JPH01291440A - Wafer prober - Google Patents

Wafer prober

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JPH01291440A
JPH01291440A JP12154988A JP12154988A JPH01291440A JP H01291440 A JPH01291440 A JP H01291440A JP 12154988 A JP12154988 A JP 12154988A JP 12154988 A JP12154988 A JP 12154988A JP H01291440 A JPH01291440 A JP H01291440A
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wafer
prober
section
screen
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Abstract

PURPOSE:To alleviate the working load of an operator and to shorten a working time by two-dimensionally moving an operation input unit itself when a measuring parameter is set and input, and moving a cursor for designating the parameter in cooperation with the movement of the unit on a TV screen. CONSTITUTION:A cursor 22a is moved by a joystick 36a, the cursor 22a is set to a parameter position to be selected for each item, and a button 39 is then depressed to select a predetermined parameter value of the item. When the cursor is moved vertically (in a direction of arrow C or D) on a screen to select the parameter item, the cursor can be moved by following to the tilting amount by tilting the joystick in the direction C or D. Since such a joystick operation may be conducted merely by operating it in the moving direction of the cursor 22a, the operator can select the parameter while confirming the position of the cursor 22a on the screen. Thus, the operation is facilitated, and its working load can be largely moderated.

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は、半導体ウェハをロード部より測定部に供給し
て検査を行うウエハブローバに関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Object of the Invention] (Industrial Application Field) The present invention relates to a wafer blower that supplies a semiconductor wafer from a loading section to a measuring section for inspection.

(従来の技術) この種のウエハプローバ、例えば半導体ウェハのウエハ
プローバは、ウェハ上の多数の素子の電気的特性を測定
する測定部と、ウェハが収納されているカセットよりウ
ェハを取り出して前記測定部に供給し、測定及びマーキ
ングが終了したウェハを前記カセット内に戻し搬送する
ローダ部とから構成されている。
(Prior Art) This type of wafer prober, for example, a wafer prober for semiconductor wafers, includes a measurement unit that measures the electrical characteristics of a large number of elements on a wafer, and a measurement unit that measures the electrical characteristics of a wafer by taking it out from a cassette in which the wafer is stored. and a loader section that transports the wafers that have been measured and marked into the cassette and returned to the cassette.

ここで、例えば半導体ウェハを被測定体とする場合には
、このウェハには種々の品種があり、各品種毎にウェハ
サイズ、測定時のオリエンテーションフラットの向き又
はウェハ上のチップサイズ等が興なっている。このため
、この種の情報を測定用のパラメータとして設定する必
要があり、同一品種について一旦パラメータを設定した
後は、これをフロッピーディスク等に記憶し、再度同一
品種のウェハを測定する場合にはこのフロッピー内のパ
ラメータを呼び出して設定するようにしている。
For example, when the object to be measured is a semiconductor wafer, there are various types of wafers, and each type has different wafer size, orientation flat direction during measurement, chip size on the wafer, etc. ing. Therefore, it is necessary to set this type of information as measurement parameters. Once the parameters have been set for the same type of wafer, they can be stored on a floppy disk, etc., and when measuring the same type of wafer again. The parameters in this floppy are called up and set.

そして、従来のウエハブローバはこの種のパラメータの
設定を、操作パネル上の英数字キーによるコマンド入力
あるいは、TV画面上に表示された種々のパラメータを
、上下左右の4種類の矢印キーによりカーソルを移動す
ることで選択していた。
Conventional wafer blobbers set these types of parameters by inputting commands using alphanumeric keys on the operation panel, or by pointing the cursor at various parameters displayed on the TV screen using four types of arrow keys: up, down, left, and right. I was choosing to move.

(発明が解決しようとする問題点) ところで、この種のウエハプローバでは、前記測定部の
上面はマイクロスコープを介してウェハを観察できる構
成する必要かあり、上記TV画面はウエハプローバ本体
の奥方に配置せざるを得ない。そして、上記操作パネル
は通常装置本体の前面側に配置されるので、操作パネル
とTV画面とを近接させて配置できなくなっている。
(Problems to be Solved by the Invention) By the way, in this type of wafer prober, the top surface of the measurement section needs to be constructed so that the wafer can be observed through a microscope, and the TV screen is located at the back of the wafer prober body. I have no choice but to place it. Since the operation panel is usually placed on the front side of the main body of the apparatus, it is impossible to place the operation panel and the TV screen close to each other.

