M R(CD CQi、400M Hz)
δ−7,71bd  J−1,22Hz  II7.1
1  bs          II7.25  m 
         2H5,97d  J=4.28H
z  II5.21  dd  J−4,28,6,1
OHz  II5.85  dd  J=6.ll、5
.49Hz  II4.35  d   J=5.49
Hz  II2.32  s          3H
1,53s          9H 2,05bd  J=1.22Hz  3H2,12s
          3HX22.11  s    
       3H・Massスペクトル M  計算値:C2,H,20、、として520.19
45実験値:          520.1939実
施例5(2) OAc   (I−1) 化合物(11)113mg(0,218mmol)を蒸
留塩化メチレン2−に溶かし、水冷下トリフルオロ酢酸
236 p(lc2.18mmol)I Oeqを加え
、室温にて一晩撹拌した。反応液を減圧濃縮して(クロ
ロホルムで共沸)化合物(I[−1)l l Omgを
得た。
・’HNMR(CDCL、400MHz)δ−7,71
bs      1N 7.17  d  J−2,44Hz II7.26 
 m       2H 5,99d  J=4.27Hz II5.21  d
d J=6.71Hz、4.27Hz II5.85 
 dd J−4,88Hz、6.72Hz II4.3
7  d  J=4.89Hz II2.33  s 
      3H 2,07s 2.13  s       6H 2,11s       3H 実施例5(3) 化合物(II −1)20.0mg(43−1pmol
)をDMF  1m1l+に溶かし、N−ヒドロキシコ
ハク酸イミ ド10.4mg(90,4pmol)2.
leqとDCCl 9.5mg((llmmol) 2
−2eqを加え、室温にて7時間撹拌した。反応系をロ
ートにてろ過し、不溶物を取り除いてトルエンで洗浄し
た。ろ液を減圧濃縮してトルエンを留去した後、 アミ
ノサイH H mmol) l 、 4 eQを加えて50℃で一晩撹
拌した。アミノサイクリトール13.1mgをさらに加
えた後、3時間で反応を停止させた。減圧濃縮後、シリ
カゲルカラムクロマトグラフィー(和光ゲル C−30
0、MeOH:CHCQ3= 1 : l O)にて精
製し、縮合体[化合物(I[[−1))12.3mgを
得た。
この縮合体12.3mgを蒸留ピリジン0.5−に溶か
し、無水酢酸0.5−を加えて1時間撹拌し、反応液を
トルエンで共沸して減圧濃縮した後、シリカゲルカラム
クロマトグラフィー(和光ゲルC−300,酢酸エチル
:n−ヘキサン=3:2)にて精製シ、ハイグロマイシ
ンへキサアセテートF化合物Cm  2)] llO、
Omgを得た(化合物(■−1)からの収率30%)。
なお、展開系 MeOH:CHcc、−1:5のtlc
上で、Rf=0.64のハイグロマイシンへキサアセテ
ートのスポットが認められ Iこ 。
・ ’  HN  M  R(CD  CI23,40
0M  Hz)δ =7.20    m      
               3H7,05d   
 J=1.46Hz、    lH6−70d    
J   −z’=8.30Hz    II5.97 
   d    J l”−2”−4−39Hz   
II5.84    dd  Jx”、*”=4.88
Hz、Jz” 、x”=6.35HzH 5,65t    I3−4=6.38H2II5.4
9    da  I3 、t−6−35Hz、I4 
、s=2.93Hz   II5.37    s 5.21    dd Jffi”−3″−6,35H
z、J+”、z”=4.39HzH 4,97J=8.30.6.35,1.46Hz   
 II4.93    bs 4.80    s 4.35.  dJ3”、4”−4,88H2IH4,
34da J、、4=2.93Hz、J、、、=6.8
3H2IH4,30dd JS−6=6−84H2,J
S−1=2−44H2IH2,32s        
              3H2,05s    
                  3H2,19s
  3H2,13s  3H2,03s  3H2,1
4s  6H2,12s  3H参考例1(1) ハイグロマイシンへキサアセテート[化合物(■−2)
]の合成 ハイグロマイシン(ハイグロマイシン:エピハイグロマ
イシン−4:lの混合物X500 mg)をピリジン(
lod)に溶かし、無水酢酸(5戒)を加え、室温にて
2時間撹拌した。展開系トルエン:酢酸エチル=l:l
のtic上、原点のハイグロマイシンのスポットが消失
し、Rf−0,39の化合物(■−2)のスポットが認
められた。反応液に水冷下メタノール(41dl)を加
え、減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(和光ゲル C−30030g、 トル
エン:アセトン=4=1)にて精製して化合物(III
−2)を無色透明シロップとして得た。
収量 576mg ’HNM R(CD CQs、400MHz)δ−7,
2Fr7.19  m  3H7−05d  IHJs
’−s’ = 1−96Hz6.75  bd IHJ
−8,30Hz5.97  d  IHJr”−*#=
4−39Hz5.84  dd IHJ、、a”−4,
88Hz、J3”、2#=−35Hz 5.63  t  IHJi、a−6,84Hz5.4
9  dd IHJa、s−2,44Hz、J4−s=
6−84Hz5.36  s 5.20  adIHJ2″i”=6.35Hz、Jl
”、2”=4.39Hz 4.96  m  IH 4,92bs  IH 4,81s 4.35  d  IHJ4”−3”= 4.88H2
4j3−4.32  m  2H 2,32s  3H 2,18s  3H 2,13s  3H 2,125s  6H 2,11s  3H 2,05bd 3HJ=1.47Hz 2.03  s  3H 目CNMR 98,8147,3電電 74.2  140.0  46.0 171.1,1
70.5.170.l。
76.3 115.1  電電 169.6,169.
