JPH01288618A - 電気絶縁性転がり軸受け、及びその製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、電気絶縁性転がり軸受け、及び電気絶縁性転
がり軸受けの製造法に関する。

従来の技術及びその問題点 軸受けは、一般に電気絶縁処理を施すことなく用いられ
ており、周辺部品に漏れ電流等が発生すると軸受けに電
流が流れて、保持器と転動体の間で放電が起こり、転動
体表面に電気腐食による放電痕が発生する場合がある。

このようにして、放電痕が生じた転動体は、放電痕の周
辺部に盛り上がり部分を有するものとなり、しかも放電
の際に飛び散った金属粉を伴って保持器内を回転する。

従って、この様な状態で引き続き使用すると、保持器が
摩耗して発熱し、潤滑グリースの分解による潤滑性能の
低下によって、転動体と起動面で焼き付きが生じること
がある。また、保持器の摩耗が進行すると、保持機能が
失われて、転動体が軸受は外へ出てしまうという問題点
もある。

問題点を解決するための手段 本発明者は、上記した如き従来技術の問題点に鑑みて、
軸受けに電気絶縁性を付与して、軸受けの電気腐食を防
止すべく、鋭意研究を重ねてきた。

その結果、転がり軸受けの軌道輪表面のうちで、外部か
らの電流か侵入する可能性のある部分に、セラミックス
溶射層及びゾル−ゲル法によるセラミックス層の二層か
らなる複合セラミックス層を設けることによって、軸受
けに絶縁性が付与されて、電気腐食の防止が可能となり
、しかも該複合セラミックス層が、高硬度かつ緻密であ
ることから、軸受けの耐用性も向上することを見出した
。

即ち、本発明は、転がり軸受けの軌道輪表面の少なくと
も１部に、セラミックス溶射層からなる下層、及びゾル
−ゲル法によるセラミックス層からなる」二層によって
構成される複合セラミックス層を設けてなる電気絶縁性
転がり軸受け、並ひに、 転がり軸受けの軌道輪表面の少なくとも１部に、セラミ
ックス原料を溶射してセラミックス層を形成し、次いで
該セラミックス層上にゾル−ゲル法により、セラミック
ス層を形成することを特徴とする電気絶縁性転がり軸受
けの製造法に係る。

本発明の対象物は、金属製の転がり軸受けである。この
ような軸受けとしては、高炭素クロム軸受鋼、浸炭鋼、
耐熱鋼、ステンレス鋼、べＩＪ　ＩＪウム鋼等の各種の
材質のものか知られているが、本発明は、これらのいず
れにも適用可能である。

本発明において、転がり軸受けに複合セラミックス層を
設ける部分は、軸受けの軌道輪表面の少なくとも１部と
すればよく、具体的には、転がり軸受けの用途に応じて
、軌道輪表面が回転軸、ハウジング等の外部部品と接触
する部分のうちで、外部電流の侵入する可能性のある部
分に複合セラミックス層を設ければよい。

例えば、第１図の斜視図に示す様なラジアル軸受けにお
いて、軸側にモーターがある場合には、モーターの絶縁
不良等により、軌道輪のうちの内輸（１）から漏れ電流
が軸受けに侵入する可能性がある。このため、モーター
の回転軸と接触する内輪内表面（２）に複合セラミック
ス層を設ければよい。また、軌道車の車軸軸受けとして
用いる場合には、外部電流か外輪（３）から侵入する場
合や、モーター側からの漏れ電流が内輪（１）から侵入
する場合かあるので、電流の軸受けへの侵入の可能性に
応じて、内輪内表面（２）、外輪外周表面（４）、外輪
外周側面（５）等のうちから、必要な部分に複合セラミ
ックス層を設ければよい。

また、第２図に示す如きスラスト軸受けでは、軌道輪（
６）は、通常、その機能によって、固定軸、回転輪等と
称されるが、この場合にも、軸受けの使用部位に応じて
、軌道輪表面（７）のうちで、外部電流の侵入する可能
性のある部分に複合セラミックス層を設ければよい。