このようなレイアウトを有するウエハプローバでは、上
述した測定用パラメータの設定に際して、キー人力によ
って実行していたので、カーソルの位置を本体奥方のT
V画面にて確認し、その後変更を要する場合にはその視
線を本体前面側の操作パネルに移し、該当するキーを選
択してキー操作し、さらに視線を移して画面上でカーソ
ル位置をN認した後にパラメータの選択を行う必要があ
ったため、オペレータの作業負担が大きく、がっ、その
設定入力に多大な時間を要していた。
In a wafer prober with such a layout, setting of the measurement parameters described above was performed manually using the keys, so the cursor position was adjusted to the T position at the back of the main body.
Confirm on the V screen, and if you need to make changes, move your line of sight to the operation panel on the front side of the main unit, select and operate the appropriate key, and then move your line of sight to confirm the cursor position on the screen. After setting parameters, it was necessary to select parameters, which placed a heavy burden on the operator and required a great deal of time to enter the settings.

そこで、本発明の目的とするところは、上述した従来の
問題点を解決し、測定用パラメータの設定入力に際して
、TV画面から目を離さずにカーソルの移動入力を実行
することかで′き、操作者の負担を軽減でき、操作入力
時間を短縮することができるウエハプローバを提供する
ことにある。
SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to solve the above-mentioned conventional problems, and to make it possible to perform cursor movement input without taking your eyes off the TV screen when inputting measurement parameter settings. It is an object of the present invention to provide a wafer prober that can reduce the burden on an operator and shorten the operation input time.

[発明の構成] (問題点を解決するための手段) 本発明は、ローダ部から測定部にウェハを供給して、ウ
ェハ上のチップの電気的検査を行うウエハプローバにお
いて、 ウェハの品種毎に固有の測定パラメータを、]゛V画V
画面−ソル移動によって設定入力するために、操作入力
部自体の2次元的な移動に連動させて、上記画面上でカ
ーソルを2次元移動させる構成としている。
[Structure of the Invention] (Means for Solving the Problems) The present invention provides a wafer prober that supplies a wafer from a loader section to a measurement section and electrically inspects chips on the wafer. The specific measurement parameters are
In order to input settings by moving the cursor from screen to screen, the cursor is moved two-dimensionally on the screen in conjunction with the two-dimensional movement of the operation input section itself.

そして、この種の2次元移動可能な操作入力部としては
、ジョイスティック、マウス等を挙げることができる。
Examples of this type of two-dimensionally movable operation input unit include a joystick, a mouse, and the like.

(作用) 本発明によれば、測定用パラメータの設定に入力に際し
て、操作入力部自体を2次元移動させ、この2次元移動
に連動させてパラメータ指定用のカーソルをTV画面上
で移動させている。
(Function) According to the present invention, when inputting measurement parameter settings, the operation input section itself is moved two-dimensionally, and the cursor for specifying the parameter is moved on the TV screen in conjunction with this two-dimensional movement. .

したかって、TV画面上でカーソルを2次元移動させる
に際して、オペレータはTV画面でカーソルを確認しつ
つ、そのカーソルを移動させたい方向に操作入力部を移
動させれば良いので、オペレータの視線は一定のままで
入力作業を続けることかでき、従来のように視線を変更
して実行するものに比べてオペレータの作業負担が大幅
に軽減され、かつ、作業時間を短縮することができる。
Therefore, when moving the cursor two-dimensionally on the TV screen, the operator only needs to check the cursor on the TV screen and move the operation input unit in the direction in which he wants the cursor to move, so the operator's line of sight remains constant. This allows the operator to continue inputting data without changing his/her line of sight, which greatly reduces the burden on the operator and shortens the time required to perform the task, compared to the conventional method of changing the user's line of sight.

(実施例) 以下、本発明の一実施例について、図面を参照して具体
的に説明する。
(Example) Hereinafter, an example of the present invention will be specifically described with reference to the drawings.

このウエハプローバは、第3図、第4図に示すように、
例えば一系統の独立筐体で形成されなローダ部1に対し
て、複数系統例えば、第1のプローバ部30a及び第2
のプローバ部30bとがら構成されている。そして、前
記第1.第2のプローバ部30a、30bは、ローダ部
1の左右側面に位置して配設され、それぞれローダ部1
に対して着脱自在となっていると共に、各筐体の下部に
はキャスター2が設けられ、床面上を自由に移動できる
ようになっている。
This wafer prober, as shown in FIGS. 3 and 4,
For example, for the loader section 1 which is formed of one system of independent casing, there are multiple systems, for example, the first prober section 30a and the second prober section 30a.
The prober unit 30b is configured as follows. And the above-mentioned 1. The second prober sections 30a and 30b are disposed on the left and right side surfaces of the loader section 1, respectively.
Each housing is detachable from the housing, and casters 2 are provided at the bottom of each housing so that it can be moved freely on the floor.