3,168.6,168.584.8 131.3  
電電 (壷を含む)205.3 128.3  77.
3 21.0,20.9,20.8,20.7゜25.
9  124.2  74.5 20.4,20.4毫
秦は次の4つのうちいず 131.1       れかである 秦           73.9,72.3.71.
2,69.6データは実施例5(3)で得られた化合物
と一致した。
参考例2 2−0−アセチル−4−ホルミルフェニル2’ 、3’
−ジー0−アセチル−6′−デオキシ−β−D−アラビ
ノー5′−へキソウロフラノシド[化合物(I−4)]
と]ID−1.3.4−ト’J−0−アセチル2−デオ
キシ−5,6−0−メチレン−2−(2−オキソプロパ
ノイル)アミノ−ネオ−イノシトール(化合物(12)
)の合成ハイグロマイシン(ハイグロマイシン:エビハ
イグロマイシン= 4 : IO200mg)を蒸留ピ
リジン(lclt12)に溶かし、無水酢酸(5md)
を加え、室温にて2時間撹拌した。展開系トルエン:酢
酸エチル=l:1のtic上、厚意のハイグロマイシン
のスポットが消失し、Rf−0,39の化合物(III
−2)のスポットが認められた。反応液に水冷下メタノ
ール(4−)を加え、減圧濃縮(トルエンと数回共沸)
、真空乾燥して、化合物(III−2)を得た。
化合物(I[−2)を塩化メチレン(10m12)に溶
かし、−78°Cにて撹拌中にオゾンを20分間吹き込
んだ。展開系トルエン:アセトン=2=lのt、lc上
Rf−0,32の化合物(II[−2)が消失し、新た
にスポットがRf=0.49.0.60に認められた。
反応液にジメチルスルフィド(3顧)を加え、−78°
Cから室温まで温度を上げながら15時間撹拌した。展
開系トルエン:アセトン−3:lのtlc上でRf=0
.59の化合物(I−4)のスポットとRf=0.53
の化合物(12)のスポットが認められた。減圧濃縮し
て得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(和光ゲルC−30035g、トルエン:アセトン−1
oll)によって分離精製して、化合物(1−4)、化
合物(12)ともに無色透明シロップとして得た。また
、化合物(I−4)はジエチルエーテル−酢酸エチル−
n−ヘキサンにて結晶化したものを分析用試料とした。
収量 化合物(1−4)285mg 化合物(12)   239mg ・化合物(I−4) [α]翌 −219,6°(c  O,55,クロロホ
ルム)m、p−110114°C IR(付着法)  1740(>C=O)、1690(
−CHO)cm−’’HNMR(CDCQ3.400M
H2)δ=9.89  s  IH 7,77dd lHJs、a=8,54Hz、Js、s
−2,44Hz7.60  d  IHJ3.6=1−
83H27−36d  IHJa−s=8−55Hz6
.05  d  IHJl’−2’=4.28H25,
85dd IHJ3’−j=4−89Hz、J3’、2
’=6.71Hz 5.23  dd IHJ2’、、’=6.71Hz、
J2’、1’=−28Hz 4.38  d  IHJ4’、i’=4.88Hz2
.34  s  3H 2,13s  3H 2,13s  3H 2,07s  3H 13CNMR(CDC(ls、100MHz)δ−20
4,6 189,8 152,5 140,8 131,7 129,6 123,9 115,0 98,5 84,9 76,3170,1,169,4,168,274,2 25,820,8,20,35,20,33データは実
施例4で得られI;化合物と一致した。
・化合物(12) ’HNMR(CDCJ、400MHz)δ=7.28 
 bs  IH 5,54t  IHJs、z=Js−*−7−33H1
5,46dd  IHJ4−3=7−33H2,J4.
