JPH01308491A - 低処理ガス率を用いるワックス異性化による5.6―5.9cst/100℃油の改良生産 - Google Patents

低処理ガス率を用いるワックス異性化による5.6―5.9cst/100℃油の改良生産

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JPH01308491A
JPH01308491A JP63320305A JP32030588A JPH01308491A JP H01308491 A JPH01308491 A JP H01308491A JP 63320305 A JP63320305 A JP 63320305A JP 32030588 A JP32030588 A JP 32030588A JP H01308491 A JPH01308491 A JP H01308491A
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JP
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wax
isomerization
oil
catalyst
alumina
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JP63320305A
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English (en)
Inventor
Heather Alexis Boucher
ヒーザー アレクシス ブーチャー
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ExxonMobil Technology and Engineering Co
Original Assignee
Exxon Research and Engineering Co
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Publication date
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C10PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10GCRACKING HYDROCARBON OILS; PRODUCTION OF LIQUID HYDROCARBON MIXTURES, e.g. BY DESTRUCTIVE HYDROGENATION, OLIGOMERISATION, POLYMERISATION; RECOVERY OF HYDROCARBON OILS FROM OIL-SHALE, OIL-SAND, OR GASES; REFINING MIXTURES MAINLY CONSISTING OF HYDROCARBONS; REFORMING OF NAPHTHA; MINERAL WAXES
    • C10G45/00Refining of hydrocarbon oils using hydrogen or hydrogen-generating compounds
    • C10G45/58Refining of hydrocarbon oils using hydrogen or hydrogen-generating compounds to change the structural skeleton of some of the hydrocarbon content without cracking the other hydrocarbons present, e.g. lowering pour point; Selective hydrocracking of normal paraffins
    • C10G45/60Refining of hydrocarbon oils using hydrogen or hydrogen-generating compounds to change the structural skeleton of some of the hydrocarbon content without cracking the other hydrocarbons present, e.g. lowering pour point; Selective hydrocracking of normal paraffins characterised by the catalyst used
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C10PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10GCRACKING HYDROCARBON OILS; PRODUCTION OF LIQUID HYDROCARBON MIXTURES, e.g. BY DESTRUCTIVE HYDROGENATION, OLIGOMERISATION, POLYMERISATION; RECOVERY OF HYDROCARBON OILS FROM OIL-SHALE, OIL-SAND, OR GASES; REFINING MIXTURES MAINLY CONSISTING OF HYDROCARBONS; REFORMING OF NAPHTHA; MINERAL WAXES
    • C10G2400/00Products obtained by processes covered by groups C10G9/00 - C10G69/14
    • C10G2400/10Lubricating oil

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  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ワックスのハイドロイソメライゼーション(hydro
isomerization)によって生産される粘度
グレード5.6〜5.9 c ST/ 100℃の潤滑
油の収率を低処理ガス重下に異性化処理を行うことによ
って改善できることが見い出された。異性化を低処理ガ
ス率で行う場合には、異性化物における潤滑油お改善収
率に加え、異性化物の潤滑油画分のワックス含量が低下
する。
ワックスの異性化によって得られる高粘度指標(ind
ex)潤滑油の収率を改善する方法が開示される。その
改善はワックス異性化処理を低処理ガス率、すなわち5
00〜5000SCF/bb/、His好ましくは20
00〜4000SCF/bbl、H2、もっとも好まし
くは約2000〜3000SCF/bb/、H,の範囲
の割合で行うことよりなるや他のすべての異性化処理条
件はそれらの代表的、標準的範囲、すなわち温度は27
0〜400℃、好ましくは300〜360℃、圧力は5
00〜3000psi  (#35.2〜211kg/
c11り H2、好ましくは1000〜1500psi
  (#70.3〜105.5kg/cnl) Hz 
、空間速度は0.1〜10 v/v/hr、好ましくは
1〜2v/v/hrの範囲に維持する。
低処理ガス率モードの操作は約5.6−5.9 c S
T/100℃の範囲の粘度グレードを有する370℃°
域で沸騰する異性化油の収率を増加させる。
この油画分はまたワックス含量が低下しており、従って
脱ワツクス器の負担を軽減することができる。
異性化するワックスはいくつかの資源のいずれからのも
のでもよい。フィッシャー・トロプシュ(Fische
r−Tropsch)処理からの合成ワックスを用いる
こともできるし、また通常の炭化水素油の溶媒脱ワツク
スもしくは自己冷蔵(autorefrizcra−t
ion)脱ワツクスにより回収されたワックスを用いる
こともできるし、それらの混合物でもよい。
通常の炭化水素油の脱ワツクスによるワックスは一般に
粗ワックス(slack waxes)とよばれ、通常
かなりの量の油を含有する。これらの粗ワックスの油含
量は0〜45%もしくはそれ以上、通常1〜30%油に
亘る0本出願の目的のために、これらのワックスを2つ
のカテゴリーに分ける:(1)約300〜580℃で沸
騰する軽パラフィンワックス (2)約600℃より上で沸騰する実質的画分(250
%)を含量する重いマイクロワックス。
ハイドロイソメライゼーシッンは、■族及び■族金属混
合物、及び■族金属、好ましくは■族金属、より好まし
くは■放置金属、もっとも好ましくは白金から選ばれた
水素化金属を含有する標準ハイドロイソメライゼーショ
ン触媒のいずれかの上で行う。金属負荷は0.1〜5.