独立筐体である前記ローダ部1の内部構成として、その
前面側にはカセット収納部3が設けられている。この収
納部3にはモータ4によって回動可能な例えば4本のガ
イド軸5が垂直に設置され、2つのカセットRe台6が
2本のカイト1llll 5にそれぞれ固定されている
。そして、前記ガイドlt[l 5の回動によって載置
台6を昇降移動するようになっている。また、このカセ
ット載置台6にはカセット7が載置され、このカセット
7には被測定体であるウェハ10が各々適当な間隔を設
けて25枚収納されるようになっている。
As an internal configuration of the loader section 1, which is an independent housing, a cassette storage section 3 is provided on the front side thereof. For example, four guide shafts 5, which can be rotated by a motor 4, are vertically installed in this storage section 3, and two cassette Re stands 6 are fixed to two kites 1llll 5, respectively. The mounting table 6 is moved up and down by the rotation of the guide lt[l5. Further, a cassette 7 is placed on the cassette mounting table 6, and 25 wafers 10, which are objects to be measured, are housed in the cassette 7 at appropriate intervals.

このカセット7からウェハ10を搬出入するための真空
吸着ピンセット11は、モータ12に連結した水平に配
置された回転軸13に支持R111を垂直に設け、回転
軸13の回転により該軸方向に沿って移動する支持棒1
4に取り付けられている。そして、このピンセット11
の先端部は略コ字状に形成されて、この部分が吸着部1
1aとなっている。
The vacuum suction tweezers 11 for loading and unloading wafers 10 from the cassette 7 have a support R 111 vertically provided on a horizontally arranged rotating shaft 13 connected to a motor 12, and the rotation of the rotating shaft 13 causes the wafers 10 to be moved in and out of the cassette 7. Support rod 1 that moves with
It is attached to 4. And this tweezers 11
The tip part is formed into a substantially U-shape, and this part is the suction part 1.
It is 1a.

前記真空吸着ビンセット11のスライド移動経路途上に
は、ウェハ10を載置可能なプリアライメントステージ
15が設けられ、モータ16の駆動によってZ方向、θ
方向の移動が可能となっている。
A pre-alignment stage 15 on which the wafer 10 can be placed is provided in the middle of the slide movement path of the vacuum suction bin set 11.
Directional movement is possible.

また、プリアライメントステージ15より第1゜第2の
プローバ部30a、30bの測定ステージにウェハ10
を回転搬送する2つの真空吸着アーム17が設けられ、
このアーム17はモータ18の駆動によって水平に36
0°回転可能となっている。尚、この真空吸着アーム1
7を上下に一対設け、測定後のウェハ10の測定ステー
ジからプリアライメントステージ15への搬出と、新た
なウェハ10のプリアライメントステージ15から測定
ステージへの搬入とを同時に行うこともでき、このよう
にすればスルーブツトの大幅な向上を図ることかできる
Further, the wafer 10 is transferred from the pre-alignment stage 15 to the measurement stages of the first and second prober sections 30a and 30b.
Two vacuum suction arms 17 are provided for rotationally conveying the
This arm 17 is moved horizontally by the drive of the motor 18.
It can be rotated by 0°. Furthermore, this vacuum suction arm 1
It is also possible to provide a pair of upper and lower wafers 7 to carry out the wafer 10 after measurement from the measurement stage to the pre-alignment stage 15 and to carry in a new wafer 10 from the pre-alignment stage 15 to the measurement stage at the same time. By doing so, it is possible to significantly improve throughput.

ローダ部1の筐体上部には、支柱19が垂直に立設され
、この支柱19には水平に回転可能なアーム20が懸架
されている。そして、このアーム20の先端にはチップ
を拡大して見るためのマイクロスコープ21が設置され
、垂直方向に例えば200IIIIII上下動可能とな
っている。また、このマイクロスコープ21の後方には
、CRT22が固定配置されている。さらに、筐体の底
面部には電源部23が配置され、第1.第2のプローバ
部30a、30bに給電可能となっている。
A column 19 is vertically erected on the upper part of the housing of the loader section 1, and a horizontally rotatable arm 20 is suspended from the column 19. A microscope 21 for magnifying the chip is installed at the tip of the arm 20, and is capable of vertically moving up and down, for example, by 200 mm. Further, a CRT 22 is fixedly arranged behind the microscope 21. Furthermore, a power supply unit 23 is arranged on the bottom of the housing, and a first. Power can be supplied to the second prober sections 30a and 30b.

次に、第1.第2のプローバ部30a、30bについて
説明する。尚、第1.第2のプローバ部30a、30b
は共に同一構成であるので、ここでは第1のプローバ部
30aについて説明する。
Next, the first. The second prober sections 30a and 30b will be explained. In addition, 1st. Second prober section 30a, 30b
Since both have the same configuration, the first prober section 30a will be explained here.

第1のプローバ部30aの内部構成として、測定ステー
ジ32aは周知の手段によってX方向。
As for the internal configuration of the first prober section 30a, the measurement stage 32a is arranged in the X direction by well-known means.

