JPH01294505A - 水素含有酸化物超伝導体とその製造方法 - Google Patents
水素含有酸化物超伝導体とその製造方法Info
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- JPH01294505A JPH01294505A JP63124852A JP12485288A JPH01294505A JP H01294505 A JPH01294505 A JP H01294505A JP 63124852 A JP63124852 A JP 63124852A JP 12485288 A JP12485288 A JP 12485288A JP H01294505 A JPH01294505 A JP H01294505A
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E40/00—Technologies for an efficient electrical power generation, transmission or distribution
- Y02E40/60—Superconducting electric elements or equipment; Power systems integrating superconducting elements or equipment
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は超伝導材料及びその製造方法に関し、詳しくは
水素を含有し酸化物中の酸素の一部を水素で置換もしく
は侵入型化合物としてイオン性化合物を形成することに
よる酸化物超伝導体の超伝導特性の改善に関するもので
ある。
水素を含有し酸化物中の酸素の一部を水素で置換もしく
は侵入型化合物としてイオン性化合物を形成することに
よる酸化物超伝導体の超伝導特性の改善に関するもので
ある。
[従来の技術]
従来、酸化物系超伝導材料としては
BaPbB10.La5reuO。
BaReCuO(Re :希土類金属)。
B15rCaCuO,Tj BaCaCuO。
La5rNbO系があり、臨界温度Tc=125〜15
5°にの材料が確認され、再現テストが行なわれている
。これら酸化物超伝導材料の本質的な問題としては、T
cの上昇とともに超伝導のコヒーレント長ξが短くなる
傾向にあることである。
5°にの材料が確認され、再現テストが行なわれている
。これら酸化物超伝導材料の本質的な問題としては、T
cの上昇とともに超伝導のコヒーレント長ξが短くなる
傾向にあることである。
90 K級のYBaCuO系ではへロブスカイト構造の
C軸方向のコヒーレント長は−Cu−0−層状間の4オ
ングストローム(A)程度であることが示されTJ B
aCaCuO系ではさらに短く2〜3A程度であること
が論文等で明らかにされている。それ故、a−b軸方向
のコヒーレント長は40Aと比較的長いにもかかわらず
C軸方向が2〜4Aと短いので、結晶粒界、双晶境界、
又、粒界偏析層において、数Aの抵抗絶縁層があるとC
軸方向はジョセフソン弱結合となり、ジョセフソン電流
程度しか流れないことが酸化物超伝導材料のJcの低い
原因であることが知られている。
C軸方向のコヒーレント長は−Cu−0−層状間の4オ
ングストローム(A)程度であることが示されTJ B
aCaCuO系ではさらに短く2〜3A程度であること
が論文等で明らかにされている。それ故、a−b軸方向
のコヒーレント長は40Aと比較的長いにもかかわらず
C軸方向が2〜4Aと短いので、結晶粒界、双晶境界、
又、粒界偏析層において、数Aの抵抗絶縁層があるとC
軸方向はジョセフソン弱結合となり、ジョセフソン電流
程度しか流れないことが酸化物超伝導材料のJcの低い
原因であることが知られている。
その為、ゼロ磁場および低電流密度の条件下では超伝導
電流が流れ、比較的高い臨界温度又は臨界電流密度が得
られるが、数10エルステッド(Oe)程度の非常に弱
い磁場を印加したり、測定電流を数101mAに上げる
とジョセフソン弱結合は容易に破れてしまう。
電流が流れ、比較的高い臨界温度又は臨界電流密度が得
られるが、数10エルステッド(Oe)程度の非常に弱
い磁場を印加したり、測定電流を数101mAに上げる
とジョセフソン弱結合は容易に破れてしまう。
