JPH09274793A - Dynamic random access memory - Google Patents

Dynamic random access memory

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Publication number
JPH09274793A
JPH09274793A JP8082656A JP8265696A JPH09274793A JP H09274793 A JPH09274793 A JP H09274793A JP 8082656 A JP8082656 A JP 8082656A JP 8265696 A JP8265696 A JP 8265696A JP H09274793 A JPH09274793 A JP H09274793A
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JP
Japan
Prior art keywords
word line
refresh
time
test
voltage
Prior art date
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Pending
Application number
JP8082656A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Koichi Akeyama
浩一 明山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JFE Steel Corp
Original Assignee
Kawasaki Steel Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Kawasaki Steel Corp filed Critical Kawasaki Steel Corp
Priority to JP8082656A priority Critical patent/JPH09274793A/en
Publication of JPH09274793A publication Critical patent/JPH09274793A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To shorten a test operation time required for a refresh time test. SOLUTION: When a refresh test mode signal T is a K state, the device is in a normal operation mode. When it is a H state, the device is in a refresh test mode. In the normal operation mode, a charge pump is operated using capacitors C2 and C3 in parallel, and boosting voltage VB for driving a word line is effectively boosted. On the other hand, in the refresh test mode, a charge pump is operated using only the capacitor C2, and boosting voltage VB for driving a word line is kept lower than the normal operation mode. When boosting voltage VB for driving a word line is kept lower, as a refresh margin time is shortened, a test operation time required for a refresh time test is shortened.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、蓄積電荷によって
ビットデータを記憶する、マトリックス状に配置された
メモリキャパシタを用いたメモリセルを、ワード線ドラ
イバで駆動されたワード線、及び列セレクタで選択され
たビット線によって選択し、該ビット線を経て書き込み
アクセス、及び読み出しアクセスを行うようにしたダイ
ナミックランダムアクセスメモリに係り、特に、メモリ
セルでビットデータを記憶するための蓄積電荷の時間経
過に従った減衰により、メモリセルへビットデータを書
き込んでからリフレッシュタイム仕様規定で定められる
リフレッシュ余裕時間の経過後に、記憶されるビットデ
ータが失われないことを保証することで、該リフレッシ
ュタイム仕様規定が満たされている良品であることを保
証するために行うリフレッシュタイム試験に要する試験
作業時間を短縮することで、該リフレッシュタイム試験
の能率向上や、試験コスト削減を図ることができるダイ
ナミックランダムアクセスメモリに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention selects a memory cell, which stores bit data by accumulated charges and uses memory capacitors arranged in a matrix, by a word line driven by a word line driver and a column selector. The present invention relates to a dynamic random access memory that is selected by a selected bit line, and performs write access and read access through the bit line, and in particular, according to the passage of time of accumulated charge for storing bit data in a memory cell. As a result of the attenuation, it is ensured that the stored bit data is not lost after the refresh margin time defined by the refresh time specification rule has passed after writing the bit data into the memory cell, thereby satisfying the refresh time specification rule. To ensure that it is a good product By shortening the test work time required for fresh time test, efficiency improvement of the refresh time test, a dynamic random access memory capable of reducing the test cost reduction.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来から用いられているRAM(random
access memory)には、ダイナミックランダムアクセス
メモリ(dynamic random access memory:以降、DRA
Mと称する)がある。このDRAMでは、各メモリセル
が備えるメモリキャパシタに蓄積された電荷によって、
ビットデータを記憶する。DRAMでは、メモリキャパ
シタの蓄積電荷の有無や多寡によって、ビットデータを
記憶するようにしている。又、DRAMでは、マトリッ
クス状に配置されたこのようなメモリセルを、行デコー
ダで駆動されたワード線、及び列セレクタで選択された
ビット線によって選択し、該ビット線を経て書き込みア
クセス、及び読み出しアクセス、更にはリフレッシュ動
作を行うようにしている。
2. Description of the Related Art Conventionally used RAM (random
access memory is a dynamic random access memory (DRA).
Called M). In this DRAM, the charge accumulated in the memory capacitor of each memory cell causes
Store bit data. In a DRAM, bit data is stored depending on the presence / absence of charge accumulated in a memory capacitor and the amount of charge. In a DRAM, such memory cells arranged in a matrix are selected by a word line driven by a row decoder and a bit line selected by a column selector, and write access and read are performed via the bit line. Access and further refresh operations are performed.

【0003】DRAMでは、記憶するビットデータに応
じた蓄積電荷が、MOS(metal oxide semiconductor
)トランジスタの漏れ電流や、半導体基板表面での再
結合により、時間経過に従って減少する。このため、D
RAMでは、一定周期で各メモリセルに対してリフレッ
シュ動作を行うことが特徴となっている。
In the DRAM, the accumulated charge corresponding to the bit data to be stored is a MOS (metal oxide semiconductor).
) It decreases over time due to transistor leakage current and recombination on the semiconductor substrate surface. For this reason, D
The RAM is characterized in that the refresh operation is performed on each memory cell at a constant cycle.

【0004】図1は、従来から用いられている一般的な
DRAMの構成を示すブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram showing a structure of a general DRAM which has been conventionally used.

【0005】この図1に示される従来例において、メモ
リセルMCがマトリックス状に配置され、メモリマトリ
ックスを構成している。このようなメモリマトリックス
に対して、ワード線駆動昇圧回路BTからのワード線駆
動用昇圧電圧VBを用いてワード線ドライバWDによっ
て駆動されるワード線WL0、WL1、及び、列セレク
タCSELで選択されたビット線BL0〜BL3、(B
L0バー)〜(BL3バー)によって、所望のメモリセ
ルMCが選択され、選択された該ビット線BL0〜BL
3、(BL0バー)〜(BL3バー)を経て書き込みア
クセス、及び読み出しアクセス、あるいはリフレッシュ
動作のアクセスがなされる。列セレクタCSELは、ビ
ット線BL0〜BL3、(BL0バー)〜(BL3バ
ー)の対の毎に、NチャネルMOSトランジスタTNA
及びTNBを有する。これらNチャネルMOSトランジ
スタTNA及びTNBは、列デコーダが出力する信号Y
0〜Y3に従って動作する。
In the conventional example shown in FIG. 1, memory cells MC are arranged in a matrix to form a memory matrix. For such a memory matrix, the word lines WL0 and WL1 driven by the word line driver WD using the word line driving boost voltage VB from the word line driving boost circuit BT and the column selector CSEL are selected. Bit lines BL0 to BL3, (B
A desired memory cell MC is selected by L0 bar) to (BL3 bar), and the selected bit line BL0 to BL
3, write access, read access, or refresh operation access is performed via (BL0 bar) to (BL3 bar). The column selector CSEL includes an N-channel MOS transistor TNA for each pair of bit lines BL0 to BL3 and (BL0 bar) to (BL3 bar).
And TNB. These N channel MOS transistors TNA and TNB are connected to the signal Y output by the column decoder.
It operates according to 0 to Y3.