0wt%金属、好ましくは0.1〜1.0wt%金属、
もっとも好ましくは0.2〜0.6wt%金属に亘る。
水素化金属成分はハロゲン化した、耐火無機金属酸化物
支持体、好ましくはアルミナもしくはシリカ−アルミナ
、もっとも好ましくは遷移アルミナ(transiti
on  alun+1nas) 、例えばγ−アルミナ
上に支持する。ハロゲンは通常塩素もしくはフッ素また
はそれらの混合物、好ましくはフッ素であり、湿潤ハロ
ゲン含量は1〜10wt%、好ましくは2〜8wt%で
ある。
好ましい触媒はフッ化物化したアルミナもしくはアルミ
ナ含有物質、好ましくはアルミナもしくは優勢的に(す
なわち>50%)アルミナよりなる物質、もっとも好ま
しくはγ−もしくはη−アルミナ上の■族金属もしくは
それらの混合物、好ましくは■放置金属、もっとも好ま
しくは白金である水素化金属成分を含有し;ワックスフ
ィードに導入されたその形態において、 (11高濃度のHF、すなわちlO賀t%HF以上、好
ましくは10〜15−t%HFを含有する水溶液を用い
てフッ素を析出させ、150℃で16時間乾燥させた。
?、2wt%Fを含有する150rd/gγ−アルミナ
上の0.6wt%ptよりなる標準物質によって示され
る2θ=5.66人でのX線回折(X RD)パターン
におけるピーク高さが水和物レベル100に相当すると
した場合に、水和物の比較量として求めた水和物レベル
が60以下であり、 (2)X線光電子分光分析法(XPS)によって求めた
表面窒素含量N/AI!比が0.O1以下、好ましくは
0.007以下、もっとも好ましくは0.004以下で
あり、 (3)かさフッ素濃度(a bulk fluorin
e concentra−tion)が約2〜10wt
%であり、かつ(4)粒子〔例えば1/16インチ(#
1.59 m)押出物〕の表面から1/100インチ(
= 254μm)の深さまでの層に存在するフッ素量と
して定義される表面フッ素濃度が3wt%以下、好まし
くは1wt%以下、もっとも好ましくは0.5wt%以
下である(ただし、表面フッ化物濃度ばかさフッ化物濃
度より低いものとする)ことを特徴とする。
触媒のフッ化物含量はいくつかの方法によって決定する
ことができる。
1つの技術は文献でよく確立された酸素燃焼法を用いて
フン化物化触媒を分析する。300nIParr酸素燃
焼ボンベ中に入れたステンレススチール燃焼カプセル中
で約8〜10■のサンプルと安息香酸0.1g及び鉱油
1.2gとを混合する。サンプルを脱気しくbe pu
rged of air)ついで純酸素の30気圧下で
燃焼させる。燃焼産物を脱イオン水5 mlに取る。反
応が完全に進行したら(約15分)、該吸収溶液を定量
的に移し、一定容量とする。
サンプルのフン化物濃度は燃焼産物溶液のイオンクロマ
トグラフィー分析によって求める。いくつかの濃度のエ
タノール性KF標準を(サンプルと同様に)燃焼してO
〜10ppIIl検i1 (calibra−tion
)領域を得ることにより検量線を作成する。
触媒のフン化物濃度はサンプル溶液応答を検量線のそれ
と比較することにより燃焼ロスフリーベース(igni
tion−1oss−free−basis)に基いて
計算する。燃焼ロスは800’F(,427℃)で少な
くとも2時間加勢した別のサンプルについて求めた。
イオンクロマトグラフィー分析は標準アニオン条件(s
tandard anion conditions)
を用いる。
別の操作は滴定フィニツシユ(titrimetric
finish)を用いるフ・7化物蒸留の使用を包含す
る。
フッ化物をリン酸媒体中石英と反応させてフッ化ケイ酸
(HzSiF6)に変換し、過熱蒸気を用いてそのまま
蒸留する。これはwillard−Winter−Ta
nanaev蒸留である。正確な結果を得るのに過熱、
(湿潤よりも)乾燥水蒸気の使用が重要であることに注
意すべきである。湿潤蒸気発生機の使用は10〜20%
低い結果を生じた。回収したフッ化ケイ酸を標準水酸化
ナトリウム溶液で滴定した。水蒸気によってもち込まれ
るリン酸についての補正をしなければならない。フン化
物データは400℃で1時間加熱したサンプルについて
の燃焼ロスの測定後、燃焼ロスフリーベースで記録する
好ましい触媒は、アルミナもしくはアルミナ含有物質支
持体上に水素化金属を析出させ;金属負荷支持体を代表
的には350〜500℃、好ましくは約450〜500
