JPH01307092A - Semiconductor memory and its driving method - Google Patents

Semiconductor memory and its driving method

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JPH01307092A
JPH01307092A JP63136420A JP13642088A JPH01307092A JP H01307092 A JPH01307092 A JP H01307092A JP 63136420 A JP63136420 A JP 63136420A JP 13642088 A JP13642088 A JP 13642088A JP H01307092 A JPH01307092 A JP H01307092A
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JP
Japan
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word line
node
potential
gate
supply voltage
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JP63136420A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoshinobu Nishio
西尾 好伸
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Panasonic Holdings Corp
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Matsushita Electronics Corp
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To prevent the level fall of a word line and to attain a stable action by conducting a transfer gate connected to the word line, boosting it at >=a supply voltage, and holding a gate potential with a pumping circuit. CONSTITUTION:Out of clock signal input terminals CL1-CLn to select the word line, a signal to change from an L to an H is inputted, for example, to the CL1. A word line driving circuit 1 is operated, boosting is executed with the use of a capacitor C0 and inverters I1 and I2, and the potential sufficiently higher than the supply voltage is applied to a node N. On the other hand, a gate node N1 of a transfer gate QT1 is set at the lower potential than the supply voltage by a threshold VT of a MOS transistor, the voltage of the node N1 goes to sufficiently high by the capacity combination with a node N, a selective word line WL1 is set at the same potential as that of the node N, and set at the higher level than the supply voltage by >=VT. The selected memory cells MC11-MC1M are made writable through bit lines BL1-BLM, and the potential fall is prevented by a pumping circuit 5 connected to the node N1.

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はワード線の電位低下を防ぎ安定な動作を行う半
導体記憶装置およびその駆動方法に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device that prevents potential drop in word lines and operates stably, and a method for driving the same.

従来の技術 同期式の半導体記憶装置であるダイナミック・ランダム
・アクセスメモリー(以下、DRAMと略す)の読み出
し動作は一般に以下のように行われる。まず、行デコー
ドが行われ、次に行デコードに応じてワード線が選択さ
れる。この選択ワード線により選ばれたメモリーセルの
情報がビット線上に現れる。次に、センス動作により、
ビット線上に現れた電位変化が増幅される。次に、列デ
コードが行われ、複数のビット線上に現れた各メモリー
セルの情報の中から特定の一つの情報を取り出し、増幅
後、出力が確定し、読出し動作は完了する。ここで一連
のメモリー動作の中で最も重要でかつ難しい動作である
ビット線へのメモリーセルの情報の読み出しについて、
第2図に示した従来のDRAMの回路図を参照して説明
する。まず、ワード線WLI、WL2.・・・・・・、
WLN駆動のため、ワード線駆動回路1が動作し、次に
行デコードにより選ばれたワード線のみ駆動させるため
、ワード線セレクタ回路2を動作させる。これは、クロ
ック信号入力端子CL+からCLNまでN個のクロック
信号入力端子の中から一つ、例えばクロック信号入力端
子CL+を選び、この入力端子に低レベルから高レベル
に変化するクロック信号を入力する。この結果、ノード
N1からノードNNの中でノードN、のみ電源電圧(V
cc)からMOSトランジスタのしきい値(以下vTと
記す)だけ低い電位に充電され、他のノードは接地電位
のままとなる。次に、ワード線駆動回路1が動作し、ノ
ードNは接地電位から通常電源電圧より更にMOSトラ
ンジスタのしきい値電圧以上高い電位になる。これによ
り、トランスファゲートQT+のゲートとノードNとの
容量カップリングによりノードN1が十分に高い電位に
なり選択ワード線W L +はノードNと同電位になる
。他のワード線はトランスファゲートのゲート電位が十
分に低いため接地電位のままである。次に、選択ワード
線WLI と接続されたアクセストランジスタQ11.
QI2.・・・・・・。
A read operation of a dynamic random access memory (hereinafter abbreviated as DRAM), which is a conventional synchronous semiconductor memory device, is generally performed as follows. First, row decoding is performed, and then a word line is selected according to the row decoding. Information of the memory cell selected by this selected word line appears on the bit line. Next, by sense operation,
The potential change appearing on the bit line is amplified. Next, column decoding is performed to extract one specific piece of information from among the information of each memory cell appearing on the plurality of bit lines, and after amplification, the output is determined and the read operation is completed. Here, we will discuss the most important and difficult operation in a series of memory operations, which is reading information from memory cells to the bit line.
This will be explained with reference to the circuit diagram of a conventional DRAM shown in FIG. First, word lines WLI, WL2 .・・・・・・、
The word line drive circuit 1 is operated for WLN driving, and then the word line selector circuit 2 is operated to drive only the word line selected by row decoding. This selects one of the N clock signal input terminals from clock signal input terminals CL+ to CLN, for example, clock signal input terminal CL+, and inputs a clock signal that changes from low level to high level to this input terminal. . As a result, from node N1 to node NN, only node N has the power supply voltage (V
cc) to a potential lower by the threshold value (hereinafter referred to as vT) of the MOS transistor, and the other nodes remain at the ground potential. Next, the word line drive circuit 1 operates, and the node N changes from the ground potential to a potential higher than the normal power supply voltage and higher than the threshold voltage of the MOS transistor. As a result, the node N1 becomes a sufficiently high potential due to capacitive coupling between the gate of the transfer gate QT+ and the node N, and the selected word line W L + becomes the same potential as the node N. The other word lines remain at ground potential because the gate potential of the transfer gate is sufficiently low. Next, access transistor Q11 . connected to the selected word line WLI.
QI2. .......