【0006】ここで、書き込みアクセスの際には、入力
データはDI及び(DIバー)、バッファゲートB1及
びB2、データ線DL及び(DLバー)を経て列セレク
タCSELへ入力され、該列セレクタCSELにて選択
されている1対のビット線BL0〜BL3、(BL0バ
ー)〜(BL3バー)へと伝達され,選択される所望の
メモリセルMCに書き込まれる。
Here, at the time of write access, input data is input to the column selector CSEL via DI and (DI bar), buffer gates B1 and B2, data lines DL and (DL bar), and the column selector CSEL. Is transmitted to the pair of bit lines BL0 to BL3, (BL0 bar) to (BL3 bar) selected by and is written in the desired memory cell MC to be selected.

【0007】一方、読み出しアクセスの際には、読み出
し対象となる所望のメモリセルMCに記憶されるビット
データが、列セレクタCSELにて選択されたビット線
BL0〜BL3、(BL0バー)〜(BL3バー)を経
て該列セレクタCSELへと入力され、データ線DL及
び(DLバー)、バッファゲートB3及びB4を経て当
該DRAMの外部へと、出力データDO及び(DOバ
ー)としてビットデータが読み出される。このような読
み出しアクセスの際に、ビット線BL0〜BL3、(B
L0バー)〜(BL3バー)にある、選択されたメモリ
セルMCに記憶されるビットデータは、図示されないセ
ンスアンプタイミング回路が出力するセンス信号SAP
及び(SANバー)によって制御されるセンスアンプS
Aによって増幅される。
On the other hand, at the time of read access, the bit data stored in the desired memory cell MC to be read is the bit lines BL0 to BL3, (BL0 bar) to (BL3) selected by the column selector CSEL. Input to the column selector CSEL via the data line DL and (DL bar) and the buffer gates B3 and B4 to the outside of the DRAM, and the bit data is read as the output data DO and (DO bar). . During such read access, the bit lines BL0 to BL3, (B
The bit data stored in the selected memory cell MC in the L0 bar) to (BL3 bar) is the sense signal SAP output from the sense amplifier timing circuit (not shown).
And a sense amplifier S controlled by (SAN bar)
Amplified by A.

【0008】図2は、この従来例で用いられるワード線
駆動昇圧回路BTの回路図である。又、図3は、同じく
この従来例で用いられるワード線ドライバWDの回路図
である。
FIG. 2 is a circuit diagram of a word line drive booster circuit BT used in this conventional example. FIG. 3 is a circuit diagram of the word line driver WD also used in this conventional example.

【0009】まず、ワード線駆動昇圧回路BTは図2に
示されるごとく、NチャネルMOSトランジスタTN1
及びTN2と、コンデンサC1とにより構成されてい
る。又、ワード線ドライバWDは図3に示されるよう
に、デコーダG1と、インバータI1と、NチャネルM
OSトランジスタTN3〜TN5とにより構成されてい
る。ここで、図3ではデコーダG1がAND論理ゲート
のシンボル図記号で示されているが、このデコーダG1
は一般的なAND論理演算に特に限られず、当該DRA
Mのデコードを行う所定の論理演算を行うものとなって
いる。
First, as shown in FIG. 2, the word line drive booster circuit BT has an N channel MOS transistor TN1.
And TN2 and a capacitor C1. As shown in FIG. 3, the word line driver WD includes a decoder G1, an inverter I1, an N channel M
It is composed of OS transistors TN3 to TN5. Here, although the decoder G1 is shown in the symbol diagram symbol of the AND logic gate in FIG.
Is not limited to a general AND logical operation, and the DRA
A predetermined logical operation for decoding M is performed.

【0010】図4は、これらワード線駆動昇圧回路BT
及びワード線ドライバWDの動作を示すタイムチャート
である。
FIG. 4 shows the word line drive booster circuit BT.
7 is a time chart showing the operation of the word line driver WD.

【0011】ここで、図4のタイムチャートを用いて、
ワード線駆動昇圧回路BT及びワード線ドライバWDの
動作を説明する。
Here, using the time chart of FIG.
The operation of the word line drive booster circuit BT and the word line driver WD will be described.

【0012】まず、DRAMのメモリセルMCをアクセ
スする際、アドレス信号ADが入力される。このアドレ
ス信号ADが当該DRAMを選択する場合、デコーダG
1の出力する信号Bは時刻t1で立ち上がる。ここで、
時刻t1で信号Bが立ち上がると、これに伴って時刻t
2では、NチャネルMOSトランジスタTN3の出力側
の信号Cも立ち上がり始める。
First, when accessing the memory cell MC of the DRAM, the address signal AD is input. When the address signal AD selects the DRAM, the decoder G
The signal B output by 1 rises at time t1. here,
When the signal B rises at the time t1, the time t
At 2, the signal C on the output side of the N-channel MOS transistor TN3 also starts to rise.

【0013】時刻t3では、信号φが立ち上がり始め
る。すると、時刻t4では、該信号φの立ち上がりに伴
って、まずワード線駆動用昇圧電圧VBが立ち上がり始
め、又ワード線WLも立ち上がり始める。このようにワ
ード線WLが立ち上がると図3に示される寄生コンデン
サCaによって信号Cが上昇されるため、該信号Cはこ
の図4のタイムチャートに示されるごとく、時刻t5以
降更に上昇し、電源電圧VDD以上に上昇する。
At time t3, the signal φ starts rising. Then, at time t4, the boosted voltage VB for driving the word line starts to rise and the word line WL also starts to rise with the rise of the signal φ. When the word line WL rises in this way, the signal C is raised by the parasitic capacitor Ca shown in FIG. 3, so that the signal C rises further after the time t5 as shown in the time chart of FIG. It rises above VDD.

【0014】続いて時刻t6では、信号Aが立ち上がり
始める。すると、該信号Aの立ち上がりに伴って時刻t
7では、ワード線駆動用昇圧電圧VBの立ち上がりが更
にブーストされ、又該ワード線駆動用昇圧電圧VBのブ
ーストに伴ってワード線WLの立ち上がりも更にブース
トされる。これらワード線駆動用昇圧電圧VB及びワー
ド線WLは、時刻t7以降でこのようにブーストされる
ため、電源電圧VDD以上となる。又、このようにワー
ド線WLが立ち上がり、ブーストされて電圧が上昇され
ると、当該DRAMの該ワード線WLに対応するメモリ
セルMCが選択され、アクセスが可能となる。
Then, at time t6, the signal A starts to rise. Then, as the signal A rises, the time t
In 7, the rising of the boosted voltage VB for driving the word line is further boosted, and the rising of the word line WL is further boosted with the boosting of the boosted voltage VB for driving the word line. The boosted voltage VB for driving the word line and the word line WL are boosted in this way after the time t7, and thus become equal to or higher than the power supply voltage VDD. Further, when the word line WL rises and is boosted to increase the voltage in this manner, the memory cell MC corresponding to the word line WL of the DRAM is selected and accessible.