これは結晶粒界、双晶境界の改質により改善することが
可能と考えられているが、結晶粒界におけるa−b軸方
向とC軸方向の配向のズレ及び粒界における有害不純物
(水、炭酸イオン、カーボン、化学量論比からズレな主
成分元素)の管理、及び(Cu、Ag、Au)−0結合
の酸素のコントロールが重要と考えられている。
可能と考えられているが、結晶粒界におけるa−b軸方
向とC軸方向の配向のズレ及び粒界における有害不純物
(水、炭酸イオン、カーボン、化学量論比からズレな主
成分元素)の管理、及び(Cu、Ag、Au)−0結合
の酸素のコントロールが重要と考えられている。
これらの欠点を除去するために、本発明の技術的課題は
、水素含有酸化物超伝導体及びその製造方法において、
酸化物超伝導体の超伝導特性であるTc、J(、および
水素化合物のピニングセンターの導入によるJcの磁場
依存性の向上を計ることにある。更に、本発明の技術的
課題は、水素含有酸化物超伝導体及びその製造方法にお
いて酸化物超伝導体の本質的な欠点の改善をなして、こ
れまで応用分野の極端に狭かったものを、より有用な応
用を目ざしその分野を拡大することにある。
、水素含有酸化物超伝導体及びその製造方法において、
酸化物超伝導体の超伝導特性であるTc、J(、および
水素化合物のピニングセンターの導入によるJcの磁場
依存性の向上を計ることにある。更に、本発明の技術的
課題は、水素含有酸化物超伝導体及びその製造方法にお
いて酸化物超伝導体の本質的な欠点の改善をなして、こ
れまで応用分野の極端に狭かったものを、より有用な応
用を目ざしその分野を拡大することにある。
[課題を解決するための手Pi1
本発明によれば、組成式[I]で表わされる水素化合物
を有することを特徴とする水素含有酸化物超伝導体が得
られる。
を有することを特徴とする水素含有酸化物超伝導体が得
られる。
本発明によれば、組成式[I[、]で表わされる水素化
合物を有することを特徴とする水素含有酸化物超伝導体
が得られる。[■] (L n r−x Mu ) IAy o、、、 Ho
、o+−s、。
合物を有することを特徴とする水素含有酸化物超伝導体
が得られる。[■] (L n r−x Mu ) IAy o、、、 Ho
、o+−s、。
[II]
(L n r−* Mx ) r Ay Ns Oba
+ Ho、o+−s、。
+ Ho、o+−s、。
NはLn、M、Aを除く遷移元素のうち少くとも一種。
即ち、本発明の酸化物超伝導体においては、酸素0と金
属A (Cu、Ag、Au)を主体として、希土類Ln
はY、La、Ce、Pr、Nd、Pm。
属A (Cu、Ag、Au)を主体として、希土類Ln
はY、La、Ce、Pr、Nd、Pm。
Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er。
Tm、Yb、Ln等のうち少くとも一種、典型金属元素
又は半金属元素Mはに、Ca、Sr、Ba。
又は半金属元素Mはに、Ca、Sr、Ba。
Ga、I n、TJ 、Sn、Pb、As、Sb。
Bi、Nb等のうち少くとも一種である。
また、Nは上記のLn、Mn、Aを除く遷移元素として
Pd、Pt、T i 、Zr、V、Ta。
Pd、Pt、T i 、Zr、V、Ta。
Mo、W、’l’hのうち少くとも1種である。
ここで酸化物超伝導体とは、温度を降下するとある温度
で常伝導から超伝導に転与するいわゆる電気抵抗が完全
に0となる臨界温度Tcを有する。
で常伝導から超伝導に転与するいわゆる電気抵抗が完全
に0となる臨界温度Tcを有する。
本発明はこの酸化物超伝導体の酸化物中の酸素の一部を
水素で置換したもの、もしくは、侵入型化合物としてイ
オン性化合物を形成することにより、Cu、Ag、Au
さらにPd、Pt等のイオン結合電子構造が変化し、臨
界温度Tc及び臨界電流密度JC2更にJcの磁場依存
性が向上する。
水素で置換したもの、もしくは、侵入型化合物としてイ
オン性化合物を形成することにより、Cu、Ag、Au
さらにPd、Pt等のイオン結合電子構造が変化し、臨
界温度Tc及び臨界電流密度JC2更にJcの磁場依存
性が向上する。
本発明において、水素含有酸化物超伝導体とは、水素化
合物を含有する酸化物超伝導体を含む。
合物を含有する酸化物超伝導体を含む。
更に本発明によれば、原料粉末を仮焼し成形して成形体
を得る成形工程と、成形体を加熱して焼結体を得る焼結
