JPH0129318B2 - - Google Patents

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JPH0129318B2
JPH0129318B2 JP58075782A JP7578283A JPH0129318B2 JP H0129318 B2 JPH0129318 B2 JP H0129318B2 JP 58075782 A JP58075782 A JP 58075782A JP 7578283 A JP7578283 A JP 7578283A JP H0129318 B2 JPH0129318 B2 JP H0129318B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
groove
chiyoke
door
partition plate
heating chamber
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP58075782A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS59201390A (ja
Inventor
Hirobumi Yoshimura
Nobuo Ikeda
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP7578283A priority Critical patent/JPS59201390A/ja
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Publication of JPH0129318B2 publication Critical patent/JPH0129318B2/ja
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  • Constitution Of High-Frequency Heating (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は高周波誘電加熱を主に食品を加熱する
為に応用した電子レンジと呼ばれる高周波加熱装
置のドア部分のシール装置に関するものである。
従来例の構成とその問題点 従来例えばドアのシール構造としてチヨーク溝
の一部や、内部に遅波線路のような複数のスリツ
トを設けることにより、シール性能を高めること
はよく知られている。これらの構造は高周波電磁
波をシールする性能は充分であるがチヨーク溝や
スリツトの長さが高周波電磁波の波長の略4分の
1である必要がある。したがつて高周波電磁波が
2450MHz程度の場合は波長が120mm程度になる。
したがつてチヨーク溝やスリツトの長さは約30mm
の長さが必要となる。チヨーク溝をドアに設ける
場合はドアの厚みは約30mmとなり、かなり厚いド
アになつてしまう、故にドアのコストも高く、加
熱室の有効スペースも狭いものとなつていた。
発明の目的 本発明は上記従来の欠点を解消するもので、ド
アの厚みを従来の半分程度にし、しかも電波遮蔽
性能が優れているシール装置を提供することを目
的とする。又ドアを構成する為の部品の数を少な
くすることを目的とする。
発明の構成 上記目的を達成するため、本発明のチヨーク溝
及びスリツトは2段構造とすることにより伝搬イ
ンピーダンスの異るチヨーク溝及びスリツトを設
け、チヨーク溝及びスリツト部の入口部の巾寸法
を短絡部のそれよりも小さくすることにより深さ
の短いチヨーク溝及びスリツトを構成することが
できる。
これらの原理について説明する。
第1図は従来のチヨーク溝の原理図である。
加熱室1側から本体外部2に電波が伝搬して電
波が漏れるのであるが途中にチヨーク溝3を有す
ることにより電波の伝搬のしかたが変わつてく
る。
第2図は第1図の等価回路である。
伝送線路の中間にチヨーク溝3の入口インピー
ダンスZI0が線路に直列に設けられたことになる。
この入力インピーダンスZI0を無限大にするこ
とにより電波は加熱室1側から本体外部2に伝搬
しなくなつてしまう。
この入力インピーダンスZI0はチヨーク溝3の
深さlの寸法に関係し次の式で示される。
ZI0=Z0ZR+jZ0tanβl/Z0+jZRtanβl……(1) ここでZRは終端のインピーダンスで、チヨーク
溝の終端は短絡であるから0となる。
βは伝搬定数でβ=2π/λで示される。λは
高周波電磁波の波長である。
Z0はチヨーク溝3内の伝搬インピーダンスで主
にチヨーク溝3巾方向b寸法に比例し仕切板の故
に式(1)はZI0=jZ0tanβlとなる。
ここでZI0を無限大にするにはβlがπ/2にな
ればよいのであるからl=π/2βつまりl=1/4
λとなり、λが120mmであるならばlは30mm必要
となる。
第3図は本発明のチヨーク溝3の原理図であ
る。第3図においてチヨーク溝3は巾の異る、つ
まり特性インピーダンスの異なるチヨーク溝3を
構成している。しかもチヨーク溝3の入口の巾寸