【0015】メモリセルMCへのアクセスが可能な期間
が終了すると、アドレス信号ADが変更され、時刻t1
0で信号Bが立ち下がり始める。該信号Bが立ち下がる
と、信号Cも時刻t11で立ち下がり始め、又ワード線
WLも立ち下がり始める。時刻t12ではワード線WL
が電圧VSSとなっており、メモリセルMCの選択が完
全に終了している。
When the period during which the memory cell MC can be accessed ends, the address signal AD is changed and the time t1 is reached.
At 0, the signal B starts to fall. When the signal B falls, the signal C also begins to fall at time t11, and the word line WL also begins to fall. Word line WL at time t12
Is the voltage VSS, and the selection of the memory cell MC is completely completed.

【0016】なお、この後時刻t13では、信号(φバ
ー)が立ち上がり始める。このように信号(φバー)が
立ち上がると、時刻t14ではワード線駆動用昇圧電圧
VBが立ち下がり始めている。
After this, at time t13, the signal (φ bar) starts to rise. When the signal (φ bar) rises in this manner, the boosted voltage VB for driving the word line starts to fall at time t14.

【0017】以上、図4のタイムチャートを用いて説明
した通り、図3のワード線ドライバWDによって、入力
されるアドレス信号ADに対応するワード線WLを選択
し、該ワード線WLに対応するメモリセルMCを選択す
ることができる。この際、図2に示されるワード線駆動
昇圧回路BTによって、選択されるワード線WLの電圧
は電源電圧VDD以上にブーストされる。このようにワ
ード線WLの電圧が上昇されると、書き込みアクセスの
際にはメモリセルMCへのビットデータに対応する電荷
の蓄積をより確実に行うことが可能となり、又読み出し
アクセスの際にはメモリセルMCに貯えられる電荷に対
応する電圧をより確実に読み出すことが可能となる。
As described above with reference to the time chart of FIG. 4, the word line driver WD of FIG. 3 selects the word line WL corresponding to the input address signal AD and the memory corresponding to the word line WL. The cell MC can be selected. At this time, the voltage of the selected word line WL is boosted to the power supply voltage VDD or higher by the word line drive booster circuit BT shown in FIG. When the voltage of the word line WL is increased in this way, it becomes possible to more reliably store the charge corresponding to the bit data in the memory cell MC in the write access, and in the read access. The voltage corresponding to the electric charge stored in the memory cell MC can be read more reliably.

【0018】ここで、図1に示されるメモリセルMC
は、図5に示されるように、アクセストランジスタTG
とメモリキャパシタCMとによって構成されている。V
pはプレート電位(電圧)である。
Here, the memory cell MC shown in FIG.
Is the access transistor TG, as shown in FIG.
And a memory capacitor CM. V
p is a plate potential (voltage).

【0019】DRAMでは、メモリセルが有する図5に
示される符号CMのようなメモリキャパシタの蓄積電荷
によって、ビットデータを記憶するようになっている。
この蓄積電荷は、MOSトランジスタの漏れ電流や、半
導体基板表面での再結合により、時間経過に従って減少
してしまう。又、メモリキャパシタの蓄積電荷が減少し
過ぎると、書き込まれたビットデータが失われてしま
う。
In the DRAM, bit data is stored by the accumulated charge of a memory capacitor such as CM shown in FIG. 5 which a memory cell has.
This accumulated charge decreases over time due to leakage current of the MOS transistor and recombination on the surface of the semiconductor substrate. Further, if the accumulated charge of the memory capacitor is reduced too much, the written bit data will be lost.

【0020】時間経過に従って蓄積電荷が漸次減少され
るものの、メモリセルへ書き込んだビットデータが保持
されることが保証される時間(以降、リフレッシュ余裕
時間と称する)を、一般的なDRAMではリフレッシュ
タイム仕様規定として規定し、ビットデータが保持でき
ることを保証している。従って、このようなリフレッシ
ュタイム仕様規定が定められたDRAMを用いる場合、
リフレッシュ余裕時間以内でそれぞれのメモリセルに対
するリフレッシュ動作を行えば、蓄積電荷の時間経過に
従った減衰によってメモリセルへ書き込んだビットデー
タが失われてしまうことがない。
Although the accumulated charge is gradually reduced with the passage of time, a time (hereinafter referred to as a refresh margin time) in which the bit data written in the memory cell is guaranteed to be retained is a refresh time in a general DRAM. It is specified as a specification and guarantees that bit data can be held. Therefore, when using a DRAM for which such a refresh time specification is defined,
If the refresh operation is performed on each memory cell within the refresh margin time, the bit data written in the memory cell will not be lost due to the decay of the accumulated charge over time.

【0021】図6は、この従来例のDRAMにおける書
き込みアクセスの動作を示すタイムチャートである。
FIG. 6 is a time chart showing a write access operation in the conventional DRAM.

【0022】この図6では、「V(×××)」で示され
るごとく、(×××)の符号で示される各信号の電圧の
タイミングが示される。又、本従来例はこの図6におい
て、ワード線WL0のタイムチャートが実線WLAで示
され、メモリキャパシタ電圧DTのタイムチャートが実
線DAで示される。なお、この図6におけるワード線W
L0の一点鎖線WLB、及びメモリキャパシタ電圧DT
の一点鎖線DBは、後述する本発明の実施形態のタイム
チャートである。
In FIG. 6, the voltage timing of each signal indicated by the symbol (XXX) is indicated as indicated by "V (XXX)". In this conventional example, in FIG. 6, the time chart of the word line WL0 is shown by the solid line WLA, and the time chart of the memory capacitor voltage DT is shown by the solid line DA. The word line W in FIG.
One-dot chain line WLB of L0 and memory capacitor voltage DT
The dashed-dotted line DB is a time chart of an embodiment of the present invention described later.

【0023】この図6に示されるように、本従来例のD
RAMでは書き込みアクセスに際して、まず時刻t31
において、ワード線WL0が立ち上がる。続いて時刻t
32で入力データDIが入力される。又、時刻t31で
立ち上がり電源電圧VDDとなったワード線WL0は、
時刻t33において更に電圧が上昇される。これは、図
2を用いて前述したワード線駆動昇圧回路BTから供給
されるワード線駆動用昇圧電圧VBを、ワード線ドライ
バWDが用いているためである。
As shown in FIG. 6, D of the conventional example is
At the time of write access in the RAM, first, at time t31
At, the word line WL0 rises. Then, time t
At 32, the input data DI is input. In addition, the word line WL0 that rises to the power supply voltage VDD at time t31 is
The voltage is further increased at time t33. This is because the word line driver WD uses the boosted voltage VB for driving the word line supplied from the word line driving booster circuit BT described above with reference to FIG.