℃で約1〜5時間、好ましくは約1〜5時間暇焼し:つ
いで金属負荷支持体を、pH3,5〜4.5で好ましく
はNH4,FとHFの混合物よりなる高pHフッ素源溶
液を用いてかさフッ素レベル約8wt%以下、好ましく
は約74%以下にフン化物化し;フッ化物化金属負荷支
持・体を、空気もしくは酸素含有雰囲気または不活性雰
囲気上平均した加熱を確保するために1床(a thi
n bed)もしくはロータリーキルン巾約350〜4
50℃、好ましくは375〜400℃の温度に約3時間
以内急速乾燥/加熱し;ついで必要に応じ最終温度に窒
素含量を上記レベルに減するに十分な時間(例えば1〜
5時間)保つか;または上記燻焼金属負荷支持体を3.
5より低いpHを有し、HFもしくはHFとNN4Fの
適当な混合物よりなる低pHフッ素源溶液で処理してか
さフッ素しベル約10−t%以下、好ましくは約8ht
%以下とし;ついでこれを空気もしくは酸素含有雰囲気
または不活性雰囲気下薄床もしくはロータリーキルン巾
約350〜450℃、好ましくは375〜425℃の温
度に乾燥/加熱し、必要に応じその温度で1〜5時間保
持することを含む方法によって製造された触媒である。
アルミナまたはアルミナ含有支持体物質は好ましくは押
出物の形態であり、好ましくは最長横断面の巾が少なく
とも約1/32インチ(′−794μm)である(ar
e preferably at 1eastabou
t 1/321nch across the lon
gest crosssectional diame
nsion)。
低DHで製造した触媒をそのままユニットに充填する場
合には、触媒を最終活性化温度、好ましくは400〜4
50℃に5時間より長く、好ましくは10時間より長く
保つ必要がある。
上記触媒は代表的には0.1〜5.0wt%金属、好ま
しくは0.1〜1.0wt%金属、もっとも好ましくは
0.2〜0.6wt%金属を含有する。
乾燥/加熱触媒はX線光電子分光分析法(XPS)によ
る表面窒素含量0.01以下N/Az、好ましくは0.
007N/AI!以下N/Alを有する。
上記加熱に続き触媒を異性化反応器に充填し、急速に操
作条件に到達させる。別法として、高p)l溶液技術に
より製造した触媒を上記加熱後好ましくは純水素または
プラント水素(6070voj!%Hz)中350〜4
00℃で活性化することができる。この際、短い活性化
時間を用いることが肝要であり、1〜24時間、好まし
くは2〜10時間で十分である。(24時間より長い)
長い活性化時間は触媒性能に有害であることが判明した
対照的に低pH溶液技術を用いて製造した触媒は純水素
もしくはプラント水素中350〜500℃で1〜48時
以上活性化することができる。実際かかる低pHで製造
した触媒は最初に加熱しない場合には、より厳しい条件
、すなわちより長い時間及び/またはより高い温度で活
性化するのが好ましい。他方、もし最初に加熱するので
あれば、より高いpH溶液処理により製造した触媒と同
様な中程度の活性化処理で十分である。
代表的な活性化手順によると、触媒を2時間かけて室温
から100℃として、100℃で0〜2時間保ち、1〜
3時間かけて100℃から約350℃にし、ついで最終
温度で1〜4時間保持する。
別法として2〜7時間かけて室温から350〜450℃
の最終温度に加熱し、最終温度で0〜4時間保持するこ
とによって触媒を活性化することができる。さらにまた
1時間で室温から350〜450℃の最終温度に加熱す
ることによっても活性化を達成できる。
(触媒を最初に空気中で加熱した場合には)活性化処理
をさらに行うことなくすませることができる。これらの
場合には、燻焼した触媒を単に反応器に充填し、ワック
スフィードの融点よりちょっと上に加熱し、フィード及
び水素を触媒上に導入し、ついでユニットを急速に操作
条件ば到達させる。
別の好ましい触媒は、アルミナまたはアルミナ含有物質
支持体に水素化金属を析出させ、この金属負荷支持体を
HF等の酸性フッ素源を用いてスプレー、浸漬、初期湿
潤(incipient賀etness)等の常套手段
でフン化物化として2−10%F好ましくは2−8%F
を析出させることによって製造したフン化物化該支持体
上の水素化金属よりなる。
ハロゲン化に続き、触媒を代表的には120℃で乾燥し
、ついで内部表面を露出させるために粉砕し、ついで2
重に篩分けして細粒及び非粉砕粒子を除く、このサイズ
の触媒は最長横断面寸法が1/32インチ(=794μ