本発明の電気絶縁性転がり軸受けを得るには、まず、複
合セラミックス層を設けるべき軌道輸表面に、溶射法に
よるセラミックス層を設ける。溶射法としては、特に限
定はなく、公知の各種方法が適用でき、例えは、ガス粉
末式、ガス溶棒式、ガス爆燃式、プラズマ式等により行
なうことができる。セラミックス溶射法に用いるセラミ
ックス原料は、特に限定されず、従来公知のものをいず
れも用いることができ、例えば、酸化アルミニウム、酸
化ジルコニウム、酸化チタニウム、酸化イツトリウム、
酸化カルシウム、酸化マグネシウム、酸化硅素、酸化ク
ロム、酸化ナトリウム、酸化セレン、酸化コバルト、酸
化ニッケル、窒化チタニウム、窒化ジルコニウム、窒化
タングステン、窒化硅素、硼化チタニウム、硼化モリブ
デン、チタニア・アルミナ、ムライト、スピネル、コー
ディエライト、メリライト、エンスタタイト等の単体、
混合物、固溶体などを適宜使用できる。

セラミックス溶射法によれば、素地との密着性に優れ、
十分な硬度を有するセラミックス層を簡単に形成するこ
とかでき、しかも、セラミックス層の形成時に、素材に
熱ストレスが加わることが少ない。

セラミックス溶射層は、充分な絶縁性を保持させるため
に、厚さ５μｍ程度以上とすることが好ましく、コスト
面等を考慮すると５〜５０μｍ程度の厚さとすることが
適当である。

セラミックス溶射法によるセラミックス層を設けた後、
該セラミックス層上に、ゾル−ゲル法によるセラミック
ス層を設ける。ゾル−ゲル法によるセラミックス層は、
緻密な皮膜を形成し得るものであり、第−層であるセラ
ミックス溶射層のピンホールや凹凸を埋め、平滑でピン
ホールのないセラミックス層を形成して、絶縁性を向」
ニさせることができる。

ゾル−ケル法によるセラミックス層形成法としては、各
種の方法が公知であり、また、原料としても各種のもの
が知られているが、本発明では、これらは特に限定的で
はなく、いずれも採用できる。

ゾル−ゲル法によるセラミックスは、通常、セラミック
ス原料の液状組成物を塗布し、重合、ゲル化させること
によって形成することができる。

該液状組成物は、各種の金属アルコキシドや金属ヒドロ
キシドをセラミックス原料として含有するものであり、
この様なセラミックス原料の好ましい例として、 ０式（Ｒ＋　）ｍＭｌ　（ＯＲ２）　ｎ（式中、Ｒ１は
炭素数１〜３のアルキル基又はビニル基、Ｒ２は水素、
メチル、エチル、イソプロピル又はｔ−ブチル、Ｍｌは
Ｃａ又はＢａ。

ｍは０又は１、ｎは１又は２を示す）で表わされる化合
物、 ０式（Ｒ３）　ｋＭ２（ＯＲ，Ｌ　）　Ｍ（式中、Ｒ３
は炭素数１〜３のアルキル基又はビニル基、Ｒ４は水素
、メチル、エチル、イソプロピル又はｔ−ブチル、Ｒ２
はｌ！、Ｙ又はＬａ、にはＯ又は１、ｐは２又は３を示
す）で表わされる化合物、 Ｏ式（Ｒｓ　）　ｉ　Ｒ３（ＯＲｓ　）　ｊ（式中、Ｒ
５は炭素数１〜３のアルキル基又はビニル基、Ｒ６は水
素、メチル、エチル、イソプロピル又はｔ−ブチル、Ｒ
３はＴｉ５Ｚｒ、Ｍｎ、Ｓｎ、ＳＬ又は５ｒＳｉは０又
は１、ｊは３又は４を示す）で表わされる化合物、等を
挙げることができる。これらの化合物は１種又は２種以
上組み合わせて用いることができ、また２種以」−が縮
合しているものを用いてもよい。