法は奥の巾寸法よりも小さくしている。
次にこのチヨーク溝3の入口インピーダンス
ZI2を求める。ZI2を求める前に、チヨーク溝3の
奥の部分の入力インピーダンスZI1を求めるとZI1
=jZ1tanβl1となる。
したがつてチヨーク溝3の入口部の入力インピ
ーダンスZI2は次の式で示される。
ZI2=Z2jZ1tanβl1+jZ2tanβl2/Z2+j・jZ1tanβl1t
anβl2 =Z2j(Z1tanβl1+Z2tanβl2)/Z2−Z1tanβl1tan
βl2……(2) ここでZ1はチヨーク溝3の奥の部分の特性イン
ピーダンス、Z2はチヨーク溝3の入口部分の特性
インピーダンス、l1はチヨーク溝3の奥の部分の
長さ、l2は入口部分の長さである。ここでZI2を無
限大にすれば加熱室1内の電波が本体外部に伝搬
しないのであるから、(2)式において、Z2
Z1tanβl1−tanβl2=0となればよい。したがつて
Z2/Z1=tanβl1tanβl2にすればよいことになる。
たとえばZ1とZ2の比すなわちチヨーク溝の巾寸
法b1とb2の比を4:1とするとtanβl1tanβl2=1/4
となる。したがつてl1とl2の合計の長さは約18mm
となり、第1図の場合に比べて12mm少くなつてい
る。この場合の条件としてはチヨーク溝内の電界
方向を一定にする為にはl1>b1という条件が必要
なことはいうまでもない。
さらに巾の狭い入口部に誘電体を入れることに
よりZ2の特性インピーダンスは1/√に比例す
るので等価的にb2は小さくできる。
実施例の説明 以下、本発明の実施例について、図面に基づい
て説明する。
第5図において、据置きタイプのコンロ4の上
部に換気を兼ねた高周波加熱装置である電子レン
ジ本体5が棚6の下に吊り下げられている。電子
レンジ本体5はコンロ4の換気の為の収気口7と
コンロ部の照明装置8を有している。
又電子レンジ本体5には開閉自在なドア9と電
子レンジの操作パネル10、ドア9を開閉する為
のレバー11、換気スイツチ12、照明スイツチ
13を有している。
第6図は電子レンジ5と棚3の断面図である。
照明装置8としては螢光灯14が設けられ、ガラ
スで作られた照明用カバー15で保護されてい
る。
コンロ4からの水蒸気や熱はフイルター16を
通り、クロスフローフアン17により外に排出さ
れる。電子レンジ本体の加熱室1の下部にはマグ
ネトロン(図示せず)からの高周波電磁波が、導
波管18及びプーリー19で回転される回転アン
テナ20を通じて供給されている。又回転アンテ
ナ20の上部には低損失誘電体で作られた皿21
が配置されている。
加熱室1の前面にはヒンジ(図示せず)により
開閉自在なドア6が設けられている。
第7図は第6図の要部断面図である。
第7図において加熱室1の開口部には開口周縁
部22が設けられている。一方ドア9は加熱室1
開口部に開閉自在に設けられている。ドア9は、
チヨーク溝3を構成する金属板で作られたドアA
23と、ドアA23の表面には、加熱室1の内部
の状態が見えるように透明誘電体で作られたドア
スクリーン24が設けられている。又ドアA23
の加熱室部分は、加熱室1内部の様子が見えて、
加熱室1の電波が洩れないように小孔が複数個設
けられ、ドアA22の加熱室側には加熱室1内の
蒸気などがドア9の中に入らないように透明誘電
体で作られたシート26を占有している。
開口周縁部22に対向して設けられた溝部23
aの中に複数のスリツト29を有する仕切板27
を配置している。そして仕切板27によりチヨー
ク溝3が形成される。その入口部分の巾を仕切板
27により狭くし、又奥の部分を広くしている。
又仕切板27によつて仕切られたチヨーク溝3の
外側の第2のチヨーク溝28も入口部分を狭くす
る為に、適宜仕切板の先端部分を曲げてチヨーク
溝3と第2のチヨーク溝28をほぼ同一形状とし
ている。
第8図は第7図のA−A′線における断面図で
あり、仕切板27は複数のスリツト29を有して
おり、スリツト29もチヨーク溝3の形状と同様
にスリツト29の入口部分の巾を、奥の部分の巾
よりも狭くして、巾の狭い部分に誘電体30を充
填している。
第9図は第7図の仕切板27の拡大斜視図であ
る。
このように本実施例によれば、特性インピーダ
ンス(巾)の異なるチヨーク溝及びスリツトを接
続することにより使用波長の4分の1以下の寸法
で実質的に使用波長の4分の1であるという効果
を有する。したがつてチヨーク溝をドア9に設け
た場合薄いドア9が構成できることになる。又仕
切板の折り曲げによりチヨーク溝の巾を変えてい
るのでチヨーク溝は一つの部品だけで構成できし
かも同一形状のチヨーク溝が2つ構成できるので
電波遮蔽効果はさらに向上する。
又第10図は本発明の他の実施例の要部断面図
である。仕切板27をチヨーク溝3に対して対称
に折り曲げて、同一形状のチヨーク溝3と第2の
チヨーク溝28を構成している。第10図は本発
明の他の実施例の要部断面図である仕切板27の
加工性を上げる為に、曲げ方向を変えてチヨーク
溝3と第2のチヨーク溝28を構成している。
第11図は第10図の仕切板27の拡大斜視図
である。