m)以下、代表的には1/64〜1/32インチ(43
97〜794μm)である。
出発粒子または押出物はいかなる物理的形状であっても
よい。すなわち例えば円筒、トリローブ(trilob
es) 、クオドリローブ(quadri 1obes
)の粒子を用いることができる。いかなる直径の押出物
も用いることができ、1/32インチ(#794μm)
以下の長さである限り用いることができる。長さのデイ
メンジョンはもっばら取扱い性を考慮して決められる。
もっとも粒子は最初の押出物直径より短い長さを有する
ことが好ましい。
水素化金属の析出及び該粒子もしくは押出物のフン化物
化に続いて、粒子もしくは押出物を粉砕もしくは破砕し
て内部表面を露出させる。
粉砕は出発物質としての粒子もしくは押出物に適当な程
度に行う。すなわち、長さ1フイ一ト直径1/16イン
チ(#1.59 va)の押出物は最長横断面寸法がl
/64〜1/32インチ(# 39T〜794μm)の
破片に粉砕する。同様に押出物が初まりのときに1/1
6インチ(=1.59鶴)しかなければ、それを単に破
砕して例えば半分、すなわち2つの1/32インチ(#
 794μm)の破片とすればよい。
別法として、すでに約1732インチ(’、794μm
)以下の大きさの金属負荷支持体粒子を用い、これをH
Fで上記したごとくフッ化物化してもよい。
かくのごとく、大きさを整えた物質は一般に約1/64
〜1/32インチ(#397〜794μm)の大きさを
有する。
未鍜焼の大きさを揃えた触媒を純水素もしくは60〜7
. Ovo 1%H2を含有するプラント水素等の水素
雰囲気下350〜500℃、好ましくは350〜450
℃で1〜48時間もしくはそれ以上加熱することにこと
によって活性化する。水素活性手順は前述と同様に行う
ことができる。
この大きさの触媒は未粉砕の粒子もしくは押出物出発物
質に比ベワックス異性化について予期廿ざるほど優れて
いる。また、この大きさの触媒を用い約5〜10%油を
含有するワックスから製造した370′c”油は、未粉
砕もしくは押出物を用いた場合に比べ、また(一方で)
0%油及び(他方で)20%油を含有するワックスから
製造した370℃゛油産物に比べより高い粘度指標(V
l ’ s)を示すことが見い出された。従って、もっ
とも高いVlを有する生産物を得るために人はHFを用
いて生産され、かくのごとく大きさを整えた触媒を用い
て5〜15%油、好ましくは7〜10%油を含有するワ
ックスを異性化するであろう。
予想されるように、異性化触媒はワックスフィード中の
へテロ原子化合物(すなわち、NもしくはS化合物)の
存在による失活に非常に感受性であり、従ってワックス
フィード充填物からかかるヘテロ原子物質を除去する策
が講じられなければならない。合成フィッシャー・トロ
プシュワックス等の高純度ワックスを扱う場合にはそれ
ほど対策を講じなくてもよい。かかる場合には非常に温
和な水素化処理が異性化触媒を保護するために十分な措
置となる。ところが、天然石油源から得られるワックス
は大量のへテロ原子化合物と、ヘテロ原子化合物を含有
するかなりの量の油を含んでいる。かかる場合には粗ワ
ックスを水素化処理して、ヘテロ原子化合物のレベルを
異性化触媒にさらすフィード用に許容し得るものとして
5産業界で一般に認められるレベルまで減する必要があ
る。
かかるレベルは典形的にはN含量約1〜5 ppm、S
含量約1〜20pp+m、好ましくはN含量2 ppa
+以下、S含量5 ppm以下である。さらに、かかる
粗ワックスは水素化処理に先立ち油含量0〜35%、好
ましくは5〜25%に脱油する必要がある。
水素化処理工程は標準的で工業的に受は入られられる条
件、例えば温度280〜400℃、空間速度0.1 =
 2. Ov/v/hr、圧力500〜3000psi
(#3.52〜211kg/aJ) Hz 、水素ガス
率500〜5000SCF/bblの下にアルミナ上の
Co / M oもしくはN i / M o等の代表
的水素化触媒を用いる。
異性化反応は約40%以下、好ましくは15〜35%、
もっとも好ましくは20〜30%の未変換ワックスが脱
ワツクスユニットに送られる潤滑油沸騰域で沸騰する異
性化物画分に残存する変換レベルまで行うのが好ましい
。未変換ワックス画分は として計算される。370t”油画分中の未変換ワック
スの量は脱ワツクスによって核油両分から除去、回収さ