上記セラミックス原料の具体例としては、Ｃａ　（ＯＣ
Ｈ３）　２　、Ｃａ　（ＯＣ２Ｒ５）　２、Ｃａ　（Ｏ
Ｃａ　Ｒ７）　２　、Ｃａ　（ＯＣａ　Ｒ９）　２、Ｂ
ａ　（ＯＣＨ３）　２　、Ｂａ　（ＯＣ２Ｒ５）　２、
Ｂａ　（ＯＣａ　Ｒ７）　２　、Ｂａ　（ＯＣａ　Ｈｇ
　）　２、Ａρ（ＯＣＨ３）　３　、Ａρ（ＯＣ２Ｒ５
）　３、Ａ！Ｑ　　（ＯＣ３Ｈ７）３　、Ａρ　（ＯＣ
Ａ　Ｒ９）３、ＣＨ３Ａρ　（ＯＣＨ３）２、ＣＨ３Ａ
ρ　（ＯＣ２Ｒ５）２、ＣＨ３Ａｆｆ　　（ＯＣ３Ｈ７
）２、ＣＨ３Ａ１）（ＯＣＡＨ９）２、Ｔｉ　　（ＯＣ
Ｈ３）　４、Ｔｉ　　（ＯＣ２Ｒ５）ｈ、Ｔｉ　　（Ｏ
Ｃａ　Ｒ７）４　、Ｔｉ　（ＯＣａ　Ｒ９）　４、ＣＨ
３Ｔｉ　（ＯＣＨ３）３、ＣＨ３Ｔｉ　（ＯＣ２Ｈ５）
３、ＣＨ３Ｔｉ　（ＯＣａ　Ｒ７）３、ＣＨ３Ｔｉ　（
ＯＣａ　Ｈｇ）３、Ｃ２Ｒ５Ｔｉ　（ＯＣＨ３）３、Ｃ
２Ｈｓ　Ｔｉ　（ＯＣ２Ｒ５）３、Ｃ２Ｒ５Ｔｉ　　（
ＯＣａ　Ｒ７）３、Ｃ２Ｒ５Ｔｉ　　（ＯＣａ　Ｒ９）
３、Ｓｉ　　（ＯＣＨ３）４、Ｓｉ　　（ＯＣ２Ｈ５）
４、Ｓｉ　　（ＯＣ３Ｈ７）４、Ｓｉ　　（ＯＣ４Ｈ９
）ＩＬ、ＣＨ３Ｓｉ　（ＯＣＨ３）３、ＣＨ３Ｓｉ　（
ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＨ３Ｓｉ　（ＯＣａ　Ｒ７）３、Ｃ
Ｈ３Ｓｌ　（ＯＣａ　Ｈｇ）３、Ｃ２Ｒ５Ｓｉ　（ＯＣ
Ｈ３）３、Ｃ２Ｒ５Ｓｉ　（ＯＣ２Ｒ５）３、Ｃ２Ｒ５
Ｓ　ｉ　　（ＯＣａ　Ｒ７）　３、Ｃ２Ｒ５Ｓｉ　（Ｏ
Ｃａ　Ｒ９）３　、Ｚｒ　（ＯＣＨ３）４、Ｚｒ　（Ｏ
Ｃ２Ｈｓ　）　４　、Ｚｒ　（ＯＣａ　Ｒ７）４、Ｚｒ
　（ＯＣａ　Ｈｇ　）ａ　、ＣＨ３Ｚｒ　（ＯＣＨ３）
３、ＣＨ３Ｚｒ　（ＯＣ２Ｈ５）　３　、ＣＨ３Ｚｒ　
（○Ｃ３Ｈｙ　）　３、ＣＨ３Ｚｒ　（ＯＣ４Ｈｇ）３
、Ｃ２Ｈ５Ｚｒ　（ＯＣＨ３）３、Ｃ２Ｈ５Ｚｒ　（Ｏ