QIMが導通し、メモリーセルM C+ + 、 M 
CI 2 、・・・・・・。
QIM becomes conductive, and memory cells M C+ + , M
CI 2,...

MCIMの情報がビット線B Ll、B L2.・・・
・・・、BL滅に現れる。ここで、DRAMが数閤角の
チップ面積中と大集積化されているため、通常1メモリ
ーセルの容量は数十fFという微小な容量しかもたない
。このような微小容量で安定動作を得るためにメモリー
セル内のコンデンサに記憶させる電荷量はできる限り多
くする必要がある。通常ビット線の電位は最大が電源電
圧、最小が接地電位であるためメモリーセルに書き込ま
れる最大電位も電源電圧であり、最小電位は接地電位で
ある。ところがメモリーセルに電源電位を書き込むため
には、アクセストランジスタQllI Q10.・・・
・・・、QNMのゲート電位は電源電圧よりMOS)ラ
ンジスタのしきい値Vt以上大きい電位が必要である。
MCIM information is transmitted to bit lines B Ll, B L2 . ...
...appears on BL Mei. Here, since DRAMs are highly integrated within a chip area of several square meters, the capacity of one memory cell is usually only a few tens of fF. In order to obtain stable operation with such a small capacitance, it is necessary to increase the amount of charge stored in the capacitor in the memory cell as much as possible. Normally, the maximum potential of the bit line is the power supply voltage and the minimum potential is the ground potential, so the maximum potential written into the memory cell is also the power supply voltage, and the minimum potential is the ground potential. However, in order to write a power supply potential to a memory cell, access transistors QllI, Q10. ...
..., the gate potential of the QNM needs to be higher than the power supply voltage by more than the threshold value Vt of the MOS transistor.

そのためワード線は、電源電圧以上に昇圧するワード線
駆動回路1により制御される。ダイナミック型の場合、
この昇圧は、コンデンサCoに電荷を貯え、このコンデ
ンサCoの接地電位側をインバータIfと■2の遅延を
利用して接地電位から電源電圧まで上げ、ノードNを電
源電圧より十分高い電位に昇圧させ、容量分配により選
択ワード線WL、に十分高い電位を供給する。しかし、
例えば、トランスファゲートQTI 、 QT2 T・
・・・・・、QTHのソースかドレイン領域での接合リ
ーク電流等のため、ノードNの電位は時間とともに低下
してい(。そのため選択ワード線W L +の電位も時
間とともに低下していく。DRAMの一般的な使用法の
一つであるページモードのような場合、ワード線の選択
が終了した後十分時間が経過した場合にも、読み出し書
き込み動作が保証されなければならない。したがって、
選択ワード線WLIの時間による電位低下は動作マージ
ン不足や動作不安定の大きな要因となる。この対策とし
て、従来の方法は、ノードNに図示しないがポンピング
回路を設け、ノードNの電位低下を補給するようにして
いる。
Therefore, the word line is controlled by a word line drive circuit 1 that boosts the voltage above the power supply voltage. In the case of dynamic type,
This boosting involves storing charge in the capacitor Co, raising the ground potential side of the capacitor Co from the ground potential to the power supply voltage using the delay of the inverter If and 2, and boosting the node N to a potential sufficiently higher than the power supply voltage. , a sufficiently high potential is supplied to the selected word line WL by capacitance distribution. but,
For example, transfer gate QTI, QT2 T・
..., the potential of the node N decreases with time due to junction leakage current in the source or drain region of QTH (.Therefore, the potential of the selected word line W L + also decreases with time. In page mode, which is one of the common uses of DRAM, read/write operations must be guaranteed even if a sufficient amount of time has passed after word line selection is completed.Therefore,
The potential drop of the selected word line WLI over time becomes a major cause of insufficient operating margin and unstable operation. As a countermeasure against this, in the conventional method, a pumping circuit (not shown) is provided at the node N to compensate for the drop in potential at the node N.