発明の効果 以上のように本発明によれば次の効果を得るこ
とができる。
(1) 使用波長の4分の1以下の深さでチヨーク溝
を構成することができるので、チヨーク溝をド
アに設ける場合はドアを薄く設計できる。
(2) 上記理由の為に庫内の有効寸法が増加し、特
に、高周波加熱器本体をキヤビネツト内にビル
トインする場合は本体がキヤビネツトより異常
に突き出すことはなく、デザインもすつきりす
る。
(3) チヨーク溝の入口部分に誘電体を充填するこ
とにより、寸法が安定し又特性インピーダンス
が低くなるのでさらにチヨーク溝を浅くするこ
とができる。
(4) 溝部が浅いので、溝部を一枚の金属板をる
だけで構成することができ、構成部品が非常に
少なくなる為に大巾なコストダウンが期待でき
る。
(5) 同一のチヨーク溝が2個構成できるので遮蔽
性能が高い。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来のチヨーク溝の原理図、第2図は
第1図の等価回路図、第3図は本発明のチヨーク
溝の原理図、第4図は第3図の等価回路図、第5
図は本発明の一実施例である高周波加熱装置の要
部斜視図、第6図は第5図の断面図、第7図は第
6図の要部断面図、第8図は第7図のA−A′線
における断面図、第9図は第6図の仕切板の拡大
斜視図、第10図は本発明の他の実施例の要部断
面図、第11図は第10図の仕切板の拡大斜視図
である。 3……チヨーク溝、27……仕切板、28……
第2のチヨーク溝、29……スリツト。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 本体内に被加熱物を加熱する加熱室と、前記
    加熱室の開口の一部に開閉自在なドアと、前記加
    熱室の開口の周辺に開口周縁部と、前記開口周縁
    部あるいは前記ドアのいずれか一方に設けられた
    溝部と前記溝部内に複数のスリツトを有する仕切
    板とを備え、前記仕切板により有効断面積がほぼ
    等しい2つのチヨーク溝を形成し、2つの前記チ
    ヨーク溝の入口部分の巾寸法を奥部分よりも狭い
    構成とし、入口部分と奥部分の長さを略同一とな
    るような前記仕切板の形状とし、前記スリツトを
    有する仕切板は入口部分は太く、奥部分は細い構
    成とした高周波加熱装置。 2 スリツト及びチヨーク溝の短絡部の形状は巾
    寸法よりも奥行寸法を長くする構成とした特許請
    求の範囲第1項記載の高周波加熱装置。 3 溝部を一枚の板金を絞ることにより構成した
    特許請求の範囲第1項記載の高周波加熱装置。
JP7578283A 1983-04-28 1983-04-28 高周波加熱装置 Granted JPS59201390A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7578283A JPS59201390A (ja) 1983-04-28 1983-04-28 高周波加熱装置

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JP7578283A JPS59201390A (ja) 1983-04-28 1983-04-28 高周波加熱装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS59201390A JPS59201390A (ja) 1984-11-14
JPH0129318B2 true JPH0129318B2 (ja) 1989-06-09

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ID=13586124

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JP7578283A Granted JPS59201390A (ja) 1983-04-28 1983-04-28 高周波加熱装置

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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5378457A (en) * 1976-12-22 1978-07-11 Hitachi Heating Appliance Co Ltd High-frequency heater

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5378457A (en) * 1976-12-22 1978-07-11 Hitachi Heating Appliance Co Ltd High-frequency heater

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JPS59201390A (ja) 1984-11-14

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