Ｃ２Ｈｓ　）３、 Ｃ２Ｈ５Ｚｒ　（ＯＣ３Ｈｙ　）３、 Ｃ２Ｈ５Ｚｒ　（０’Ｃ４Ｈｇ　）３　、Ｙ　（ＯＣＨ
３）　３、Ｙ　（ＯＣ２Ｈ５）３　、Ｙ　（ＯＣ３Ｈｙ
　）３、Ｙ　（ＯＣ４Ｈｇ）３　、Ｌａ　（ＯＣＨ３）
３、Ｌａ　（ＯＣ２Ｈ５）３　、Ｌａ　（ＯＣ３Ｈｙ　
）３、Ｌａ　（ＯＣ４Ｈ９）３　、Ｍｎ　（ＯＣＨ３）
　４、Ｍｎ　（ＯＣ２Ｈ５）４　、Ｍｎ　（ＯＣ３Ｈｙ
　）ａ、Ｍｎ　（ＯＣＡ　Ｈｇ　）４　、Ｓｎ　（ＯＣ
Ｈ３）４、Ｓｎ　（ＯＣ２Ｈ５）４　、Ｓｎ　（ＯＣ３
Ｈｙ　）４、Ｓｎ　（ＯＣ４Ｈｇ）４、Ｓｒ　（ＯＣＨ
３）４、Ｓｒ　（ＯＣ２Ｈ５）ｔ　、Ｓｒ　（ＯＣ３Ｈ
ｙ　）Ａ、Ｓｒ　（ＯＣ４Ｈ９）４、Ｃａ　（ＯＨ）２
、Ｂａ　（ＯＨ）２、Ａρ　（ＯＨ）　３　、ＣＨ３Ａ
ρ　（ＯＨ）　２　、Ｔ　ｉ　（ＯＨ）　Ａ、ＣＨ３Ｔ
ｉ　（ＯＨ）　３　、Ｃ２Ｈ５Ｔｉ　（ＯＨ）　３、Ｓ
ｉ　（ＯＨ）４、ＣＨ３５ｉ　（ＯＨ）３、Ｃ２Ｈ５Ｓ
ｉ　（ＯＨ）　３　、Ｚｒ　（ＯＨ）　４、ＣＨ３Ｚｒ
　（ＯＨ）　３　、Ｃ２Ｈ５Ｚｒ　（ＯＨ）　３、Ｙ　
（ＯＨ）　３　、Ｌａ　（ＯＨ）　３　、Ｍｎ　（ＯＨ
）　４、Ｓ　ｎ　（ＯＨ）　４　、Ｓ　ｒ　（ＯＨ）　
４等を挙げることができる。また、これらの縮合物は、
上記化合物の任意の組み合わせにより自由に作製でき、
分子量も適宜選択できる。縮合物の一例としては、 Ｚｒ０３ｉ　（ＯＣ２Ｈ５）　６　、ＡρＯ８ｉ　（Ｏ
Ｃ２Ｈ５）　５、ＴｉＯ３ｉ　（ＯＣ２Ｈ５）　６、 （Ｃ３Ｈｙ　０）　３　Ｚ　ｒＯ８ｉ　（ＯＣ２Ｈ５）
　３、（Ｃ４Ｈｇ　Ｏ）　３　Ｚ　ｒＯ５１（ＯＣ２Ｈ
ｓ　）　３、（Ｃ３Ｈｙ　０）　３　ＴｉＯ３ｉ　（Ｏ
Ｃ２Ｈ５）　３、（Ｃ４Ｈ９０）　３　ＴｉＯ３ｉ　（
ＯＣ２Ｈｓ　）　３、（Ｃ３Ｈ７ｏ）　２　ＡρＯ５ｉ
　（ＯＣ２Ｈｓ　）　３、（Ｃ４Ｈ９０）　２　Ａｕ　
Ｏ８ｉ　（ＯＣ２Ｈ５）　３、等を示すことができる。