Y方向、Z方向及びθ方向の駆動が可能であり、特にX
方向、Y方向の駆動範囲は、第1のプローバ部30aの
中心点において前後左右で対称の動作が可能である。
Drive in the Y direction, Z direction, and θ direction is possible, especially in the
The driving range in the direction and the Y direction allows symmetrical movement in the front, back, left and right at the center point of the first prober section 30a.

また、測定位置において、測定ステージ32aと対向し
た位置には、プローブカード(図示せず)が設定されて
いて、周知の手段でウェハ10の電気的特性の測定を行
うようになっている。
Further, in the measurement position, a probe card (not shown) is set at a position facing the measurement stage 32a, and the electrical characteristics of the wafer 10 are measured by known means.

さらに、第1のブローバ30aの前面側には、操作パネ
ル34aが設けられ、第1のプローバ30aに対する動
作入力が実行可能となっている。
Further, an operation panel 34a is provided on the front side of the first prober 30a, and allows operation input to the first prober 30a.

この操作パネル34aには、第5図に示すように英数7
人カキー35a、操作部自体の2次元移動可能なジョイ
スティック36a、液晶デイスプレー37aが設けられ
ている。そして、このジョイスティック36a、36b
は、共に同一構成を有し、第1図に示すように360°
の任意方向に倒すことが可能な握り部38の上端に、押
動可能なボタン39を有している。
This operation panel 34a has seven alphanumeric characters as shown in FIG.
A human key 35a, a two-dimensionally movable joystick 36a of the operating section itself, and a liquid crystal display 37a are provided. And this joystick 36a, 36b
have the same configuration, and have a 360° angle as shown in Figure 1.
A pushable button 39 is provided at the upper end of the grip portion 38 which can be tilted in any direction.

尚、第2のプローバ部30bも同様な内部構成となって
いて、上述した第1のプローバ部30aの各構成部材の
サフィックスaをbとする、同一機能の部材を有してい
る。
Note that the second prober section 30b has a similar internal configuration, and includes members with the same functions, with the suffix a of each component of the first prober section 30a described above being changed to b.

次に、上記第1.第2のプローバ30a、30b及びロ
ーダ部1の駆動制御系について、第2図を参照して説明
する。
Next, the above 1. The drive control system for the second probers 30a, 30b and the loader section 1 will be explained with reference to FIG.

本実施例装置では、3種類のCPUによって駆動系等の
制御を分担させており、ローダ部1の内部に配置された
第1のCPU40.第3のCPU42は、両ブローバ部
30a、30bで共通となっていて、前記第1のCPU
40は操作パネル34a、34bの表示制御、キー人力
操作に対応する制御を司どり、第3のCPU42はロー
ダ部1の駆動を実行するローダ駆動部50の駆動を司ど
るものである。
In the present embodiment, three types of CPUs share control of the drive system, etc., with the first CPU 40. The third CPU 42 is common to both the blowbar parts 30a and 30b, and is connected to the first CPU 42.
40 controls the display of the operation panels 34a and 34b and controls corresponding to manual key operations, and the third CPU 42 controls the drive of the loader drive section 50 that drives the loader section 1.

一方、第1.第2のプローバ部30a、30bには、そ
れぞれ第2のCPLJ44a、44bが配置され、この
第2のCPTJ44a、4’4bは対応する測定部30
a又は30bの駆動を実行するステージ駆動部46a、
46bの駆動を司どるものである。
On the other hand, the first. Second CPLJs 44a and 44b are arranged in the second prober sections 30a and 30b, respectively, and the second CPTJs 44a and 4'4b are connected to the corresponding measurement sections 30a and 30b.
a stage drive unit 46a that drives stage a or 30b;
46b.

また、2つのプローバ部30a、30bの一方例えば第
1のブローバ部30aには、フロッピードライバ60が
配置され、このフロッピードライバ60に対して着脱自
在に設定可能なフロッピーディスク62に対してアクセ
ス可能となっている。
Further, a floppy driver 60 is disposed in one of the two prober units 30a and 30b, for example, the first prober unit 30a, and a floppy disk 62 that can be detachably attached to the floppy driver 60 can be accessed. It has become.

上記フロッピーディスク62は、半導体ウェハの品種毎
の測定パラメータを、ウェハの品種コードによって検索
可能に記憶している。
The floppy disk 62 stores measurement parameters for each type of semiconductor wafer that can be searched by the wafer type code.

そして、上記ウェハの品種コードを操作パネル34a又
は34bより入力すると、前記ドライバ60によって読
み取られたフロッピーディスク62内の測定パラメータ
は、第1のCPU40を介して、操作された側のプロー
バ部30a又は30bの第2のCPU44a又は44b
に入力され、この後C−MOSメモリ等の内部記憶装B
IZ48a又は48bにロードされるようになっている
When the wafer type code is input from the operation panel 34a or 34b, the measurement parameters in the floppy disk 62 read by the driver 60 are transmitted to the operated prober section 30a or 34b via the first CPU 40. 30b second CPU 44a or 44b
After that, it is input to internal storage device B such as C-MOS memory.
It is designed to be loaded into the IZ48a or 48b.