【0024】続いて時刻t34でセンス信号(SANバ
ー)が立ち下がると、ビット線BLの立ち下がりがセン
スアンプSAによって増幅される。又時刻t35ではセ
ンス信号SAPが立ち上がることで、センスアンプSA
によって、ビット線BL1の立ち上がりが増幅されてい
る。
Then, when the sense signal (SAN bar) falls at time t34, the fall of the bit line BL is amplified by the sense amplifier SA. Further, at time t35, the sense signal SAP rises, so that the sense amplifier SA
Thus, the rising edge of the bit line BL1 is amplified.

【0025】ここで、本従来例のセンスアンプSAで
は、センス信号(SANバー)が立ち下がると、ビット
線BLの立ち下がりが増幅され、あるいはビット線(B
Lバー)の立ち下がりが増幅される。即ち、センス信号
(SANバー)が立ち下がると、立ち下がり中のビット
線BLあるいはビット線(BLバー)の増幅がなされ
る。一方、センス信号SAPが立ち上がると、センスア
ンプSAは、立ち上がっているビット線BLを増幅し、
あるいは立ち上がっているビット線(BLバー)を増幅
する。
Here, in the sense amplifier SA of the conventional example, when the sense signal (SAN bar) falls, the fall of the bit line BL is amplified or the bit line (B
The falling edge of (L bar) is amplified. That is, when the sense signal (SAN bar) falls, the bit line BL or bit line (BL bar) that is falling is amplified. On the other hand, when the sense signal SAP rises, the sense amplifier SA amplifies the rising bit line BL,
Alternatively, the rising bit line (BL bar) is amplified.

【0026】時刻t36で書き込み信号WEが立ち上が
ると、図1のバッファゲートB1を経て入力データDI
がデータ線DLへ出力される。又バッファゲートB2を
経て、入力データ(DIバー)がデータ線(DLバー)
へ出力される。
When the write signal WE rises at time t36, the input data DI is passed through the buffer gate B1 in FIG.
Is output to the data line DL. In addition, the input data (DI bar) passes through the buffer gate B2 and the data line (DL bar).
Output to

【0027】続いて、入力されるアドレス信号に応じて
出力されるデコード信号Y0が時刻t37において立ち
上がる。すると、データ線DLの信号はビット線BLへ
出力され、データ線(DLバー)の信号はビット線(B
Lバー)へ出力される。これに伴って、この図6の時刻
t38では、これらビット線BLやビット線(BLバ
ー)の論理状態が変化する。又、該時刻t38の直後
に、ワード線WL0及びビット線BL0又ビット線(B
L0バー)で選択されるメモリセルMCにおいて、図5
に図示されるメモリキャパシタ電圧DTが立ち上がっ
て、該メモリセルMCのメモリキャパシタCMへ蓄積電
荷が貯えられ、ビットデータが書き込まれている。
Then, the decode signal Y0 output according to the input address signal rises at time t37. Then, the signal of the data line DL is output to the bit line BL, and the signal of the data line (DL bar) is output to the bit line (B
L bar). Along with this, at time t38 in FIG. 6, the logical states of the bit line BL and the bit line (BL bar) change. Immediately after the time t38, the word line WL0 and the bit line BL0 or the bit line (B
In the memory cell MC selected by L0 bar), as shown in FIG.
The memory capacitor voltage DT shown in FIG. 3 rises, the accumulated charge is stored in the memory capacitor CM of the memory cell MC, and the bit data is written.

【0028】なお、時刻t39においてワード線WL0
が完全に立ち下がる。すると、これまで選択状態であっ
たメモリセルMCの、図5に示されるアクセストランジ
スタTGがオフ状態となる。該時刻t39以降について
は、メモリキャパシタ電圧DTの大きさは、メモリキャ
パシタCMに貯えられる蓄積電荷の量に依存している。
又、該蓄積電荷は、アクセストランジスタTGの漏れ電
流や、半導体基板表面での再結合により、時間経過に従
って減少する。従って、この図6のタイムチャートで
も、メモリキャパシタ電圧DTは時刻t39以降、漸次
低下している。
Note that at time t39, the word line WL0
Completely falls. Then, the access transistor TG shown in FIG. 5 of the memory cell MC which has been selected until now is turned off. After the time t39, the magnitude of the memory capacitor voltage DT depends on the amount of accumulated charge stored in the memory capacitor CM.
Further, the accumulated charges decrease with time due to the leakage current of the access transistor TG and recombination on the surface of the semiconductor substrate. Therefore, also in the time chart of FIG. 6, the memory capacitor voltage DT gradually decreases after time t39.

【0029】ここで、製造されるDRAMにおいて、何
等かの原因で、MOSトランジスタの漏れ電流が多くな
ってしまったり、半導体基板表面での再結合の度合が強
くなってしまい、これによって、メモリセルに記憶する
ビットデータに応じた蓄積電荷の時間経過に従った減衰
の度合が強くなってしまうと、前述のリフレッシュタイ
ム仕様規定に適合しない、製品不良が発生してしまうこ
とがある。
Here, in the manufactured DRAM, the leakage current of the MOS transistor becomes large for some reason or the degree of recombination on the surface of the semiconductor substrate becomes strong. If the degree of attenuation of the accumulated charge according to the bit data stored in 1 is increased over time, a product defect that does not meet the above-described refresh time specification may occur.

【0030】このような不良品では、そのDRAMのリ
フレッシュタイム仕様規定で定められるリフレッシュ余
裕時間に従ったリフレッシュ動作を行っているにもかか
わらず、メモリセルへ書き込んだビットデータが失われ
てしまうことがある。従って、このような不良品を判別
し、取り除くことがDRAMの製造工程中で行われてい
る。
In such a defective product, the bit data written in the memory cell is lost even though the refresh operation is performed according to the refresh margin time defined by the DRAM refresh time specification. There is. Therefore, such defective products are identified and removed during the DRAM manufacturing process.

【0031】製造されたDRAMがそのリフレッシュタ
イム仕様規定を満たしているか否かによって良品、ある
いは不良品を判別する製品テスト(以降、リフレッシュ
タイム試験と称する)は、一般的には、すべてのメモリ
セルに対してビットデータの書き込みを行った後、ある
いはリフレッシュ動作を行った後に、リフレッシュタイ
ム仕様規定で規定されるリフレッシュ余裕時間の直後に
それぞれのメモリセルに書き込まれているビットデータ
を読み出すことによって行う。又、このようなリフレッ
シュタイム試験では、不良品をより確実に除去するため
に、このようなメモリセルに対するビットデータ書き込
み(あるいはリフレッシュ動作)及びビットデータの読
み出しという一連の動作を全てのメモリセルに対して行
うことを、繰り返して行うのが一般的である。
A product test (hereinafter referred to as a refresh time test) for discriminating a good product or a defective product depending on whether the manufactured DRAM meets the refresh time specification is generally performed on all memory cells. After the bit data is written to or the refresh operation is performed, the bit data written in each memory cell is read immediately after the refresh margin time defined by the refresh time specification. . Further, in such a refresh time test, in order to more surely remove defective products, a series of bit data write (or refresh operation) and bit data read operations on such memory cells are performed on all memory cells. It is common to repeat what is done to the person.

