JPH01302881A - 大出力エキシマレーザービーム造出法 - Google Patents

大出力エキシマレーザービーム造出法

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JPH01302881A
JPH01302881A JP13293288A JP13293288A JPH01302881A JP H01302881 A JPH01302881 A JP H01302881A JP 13293288 A JP13293288 A JP 13293288A JP 13293288 A JP13293288 A JP 13293288A JP H01302881 A JPH01302881 A JP H01302881A
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JP
Japan
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laser
output
pulse
pulses
oscillators
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JP13293288A
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English (en)
Inventor
Yoshiaki Arata
吉明 荒田
Tatsuharu Oda
小田　辰春
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Original Assignee
Individual
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    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/23—Arrangements of two or more lasers not provided for in groups H01S3/02 - H01S3/22, e.g. tandem arrangements of separate active media
    • H01S3/2383—Parallel arrangements

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Lasers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 批界におけるエキシマレーザ−の大出力化の現状はパル
ス繰返し周波数を多くして平均出力を大きくする方法が
もっばら採用されているが、いづれもまだ小出力であり
、克服すべき数多くの大出力化要素技術の開発の困難に
直面している。
従来性われている単体のエキシマレーザ−発振器の高出
力化は極めて困難であるため、本発明では発想を根本的
に転換し、既存の最も安定した単体高出力エキシマレー
ザ−を、目標出力を発生し得る複数台使用し、これを適
切に組合せることによる大出力エキシマレーザ−発生装
置にかかるものである。
図１は単体エキシマレーザ−発振器を盲数台たとえばｎ
台組合せるシステムの概念図であって。
それぞれの発振器からはパワーＰパルス巾Ｗのパルスが
鰻返えし周波数ｆで発射しているとし、この全発振器よ
りの発射ビームはすべてＦの位置で一箇所に集められる
とする、それぞれの発振器から出るパルスのタイミング
を■の中央制御装置により制御し、それぞれの発振器よ
りのパルス発生タイミングを同じにすれば、Ｆ点におけ
るパルスは図２■に示すようにｎ倍のパワー（ＰＸ　ｎ
）で巾Ｗとなり（１／ｆ）秒に一回の割合で照射される
０次に＃１．＃２、＃３と次々にパルス巾だけおくれで
発射するように制御すればＦ点におけるパルスは図２＠
に示すようにレーザーパワーＰ。
パルス巾ＷＸｎとなり（１／ｆ）秒に１回の割合で照射
される。また、＄１．＄２、＃３と次々に発射されるタ
イミングを（１／ｆＸｎ）秒づつ遅らせるとＦ点では図
２＠に示すようにパワーＰでＷの巾を持つパルスが（１
／ｆＸｎ）秒に一回の割合で照射されることになる。
このように複数台のエキシマレーザ−の全エネルギーの
平均値が同じでも上記３様にそれぞれの光化学反応の状
態が異るので、同じ出力の大出力化であっても目的に合
せて、そのビーム特性が選択出来ることが特徴である。
【図面の簡単な説明】 図１は大出力エキシマレーザ−ビーム造出法の概念図で
ある。 ■はエキシマレーザ−発振器であって、＃１〜＃ｎまで
あることを示す。 ■はエキシマレーザ−発振器から伝送されるレーザービ
ームを示す。 ■は■のレーザービームがパルス状であることを示した
もので、Ｐはパルスのパワー、Ｗはパルス巾を示す、ｆ
はパルスの繰返えし周波数を示す。 ■はｎ台のエキシマレーザ−のパルス発生タイミングを
コントロールする中央制御装置を示す。 Ｆはレーザービーム■が一箇所に集められた点であるこ
とを示す。 図２はＦ点において合成されたビームの形状を示すもの
で。 ■はパワーがＰＸｎ、パルス巾Ｗ、繰返犬し周波数ｆの
パルス群であることを示す。 ■はパワーがＰ、パルス巾がＷＸｎ、ｍ！返えし周波数
ｆのパルス群であることを示す。 ■はパワーがＰ、パルス巾がＷ、繰返えし周波数がｆＸ
ｎのパルス群であることを示す。 困２ ■　　　■　　　■

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 　実用に供し得るレーザー発振器を複数台、ｎ台を使用
    し、それぞれより発生するレーザービームを合成し大出
    力複合収束ビームを造出せんとするエキシマレーザ装置
    において、各発振器よりのレーザーパルスの発生タイミ
    ングをコントロールし、まず同じ周波数を有するパルス
    の発生時期を同一とすることによるパルスエネルギーの
    複数倍の重畳したパルス、たとえばｎ倍の高エネルギー
    パルスとするレーザーの大出力化、および複数台の発振
    器よりのパルス発生タイミングを次々にパルス巾だけ遅
    らせてパルス巾を複数倍、たとえばｎ倍拡張することに
    よるレーザー大出力化、あるいは合成ビームのパルス繰
    返し数を１台の場合の複数倍、すなわちｎ倍とすること
    による大出化等ビーム特性を変更可能とすることを特徴
    とした大出力エキシマレーザービーム造出法。
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