これらのセラミックス原料は、通常、有機溶剤、水、こ
れらの混合溶媒等に溶解又は分散して用いられるが、セ
ラミックス原料自体で液状のものは、そのまま用いるこ
とも可能である。有機溶剤は、公知のゾル−ゲル法の液
状組成物において用いられるものをいずれも使用でき、
例えば、メタノール、エタノール、プロパツール、ブタ
ノール等の低級アルコール類、エチレングリコールモノ
アルキルエーテル、ジエチレングリコールモノアルキル
エーテル、プロピレングリコールモノアルキルエーテル
、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテル等のア
ルキル基としてメチル、エチル、ブチル等を有する炭化
水素エーテルアルコール類、エチレングリコールモノア
ルキルエーテルアセテ−１−、ジエチレングリコールモ
ノアルキルエーテルアセテ−１−、プロピレングリコー
ルモノアルキルエーテルアセテート、ジプロピレングリ
コールモノアルキルエーテルアセテート等の上記炭化水
−１２〜 素エーテルアルコール類の酢酸エステル類、エトキシエ
チルアセテート等のアルコール類の酢酸エステル類、酢
酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等の
酢酸エステル類、アセトン等を用いることができる。

液状組成物中のセラミックス原料の濃度は、通常１０〜
１００重曾％程度とすればよく、使用する原料の性質に
応じて適宜決定すればよい。

また、上記セラミックス原料の液状組成物には、必要に
応じてコロイド状物質及び／又は無機微粉末を添加する
ことができる。コロイド状物質及び／又は無機微粉末の
添加によって、ゾル−ゲル法により形成されるセラミッ
クス層がより緻密化される。

本発明で用いられるコロイド状物質とは、１０〜１００
００オングストロ一ム程度の液状又は固体の粒子が分散
媒中に分散しているものをいい、各種の公知のものが使
用できる。分散媒としては、通常、上記した低級アルコ
ール類、炭化水素エーテルアルコール類、これらの酢酸
エステル類等の有機溶剤や水が単独又は混合して用いら
れており、コロイド物質の濃度は１０〜６０重量％程度
のものか一般的である。本発明では、このようなコロイ
ド状物質をいずれも用いることができる。コロイド状物
質の具体例としては、コロイド状シリカ、コロイド状ア
ルミナ、コロイド状酸化チタン、コロイド状酸化ジルコ
ン、コロイド状硅酸ジルコン、コロイド状水酸化アルミ
ニウム、コロイド状水酸化ジルコン等を挙げることかで
きる。

無機微粉末は、粒子径５〜１５０ｍμ程度のものが適当
であり、例えはアルミナ微粉末、酸化チタン微粉末、シ
リカ微粉末等を用いることができる。

コロイド状物質及び／又は無機微粉末は、セラミックス
原料の液状組成物中に７０重量％程度まで添加すること
ができ、好ましくは、３〜４０重量％程度添加すればよ
い。

上記セラミックス原料の液状組成物には、更に必要に応
じて、顔料、被覆補強材等を添加してもよい。顔料とし
ては、通常の無機系、有機系の顔料を用いることかでき
、例えば、酸化マグネシウム、窒化硅素、窒化硼素、窒
化チタン、酸化ニッケル、石英、シリカ、硅酸ジルコン
、アルミナ、酸化チタン、チタンイエロー、炭酸マグネ
シウム、ドロマイト、炭化硅素、炭化タングステン、酸
化鉄（赤、黒）、バリウムイエロー、アンチモンイエロ
ー、コバルトブルー、コバルトバイオレット、コバルト
グリーン、マンガンブラック、マンガンブルー、マンガ
ンバイオレット、ストロンチウムクロメート、タルク、
クロムオキサイドハイドレートグリーン、クロムオキサ
イドグリーン、亜鉛グリーン、炭酸バリウム、チョーク
、沈澱炭酸カルシウム、アルミナハイドレート、酸化亜
鉛、ホタル石、モリブデン赤、モリブデンオレンジ、ク
ロムイエロー、鉛クロメート、ウルトラマリーン、朱、
塩基性炭酸鉛、アゾ系顔料等を用いることができる。顔
料は、常法に従って顔料用充填剤、増粘剤等とともに用
いることができる。

被覆補強材は、無機質で繊維状のものをいい、この代表
例としてチタン酸カリウム、炭化硅素、窒化硅素、酸化
アルミニウム、ベリリア炭化硼素、硅酸塩ガラス、石英
などがある。

顔料は、液状組成物中に７０重量％程度まで添加するこ
とかでき、また被覆補強材は、液状組成物１：１．Ｊ　
ｉこ７０重量％程度まで添加することができる。

上記した液状組成物は、急速なゲル化を防止するために
ｐＨ２，５〜６．０程度に調整することか好ましい。ｐ
Ｈ調整には、例えば、塩酸、酢酸、クロロ酢酸、クエン
酸、マレイン酸、シュウ酸、）・ルエンスルホン酸、グ
ルタル酸、ジメチルマロン酸、安息香酸等の無機酸又は
有機酸を用いることができる。