そして、fiE 2 CP U 44 a又は44bは
、上記内部記憶装ff48a又は48b内の測定パラメ
ータに基づき測定を実行制御するようになっている。
The fiE 2 CPU 44a or 44b executes and controls the measurement based on the measurement parameters in the internal storage device ff48a or 48b.

次に、上記ウエハプローバの作用について説明する。Next, the operation of the wafer prober will be explained.

ローダ部1.第1.第2のブローバ部30a。Loader section 1. 1st. Second blowbar part 30a.

30bの各機構は、それぞれ第2.第3のCPU42.
44a、44bに登録されている予め定められたプログ
ラムに従って動作される。
Each mechanism of 30b has a second . Third CPU42.
It operates according to a predetermined program registered in 44a and 44b.

この際、上記プログラムはウェハの品種に拘らず変更の
ない動作プログラムであり、ウェハめ品種によって異な
るような条件については、各品種に対応させて装置に設
定入力する必要がある。
At this time, the above program is an operating program that does not change regardless of the type of wafer, and conditions that differ depending on the type of wafer need to be set and input into the apparatus in correspondence with each type of wafer.

このような測定パラメータとしては、以下のようなもの
を挙げることができる。
Examples of such measurement parameters include the following.

■ウェハ名称 ■ウェハサイズ;5インチ、6インチ。■Wafer name ■Wafer size: 5 inches, 6 inches.

8インチ等 ■オリエンテーションフラットの向き ■チップサイズ;x=5060μm。8 inches etc. ■OrientationFlat direction ■Chip size; x=5060μm.

y=3010μm等 ■アライメントパラメータ ■インキングモード ■マルチプローブ ■連続フェイルモード ■針先研磨モード [株]ホットチャック温度 等である。y=3010μm etc. ■Alignment parameters ■Inking mode ■Multi probe ■Continuous fail mode ■Needle tip polishing mode [Co., Ltd.] Hot Chuck Temperature etc.

そして、」−述した測定パラメータは、その品種を最初
に測定する前に、オペレータが前記操作パネル34a又
は34bを操作することにより設定し、この設定された
測定パラメータは、前記フロッピーディスク62に保存
されることになる。
The measurement parameters mentioned above are set by the operator by operating the operation panel 34a or 34b before measuring the product type for the first time, and the set measurement parameters are saved in the floppy disk 62. will be done.

ここで、上記操作パラメータの設定について説明すると
、本実施例ではウェハ名称以外のパラメータの設定に際
しては、英数字キー35a、35bを使用せずに、ジョ
イスティック36a又は36bの操作によって設定可能
となっている。
Here, to explain the setting of the above operating parameters, in this embodiment, parameters other than the wafer name can be set by operating the joystick 36a or 36b without using the alphanumeric keys 35a and 35b. There is.

すなわち、前記フロッピーディスク62の検索によって
、これから測定しようとする品種のパラメータが登録さ
れていない場合には、図示しないスイッチ等の押下によ
ってパラメータ登録モードに設定する。
That is, if the parameters of the product to be measured are not registered by searching the floppy disk 62, the parameter registration mode is set by pressing a switch or the like (not shown).

そうすると、前記第1のCPU40の動作に従って、第
1図に示すように、設定すべきパラメータの項目が上記
液晶デイスプレー37a又は37bあるいはCR’I”
22の縦列に沿って表示され、かつ、各項目毎に横列に
沿って異なる数値等のパラメータ例が表示されることに
なる。また、初期状態においては、カーソル22aが画
面の例えば左上に表示されることになる。
Then, according to the operation of the first CPU 40, as shown in FIG.
22 vertical columns, and different examples of parameters such as numerical values are displayed along the horizontal columns for each item. Further, in the initial state, the cursor 22a is displayed, for example, at the upper left of the screen.

そして、本実施例では上記カーソル22aをジョイステ
ィック36a又は36bによって移動し、かつ、ジョイ
スティックの握り部38の」1端のボタン39をエンタ
ーキーとして使用することで、各項目毎に選択すべきパ
ラメータ位置にカーソル22aを設定後に、このボタン
39を押下することで、その項目の所定のパラメータ値
が選択されることになる。なお、画面上でカーソルを縦
方向(第1図の矢印C又はD方向)に移動させてパラメ
ータ項目を選択する場合には、ジョイスティックを第1
図のC又はD方向に倒すことで、その倒し量に追従した
カーソル移動を実現できる。また、項目に合わせた後に
横方向に並んだうちのパラメータ内容の一つにカーソル
を合わせる場合(カーソル22aの第1図の矢印A又は
B方向の移動)には、同様にジョイスティックをA又は
B方向に倒すことでカーソル移動が実現できる。
In this embodiment, the cursor 22a is moved by the joystick 36a or 36b, and the button 39 at one end of the joystick grip 38 is used as an enter key to position the parameter to be selected for each item. By pressing this button 39 after setting the cursor 22a on the item, a predetermined parameter value for that item is selected. When selecting a parameter item by moving the cursor vertically on the screen (direction of arrow C or D in Figure 1), move the joystick to the first position.
By tilting in the C or D direction in the figure, the cursor can be moved in accordance with the tilted amount. In addition, when placing the cursor on one of the parameter contents arranged horizontally after aligning with the item (movement of the cursor 22a in the direction of arrow A or B in Fig. 1), similarly move the joystick A or B. You can move the cursor by tilting it in the direction.