工程とを有する酸化物超伝導体の製造方法において、こ
の成形体又はこの焼結体を水素中で熱処理する水素中熱
処理工程を有することを特徴とする水素含有酸化物超伝
導体の製造方法が得られる。
を得る成形工程と、成形体を加熱して焼結体を得る焼結
工程とを有する酸化物超伝導体の製造方法において、こ
の成形体又はこの焼結体を水素中で熱処理する水素中熱
処理工程を有することを特徴とする水素含有酸化物超伝
導体の製造方法が得られる。
ここで本発明の特徴である水素中熱処理についてさらに
詳しく説明する。
詳しく説明する。
水素中熱処理は、■不純物除去及び■酸化物への水素拡
散、■水素化合物の生成の働きを有する。
散、■水素化合物の生成の働きを有する。
■不純物の除去:酸化物超伝導体の作製には、その原料
として高純度の炭酸塩および酸化物を使用している。こ
れらの原料は空気中の炭酸ガスおよび水分と容易に結合
し易く、焼結体の結晶粒界、双晶境界にカーボンとか不
純物が偏析し、Jcの向上を妨げていた。
として高純度の炭酸塩および酸化物を使用している。こ
れらの原料は空気中の炭酸ガスおよび水分と容易に結合
し易く、焼結体の結晶粒界、双晶境界にカーボンとか不
純物が偏析し、Jcの向上を妨げていた。
そこで、仮焼上り粉末のプレス体く粉末粒度1μm前後
)を粒子間の焼結の進行しない温度範囲である500〜
600℃で水素中熱処理する。その際、炭酸塩の0.0
がHと結合し還元され抜けてくる。
)を粒子間の焼結の進行しない温度範囲である500〜
600℃で水素中熱処理する。その際、炭酸塩の0.0
がHと結合し還元され抜けてくる。
その後、水素ガスと窒素ガスと置換し、さらに酸素ガス
と置換させ仮焼上り粉末のプレス体を酸化、焼結させる
。その際、酸化物の酸素の出入りは、500〜600℃
の間で主に行なわれるので、水素ガスで一部還元された
酸化物は再度酸素の供給により十分に吸収することがで
きる。
と置換させ仮焼上り粉末のプレス体を酸化、焼結させる
。その際、酸化物の酸素の出入りは、500〜600℃
の間で主に行なわれるので、水素ガスで一部還元された
酸化物は再度酸素の供給により十分に吸収することがで
きる。
■酸化物中への水素の拡散二酸化物超伝導体は主に酸素
中又は大気中での焼結により一部溶融ならびに粒成長、
結晶構造の再配列が起こる。特に一部溶融して、酸素の
抜けた構造の場合、溶融後には酸素が再度入りにくくな
る。
中又は大気中での焼結により一部溶融ならびに粒成長、
結晶構造の再配列が起こる。特に一部溶融して、酸素の
抜けた構造の場合、溶融後には酸素が再度入りにくくな
る。
酸素が抜けることにより、a)超伝導体とならない。b
)化学量論比からずれた原子が他相を形成し、常伝導相
となり、超伝導相と常伝導相の混合状態の為、Jcおよ
びTcが低下する。
)化学量論比からずれた原子が他相を形成し、常伝導相
となり、超伝導相と常伝導相の混合状態の為、Jcおよ
びTcが低下する。
上記の問題点の他にも多くの問題点が発生ずる。
それ故一部溶融させる場合には酸素雰囲気中で熱処理す
るのが常であるが、それでも結晶成長が起こり巨大結晶
になると結晶粒界への不純物、構成元素の偏析を生じ、
Jc、Tcの低下となる。
るのが常であるが、それでも結晶成長が起こり巨大結晶
になると結晶粒界への不純物、構成元素の偏析を生じ、
Jc、Tcの低下となる。
酸化物超伝導体の場合、酸素の出入りは¥baCuO系
では450〜550℃でほぼ終了し、B15rCaCu
O系ではさらに高い温度で終っている。そこで本発明で
は焼結のすんだ材料を400℃以下で加圧水素中熱処理
することにより酸化物中の不純物の除去を行うことがで
きる。
では450〜550℃でほぼ終了し、B15rCaCu
O系ではさらに高い温度で終っている。そこで本発明で
は焼結のすんだ材料を400℃以下で加圧水素中熱処理
することにより酸化物中の不純物の除去を行うことがで
きる。
さらに粒界に偏析した構成元素、粒内の希土類および貴
金属等(Cu、Ag、Au)とイオン結合を生じさせ水
素化合物を作ることができる。
金属等(Cu、Ag、Au)とイオン結合を生じさせ水
素化合物を作ることができる。
■水素化合物の生成:ここで水素化合物系超伝導体につ
いて説明する。これまで知られている水素化合物超伝導
体の種類としては、P d Cu −H。
いて説明する。これまで知られている水素化合物超伝導