れるワックスの量とする。異性化ユニットからの全産物
は精留して330℃゛、好ましくは3701℃域または
それ以上で沸騰する潤滑油画分とする。この潤滑油画分
を好ましくはMEK/MIBKの20 / 80 v 
/ v混合物を用いて溶媒脱ワツクスし、未変換ワック
スを新鮮フィード貯蔵器または直接異性化ユニットに供
給することによってさらなる異性化のために循環する。
原則として潤滑油収率を最大にするワックス消耗処理は
非常に低い激しさの、すなわち燃料油への変換が最小に
なる操作を包含する。かかる状況下では異性化反応器に
循環される未変換ワックスの量は太き(なり、触媒の選
択性の差は重要性が低くなる。
しかしながら現実には低い変換率様式で操作することは
実際的でない。代りに操作の激しさは低流動し流動点(
−21℃)油を製造する必要性によって支配される。低
流動性は低い変換率で製造された異性化物では達成され
ないことが見い出された。天然油では存在するワックス
の量は油を目標とする低流動点まで脱ワツクスする能力
に影響を及ぼさなかったのでこのことは予期さぜること
である。低い流動点に到達する臨海要素は異性化によっ
て得られる370℃0画分に残存するワックスの量が4
0%を越えないことであり、より低い流動点のためには
15〜20%もの低さとすることができる。この状況下
で収率を最大にするには触媒の選択が重要となる。
異性化に続いて、異性化物を330℃゛、好ましくは3
70℃゛域またはそれ以上で沸騰する両分として同定さ
れる潤滑油留分、及び燃料留分に精留する。ついでこの
潤滑油留分を脱ワツクスする。本発明方法においては未
変換ワックスをさらなる異性化のために循環するので、
脱ワツクスは未変換ワックスの回収を許容する技術によ
ってなされる。この循環ワックス゛はフィードワックス
貯蔵器に送り、いずれかの量の、異性化触媒に有害とな
る可能性があるもち込まれた脱ワツクス溶媒を除去する
ことが好ましい。別法として、伴われた脱ワツクス溶媒
もしくは他の汚染物を除くために別の除去器を用いもよ
い。未変換ワックスは循環されるので、接触脱ワツクス
(a catalyticdewaxing)等のワッ
クスを破壊する脱ワツクス操作は推奨できない。溶媒脱
ワツクスが用いられ、典形的脱ワックス溶媒を用いる。
溶媒脱ワツクスは−25〜−30℃のフィルター温度で
、03〜06ケトン(例えばメチルエチルケトン、メチ
ルイソブチルケトン及びそれらの混合物)、芳香族炭化
水素(例えばトルエン)、ケトンと芳香族炭化水素の混
合物(例えばMEK/トルエン)、液化した通常ガス状
のC2−C4炭化水素(例えばプロパン、ブタン及びそ
れらの混合物)等の自己冷蔵溶媒(autorefri
zerative 5oluents)を用いる。
混和し得る条件下で異性化物を脱ワツクスし、それによ
り高フィルター速度で脱ワツクス油の最′  高収率を
生ずる好ましい溶媒は−25〜−30”Cの範囲の温度
で用いられるMEK/MIBK(20/80)の混合物
である。より低いフィルター温度及びこの溶媒の他の比
を用いることによって一21℃より低い流動点を達成す
ることができるが、非混和条件下での操作による、低下
したフィルター速度の不利益をこうむらなければないな
い。さらにBright 5tock粗ワツクス等のミ
クロワックスより製造した異性化物を脱ワツクスする場
合には、脱ワツクスする異性化物画分が約330〜60
0℃、好ましくは約370〜580℃の間で沸騰する両
分として同定させる「ブロードハート留分J  (br
oad heartcut)であることが好ましいこと
が見い出された。約580〜600℃より上で沸騰する
重い缶出画分はかなりの量のフックスを含み、直接異性
化ユニットへ送ることによってさらなる異性化のために
循環するが、または水素化処理もしくは脱油が必要であ
るか望ましい場合には、新たなフィードの貯蔵器に送り
、そこのワックスと一緒にすることができる。
異性化の種々の留分への精留及びこれらの留分の脱ワツ
クスに先立って、異性化ユニットからの全液体産物(T
LP)を第2段階で異性化触媒もしくは単に耐火金属酸
化物上の■放置金属触媒を用いて温和な条件下に処理し
て、異性化物中のPNA及び他の汚染物を減じ、もって
改良された日光安定性を有する油を生産することが有利
であることも見い出された。
この態様においては、全異性化物を、異性化触媒の充填
物の上にまたは単に遷移アルミナ(transitio