上記のようなジョイスティック操作は、カーソル22a
の移動方向に操作するだけで良いので、オペレータの視
線を画面より離す必要なく簡易に実行できる。従って、
オペレータは画面上でカーソル22aの位置を確認しつ
つパラメータの選択が実行可能となるので操作が容易と
なり、その作業負担を大幅に軽減することができる。ま
た、このことによってパラメータ設定の作業時間を大幅
に複線することも可能となる。
The above joystick operation is performed using the cursor 22a.
Since the operator only needs to operate in the direction of movement, the operator does not have to take his/her line of sight away from the screen and can easily perform the operation. Therefore,
Since the operator can select parameters while checking the position of the cursor 22a on the screen, the operation becomes easy and the workload can be significantly reduced. Moreover, this also makes it possible to considerably double-track the work time for parameter setting.

上記のようにしてパラメータの登録が成されているもの
と仮定して以下にそのブロービング動作を説明すると、
まず、第1のプローバ部30aにである品種のウェハの
検査を実行する場合には、この第1のプローバ部30a
の図示しないフロッピー挿入口より上記フロッピーディ
スク62を挿入し、その後操作パネル34aの英数字キ
ー35a等の操作により、上記品種に対応するコードを
入力する。
Assuming that the parameters have been registered as described above, the blobbing operation will be explained below.
First, when inspecting a certain type of wafer using the first prober section 30a, the first prober section 30a
The floppy disk 62 is inserted through a floppy insertion slot (not shown), and then a code corresponding to the type is input by operating the alphanumeric keys 35a of the operation panel 34a.

そうすると、操作パネル34aの入力情報は第1のCP
U40で識別され、この品種コードに対応する測定パラ
メータが前記フロッピーディスク62に登録されている
か否かの検索をドライバ60でのアクセスによって実行
する。この説明モは登録が前提となっているので、対応
する測定パラメータが検索され、このパラメータ情報は
第1のCPLI40より第1のプローバ部30aの内の
第2のCPU44aにロードされ、さらにその後に内部
記憶装W、50にロードされて格納されることになる。
Then, the input information on the operation panel 34a is
A search is performed by accessing the driver 60 to determine whether or not the measurement parameter identified by U40 and corresponding to this product code is registered in the floppy disk 62. Since this explanation model assumes registration, the corresponding measurement parameter is searched, and this parameter information is loaded from the first CPLI 40 to the second CPU 44a of the first prober unit 30a, and then It will be loaded and stored in the internal storage device W,50.

このようにして測定対象となった品種の測定パラメータ
のロードが完了し、測定対象のウェハ10を収容した前
記カセット7をセットした以降は、操作パネル34aで
の操作に基づきウェハに対するプロービング検査が開始
されることになる。
After the loading of the measurement parameters of the product to be measured is completed in this way and the cassette 7 containing the wafer 10 to be measured is set, a probing test on the wafer is started based on the operation on the operation panel 34a. will be done.

すなわち、上記カセット7に真空吸着ピンセット11を
挿入し、真空吸着部11aでウェハ1゜を1枚吸着し、
このウェハ10を真空吸着ビンセット11でスライド搬
出して、プリアライメントステージ15(これは予め第
4図のように下降している)の上方に設定する。
That is, the vacuum suction tweezers 11 are inserted into the cassette 7, one wafer 1° is suctioned by the vacuum suction part 11a, and
This wafer 10 is slid out by a vacuum suction bin set 11 and set above the pre-alignment stage 15 (which has been lowered in advance as shown in FIG. 4).

次に、プリアライメントステージ15を駆動し、真空吸
着部11aの中央切り欠き部を介してさらに上方に上昇
させることで、ウェハ10がプリアライメントステージ
15に載置されることになる。
Next, the wafer 10 is placed on the pre-alignment stage 15 by driving the pre-alignment stage 15 and moving it further upward through the central notch of the vacuum suction section 11a.