また、上記液状組成物には、更に、室温では該液状組成
物をゲル化させることがなく、加熱によって解離して該
液状組成物の重合を加速することのできる緩衝化潜触媒
として、カルボン酸金属塩、アミンカルボキシレート、
四級アンモニウムカルボキシレート、硝酸塩等を液状組
成物ｒ１月こ１．５重量％程度まで添加することができ
る。このような緩衝化潜触媒としては、ジメチルアミン
アセテート、エタノールアミンアセテート、ジメチルア
ニリンホルメート、酢酸ナトリウム、プロピオン酸ナト
リウム、ギ酸カリウム、ギ酸ナトリウム、ベンジルトリ
メチルアンモニウムアセテート、硝酸ナトリウム、硝酸
アンモニウム等を例示できる。

本発明では、上記したセラミックス原料の液状組成物を
、セラミックス溶射層」二に、スプレー法、塗布法等に
よって塗布し、重合ゲル化させることによってセラミッ
クス層を形成させる。液状組成物の重合、ゲル化は、常
温でも進行するが、加熱することによって、ゲル化時間
が短縮され、また、重合密度が上かって、セラミックス
層がより緻密化する。加熱温度は特に限定はなく、高温
で加熱するほどセラミックス層をより緻密化することが
できるか、コスト面からは１００〜２５０°Ｃ程度で１
０〜３０分程度加熱することが適当である。

尚、ゾル−ゲル法によるセラミックス層では、ピンポー
ルの発生を完全に防止するために、セラミックス原料の
液状組成物の塗布、乾燥後、又は加熱硬化後に、更に、
該液状組成物を一層又は二層以上重ね塗りし、硬化させ
て二層以］二のセラミックス層を形成させることが好ま
しい。

ゾル−ケル法によるセラミックス層は、厚さ３〜１５０
μｍ程度とすればよい。

−Ｆ記した方法で、セラミックス溶射層及びゾル−ケル
法によるセラミックス層からなる複合セラミックス層を
設けてなる転がり軸受けは、絶縁性に優れたものとなり
、しかも該セラミックス層が充分な表面硬度を有するこ
とから、軸受箱に填め込む際に、軸受は表面に、傷が発
生することが防止される。また、ゾル−ゲル法によるセ
ラミックス層は、平滑性に優れているので、仕」−げ加
工を省略できる点においても有利であり、更に、溶射法
によるセラミックス層に比して若干硬度が低いので外部
からの衝撃を緩和する働きもする。

発明の効果 本発明によれは、簡単な方法で、優れた電気絶縁性を有
する転がり軸受けを作製することができる。該転がり軸
受けを用いることによって、保持器とて転動体との間で
の放電による電気腐食を防止することが可能となり、軸
受けの焼き付けによる主軸の回転不良の発生か避けられ
る。

実施例 以下に、実施例を示して本発明を更に詳細に説明する。

実施例１ 車輌用主電動機軸受けの外輪の表面に、サンドブラスト
にて下地処理を施した後、プラズマ溶射装置を使用して
、原料として、アルミナ／チタニア微粉末（平均粒子径
１０μｍ、アルミナ：チタニア（重量比）−６０：４０
）を用いて、プラズマ溶射法にて、３０μｍ厚のアルミ
ナ／チタニアのセラミックス溶射層を形成した。

一方、イソプロピルアルコール１５ｇ及び水１５ｇから
なる混合溶媒に、粒径２０ｍμの微粉末アルミナ１３ｇ
を加え、更に顔料としての酸化チタン２０ｇ・、硅酸ジ
ルコニウム２８ｇ、被覆補強材としてのチタン酸カリウ
ム繊維９ｇ、塩酸０．１ｇ・を添加した溶液に、メチル
トリメトキシシラン３０ｇを加えて混合し、セラミック
ス塗料組成物を調製した。この塗料組成物をスプレー法
により、上記セラミックス溶射層に塗布し、１５０℃で
３０分間加熱し、更に、同様にセラミックス塗料組成物
の塗布、加熱を行なって、合計厚さ３０μｍのゾル−ゲ
ル法による白色セラミックス層を形成させた。得られた
セラミックス層の組成は下記第１表に示す通りであった
。