発明が解決しようとする課題 従来の方式では選択ワード線W L +に十分高い電位
を供給するためのノードNの電位の低下に対しては効果
が得られる。しかし、トランスファゲートQT+のゲー
トのノードN1も、同様にリーク電流により電位が低下
するため、ノードNの電位低下を防いでもワード線W 
I、 tにはトランスファゲートQTIのゲート電位が
低下するため、電荷補給はできない。従って選択ワード
線wLIは、リーク電流により電位は時間とともに低下
する。
Problems to be Solved by the Invention The conventional method is effective in reducing the potential of the node N in order to supply a sufficiently high potential to the selected word line W L +. However, the potential of the node N1 at the gate of the transfer gate QT+ similarly decreases due to leakage current, so even if the potential decrease of the node N is prevented, the word line W
Since the gate potential of the transfer gate QTI decreases at I, t, charge cannot be replenished. Therefore, the potential of the selected word line wLI decreases over time due to leakage current.

このため、アクセストランジスタQ目+QI2+・・・
・・・、QIMのゲート電位が下がると、メモリセルM
C11,MCI21・・・・・・+ M CI Mには
電源電圧まで書き込みができなくなる。これはDRAM
のメモリー動作の安定を阻害する大きな欠点となってい
た。
For this reason, access transistor Q+QI2+...
..., when the gate potential of QIM decreases, the memory cell M
C11, MCI21...+MCI It becomes impossible to write to MCI up to the power supply voltage. This is DRAM
This was a major drawback that hindered the stability of memory operation.

課題を解決するための手段 本発明の半導体記憶装置は、マトリクス状に行列配置さ
れた複数のメモリーセルと、同メモリーセルを行選択す
るための複数のワード線と、同メモリーセルを列選択す
る複数のビット線と、前記ワード線を電源電圧以上に昇
圧駆動するためのワード線駆動回路と、前記ワード線と
前記ワード線駆動回路を接続するための複数のトランス
ファゲートおよび同トランスファゲートのゲートに接続
されたデコーダ用トランジスタとポンピング回路とを備
えたものであり、この駆動方法は、選択するワード線に
接続されたトランスファゲートのゲートに接続されたデ
コード用トランジスタにパルス信号を入力させ、前記ト
ランスファゲートを導通させてワード線駆動回路により
前記選択するワード線を電源電圧以上に昇圧させるとと
もに、前記パルス信号により前記トランスファゲートに
接続されたポンピング回路を働かせ前記トランスファゲ
ートのゲート電位を保持するものである。
Means for Solving the Problems A semiconductor memory device of the present invention includes a plurality of memory cells arranged in rows and columns in a matrix, a plurality of word lines for selecting rows of the same memory cells, and a plurality of word lines for selecting the same memory cells in columns. A plurality of bit lines, a word line drive circuit for boosting and driving the word line to a voltage higher than a power supply voltage, a plurality of transfer gates for connecting the word line and the word line drive circuit, and a gate of the transfer gate. This drive method includes a decoder transistor and a pumping circuit connected to each other, and this driving method involves inputting a pulse signal to the decoding transistor connected to the gate of the transfer gate connected to the word line to be selected. The gate is made conductive so that the selected word line is boosted to a voltage higher than the power supply voltage by a word line drive circuit, and the pulse signal causes a pumping circuit connected to the transfer gate to operate to maintain the gate potential of the transfer gate. be.