そして、この位置でLEDセンサー等の周知の手段によ
りウェハ10のオリエンテーションフラット(以下オリ
フラともいう)を検出して、前述した測定パラメータ内
のオリフラの向き情報と一致する位置に回転駆動により
設定する。
Then, at this position, the orientation flat (hereinafter also referred to as orientation flat) of the wafer 10 is detected by a well-known means such as an LED sensor, and set by rotational drive to a position that matches the orientation information of the orientation flat in the measurement parameters described above.

この予備位置決めが成されたウェハ10は、真空吸着ア
ーム17によって第1のプローバ部30aの測定ステー
ジ32aへ回転搬送され、レーザ認識a構又はパターン
認識機構で正確に本位置決めされ、周知の手段によって
各チップの電極パッドにプローブカードを接触させて電
気的特性の測定を行うことになる。そして、不良チップ
に対しては公知の手法によってマーキングを行った後に
、搬入ルートと逆工程を実行することで、検査が終了し
たウェハ10をカセット7内に戻し搬送することになる
。そして、上記工程を繰返実行することで、カセット7
内の全てのウェハ10に対する検査を実行することがで
きる。
The wafer 10 that has undergone this preliminary positioning is rotationally conveyed by the vacuum suction arm 17 to the measurement stage 32a of the first prober section 30a, and is accurately main-positioned by a laser recognition mechanism or a pattern recognition mechanism, and is then accurately positioned by a well-known means. Electrical characteristics are measured by bringing a probe card into contact with the electrode pads of each chip. Then, after marking the defective chips using a known method, the wafer 10 that has been inspected is returned to the cassette 7 and transported by performing the process reverse to the carrying route. By repeating the above steps, the cassette 7
Inspection can be performed on all wafers 10 within.

一方、本実施例では上記第1のプローバ部30aでの検
査処理と並行して、第2のプローバ部30bにおいても
検査処理を実行可能となっている。
On the other hand, in this embodiment, the second prober section 30b can also perform inspection processing in parallel with the inspection processing at the first prober section 30a.

そして、本実施例の特徴としてこの第2のプローバ部3
0bに対する上記測定パラメータの設定おいても、第1
.第2のプローバ部30a、30bに共通なフロッピー
ディスク62を使用し、かつ、第1のブローバ部30a
に設けられたフロッピー挿入口にこのフロッピーディス
ク62を設定するようにしている。
As a feature of this embodiment, this second prober section 3
Even when setting the above measurement parameters for 0b, the first
.. A common floppy disk 62 is used for the second prober parts 30a and 30b, and the first prober part 30a
The floppy disk 62 is set in a floppy insertion slot provided in the floppy disk.

フロッピーディスクロ2の設定後に、今度は第2のプロ
ーバ部30bに配置された操作パネル34bを介して測
定対象となるウェハの品種コードを入力する。
After setting the floppy disk 2, the type code of the wafer to be measured is input via the operation panel 34b disposed on the second prober section 30b.

そうすると、この品種コードに対応するウェハの測定パ
ラメータが第1のCPU40を介して、第2のプローバ
部30bの第2のCPU44bにロードされ、さらに第
2のプローバ部30この内部記憶装置ff 48 bに
ロードされて格納されることになる。
Then, the measurement parameters of the wafer corresponding to this type code are loaded into the second CPU 44b of the second prober section 30b via the first CPU 40, and are then loaded into the second prober section 30's internal storage device ff48b. It will be loaded and stored in .

このように、2系統の第1.第2のプローバ部30a、
30bに対する測定パラメータの設定を、共通の記憶部
であるフロッピーディスク62を利用し、いずれの測定
部34a、34bからの入力に基づきアクセス可能に構
成しているので、フロッピーディスク62管理が容易と
なり、このフロッピーディスク62のみを検索すればそ
の品種のパラメータの登録の有無を容易に知ることがで
きるので、無駄な重複登録を確実に防止することができ
る。また、このように共通のフロッピーディスク62を
使用することで、そのドライバも一方の測定部に設けれ
ば良いので、装置のコストダウンも図れる。この際、両
ブローバ部30a、30bの基本的構成を同一とするた
めに、第2のブローバ部30このフロッピー挿入口には
目隠しのプレート等を配置し、かつ、ドライバの収容領
域をスペースとしておけばよい。
In this way, the first . second prober section 30a,
Since the measurement parameter settings for the measuring section 30b are configured to be accessible based on input from either measuring section 34a or 34b using the floppy disk 62, which is a common storage section, the management of the floppy disk 62 becomes easy. By searching only this floppy disk 62, it is possible to easily know whether parameters of that type are registered or not, so that unnecessary duplicate registration can be reliably prevented. Further, by using the common floppy disk 62 in this way, the driver can be provided in one of the measuring sections, thereby reducing the cost of the apparatus. At this time, in order to make the basic configuration of both the blower sections 30a and 30b the same, a blind plate or the like is placed in the floppy insertion slot of the second blower section 30, and a space is provided in the area where the driver is accommodated. Bye.