体の種類としては、P d Cu −H。
PdAu−H,PdAg−H,Th−Hなどがある。こ
れらPd系の水素化物では、Pdが強磁性遷移金属元素
の寸前にあり、水素化して電子を供給するとスピンの揺
ぎが抑制され、帯磁率が小さくなり超伝導性が現れる。
れらPd系の水素化物では、Pdが強磁性遷移金属元素
の寸前にあり、水素化して電子を供給するとスピンの揺
ぎが抑制され、帯磁率が小さくなり超伝導性が現れる。
この水素化物は金属粉末を高圧水素ガス中で反応させて
作製する。
作製する。
P d H、はx>0.8以上で水素濃度とともにTc
は増大するが、水素の吸蔵はX〜0.98程度で飽和す
るのでTcを高くする為にはさらに液体T(e温度でイ
オンプランテーションが行われる。
は増大するが、水素の吸蔵はX〜0.98程度で飽和す
るのでTcを高くする為にはさらに液体T(e温度でイ
オンプランテーションが行われる。
その結果、Pd−Cu−H,Pd−Ag−H。
Pd−Au−H系ではそれぞれ]cが16.6゜15.
6,1.3.6°Kにもなる。
6,1.3.6°Kにもなる。
超伝導の出現はPdのdバンドの上位にある水素のSバ
ンドの状態密度の寄与と水素のフォノンモードの寄与と
が結合して、電子・格子結合定数λが大きくなる為であ
るとされている。なかでもP d −H間のイオン結合
が弱い為に、Hの電子が超伝導に寄与し、電子・格子結
合定数λの大部分を水素が寄与しているとされている。
ンドの状態密度の寄与と水素のフォノンモードの寄与と
が結合して、電子・格子結合定数λが大きくなる為であ
るとされている。なかでもP d −H間のイオン結合
が弱い為に、Hの電子が超伝導に寄与し、電子・格子結
合定数λの大部分を水素が寄与しているとされている。
以上の様に超伝導1a梢の面で、水素原子の果たす役割
は非常に大きい。
は非常に大きい。
従って本発明においては水素ガスと酸化物超伝導体の反
応における条件である圧力、温度1時間を最適にコント
ロールし、水素を酸化物に拡散させた。その際、酸素と
水素の原子が置換もしくは酸素が還元されてしまうこと
のない様にコントロールする必要がある。
応における条件である圧力、温度1時間を最適にコント
ロールし、水素を酸化物に拡散させた。その際、酸素と
水素の原子が置換もしくは酸素が還元されてしまうこと
のない様にコントロールする必要がある。
水素が酸化物中に拡散して含有されると、粒界において
化学量論比からはずれた構成元素と結びつき水素化合物
を形成する。又、粒内においては、ペロブスカイト構造
の中のCu−0,Ago。
化学量論比からはずれた構成元素と結びつき水素化合物
を形成する。又、粒内においては、ペロブスカイト構造
の中のCu−0,Ago。
Au−0などの貴金属の結合面と、さらに希土類および
他の構成元素からなる酸化物とイオン結合し、水素の電
子が超伝導に寄与する。
他の構成元素からなる酸化物とイオン結合し、水素の電
子が超伝導に寄与する。
その為、粒界の清浄化、並びに超伝導に寄与する電子の
増加によってTc並びにJcの向上が計られる。
増加によってTc並びにJcの向上が計られる。
本発明の酸化物超伝導体においは、酸素及び(Cu、A
g、Au)は必須の元素である。又、希土類(La、C
ezLu)とCa、Sr、Ba。
g、Au)は必須の元素である。又、希土類(La、C
ezLu)とCa、Sr、Ba。
Ga、In、TJ 、Ge、Sn、Pb、As。
Sb、Bi、Nbの中の1種又は2種以上からなる元素
は酸化物超伝導材料の結晶構造を構成する為に必要であ
る。
は酸化物超伝導材料の結晶構造を構成する為に必要であ
る。
さらに、Pt、Pd、Ti、Zr、V、Ta。
Mo、Wは水素との反応性を向上させる為に必要であり
、水素を酸化物内に取り入れる際に水素を固着する上で
効果のある元素である。
、水素を酸化物内に取り入れる際に水素を固着する上で
効果のある元素である。
[実施例]
本発明の実施例について図面を参照して説明する。
実施例1
本発明の実施例1に係る水素含有した酸化物超伝導体の
作製方法について説明する。
作製方法について説明する。
第1図は水素含有YBaCuO系の作製方法を示す図で
ある。まず、Yx Ox 、BacOi 。
ある。まず、Yx Ox 、BacOi 。
CuOを含む粉末原料を乳鉢、その他の方法で微細に粉
砕する。その後ルツボおよびボートの中で900℃の温