作用 本発明によれば、トランスファゲートのゲート電圧を長
時間高レベルに維持することができ、ワード線のレベル
低下を防止することができる。
According to the present invention, the gate voltage of the transfer gate can be maintained at a high level for a long time, and a drop in the level of the word line can be prevented.

実施例 本発明の半導体記憶装置およびその駆動方法の実施例を
第1図に示した回路図を参照して説明する。
Embodiment An embodiment of a semiconductor memory device and a method for driving the same according to the present invention will be described with reference to the circuit diagram shown in FIG.

この半導体記憶装置は、マトリックス状に行列配置され
たメモリーセルMCl11MCI2・・・・・・。
This semiconductor memory device has memory cells MCl11MCI2... arranged in rows and columns in a matrix.

MCNIIと、メモリーセルを構成しているアクセスト
ランジスタQlll Q10・・・・・・、 QNにの
ゲートに接続されたワード線WLI、WL2・・・・・
・、WLNと、メモリーセルの一方の端子に接続された
ビット線BL1. BL2.・・・・・・、BLmと、
電源3とインバータI+と■2およびコンデンサCoか
らなるワード線駆動回路1と、ワード線駆動回路1とワ
ード線の間に接続されたトランスファゲートQt+ +
 QT2・・・・・・+ QTNと、各トランスファゲ
ートのゲートに接続されたデコード用トランジスタQR
I + QR2*・・・・・・、QRNと、各トランス
ファゲートのゲートに接続され、発振回路4.MOS 
トランジスタQ1゜Q2.Q3およびコンデンサC1と
からなるポンピング回路5より構成されている。なお、
VCCは電源端子、VCPはセルプレート電源端子、C
L+ 。
MCNII and the word lines WLI, WL2, which are connected to the gates of the access transistors Q10, Q10, and QN that constitute the memory cell.
, WLN and the bit line BL1 . connected to one terminal of the memory cell. BL2. ......, BLm and
A word line drive circuit 1 consisting of a power supply 3, inverters I+ and 2, and a capacitor Co, and a transfer gate Qt+ connected between the word line drive circuit 1 and the word line.
QT2...+ QTN and decoding transistor QR connected to the gate of each transfer gate
I + QR2*..., connected to QRN and the gate of each transfer gate, and connected to the oscillation circuit 4. M.O.S.
Transistor Q1゜Q2. It consists of a pumping circuit 5 consisting of Q3 and a capacitor C1. In addition,
VCC is the power supply terminal, VCP is the cell plate power supply terminal, C
L+.

CL2・・・・・・CLNはクロック信号入力端子、N
CL2...CLN is a clock signal input terminal, N
.

No、 Nl、 N2・・・・・・NNはノードである
No, Nl, N2...NN are nodes.

次に、DRAMの一連のメモリー動作の中で最も重要な
メモリーセルへの情報のやりとりについて説明する。ワ
ード線選択のためクロックi号入力端子CL、からCL
Nの中から、例えばクロック信号入力端子CL+が選ば
れ、この端子に低レベルから高レベルになるクロック信
号が入力される。他のクロック信号入力端子は低レベル
のままである。次にワード線駆動回路1を動作させ、コ
ンデンサCoとインバータ■1と12を用いて昇圧を行
い、ノードNには電源電圧より十分高い電位を得る。一
方、トランスファゲートQT+のゲートノードN1は、
電源電圧よりもMOSトランジスタのしきい値vTだけ
低い電位まで充電されており、ノードNとの容量結合に
よりノードN1は十分高い電位になり、選択ワード線W
L、は、ノードNと同一電位になり、電源電圧よりMO
Sトランジスタのしきい値71以上高いレベルになる。
Next, the exchange of information between memory cells, which is the most important part of a series of memory operations in a DRAM, will be explained. For word line selection, clock i input terminal CL, to CL
For example, a clock signal input terminal CL+ is selected from N, and a clock signal changing from a low level to a high level is input to this terminal. The other clock signal input terminals remain at low level. Next, the word line drive circuit 1 is operated, and the voltage is boosted using the capacitor Co and the inverters 1 and 12, so that a potential sufficiently higher than the power supply voltage is obtained at the node N. On the other hand, the gate node N1 of the transfer gate QT+ is
It is charged to a potential lower than the power supply voltage by the threshold value vT of the MOS transistor, and the node N1 becomes a sufficiently high potential due to capacitive coupling with the node N, and the selected word line W
L is at the same potential as node N, and MO is lower than the power supply voltage.
The level becomes higher than the threshold value 71 of the S transistor.