n  alumina)上の■放資金属の上に通す。温
和な条件、例えば温度約170〜270℃、好ましくは
180〜220℃、圧力約300〜1500psi (
#21.1〜105.5kg/c4) 、好ましくは約
5QO〜1000psi  (#35.2〜70、3 
kg/ c+a) Hz 、水素ガス率約500〜10
.00O5CF/bbx、好ましくは1000〜500
0SCF/bb1及び流速約0.25〜10 v/v/
hr、好ましくは約1〜4v/v/hrが用いられる。
1500psi  (#105.5 kg/cd)より
高い圧力を用いるならば上記よりも高い温度を用いるこ
とができるが、かかる高い圧力は実際的でない。
全異性化物は別個の専用のユニット中これらの温和な条
件で処理することもできるし、また異性化反応器からの
TLPをタンクに貯え、ついで同じ異性化反応器に温和
な条件下に通塔することもできる。この温和な第二の処
理に先立って第1段階の生産物を精留することは不必要
であることが判明した。全生産物をこの温和な第二の処
理に服せめしることにより生産させる油は、引き続いて
の精留及び脱ワツクスにより高レベルの、日光安定性及
び酸化安定性を示すベース油となる。これらのベース油
は通常条件下にKF−840XHDN−30等の常用の
触媒(例えばアルミナ上のCO/ M OもしくはNi
/Mo)を用いる水素化処理に付して望ましくない。窒
素及び/またはイオウ化合物を除去することができる。
当業者はハイドロイソメライゼーションは異性化触媒の
表面への痕跡量の反応性オレフィンの形成を通して生ず
ると信じている。この理由から、触媒は水素添加/脱水
素成分(例えば白金等の■族金属)を含む必要があり、
反応は水素リッチ雰囲気下に行う。
ワックスフィードに対する水素ガスの容量比(処理カス
率(the TREAT GAS RATE) )は過
去においてワックスの反応性に影響を及ぼすことが知ら
れていたが、ハイドロイソメレート産物分布に影響を与
えることは知られていなかった。
例えば370″C+油への選択性はもっばら370℃−
物質への変換量に依り、温度、圧力、処理ガス率等の特
定の処理パラメーターには依存しないことが認められて
きた。この認識は高沸点ワックスと油の分配(dist
ribution)も処理ガス率等のパラメーターに無
関係であることを示唆した。
しかしながら処理ガス率が、高沸点画分におけるワック
スと油の相対収率に影響を及ぼすことが今や見い出され
た。すなわち、5.6−5.9 c S t/100℃
等の特定の粘度グレードの油が考慮されるとき、より低
い処理ガス率により該両分中の増加した5、6−5.9
 c ST/ 100℃油の収率と低下したワックス量
がもたらされる。
増加した高沸油収率と低下したワックス収率はいくつか
のことを意味する: (1)  ワックスがより効率的に油に変換される。総
括油収率が増加し、循環ワックス量が減る(プラントサ
イズの節約) (2)脱ワツクスユニットへ送られる流れ中のワックス
濃度が減少する。これにより脱ワツクス器の負担が減り
、油を伴うワックスの量が減る。
かくして価値ある異性化油がハイドロイソメライゼーシ
ョンに循環される割合が減る。
好ましい粗ワックス変換レベルは脱ワツクスユニットに
送られる異性化物画分に25〜40−t%の未変換ワッ
クスが残るレベルである。脱フックスのために送られる
流れ中のワックスの量は変換率レベルでコントロールで
きる。ハイドロイソメライゼーションはより多くの燃料
と低下した総括残存ワックス収量を生産するように行う
ことができる。しかしながら、これは価値あるワックス
の破壊と聡括油収率の減少をもたらす。本発明は脱ワツ
クスする流れに存在するワックス量をより高い変換レベ
ルで操作することなく最小にする方法であり、総括油収
率を維持するのに役立つ。さらに370 ”C−物質へ
の同じ変換レベルで、低処理ガス率は予期せざることに
5.6−5.9 c S t /100℃油のより高い
収率とこれらの油のより低い乾燥ワックス含量をもたら
す。
これらの粗ワックスはハイドロイソメライゼーシッンに
先立って水素化処理してハイドロイソメライゼーシッン
触媒に有害であり得る窒素及びイオウ化合物を除去する
のが好ましい。
異性化は270〜400℃、圧力500〜3000ps
ig (# 35.1〜211kg/crl)  (好
ましくは800〜1500psiJl (#56.2〜