尚、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、本
発明の要旨の範囲内で種々の変形実施が可能である。
Note that the present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications can be made within the scope of the gist of the present invention.

例えば、プローバーの構成としては、例えば(プローバ
部)−(ローダ部)−(プローバ部)−(ローダ部)−
(プローバ部)のように組み合わせたものにも同様に実
施することができる。
For example, the configuration of a prober is (prober section) - (loader section) - (prober section) - (loader section) -
The same method can be applied to a combination such as (prober section).

また、上記実施例のようにローダ部1.プローバ部30
a、30bの全てを独立筐体にするものに限らず、例え
ばローダ部1.プローバ部30aを一体的な独立筐体と
し、これに独立筐体で構成されたブローバ部30bを接
続するものなどでも良く、この他ローダ部を共通とせず
にロータ部。
Further, as in the above embodiment, the loader section 1. Prober section 30
For example, the loader section 1. The prober section 30a may be an integrated independent casing, and the prober section 30b configured as an independent casing may be connected to the prober section 30a, or a rotor section may be used instead of having a common loader section.

測定部が一対一の関係のウエハプローバであっても良い
A wafer prober having a one-to-one measuring unit may also be used.

また、操作入力部自体の2次元的な移動に連動させて、
上記画面上でカーソルを2次元移動させる上記操作入力
部の構成としては、ジョイスティックの他マウス等を採
用することができる。なお、カーソル移動による方式で
はないが、例えばTV画面上に直接ライトベン等でパラ
メータを指定する構成も有効であるが、上述したように
TV画面が本体奥方にあるウエハプローバでは採用が困
難である。
In addition, in conjunction with the two-dimensional movement of the operation input unit itself,
As the configuration of the operation input section for moving the cursor two-dimensionally on the screen, a mouse or the like in addition to a joystick can be adopted. Although it is not a method of moving the cursor, it is also effective to specify parameters directly on the TV screen using a light bar, but this is difficult to use in a wafer prober where the TV screen is located at the back of the main body as described above.

[発明の効果] 以上説明したように、本発明によれば測定用パラメータ
の設定入力に際して、操作入力部自体の2次元的な移動
に連動させて、画面上でカーソルを2次元移動させるよ
うにすることで、TV画面から目を雛さずにカーソルの
移動入力を実行することができ、繰作者の負担を軽減で
き、操作入力時間を短縮することができる。
[Effects of the Invention] As explained above, according to the present invention, when inputting measurement parameter settings, the cursor is moved two-dimensionally on the screen in conjunction with the two-dimensional movement of the operation input section itself. By doing so, the cursor movement input can be executed without looking away from the TV screen, the burden on the operator can be reduced, and the operation input time can be shortened.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は、本発明の一実施例装置でのパラメータ設定を
説明するための概略斜視図、 第2図は本発明の一実施例であるウエハプローバの駆動
制御系のブロック図、 第3図は、第2図のウエハプローバの一実施例を示す平
面図、 第4図は、ローダ部の内部構成図、 第5図は、操作パネルの一例を示す平面図である。 1・・・ローダ部、 10・・・被測定体、 22・・・CRT、 22a・・・カーソル、 30a、30b・・・測定部、 34a、34b−操作部、 36a、36b・・・ジョイスティック、代理人 弁理
士 井 上  −(他1名)第1図 第3図 第4図
FIG. 1 is a schematic perspective view for explaining parameter settings in an apparatus according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a block diagram of a drive control system of a wafer prober according to an embodiment of the present invention. 2 is a plan view showing an embodiment of the wafer prober in FIG. 2, FIG. 4 is an internal configuration diagram of a loader section, and FIG. 5 is a plan view showing an example of an operation panel. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Loader part, 10... Measured object, 22... CRT, 22a... Cursor, 30a, 30b... Measuring part, 34a, 34b-Operation part, 36a, 36b... Joystick , Agent Patent Attorney Inoue - (1 other person) Figure 1 Figure 3 Figure 4

Claims (1)

【特許請求の範囲】  ローダ部から測定部にウエハを供給して、ウエハ上の
チップの電気的検査を行うウエハプローバにおいて、 ウエハの品種毎に固有の測定パラメータを、TV画面上
のカーソル移動によって設定入力するために、操作入力
部自体の2次元的な移動に連動させて、上記画面上でカ
ーソルを2次元移動させることを特徴とするウエハプロ
ーバ。
[Claims] In a wafer prober that supplies a wafer from a loader section to a measurement section and electrically inspects chips on the wafer, measurement parameters specific to each type of wafer can be measured by moving a cursor on a TV screen. A wafer prober characterized in that, in order to input settings, a cursor is moved two-dimensionally on the screen in conjunction with two-dimensional movement of the operation input section itself.
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