度で仮焼し、BaC0,−+BaO十CO2に分解する
。この際、粉末の収縮が著しい。
砕する。その後ルツボおよびボートの中で900℃の温
度で仮焼し、BaC0,−+BaO十CO2に分解する
。この際、粉末の収縮が著しい。
その後プレス成形し、10気圧の水素中で300〜70
0℃X48hrの熱処理を施こし、プレス体中に残存す
る炭素及び他の不純物を還元処理する。
0℃X48hrの熱処理を施こし、プレス体中に残存す
る炭素及び他の不純物を還元処理する。
その際、酸素ガスもある程度脱酸される。その後窒素ガ
スパージして、雰囲気を酸素ガスに置換し、850〜9
50℃X10hrの焼結を行ない、500°Cまで50
〜b その後、100〜200℃において窒素ガスパージして
、水素ガス置換し、10気圧(100〜200℃)x4
8hrの熱処理を程こす、この100〜200℃での加
圧処理により酸化物内部の結晶粒界及び結晶内に水素化
合物が形成される。
スパージして、雰囲気を酸素ガスに置換し、850〜9
50℃X10hrの焼結を行ない、500°Cまで50
〜b その後、100〜200℃において窒素ガスパージして
、水素ガス置換し、10気圧(100〜200℃)x4
8hrの熱処理を程こす、この100〜200℃での加
圧処理により酸化物内部の結晶粒界及び結晶内に水素化
合物が形成される。
得られたサンプルのTc、Jcの測定及びX線回折など
各種評価を行った0組成比は原子比でY:Ba:Cu=
1:2:3であり、他に転化元素として、Ca、Sr、
Ga、I n、TJ 、Ge。
各種評価を行った0組成比は原子比でY:Ba:Cu=
1:2:3であり、他に転化元素として、Ca、Sr、
Ga、I n、TJ 、Ge。
Sn、Pb、As、Sb、Bi、Nbなどを1種又は2
種以上加えている。
種以上加えている。
実施例2
本発明の実施例2について説明する。
第2図は水素含有BI 5rCaCuO系の作製方法を
示す図である。まず、Bi2O,。
示す図である。まず、Bi2O,。
S r COs 、 CacOi 、 Cu Oを含む
粉末原料を乳鉢及び他の方法でWiA[に粉砕する。そ
の後、ルツボ及びボートの中で820℃で15時間仮焼
し、炭酸塩を分解し酸化物とする。その際、炭酸ガスの
発生により粉末の収縮が著しい、焼き上った粉末を再度
乳鉢及び他の方法で微細に粉砕しその後プレス成形し、
4気圧の水素中で500℃×48hRの熱処理を施こし
、プレス体中に残存する炭素及び不純物を還元処理する
。
粉末原料を乳鉢及び他の方法でWiA[に粉砕する。そ
の後、ルツボ及びボートの中で820℃で15時間仮焼
し、炭酸塩を分解し酸化物とする。その際、炭酸ガスの
発生により粉末の収縮が著しい、焼き上った粉末を再度
乳鉢及び他の方法で微細に粉砕しその後プレス成形し、
4気圧の水素中で500℃×48hRの熱処理を施こし
、プレス体中に残存する炭素及び不純物を還元処理する
。
その際、酸化物も脱酸されB i * Osの溶解も多
少ある。その後窒素ガスパージ後、大気組成にして84
5〜890℃+18h「の焼結を行ない100〜200
℃まで炉冷する。100〜200℃において再度窒素ガ
スパージをして200℃にて水素ガス置換し、3気圧で
(100〜200℃)X48hrの熱処理を施こす。こ
の100〜200°Cの加圧処理により酸化物内部の結
晶粒界及び結晶内に水素化合物が形成される。
少ある。その後窒素ガスパージ後、大気組成にして84
5〜890℃+18h「の焼結を行ない100〜200
℃まで炉冷する。100〜200℃において再度窒素ガ
スパージをして200℃にて水素ガス置換し、3気圧で
(100〜200℃)X48hrの熱処理を施こす。こ
の100〜200°Cの加圧処理により酸化物内部の結
晶粒界及び結晶内に水素化合物が形成される。
得られたサンプルのTc、Jcの測定及びX線回折など
各種評価を行った。組成比は原子比でBi:Sr:Ca
:Cu=1:1:1:2であり、他に転化元素としてC
a、Sr、Ga、In。
各種評価を行った。組成比は原子比でBi:Sr:Ca
:Cu=1:1:1:2であり、他に転化元素としてC
a、Sr、Ga、In。
Tj 、Ge、Sn、Pb、As、Sb、Bi。
Nbなどを1種又は2種以上加えている。
さらに、Y系、Sr系ともPd、Pt、Ti。
Zr、V、T’a、Mo、W、Thを添加することによ
り、水素化合物の形成を促進させることができるので、