これにより、選択されたメモリーセルMC目。As a result, the selected memory cell MC is selected.

MC,2,・・・・・・、MCIMiこは、ビット線B
LI。
MC, 2, ......, MCIMi is bit line B
L.I.

BL2.・・・・・・、BL、を介して電源電圧まで書
き込みが可能となる。ところで、MOSトランジスタの
接合部でのリーク電流等により、放っておけばノードN
やN1の電位は時間とともに低下していく。しかし、ノ
ードNIにはポンピング回路5が接続されており、また
、ノードNにも図示していないがポンピング回路が接続
されており、ノードNとN1に電荷の補給がなされ、電
位低下が防止される。
BL2. ..., BL, it becomes possible to write up to the power supply voltage. By the way, due to leakage current at the junction of the MOS transistor, if left unchecked, the node N
The potentials of N1 and N1 decrease with time. However, a pumping circuit 5 is connected to the node NI, and a pumping circuit (not shown) is also connected to the node N, so that charges are replenished to the nodes N and N1 and a drop in potential is prevented. Ru.

次に、ポンピング回路5の動作を示す。Next, the operation of the pumping circuit 5 will be described.

ノードN+は、ノードNとのカップリングにより電源電
圧より十分高い電位に上がるため、MOSトランジスタ
Q1が導通し、ノードNOは電源電圧よりMOS トラ
ンジスタのしきい値vTだけ低い電位に充電され、発振
回路4とコンデンサC1によりノードNOは昇圧され、
MOSトランジスタQ3を介してノードNlに、ノード
NOから電荷が供給される。このため、トランスファゲ
ートQTIのゲートは十分高い電位を維持し、ワード線
W L +とノードNは低インピーダンスで接続される
ため、ワード線W L Iには電位低下が生じない。
Since node N+ rises to a potential sufficiently higher than the power supply voltage due to coupling with node N, MOS transistor Q1 becomes conductive, and node NO is charged to a potential lower than the power supply voltage by the threshold value vT of the MOS transistor, and the oscillation circuit 4 and capacitor C1, the node NO is boosted,
Charge is supplied from node NO to node Nl via MOS transistor Q3. Therefore, the gate of the transfer gate QTI maintains a sufficiently high potential, and the word line W L + and the node N are connected at low impedance, so that no potential drop occurs on the word line W L I.

このポンピング回路5による電荷の供給は、ワード線が
選択されている限り常に行われるため、ワード線のレベ
ルは常に十分高く保たれ、メモリーセルへの書き込み電
位が低下することはない。
The supply of charge by the pumping circuit 5 is always performed as long as the word line is selected, so the level of the word line is always kept sufficiently high, and the write potential to the memory cell does not drop.