【0032】[0032]

【発明が解決しようとする課題】ここで、このようなリ
フレッシュタイム試験に要する試験作業時間は、すべて
のメモリセルに対して1サイクルテストを行う場合、リ
フレッシュ余裕時間とすべてのメモリセルに対してアク
セスするのに要する時間との合計となる。ここで、この
ようなテストをNサイクル行うとすれば、このようなテ
スト時間はN倍要することになる。
The test work time required for such a refresh time test is the refresh margin time and all memory cells when a one-cycle test is performed for all memory cells. This is the sum of the time required to access. Here, if such a test is performed for N cycles, such a test time will be N times as long.

【0033】このように、リフレッシュタイム試験には
所定の時間を要し、これに伴って試験コストが発生す
る。このような試験時間やコストは削減される程、DR
AMの製造工数やコストの削減という面でより好ましい
ものである。
As described above, the refresh time test requires a predetermined time, and the test cost is accordingly generated. As such test time and cost are reduced, DR
This is more preferable in terms of reduction of man-hours for manufacturing AM and cost reduction.

【0034】本発明は、前記従来の問題点を解決するべ
くなされたもので、メモリセルでビットデータを記憶す
るための蓄積電荷の時間経過に従った減衰により、メモ
リセルへビットデータを書き込んでからリフレッシュタ
イム仕様規定で定められるリフレッシュ余裕時間の経過
後に、記憶されるビットデータが失われないことを保証
することで、該リフレッシュタイム仕様規定が満たされ
ている良品であることを保証するために行うリフレッシ
ュタイム試験に要する試験作業時間を短縮することで、
該リフレッシュタイム試験の能率向上や、試験コスト削
減を図ることができるDRAMを提供することを目的と
する。
The present invention has been made to solve the above-mentioned conventional problems, and bit data is written to a memory cell by attenuating the accumulated charge for storing the bit data in the memory cell over time. In order to guarantee that the stored bit data is not lost after the refresh margin time defined by the refresh time specification rule is satisfied, it is possible to guarantee that the refresh time specification rule is a good product. By shortening the test work time required for the refresh time test to be performed,
It is an object of the present invention to provide a DRAM capable of improving the efficiency of the refresh time test and reducing the test cost.

【0035】[0035]

【課題を解決するための手段】本発明のDRAMは、蓄
積電荷によってビットデータを記憶する、マトリックス
状に配置されたメモリキャパシタを用いたメモリセル
を、ワード線ドライバで駆動されたワード線、及び列セ
レクタで選択されたビット線によって選択し、該ビット
線を経て書き込みアクセス、及び読み出しアクセスを行
うようにしたダイナミックランダムアクセスメモリにお
いて、通常動作モード、あるいはリフレッシュタイム仕
様規定を満たしているかテストするリフレッシュタイム
試験モードのいずれかのモード設定をし、該設定を示す
リフレッシュテストモード信号を得るモード選択回路
と、前記ワード線ドライバでワード線を駆動するための
電源として用いるワード線駆動用昇圧電圧を電源電圧か
ら発生する機能を有すると共に、前記通常モードの際の
前記ワード線駆動用昇圧電圧の大きさに比べて、前記リ
フレッシュタイム試験モードの際の前記ワード線駆動用
昇圧電圧の大きさを抑える機能を有するワード線駆動昇
圧回路を備えたことにより、前記課題を解決したもので
ある。
In a DRAM of the present invention, memory cells using memory capacitors arranged in a matrix for storing bit data by accumulated charges, word lines driven by a word line driver, and Refresh to test whether the dynamic random access memory is selected by the bit line selected by the column selector, and the write access and the read access are performed via the bit line in the normal operation mode or whether the refresh time specification is satisfied. A mode selection circuit that sets any one of the time test modes and obtains a refresh test mode signal indicating the setting, and a power source for a boosted voltage for driving a word line used as a power source for driving a word line by the word line driver. Has a function that is generated from voltage Along with the magnitude of the boosted voltage for driving the word line in the normal mode, a word line drive booster circuit having a function of suppressing the magnitude of the boosted voltage for driving the word line in the refresh time test mode. By providing the above, the above-mentioned problems are solved.

【0036】以下、本発明の作用について簡単に説明す
る。
The operation of the present invention will be briefly described below.

【0037】近年のDRAMにおいては、入力されるア
ドレス信号に応じてワード線をワード線ドライバで駆動
する際、電源電圧より高い電圧を電源として用いるのが
一般的である。これによって、選択されるワード線をよ
り高い電圧に駆動することができ、対象となるメモリセ
ルに対する書き込みアクセスや読み出しアクセス又リフ
レッシュ動作をより確実に又速やかに行うことができ
る。特に書き込みアクセスの場合、このようにワード線
をより高い電圧に駆動することで、該メモリセルのメモ
リキャパシタへより多くの蓄積電荷を蓄えることがで
き、これに伴ってリフレッシュタイム仕様規定で定める
リフレッシュ余裕時間を延長することが可能となる。
In recent DRAMs, it is common to use a voltage higher than the power supply voltage as a power supply when the word line is driven by a word line driver according to an input address signal. As a result, the selected word line can be driven to a higher voltage, and write access, read access, or refresh operation for the target memory cell can be performed more reliably and quickly. Particularly in the case of write access, by driving the word line to a higher voltage in this way, more accumulated charge can be stored in the memory capacitor of the memory cell, and along with this, the refresh time specified in the refresh time specification The extra time can be extended.

【0038】ここで、ワード線ドライバでワード線を駆
動するために用いる電源の電圧を、以降、ワード線駆動
用昇圧電圧と称する。すると本発明においては、従来通
りの書き込みアクセス、及び読み出しアクセス又リフレ
ッシュ動作を行うための通常動作モードに加えて、特に
リフレッシュタイム試験を行うのに好適な、リフレッシ
ュタイム試験モードと称するモードを新たに設けるよう
にしている。本発明においては、通常動作モードの際の
ワード線駆動用昇圧電圧の大きさに比べて、前述のリフ
レッシュタイム試験モードの際のワード線駆動用昇圧電
圧の大きさを低く抑えるようにしている。
Here, the voltage of the power supply used for driving the word line by the word line driver will be referred to as a word line driving boost voltage hereinafter. Then, in the present invention, a mode called a refresh time test mode, which is particularly suitable for performing a refresh time test, is newly added in addition to the normal operation mode for performing the write access, the read access, and the refresh operation as usual. I am trying to provide it. In the present invention, the magnitude of the word line driving boosted voltage in the refresh time test mode described above is suppressed to be lower than the magnitude of the word line driving boosted voltage in the normal operation mode.