これらの元素の1種又は2種以上を添加している。
り、水素化合物の形成を促進させることができるので、
これらの元素の1種又は2種以上を添加している。
実施例3
本発明の実施例に係る酸化物超伝導体のTcの水素分圧
依存性について説明する。
依存性について説明する。
第3図はYBaCuO,B15rCaCuO系について
の焼結後の水素処理(H−2工程)におけるT cの水
素分圧依存性を示す図である。この図のように曲線11
で示されるYBaCuO系は水素分圧10気圧程度でT
cが最大値を示す、又曲i21で示されるB15rCa
CuO系は約4気圧でT’ cが最大となる0両組成と
も水素分圧が高くなるとTcは低下する傾向にある。こ
れは水素による酸素の還元により組成ズレを起こし超伝
導相が減少した為であると思われる。10気圧でTcが
向上するのは粒界の清浄化及びH+イオンによる超伝導
に寄与する電子の増加によると考えられる。
の焼結後の水素処理(H−2工程)におけるT cの水
素分圧依存性を示す図である。この図のように曲線11
で示されるYBaCuO系は水素分圧10気圧程度でT
cが最大値を示す、又曲i21で示されるB15rCa
CuO系は約4気圧でT’ cが最大となる0両組成と
も水素分圧が高くなるとTcは低下する傾向にある。こ
れは水素による酸素の還元により組成ズレを起こし超伝
導相が減少した為であると思われる。10気圧でTcが
向上するのは粒界の清浄化及びH+イオンによる超伝導
に寄与する電子の増加によると考えられる。
実1@ (?J 4
本発明の実施例に係る酸化物超伝導体のJcの水素中熱
処理温度依存性について説明する。
処理温度依存性について説明する。
第4図はYBaCuO,Bi、5rCaCuO系にける
焼結前の水素処理(H−1工程)における熱処理温度を
変化させ、その後ト■−2工程では第3図に示した最適
条件Y B a Cu O系については10気圧、B1
5rCaCuO系については4気圧で水素処理した際の
Jcの水素中熱処理温度依存性を示す図である。
焼結前の水素処理(H−1工程)における熱処理温度を
変化させ、その後ト■−2工程では第3図に示した最適
条件Y B a Cu O系については10気圧、B1
5rCaCuO系については4気圧で水素処理した際の
Jcの水素中熱処理温度依存性を示す図である。
曲線31で示されるY B a Cu O系は400℃
X48hr、10気圧の水素処理により未処理に比べて
Jcが180から48OA/−へと上昇している。
X48hr、10気圧の水素処理により未処理に比べて
Jcが180から48OA/−へと上昇している。
曲線41で示されるB15rCaCuO系は350°C
X48hr、4気圧の水素処理によってJ(が40から
60OA/−へと上昇し、ている。
X48hr、4気圧の水素処理によってJ(が40から
60OA/−へと上昇し、ている。
350 ’C以上での熱処理ではBiの溶は出しが始ま
り組成ズレが起こりJcが大幅に低下する。
り組成ズレが起こりJcが大幅に低下する。
以上の様に加圧水素処理によりJcが大幅に向上するこ
とが判明した。
とが判明した。
実施例5
本発明の実施例に係る酸化物超伝導体の水素処理による
Jcの印加磁場依存性について説明する。
Jcの印加磁場依存性について説明する。
第5図はYBaCuO,B15rCaCuO系について
の水素処理および未処理のサンプルについてのJcの印
加磁場依存性を示す図である。
の水素処理および未処理のサンプルについてのJcの印
加磁場依存性を示す図である。
この図において、曲線71で示される
Y B a Cu O系、曲線72で示されるB15r
CaCuO系とも未処理のサンプルのJcは磁場をlO
Oガウス程度印加するとJcは急激に低下してしまう、
しかしながら、水素処理したサンプルは両組酸系、曲線
51で示されるYBaCIJO系及び曲線52で示され
るB15rCaCuO系とも磁場を印加することによる
Jcの落ち込み方がゆるやかである。
CaCuO系とも未処理のサンプルのJcは磁場をlO
Oガウス程度印加するとJcは急激に低下してしまう、
しかしながら、水素処理したサンプルは両組酸系、曲線
51で示されるYBaCIJO系及び曲線52で示され
るB15rCaCuO系とも磁場を印加することによる
Jcの落ち込み方がゆるやかである。
この水素処理することにより、Jcの磁場依存性が向上