S=3.05)IZ5.33  s 4.92  bt、lHJl、2=J1.@=2.44
Hz4.80  m  IH 4.80  s   IH 4,32dd  IHJS、6=6.72H2,JS、
4=3.05H24,29dd  IHJs、s=6.
72Hz、Ja、t=2−44Hz2.47  s  
 3H 2,17s  3H 2,13s   3H 2,05s   3H 参考例3 2−0−アセチル−4−メチルフェニル 2′。
3′−ジーO−アセチルー6′−デオキシ−α−D−ア
ラビノー5′−へキソウロフラノシド[化合物(■−3
α)]の合成 (■−2α)           (I−3a)化合
物(I−2αX73.7mg、0.275mmol)を
ピリジン(1mff)に溶かし、無水酢酸(1ml)を
加え、室温にて15分間撹拌した。展開系トルエン:酢
酸エチル=6=lのLie上原点の化合物(I−2α)
のスポットが消失し、Rf−0,30に化合物(I−3
α)のスポットが認められた。反応液を減圧濃縮して(
トルエンと共沸)得られた残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(和光ゲルC−3003g、トルエン:
酢酸エチル−1oll)にて精製して化合物(■−3α
)を無色透明シロップとして得た。
収量 92.4mg(化合物(■−2α)からの収率8
5.3%) [α]2’  +80.1’ (c  O,77、クロ
ロホルム)’ HN M R(CD CQ s )& 
=7.32−6.83  m  3H5,70s  I
H 5,41−5,21m  2H 4,68d  IH 2,33s  3H 2,30s  3H 2,15s  3H 2,10s  3H IR(付着法)  1750.1730(>C=O)a
m−’M a s sスペクトル M+ 計算値’C+5HziOsとして394.126
4実験値:         394.1254参考例
4 2−0−アセチル−4−ホルミルフェニル2’、3’−
ジー○−アセチルー6′−デオキシ−α−D−アラヒリ
ー5′−へキソウ口7ラノシド[化合物(I−4σ)]
の合成 (I−3σ)          (I−4α)化合物
(I−3αX66.6mg、O,168mmol)をア
セトニトリル(0,7mff)に溶かし、0℃にて撹拌
しながら硝酸2アンモニウムセリウム(■)(413m
g、 1 、 l Ommol)を蒸留水(0,7m1
2)に溶かした溶液を約15分間かけて滴下した。さら
に0〜5℃で3.5時間撹拌した。展開系n−ヘキサン
:酢酸エチル−1:lのtlc上Rf=0.54の化合
物(I−3ff)のスポットが消失し、Rf−0,33
の化合物(■−4σ)のスポットとRf−0,44の副
生成物のスポットが認められた。反応液を酢酸エチル2
0−で希釈し、5%チオ硫酸ナトリウム水溶液、飽和重
曹水、蒸留水(各15顧)で洗浄し、有機層を芒硝乾燥
した。減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(和光ゲルC3003g、n−ヘキサ
ン:酢酸エチル−2:l)にて精製し化合物(ニー4α
)を無色透明シロップとして得た。
収量 19.0mg(化合物(I−4α)からの収率2
7.5%) [α]”4+52.0°(c  O,95,クロロホル
ム)IR(付着法)  1740(>C−0)、169
0(−CHO)cm−’’HNMR(CDC723,4
00MH2)δ−9,90s  IH 7,76da  IHJs、x=1.83Hz、Js、
s−8,54Hz7.62  d   IHJ3.5−
1.83H27−40d  IHJ6−s−8−55H
z5.87  s   IH 5−31m  2H 4,66d  IHJ3’、4’=4.28H22−3
4s  3H 2,31s  3H 2,18s  3H 2,13s  3H I3CNMR(CDCQs、loOMHz)δ=203
.3 189.9 152.4 141.1 131.8 129.6 123.8 116.4 104.3 87.6 80.1      169.7,169.3,168
.276.9 26.6     20.7,20.6,20.5Ma
ssスペクトル M+l  計算値: C1s H210+。として40
9.1133実験値:          409.1
135代理人  弁理士 岩 1)  弘

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、X_1、X_2、X_3はそれぞれ保護されて
    いてもよい水酸基を示し、Rはホルミル基またはメチル
    基を示す〕で表わされる化合物。
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