【0039】すると、このリフレッシュタイム試験モー
ドにおける書き込みアクセスやリフレッシュ動作では、
ワード線ドライバで駆動されたワード線の電圧が低くな
るため、メモリセルのメモリキャパシタへ貯えられる蓄
積電荷が少なくなり、従ってリフレッシュ余裕時間も短
くなる。
Then, in the write access and refresh operation in this refresh time test mode,
Since the voltage of the word line driven by the word line driver becomes low, the accumulated charge stored in the memory capacitor of the memory cell becomes small, and therefore the refresh margin time also becomes short.

【0040】本発明においては、通常動作モードにおけ
るリフレッシュタイム仕様規定で規定されるリフレッシ
ュ余裕時間と、ワード線駆動用昇圧電圧の電圧の大きさ
が小さく抑えられたリフレッシュタイム試験モードにお
けるリフレッシュ余裕時間とには一定の関係があるもの
として前提している。このような前提の下で、前述のよ
うにリフレッシュ余裕時間が通常動作モードに比べて短
縮されるリフレッシュタイム試験モードにおいて、すべ
てのメモリセルに対してデータの書き込みを行った後、
あるいはリフレッシュ動作を行った後に、該リフレッシ
ュ余裕時間経過後に読み出しアクセスを行うことで、リ
フレッシュタイム試験を行うようにしている。リフレッ
シュタイム試験モードでは通常動作モードに比べてリフ
レッシュ余裕時間が短縮されるため、このようにリフレ
ッシュタイム試験モードでリフレッシュタイム試験を行
えば、試験時間を短縮することができ、試験コスト削減
等をも図ることができる。
In the present invention, the refresh margin time defined by the refresh time specification regulation in the normal operation mode and the refresh margin time in the refresh time test mode in which the magnitude of the voltage of the boosted voltage for driving the word line is suppressed to be small. Is assumed to have a certain relationship with. Under such a premise, in the refresh time test mode in which the refresh margin time is shortened as compared with the normal operation mode as described above, after writing data to all the memory cells,
Alternatively, a refresh time test is performed by performing a read access after the refresh margin time has elapsed after performing the refresh operation. Since the refresh time in the refresh time test mode is shorter than that in the normal operation mode, the refresh time test performed in the refresh time test mode can shorten the test time and reduce the test cost. Can be planned.

【0041】このように本発明によれば、メモリセルで
ビットデータを記憶するための蓄積電荷の時間経過に従
った減衰により、メモリセルへビットデータを書き込ん
でからリフレッシュタイム仕様規定で定められるリフレ
ッシュ余裕時間の経過後に、記憶されるビットデータが
失われないことを保証することで、該リフレッシュタイ
ム仕様規定が満たされている良品であることを保証する
ために行うリフレッシュタイム試験に要する試験作業時
間を短縮することで、該リフレッシュタイム試験の能率
向上や、試験コスト削減を図ることができるという優れ
た効果を得ることができる。
As described above, according to the present invention, since the accumulated charge for storing the bit data in the memory cell is attenuated with the passage of time, the bit data is written into the memory cell and then the refresh time specified by the refresh time specification is specified. Test work time required for the refresh time test to ensure that the bit data to be stored is not lost after the lapse of the allowance time to ensure that it is a non-defective product that meets the refresh time specification. By shortening, the excellent effect that the efficiency of the refresh time test can be improved and the test cost can be reduced can be obtained.

【0042】[0042]

【発明の実施の形態】以下、図を用いて本発明の実施の
形態を詳細に説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

【0043】図7は、本発明が適用されたDRAMの実
施形態に用いられるワード線駆動昇圧回路BTの回路図
である。
FIG. 7 is a circuit diagram of the word line drive booster circuit BT used in the embodiment of the DRAM to which the present invention is applied.

【0044】本実施形態のDRAMは、基本的に前述し
た図1のDRAMと同じである。本実施形態は、この図
7に示されるワード線駆動昇圧回路BTのみ前述した図
1の従来例と異なり、図2に示した従来例のワード線駆
動昇圧回路BTに対して、この図7に示されるようなワ
ード線駆動昇圧回路BTが用いられている。
The DRAM of this embodiment is basically the same as the DRAM of FIG. 1 described above. This embodiment is different from the conventional example of FIG. 1 in which only the word line drive boosting circuit BT shown in FIG. 7 is described above. A word line drive booster circuit BT as shown is used.

【0045】この図7において、本実施形態のワード線
駆動昇圧回路BTは、インバータI2〜I4と、NOR
論理ゲートG2と、コンデンサC2及びC3と、Nチャ
ネルMOSトランジスタTN6及びTN7とにより構成
されている。このうち、NチャネルMOSトランジスタ
TN6及びTN7は、前述の図2に示した従来例のワー
ド線駆動昇圧回路BTのNチャネルMOSトランジスタ
TN1及びTN2に相当する。
In FIG. 7, the word line drive booster circuit BT of this embodiment has inverters I2 to I4 and a NOR circuit.
It is composed of a logic gate G2, capacitors C2 and C3, and N-channel MOS transistors TN6 and TN7. Of these, the N-channel MOS transistors TN6 and TN7 correspond to the N-channel MOS transistors TN1 and TN2 of the conventional word line drive booster circuit BT shown in FIG.

【0046】ここで、図2の従来例のワード線駆動昇圧
回路BTと比べると、この図7の本実施形態のものは、
リフレッシュテストモード信号TMが新たに追加されて
いる。このリフレッシュテストモード信号TMは、通常
動作モードあるいはリフレッシュタイム試験モードのい
ずれかのモード設定を行う、本発明が適用された信号で
ある。本実施形態のリフレッシュテストモード信号TM
では、L状態であれば通常動作モードが示され、H状態
であればリフレッシュタイム試験モードが示される。
Here, as compared with the conventional word line drive booster circuit BT of FIG. 2, this embodiment of FIG.
A refresh test mode signal TM is newly added. The refresh test mode signal TM is a signal to which the present invention is applied, which sets either the normal operation mode or the refresh time test mode. The refresh test mode signal TM of this embodiment
In the L state, the normal operation mode is shown, and in the H state, the refresh time test mode is shown.