する理由としては次の点が考えられる。
する理由としては次の点が考えられる。
まず第一に結晶粒界及び双晶境界における界面の清浄化
により超伝導電流の阻害効果が少なくなったこと。
により超伝導電流の阻害効果が少なくなったこと。
第二にはピン止め効果を生じていることが挙げられる。
つまり水素の化合物が形成され、それが酸化物超伝導体
内に侵入したポルテックス線を固着したことが上げられ
る。
内に侵入したポルテックス線を固着したことが上げられ
る。
これら、水素の化合物の形成の様子はX線回折により確
認され、未処理のサンプルに比較して、水素処理を施し
たサンプルでは、小さなX線回折のピークが生じている
ことが観察されている。しかしながら、メインと−クの
シフト及びピーク強度には大きな変化はない。
認され、未処理のサンプルに比較して、水素処理を施し
たサンプルでは、小さなX線回折のピークが生じている
ことが観察されている。しかしながら、メインと−クの
シフト及びピーク強度には大きな変化はない。
次に組成を変更した際の実施例について以下に説明する
。YBaCuO系、B15rCaCuO系、BaPbB
10系、La5rCuO系。
。YBaCuO系、B15rCaCuO系、BaPbB
10系、La5rCuO系。
BaKB iO系、La5rNbO系などにHを含有さ
せた実施例を表1 (NQ6〜30)に示した。
せた実施例を表1 (NQ6〜30)に示した。
Hが含有されることによりTcの大幅な低下は見られず
、同等もしくはより向上している例がある。
、同等もしくはより向上している例がある。
又、Jcは77にでの測定例であるが、Hを含有するこ
とにより、通常のバルク材のJcに比較して向上してい
ることが確認されている。
とにより、通常のバルク材のJcに比較して向上してい
ることが確認されている。
以上の実施例にみ見られる様にHを添加することにより
Tcの向上、Jcの改善が計られる。
Tcの向上、Jcの改善が計られる。
以下余白
表 1
[発明の効果]
以上、述べた様に本発明の水素含有酸化物超伝導体及び
その製造方法においては、YBaCuO系、BISrC
aCuO系については加圧水素処理することによりTc
、Jcの向上、Jcの磁場依存性の改善が確認され、酸
化物超伝導体にとって非常に有効な方法であることがわ
かった。これらの処理は勿論TJBaCuO系およびL
a5rNbO系においても有効であることは言うまでも
ない、 ・ 本発明により、これまで非常に困難とされてきたバルク
材及び線材の応用が可能となる。つまり、これまで薄膜
では10〜20μ−の長さの単結晶の領域においてのみ
10’A/aiの高Jc、及びJcの磁場依存性が10
’A/J(1テスラ。
その製造方法においては、YBaCuO系、BISrC
aCuO系については加圧水素処理することによりTc
、Jcの向上、Jcの磁場依存性の改善が確認され、酸
化物超伝導体にとって非常に有効な方法であることがわ
かった。これらの処理は勿論TJBaCuO系およびL
a5rNbO系においても有効であることは言うまでも
ない、 ・ 本発明により、これまで非常に困難とされてきたバルク
材及び線材の応用が可能となる。つまり、これまで薄膜
では10〜20μ−の長さの単結晶の領域においてのみ
10’A/aiの高Jc、及びJcの磁場依存性が10
’A/J(1テスラ。
77K)と高かったのが実用的に長い距離では通常のバ
ルク材同様、非常に低いものであった。
ルク材同様、非常に低いものであった。
本発明によれば結晶粒界界面の清浄化、及びトIイオン
の超伝導電子への影響、又、水素化合物のポルテックス
のビン止め効果があり実用的な長さでの使用及び磁場中
使用が可能となる。
の超伝導電子への影響、又、水素化合物のポルテックス
のビン止め効果があり実用的な長さでの使用及び磁場中
使用が可能となる。
第1図は本発明の実施例に係るYBaCuO系水素含有
酸化物超伝導体の作製方法を示す図、第2図は本発明の
実施例に係るB15rCaCuO系水素含有酸化物超伝
導体の作製方法を示す図、第3図は本発明野実施例に係
る酸化物超伝導体のTcの水素分圧依存性を示す図、第
4図は本発明の実施例に係る酸化物超伝導体のJcの熱
処理温度依存性を示す図、第5図は本発明の実施例に係
る酸化物超伝導体のJcの印加磁場依存性を示す図であ
る。 第1図 第2図 )βリ 5f Tc、、 アc