105.5kg/c+J) ) 、空間速度0.1 /
 10 v/v/hr、好ましくは0.5 / 2 v
/v/hrで行う。好ましい処理ガス率は500〜50
00SCF/bbl Hx、好ましくは2000〜40
00SCF/bblH2、もっとも好ましくは約200
0〜3000SCF/bblSH□である。この範囲の
処理ガス率は高い方の処理ガス率では粗ワックスの増加
した反応性の利点を、低い方の処理ガス率では増加した
油収率及びより低い乾燥ワックス含量の利点を可能にす
る。異性化に続き、異性化物を精留して改善した収率で
5.6−5.9 c S t / 100℃油粘度域の
油を回収する。
より低い処理ガス率で生産したハイドロイソメレート(
hydroisomerate)産物は第2の低温ハイ
ドロイソメライゼーションで異性化して日光安定性を改
善することができる。
本発明は以下の実施例によりさらによく理解されるであ
ろう。
害1糎 水素化処理した粗ワックスを一連のハイドロイソメライ
ゼーション実験で用いた。ワックス源、予備処理及びハ
イドロイソメライゼーション触媒ヒストリーの適切な詳
細を以下に要約する:皿1皿 58%  Brent  System Mix■4%
  Paremtis 9%  Ba5rah 9%  Arab  Light 10%  Chams+oy 60ON蒸留分(Distillate)から得た粗ワ
ックス 又1!ノビH1吸■ 水素化処理触媒 フルフィト化にF−840(Ketjen、 Ni/M
oアルミナ触媒)水素化処理温度   370℃ 水素化処理圧力  1000psig (170,3k
g/cn)水素化処理ガス率 1500SCF Hz/
Bフィード水素化処理液体空間速度    0.42 
v/v/hr水素化処理ワックス油含量  20.0w
t%水素化処理ワックスイオウ含量  < 10 pp
m水素化処理ワックス窒素含量   <1wppmハイ
ドロイソメライゼーション触媒 0.6wt%白金/8.1wt%F/アルミナ1/16
 ’(#1.59 m)押出物 フッ素化法 10%HF水を用いるリホーミング触媒のHF含浸 触媒容量         3600cc様式  下降
流、しずく床(trickle bed)触媒予備処理 触媒を220℃で乾燥した(真空中4時間、ついで大気
圧下実験室オープン中で一夜)、触媒を反応器に充填し
、H2流圧力3 Q Qpsig (#21、1 kg
/ad)で室温から400℃まで以下のように加熱した
:100℃で24時間保持し、10’C/hrで100
℃から400℃とし、400℃で3時間保持し、ついで
反応器を250℃に冷却した。
ハイドロイソメライゼーシジン実験の詳細を表に示す。
処理ガス率2573.5035及び9565SCF  
H,/bbJで生産した3つのハイドロイソメレート産
物を分析した。伝統に従って、変換率の目安として生産
された370℃−物質の量を用いた。2つのもっとも高
いガス率からの産物については変換率レベルはほぼ同様
であった。もっとも低いガス率の場合についての変換率
レベルはやや低かった。(22対25−2%370’C
−)。
総組ワックスフィードに基<<370℃゛油及び370
℃3ワツクスの収率もこれら3つの処理ガス率について
非常に似かよっていた。すなわち、370℃1油の収率
は3つの場合について49.1及び49.8wt%/フ
ィードの間にあった。この順位性は得られた油虫産物に
何らかの有意な差があると人が予想するように仕向けな
いものである。
生産された3種の370℃°油産物から回収される5、
6−5.9 c ST/ 100℃油の収率の間に何ら
かの差異がある予想すべき根拠はない。
各産物を常圧蒸留して(was topped) 、常
圧蒸留物質を脱ワツクスして約5.85cST/100
℃粘度の脱ワツクス油を生産した。脱ワツクス油の流動
点を最大の正確さのためにWes tcan自己流動(
auto−pours)として測定した。常圧蒸留され
た物質の収率は3つの生産物について同じでないことが
見い出された。同じ流動点を有する脱ワツクスについて
は、除去された乾燥ワックスの量も3つの場合で異なっ
ていた。3つの処理ガス率を用いるこれらの結果は油及
びワックスの異なる収率をもたらした。
自己流動はASTM流動点よりより感度の高い流動点イ
ンデイケータ−である。脱ワツクス条件Aのデータは2
573及び9565SCF/B処理ガス率で得られた油
が、5035SCF/B処理ガス率で得られた油に比し