【0047】なお、このリフレッシュテストモード信号
TMは、本実施形態ではDRAMの外部から入力されて
いる。なお、このようなリフレッシュテストモード信号
TMをDRAMで得る手段を、本発明ではモード選択回
路と称しているが、本実施形態ではこのモード選択回路
はリフレッシュテストモード信号TMを入力するための
端子や配線となっている。しかしながら、本発明はこの
モード選択回路を具体的に限定するものではなく、例え
ばこのようなリフレッシュテストモード信号TMをDR
AM内部で生成するものであってもよい。
The refresh test mode signal TM is input from the outside of the DRAM in this embodiment. The means for obtaining such a refresh test mode signal TM in the DRAM is called a mode selection circuit in the present invention, but in the present embodiment, the mode selection circuit is a terminal for inputting the refresh test mode signal TM or Wiring. However, the present invention does not specifically limit this mode selection circuit. For example, such a refresh test mode signal TM is DR.
It may be generated inside the AM.

【0048】本実施形態において、まず通常動作モード
では、リフレッシュテストモード信号TMがL状態とな
る。すると、NOR論理ゲートG2はインバータI4の
出力に対して、あたかもインバータとして動作する。こ
のとき、信号Aに対してインバータI3の出力及びNO
R論理ゲートG2の出力は、同時にH状態となり、ある
いは同時にL状態となるため、コンデンサC2及びC3
はあたかも、信号Aに対して並列接続されたようにな
る。従って、本実施形態のワード線駆動昇圧回路BTに
おいて、通常動作モードでは、チャージポンプとしての
動作において、コンデンサC2及びC3が並列接続され
たものとして用いられる。
In this embodiment, first, in the normal operation mode, the refresh test mode signal TM is in the L state. Then, the NOR logic gate G2 operates as if it were an inverter with respect to the output of the inverter I4. At this time, with respect to the signal A, the output of the inverter I3 and NO
The outputs of the R logic gate G2 are in the H state at the same time or in the L state at the same time.
As if it were connected in parallel to the signal A. Therefore, in the word line drive booster circuit BT of the present embodiment, in the normal operation mode, in the operation as the charge pump, the capacitors C2 and C3 are used as being connected in parallel.

【0049】これに対して、本実施形態におけるリフレ
ッシュタイム試験モードでは、リフレッシュテストモー
ド信号TMがH状態となる。すると、信号Aにはかかわ
らず、NOR論理ゲートG2の出力は常時L状態とな
る。このため、ワード線駆動昇圧回路BTのチャージポ
ンプとしての動作には、リフレッシュタイム試験モード
ではコンデンサC2のみが用いられる。
On the other hand, in the refresh time test mode of this embodiment, the refresh test mode signal TM is in the H state. Then, regardless of the signal A, the output of the NOR logic gate G2 is always in the L state. Therefore, only the capacitor C2 is used in the refresh time test mode for the operation of the word line drive booster circuit BT as a charge pump.

【0050】このように本実施形態のワード線駆動昇圧
回路BTのチャージポンプとしての動作では、通常動作
モードではコンデンサC2及びC3が並列接続されたも
のとして用いられ、一方、リフレッシュタイム試験モー
ドではコンデンサC2のみが用いられる。このため、該
ワード線駆動昇圧回路BTの通常動作モードでは、コン
デンサC2及びC3を並列に用いてより多くの電荷を供
給することができ、能率良くワード線駆動用昇圧電圧V
Bを上昇させることができる。これに対して、リフレッ
シュタイム試験モードでは、コンデンサC2のみが用い
られるため、通常動作モードに比べてチャージポンプと
して供給できる電荷は少なくなり、従って通常動作モー
ドに比べて、ワード線駆動用昇圧電圧VBの電圧はより
低く抑えられる傾向となる。
As described above, in the operation as the charge pump of the word line drive booster circuit BT of this embodiment, the capacitors C2 and C3 are used as being connected in parallel in the normal operation mode, while the capacitors are used in the refresh time test mode. Only C2 is used. Therefore, in the normal operation mode of the word line drive booster circuit BT, more charges can be supplied by using the capacitors C2 and C3 in parallel, and the word line drive boosted voltage V can be efficiently supplied.
B can be raised. On the other hand, in the refresh time test mode, since only the capacitor C2 is used, the charge that can be supplied as the charge pump is smaller than that in the normal operation mode. Therefore, compared with the normal operation mode, the word line drive boosted voltage VB Voltage tends to be kept lower.

【0051】なお、この図7に示されるワード線駆動昇
圧回路BTと図3の前述のワード線ドライバWDとの動
作は、前述の図4のタイムチャートに示す通りである。
The operation of the word line drive booster circuit BT shown in FIG. 7 and the word line driver WD shown in FIG. 3 is as shown in the time chart of FIG.

【0052】この図4において、まずワード線駆動用昇
圧電圧VBのタイムチャートは、従来例の実線VBAに
対して、本実施形態は一点鎖線VBBで示される。この
一点鎖線VBBに示されるごとく、本実施形態によれ
ば、ワード線駆動用昇圧電圧VBを従来例に比べて低く
抑えることができる。
In FIG. 4, the time chart of the boosted voltage VB for driving the word line is shown by the alternate long and short dash line VBB in the present embodiment in contrast to the solid line VBA of the conventional example. As shown by the alternate long and short dash line VBB, according to the present embodiment, the boosted voltage VB for driving the word line can be suppressed lower than in the conventional example.

【0053】次にこの図4においてワード線WLについ
て考える。ワード線WLのタイムチャートは、実線WL
Aによって従来例が示され、一点鎖線WLBによって本
実施形態のものが示される。ここで、この一点鎖線WL
Bに示されるごとく、本実施形態のワード線WLは従来
例に比べて電圧が低く抑えられている。
Next, consider the word line WL in FIG. Word line WL time chart is solid line WL
A shows a conventional example, and a one-dot chain line WLB shows the present embodiment. Here, this one-dot chain line WL
As shown in B, the voltage of the word line WL of the present embodiment is suppressed lower than that of the conventional example.

【0054】次に信号Cについては、実線CAによって
従来例が示され、一点鎖線CBによって本実施形態が示
される。この一点鎖線CBから明らかなごとく、信号C
についても本実施形態では従来例に比べ低く抑えられて
いる。
Regarding the signal C, a conventional example is shown by a solid line CA, and this embodiment is shown by a one-dot chain line CB. As is clear from the one-dot chain line CB, the signal C
Regarding this, in the present embodiment, it is suppressed to be lower than the conventional example.