発明の効果 本発明によれば、DRAMのベージモード動作のように
選択ワード線を長時間高レベルにしておき、読み出し書
き込み動作を行う場合、ワード線のレベル低下を防止で
き、メモリーセルへ十分な電位の書き込みが行え、安定
な動作が得られる。
Effects of the Invention According to the present invention, when a selected word line is kept at a high level for a long period of time and a read/write operation is performed, as in the page mode operation of a DRAM, it is possible to prevent the level of the word line from dropping, and to ensure that the memory cell has sufficient access to the selected word line. Potential can be written and stable operation can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明半導体記憶装置およびその駆動方法の実
施例を示す回路図、第2図は従来の半導体記憶装置を示
す回路図である。 1・・・・・・ワード線駆動回路、2・・・・・・ワー
ド線セレクタ回路、3・・・・・・電源、4・・・・・
・発振回路、5・・・・・・ポンピング回路、W L 
+ 、W L 21・・・・・・、WLN・・・・・・
ワード線、Bt、1.BL2.・・・・・・、BLM・
・・・・・ビット線、Qt+ + QT2 r・・・・
・・+ QTN・・・・・・トランスファゲート、Ql
ll Ql2.・・・・・・IQNM・・・・・・アク
セストランジスタ、QRII RR2,・・・・・・、
 RRN・・・・・・デコード用トランジスタ、Il、
  12・・・・・・インバータ、CLl、 Cl3.
・・・・・・+ CL H・・・・・・クロック信号入
力端子、N+ No、N、、N2・・・・・・NN・・
・・・・ノード、Ql、Q2.Qs−=・MOS トラ
ンジスタ、COT C+・・・・・・コンデンサ、VC
C・・・・・・電源端子、VCP・旧・・セルプレート
電源端子。 代理人の氏名 弁理士 中尾敏男 ほか1名/−−−フ
ードa凛對コ区 2−−−フードat!レクタriJ孤 N・、鳩、Nノ、Nz、=z7VI−ノード第 1 図
             Vcp  −−−vルフ゛
シート竜源jlh3/ −一一フード肩しツ動回落 ?−−−ワード珠セレクタ5J五 第2図
FIG. 1 is a circuit diagram showing an embodiment of the semiconductor memory device of the present invention and its driving method, and FIG. 2 is a circuit diagram showing a conventional semiconductor memory device. 1... Word line drive circuit, 2... Word line selector circuit, 3... Power supply, 4...
・Oscillation circuit, 5... Pumping circuit, W L
+ , W L 21..., WLN...
Word line, Bt, 1. BL2. ......BLM・
...Bit line, Qt+ + QT2 r...
・・・+QTN・・・・・・Transfer gate, Ql
ll Ql2.・・・・・・IQNM・・・Access transistor, QRII RR2, ・・・・・・,
RRN...Decoding transistor, Il,
12...Inverter, CLl, Cl3.
......+ CL H...Clock signal input terminal, N+ No, N,, N2...NN...
...Node, Ql, Q2. Qs-=・MOS transistor, COT C+・・・・capacitor, VC
C...Power supply terminal, VCP/old...Cell plate power supply terminal. Name of agent: Patent attorney Toshio Nakao and 1 other person/---Food a Rinko-ku 2---Food at! Lecter riJ, Nz, Pigeon, N, Nz, =z7VI-Node 1st Figure Vcp ---v Full Sheet Ryugen jlh3/ -11 Hood Shoulder and Two Movement Rotation? ---Word Bead Selector 5J5 Figure 2

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)マトリクス状に行列配置された複数のメモリセル
と、同メモリセルを行選択するための複数のワード線と
、前記メモリセルを列選択するための複数のビット線と
、前記ワード線を電源電圧以上に昇圧駆動させるための
ワード線駆動回路と、前記ワード線と前記ワード線駆動
回路を接続するための複数のトランスファゲートおよび
同トランスファゲートのゲートに接続されたデコード用
トランジスタとポンピング回路とを備えた半導体記憶装
置。
(1) A plurality of memory cells arranged in rows and columns in a matrix, a plurality of word lines for selecting rows of the memory cells, a plurality of bit lines for selecting columns of the memory cells, and the word lines. A word line drive circuit for boosting the voltage to a voltage higher than a power supply voltage, a plurality of transfer gates for connecting the word line and the word line drive circuit, a decoding transistor connected to the gate of the transfer gate, and a pumping circuit. A semiconductor storage device equipped with.
(2)選択するワード線に接続されたトランスファゲー
トのゲートに接続されたデコード用トランジスタにパル
ス信号を入力させ、前記トランスファゲートを導通させ
てワード線駆動回路により前記選択するワード線を電源
電圧以上に昇圧させるとともに、前記パルス信号により
前記トランスファゲートに接続されたポンピング回路を
働かせ、前記トランスファゲートのゲート電位を保持す
ることを特徴とする半導体記憶装置の駆動方法。
(2) A pulse signal is input to the decoding transistor connected to the gate of the transfer gate connected to the word line to be selected, the transfer gate is made conductive, and the word line drive circuit drives the word line to be selected at a voltage higher than the power supply voltage. 1. A method for driving a semiconductor memory device, characterized in that the gate voltage of the transfer gate is maintained by boosting the voltage of the transfer gate, and operating a pumping circuit connected to the transfer gate using the pulse signal.
JP63136420A 1988-06-02 1988-06-02 Semiconductor memory and its driving method Pending JPH01307092A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5347488A (en) * 1992-02-20 1994-09-13 Oki Electric Industry Co., Ltd. Semiconductor memory device for generating a controlling signal to select a word line

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US5347488A (en) * 1992-02-20 1994-09-13 Oki Electric Industry Co., Ltd. Semiconductor memory device for generating a controlling signal to select a word line

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