、Xa’EMJ〒第3図 水素の分圧 (気圧) 第4図 烈痣理温度(C) 第5図 I(1加磁場(Te5ム)
酸化物超伝導体の作製方法を示す図、第2図は本発明の
実施例に係るB15rCaCuO系水素含有酸化物超伝
導体の作製方法を示す図、第3図は本発明野実施例に係
る酸化物超伝導体のTcの水素分圧依存性を示す図、第
4図は本発明の実施例に係る酸化物超伝導体のJcの熱
処理温度依存性を示す図、第5図は本発明の実施例に係
る酸化物超伝導体のJcの印加磁場依存性を示す図であ
る。 第1図 第2図 )βリ 5f Tc、、 アc
、Xa’EMJ〒第3図 水素の分圧 (気圧) 第4図 烈痣理温度(C) 第5図 I(1加磁場(Te5ム)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、組成式[ I ]で表わされる水素化合物を有するこ
とを特徴とする水素含有酸化物超伝導体。 2、組成式[II]で表わされる水素化合物を有すること
を特徴とする水素含有酸化物超伝導体。 [ I ] (Ln_1_−_xM_x)_lA_yO_b_a_l
H_0_._0_1_〜_3_._0ただし、x=0〜
1、y=0.1〜3.0、Lnはランタノイド元素の少
くとも1種、Mは典型金属元素又は反金属元素の少くと
も1種、AはCu、Ag、Auの少くとも1種。 [II] (Ln_1_−_xMx)_lA_yN_zO_b_a
_lH_0_._0_1_〜_3_._0ただし、x=
0〜1、y=0.1〜3.0、Lnはランタノイド元素
の少くとも1種、 Mは典型金属元素又は反金属元素の少くとも1種、Aは
Cu、Ag、Auの少くとも1種。 NはLn、M、Aを除く遷移元素のうち少くとも1種 3、原料粉末を仮焼し、成形して成形体を得る成形工程
と、 成形体を加熱して焼結体を得る焼結工程とを有する酸化
物超伝導体の製造方法において、 上記成形体又は上記焼結体を水素中で熱処理する水素中
熱処理工程を有することを特徴とする水素含有酸化物超
伝導体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63124852A JPH01294505A (ja) | 1988-05-24 | 1988-05-24 | 水素含有酸化物超伝導体とその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63124852A JPH01294505A (ja) | 1988-05-24 | 1988-05-24 | 水素含有酸化物超伝導体とその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01294505A true JPH01294505A (ja) | 1989-11-28 |
Family
ID=14895689
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63124852A Pending JPH01294505A (ja) | 1988-05-24 | 1988-05-24 | 水素含有酸化物超伝導体とその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01294505A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011068511A (ja) * | 2009-09-25 | 2011-04-07 | National Institute Of Advanced Industrial Science & Technology | 超電導材料、超電導薄膜及びその製造方法 |
-
1988
- 1988-05-24 JP JP63124852A patent/JPH01294505A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011068511A (ja) * | 2009-09-25 | 2011-04-07 | National Institute Of Advanced Industrial Science & Technology | 超電導材料、超電導薄膜及びその製造方法 |
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