、より低い自己流動点に脱ワツクスされたことを示して
いる。より低い流動点に達するにはより多くのワックス
を除去しなければならないと一般に理解されている。し
かしながら、2573SCF/Bで生産された油は3つ
のケース中もっとも低いワックスを有していた。
表中の3つの場合の比較に関し、もっとも低い処理ガス
率実験はやや低い変換率レベル(22wt%370℃−
生産物質)で行われたことを指摘しなければならない、
このことはより少ないワックス油及び軽物質に変換され
たことを意味する。この実験を他の2つのケースのよう
に25−t%370℃−変換率で行っていたならば、5
.85cST/100℃油の収率はさらに高くなってお
り、その両分中に存在するワックスの量はさらに低くな
っていたであろう。
いずれにせよ、もっとも低い処理ガス率実験がより低い
変換レベルで行われたにも拘らず、より多くの脱ワツク
ス油が得られた(ハイドロイソメライゼーションへの粗
ワックスフィードについて2〜3%1t%)。同様に、
脱ワツクスによりその油から除去された乾燥ワックスは
より高い処理ガス率で生産された生産物からの乾燥ワッ
クスよりも少なかった。このことはハイドロイソメライ
ゼーションをより低い変換激烈性(a lower c
onver−sionseverity)で行うことが
でき、それでも高い油収率が得られること、またはハイ
ドロイソメライゼーションを高い変換率レベルで行うこ
とができ、その結果脱ワツクスされる流れ中のより低い
乾燥ワックス含量を達成できることを意味する。
効果を確認するため、3つの場合の各々について2つの
別個の脱ワツクスを行った。MIBK(メチルイソブチ
ルケトン)はMEK (メチルエチルケトン)より優れ
た溶媒であり、脱ワツクス溶媒が純MIBKであるとき
より少ない量のワックスが除去される結果となる。
脱ワツクスは単一バッチ脱ワツクス装置中で行った。ワ
ックス入り油を全体が流動性で示すまで加熱し、ケトン
溶媒で希釈し、ついで冷浴中で必要とされる温度まで攪
拌冷却した。混合物をそれ自身循環溶媒で冷却したBu
chnerフィルターで濾過した。ワックス及び油から
それぞれ溶媒を除去した。
誂 取 !lA  ■ … コ 冨 i −ペトロ ・ ■■−ロ■ ωの ゛     ■ cl:l  へ     の 閃訳 
;  ; (:

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 異性化ワックスから得られる粘度グレード5.6〜
    5.9cst/100℃の潤滑油を増加した収率で生産
    する方法であって; (1)ワックスを異性化触媒上、典形的な異性化温度、
    圧力及び空間速度条件で、しかし500〜5000SC
    F/bbl、H_2の範囲の低処理ガス率で異性化し、
    ついで (2)生産された異性化物から粘度グレード5.6〜5
    .9cst/100℃の油を回収することを特徴とする
    方法。 2、処理ガス率が2000〜4000SCF/bbl、
    H_2の範囲にある請求項1記載の方法。 3 処理ガス率が2000〜3000SCF/bbl、
    H_2の範囲にある請求項1記載の方法。 4 異性化条件が270−400℃の範囲での温度、5
    00〜3000psi(≒35.2〜210.9kg/
    cm^2)H_2の範囲での圧力及び0.1〜10v/
    v/hrの範囲での空間速度を含む請求項1、2または
    3項記載の方法。 5、異性化されるワックスが合成ワックス及び粗ワック
    スから選ばれる請求項1、2または3項記載の方法。 6、ハロゲン化した耐火金属酸化物支持体上に析出させ
    たVI族金属、VIII族金属及びそれらの混合物よりなる触
    媒上で異性化を行う請求項1、2または3項記載の方法
    。 7、触媒がフッ化物化したアルミナ支持体上のVIII族金
    属よりなる請求項6の方法。 8、VIII族金属が白金で、アルミナがγ−アルミナであ
    る請求項7の方法。
JP63320305A 1987-12-18 1988-12-19 低処理ガス率を用いるワックス異性化による5.6―5.9cst/100℃油の改良生産 Pending JPH01308491A (ja)

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