【0055】このように、本実施形態では図7に示され
るワード線駆動昇圧回路BTを用いることで、本発明が
適用されたDRAMを提供することができる。従って、
本実施形態によれば、メモリセルでビットデータを記憶
するための蓄積電荷の時間経過に従った減衰により、メ
モリセルへビットデータを書き込んでからリフレッシュ
タイム仕様規定で定められるリフレッシュ余裕時間の経
過後に、記憶されるビットデータが失われないことを保
証することで、該リフレッシュタイム仕様規定が満たさ
れている良品であることを保証するために行うリフレッ
シュタイム試験に要する試験作業時間を短縮すること
で、該リフレッシュタイム試験の能率向上や、試験コス
ト削減を図ることができるDRAMを提供することがで
きるという優れた効果を得ることができる。
As described above, in this embodiment, by using the word line drive booster circuit BT shown in FIG. 7, a DRAM to which the present invention is applied can be provided. Therefore,
According to the present embodiment, since the accumulated charge for storing bit data in the memory cell decays over time, after writing the bit data to the memory cell, after the refresh margin time defined by the refresh time specification regulation has elapsed. By shortening the test work time required for the refresh time test performed to guarantee that the stored bit data is not lost and that it is a non-defective product that satisfies the refresh time specification. Further, it is possible to obtain an excellent effect that it is possible to provide a DRAM capable of improving the efficiency of the refresh time test and reducing the test cost.

【0056】[0056]

【発明の効果】以上説明した通り、本発明によれば、メ
モリセルでビットデータを記憶するための蓄積電荷の時
間経過に従った減衰により、メモリセルへビットデータ
を書き込んでからリフレッシュタイム仕様規定で定めら
れるリフレッシュ余裕時間の経過後に、記憶されるビッ
トデータが失われないことを保証することで、該リフレ
ッシュタイム仕様規定が満たされている良品であること
を保証するために行うリフレッシュタイム試験に要する
試験作業時間を短縮することで、該リフレッシュタイム
試験の能率向上や、試験コスト削減を図ることができる
DRAMを提供することができるという優れた効果を得
ることができる。
As described above, according to the present invention, the refresh time specification is defined after the bit data is written to the memory cell due to the decay of the accumulated charge for storing the bit data in the memory cell over time. The refresh time test performed to guarantee that the bit data to be stored is not lost after the refresh allowance time defined in 1. By shortening the required test work time, it is possible to obtain an excellent effect that it is possible to provide a DRAM capable of improving the efficiency of the refresh time test and reducing the test cost.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】従来例のDRAMの回路図FIG. 1 is a circuit diagram of a conventional DRAM.

【図2】前記従来例に用いられるワード線駆動昇圧回路
の回路図
FIG. 2 is a circuit diagram of a word line drive booster circuit used in the conventional example.

【図3】前記従来例に用いられるワード線ドライバの回
路図
FIG. 3 is a circuit diagram of a word line driver used in the conventional example.

【図4】前記ワード線駆動昇圧回路及び前記ワード線ド
ライバの動作を示すタイムチャート
FIG. 4 is a time chart showing operations of the word line drive booster circuit and the word line driver.

【図5】前記従来例に用いられるメモリセルの回路図FIG. 5 is a circuit diagram of a memory cell used in the conventional example.

【図6】前記従来例の動作を示すタイムチャートFIG. 6 is a time chart showing the operation of the conventional example.

【図7】本発明が適用されたDRAMの実施形態に用い
られるワード線駆動昇圧回路の回路図
FIG. 7 is a circuit diagram of a word line drive booster circuit used in an embodiment of a DRAM to which the present invention is applied.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

MC…メモリセル SA…センスアンプ TG…アクセストランジスタ CM…メモリキャパシタ BT…ワード線駆動昇圧回路 WD…ワード線ドライバ CSEL…列セレクタ C1〜C4…コンデンサ G1…デコーダ G2…NOR論理ゲート I1〜I4…インバータ WL、WL0、WL1、WLi…ワード線 BL0〜BL3、(BL0バー)〜(BL3バー)…ビ
ット線 DL、(DLバー)…データ線 DI、(DIバー)…入力データ DO、(DOバー)…出力データ Vp…プレート電位 VB…ワード線駆動用昇圧電圧 AD…アドレス信号 A〜C、φ、(φバー)…信号 VDD…電源電圧 VSS…グランド SAP、(SANバー)…センス信号 Y0〜Y3…デコード信号 DT…メモリキャパシタ電圧 TM…リフレッシュテストモード信号 t1〜t7、t10〜t14、t31〜t39…時刻 TN1〜TN7、TNA、TNB…NチャネルMOSト
ランジスタ B1〜B4…バッファゲート
MC ... Memory cell SA ... Sense amplifier TG ... Access transistor CM ... Memory capacitor BT ... Word line drive booster circuit WD ... Word line driver CSEL ... Column selector C1-C4 ... Capacitor G1 ... Decoder G2 ... NOR logic gate I1-I4 ... Inverter WL, WL0, WL1, WLi ... Word lines BL0 to BL3, (BL0 bar) to (BL3 bar) ... Bit lines DL, (DL bar) ... Data lines DI, (DI bar) ... Input data DO, (DO bar) Output data Vp Plate potential VB Word line driving boost voltage AD Address signals A to C, φ, (φ bar) Signal VDD power supply voltage VSS Ground SAP, (SAN bar) Sense signals Y0 to Y3 Decode signal DT Memory capacitor voltage TM Refresh test mode Issue t1~t7, t10~t14, t31~t39 ... time TN1~TN7, TNA, TNB ... N-channel MOS transistor B1~B4 ... buffer gate

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】蓄積電荷によってビットデータを記憶す
る、マトリックス状に配置されたメモリキャパシタを用
いたメモリセルを、ワード線ドライバで駆動されたワー
ド線、及び列セレクタで選択されたビット線によって選
択し、該ビット線を経て書き込みアクセス、及び読み出
しアクセスを行うようにしたダイナミックランダムアク
セスメモリにおいて、 通常動作モード、あるいはリフレッシュタイム仕様規定
を満たしているかテストするリフレッシュタイム試験モ
ードのいずれかのモード設定をし、該設定を示すリフレ
ッシュテストモード信号を得るモード選択回路と、 前記ワード線ドライバでワード線を駆動するための電源
として用いるワード線駆動用昇圧電圧を電源電圧から発
生する機能を有すると共に、前記通常モードの際の前記
ワード線駆動用昇圧電圧の大きさに比べて、前記リフレ
ッシュタイム試験モードの際の前記ワード線駆動用昇圧
電圧の大きさを抑える機能を有するワード線駆動昇圧回
路を備えたことを特徴とするダイナミックランダムアク
セスメモリ。
1. A memory cell using memory capacitors arranged in a matrix for storing bit data by accumulated charges is selected by a word line driven by a word line driver and a bit line selected by a column selector. Then, in the dynamic random access memory that is configured to perform the write access and the read access through the bit line, set either the normal operation mode or the refresh time test mode for testing whether the refresh time specification is satisfied. A mode selection circuit for obtaining a refresh test mode signal indicating the setting, and a function for generating a boosted voltage for driving a word line used as a power source for driving the word line by the word line driver from the power source voltage, and The above in the normal mode A word line drive booster circuit having a function of suppressing the magnitude of the word line drive boosted voltage in the refresh time test mode as compared with the magnitude of the word line drive boosted voltage is provided. Dynamic random access memory.
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