第　　１　　表 得られた電気絶縁外転がり軸受けの性能評価試験を下記
第２表に示す方法によって行なった。結果を第３表に示
す。

第３表から判る様に、本発明の電気絶縁性軸受けは、良
好な電気絶縁性を有し、かつ耐用性に優れたものである
。

また、この電気絶縁性軸受けを、車輌用主電動機に取り
（＝Ｊけ、電動機を回転させて、通電性を調べたところ
、軸受けには電流は流れなかった。

一方、−］二重複合セラミックス層を設けてない軸受け
を用いて、同様の通電性試験を行なったところ、０．５
−１秒間に、１００〜９００ｍＡの電流力鋪り定された
。

実施例２ 車輌用車軸軸受けの内外輪の表面に、サンドブラスト法
によって下地処理を施した後、プラズマ溶射装置を用い
て、アルミナ微粉末を原料として、３０μｍのアルミナ
層を形成した。

一方、Ｚｒ（ＯＣ４Ｈｇ）４と Ｓ　ｉ　　（ＯＣ２Ｈ５）　４の部分縮合物（Ｃ４Ｈｇ
　Ｏ）　３　Ｚ　ｒ−０−８ｉ（ＯＣ２Ｈｓ　）　３３
５ｇに、イソプロピルアルコール１２ｇ及びブチルセル
ソルブ３　ｇ’を添加混合し、更に、顔料としてのアル
ミナ粉４０ｇ１被覆補強制としてのチタン酸カリウム繊
維９．５ｇ、酢酸０．５ｇを添加して、セラミックス塗
料組成物を調製した。この塗料組成物をスプレー法によ
って、上記セラミックス溶射層に塗布し、２００℃で２
０分間加熱して、厚さ３０μｍの白色セラミックス層を
形成させた。

得られた電気絶縁外転がり軸受けについて、実施例１の
第２表に示す性能試験を行なったところ、実施例１の軸
受けとほぼ同様の特性を有するものであった。

実施例３ 発電機用電動機軸受けの内輪の表面に、サンドプラトス
処理を行なった後、酸化ジルコニウム微粉末を用いてプ
ラズマ溶射によって厚さ１０μｍのセラミックス溶射層
を形成した。

一方、Ｓ　ｉ　　（ＯＣ２Ｈ５）４２２ｇにイソプロピ
ルアルコール１５．４ｇ、水６．６ｇ及び酢酸０．５ｇ
を添加した溶液に、 Ｔｉ　　（ＯＣ３Ｈｖ　）　４１１ｇを添加し、撹拌混
合して、５ｉ（ＯＣ２Ｈ５）、Ｌと Ｔ　ｉ　　（ＯＣ３Ｈ７）　４の縮合物を作り、更に、
これに硅酸ジルコニウム４０ｇ及びアルミナウィスカー
５ｇを添加、混合してセラミックス塗料組成物を得た。

この塗料組成物を、上記セラミックス溶射層」二に、ス
プレー法によって塗布し、１８０℃で２０分間加熱して
、厚さ３０μｍの白色のセラミックス層を形成した。

得られた電気絶縁性転がり軸受けについて、実施例１の
第２表に示す性能試験を行なったところ、実施例１の軸
受けとほぼ同様の特性を有するものであった。

実施例４ 実施例３において用いたＴｉ　　（ＯＣ３Ｈ７）　４に
代えて、Ａρ　（ＯＣ３Ｈ７）３を用いる以外は、実施
例３と同様にして、電気絶縁性転がり軸受けを作製した
。得られた軸受けは、実施例３の軸受けと同様の優れた
絶縁性能を有するものであった。

【図面の簡単な説明】

第１図は、ラジアル軸受けの斜視図、第２図は、スラス
ト玉軸受けの斜視図である。 １・・・内輪、２・・・内輪表面、３・・・外輪、４・
・・外輪外周表面、５・・・外輪外周側面、６・・・軌
道輪、７・・・軌道輪表面、８・・・転動体、９・・・
保持器。 （以　　　」二） −２８＝

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）転がり軸受けの軌道輪表面の少なくとも１部に、
   セラミックス溶射層からなる下層、及びゾル−ゲル法に
   よるセラミックス層からなる上層によって構成される複
   合セラミックス層を設けてなる電気絶縁性転がり軸受け
   。
2. （２）転がり軸受けの軌道輪表面の少なくとも１部に、
   セラミックス原料を溶射してセラミックス層を形成し、
   次いで該セラミックス層上にゾル−ゲル法により、セラ
   ミックス層を形成することを特徴とする電気絶縁性転が
   り軸受けの製造法。