JPH01279917A - 金属表面保護物質としてのキノリンオリゴマーの第四級塩 - Google Patents
金属表面保護物質としてのキノリンオリゴマーの第四級塩Info
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- JPH01279917A JPH01279917A JP1032504A JP3250489A JPH01279917A JP H01279917 A JPH01279917 A JP H01279917A JP 1032504 A JP1032504 A JP 1032504A JP 3250489 A JP3250489 A JP 3250489A JP H01279917 A JPH01279917 A JP H01279917A
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Classifications
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D215/00—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems
- C07D215/02—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D215/12—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with substituted hydrocarbon radicals attached to ring carbon atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
- C08G73/06—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
- C08G73/0683—Polycondensates containing six-membered rings, condensed with other rings, with nitrogen atoms as the only ring hetero atoms
- C08G73/0688—Polycondensates containing six-membered rings, condensed with other rings, with nitrogen atoms as the only ring hetero atoms with only one nitrogen atom in the ring, e.g. polyquinolines
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F11/00—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
衾囲q分国
本発明は新規のオリゴマーハロゲン化キノリニウム及び
かかる化合物の金属腐食防止剤としての使用に関する。
かかる化合物の金属腐食防止剤としての使用に関する。
発明の背景
酸による金属の腐食は多くの工業に於て遭遇する問題で
ある0例えば石油工業では、二次石油採収操作及び坑井
刺激操作に於て用いられる塩酸溶液及び他の腐食性物質
による油田管状機材及び同様な装置の腐食がかかる機材
や装置を腐食から保護するための腐食防止剤の使用を必
要として来た。
ある0例えば石油工業では、二次石油採収操作及び坑井
刺激操作に於て用いられる塩酸溶液及び他の腐食性物質
による油田管状機材及び同様な装置の腐食がかかる機材
や装置を腐食から保護するための腐食防止剤の使用を必
要として来た。
過去に於て、腐食防止剤として用いるために多くの異な
る型の物質が提案されて来た0例えば、米国特許第4.
028.268号には、ある種の特定の第四級化環式窒
素塩基、特殊なアセチレン系アルコール、特殊な界面活
性剤及び蟻酸誘導体を含む多成分防止剤調合物が記載さ
れている。
る型の物質が提案されて来た0例えば、米国特許第4.
028.268号には、ある種の特定の第四級化環式窒
素塩基、特殊なアセチレン系アルコール、特殊な界面活
性剤及び蟻酸誘導体を含む多成分防止剤調合物が記載さ
れている。
米国特許第4,387.041号には、酸と腐食防止剤
としての3−ジアルキルアミノ−3−(置換)工ニル)
−プロブ−1−インとを含む金属の腐食防止用水性組成
物が記載されている。
としての3−ジアルキルアミノ−3−(置換)工ニル)
−プロブ−1−インとを含む金属の腐食防止用水性組成
物が記載されている。
米国特許第4,341,657号には、キノリン及びピ
リジン化合物から誘導されたポリマーが金属腐食割とし
て有用であるとして記載されている。この文献中で、ポ
リマーはポリキノリン及びポリピリジンであると言われ
ているがこれらのポリマーはそれぞれの構造中に反復キ
ノリンまたはピリジン部分を有していない。
リジン化合物から誘導されたポリマーが金属腐食割とし
て有用であるとして記載されている。この文献中で、ポ
リマーはポリキノリン及びポリピリジンであると言われ
ているがこれらのポリマーはそれぞれの構造中に反復キ
ノリンまたはピリジン部分を有していない。
米国特許第4.676.834号中には、油井及びガス
井の稼働に於ける腐食防止剤として使用するための新規
組成物が記載されている。かかる組成物はキノリンと例
えば脂環式モノアルデヒドとの反応生成物を含む。
井の稼働に於ける腐食防止剤として使用するための新規
組成物が記載されている。かかる組成物はキノリンと例
えば脂環式モノアルデヒドとの反応生成物を含む。
前記文献の記載にも拘らず、腐食防止、特に高度酸性溶
液中での金属の腐食防止に有効でありかつ例えば深掘前
操作及び他の高温、腐食性環境に於て使用することがで
きるように比較的高い熱安定性を有する新規物質の探究
が続けられている。
液中での金属の腐食防止に有効でありかつ例えば深掘前
操作及び他の高温、腐食性環境に於て使用することがで
きるように比較的高い熱安定性を有する新規物質の探究
が続けられている。
米国特許第4,727.135号には、キノリンオリゴ
マーの接触脱水素製造方法が記載されている。
マーの接触脱水素製造方法が記載されている。
光里q栗W
簡単に言うと、本発明は、キノリンオリゴマー、すなわ
ち式 (上記式中、nは2より大きい整数である)によって示
される反復ポリキノリン部分を有するオリゴマーがハロ
ゲン化p−アルキルベンジル、p−α−ジハロキシレン
、硫酸ジアルキルなどのようなアルキル化剤と反応して
、腐食防止剤として特に有用な新規第四ポリキノリニウ
ム塩を生成するという発見に基づくものである。かくし
て、本発明の1つの面は式 (上記式中、n及びmは整数であって、nは2より大き
くかつ約200まででありかつmは1に等しいかまたは
1より大きくかつ約100までである。また、Rは水素
または1〜約20個の炭素原子を有するアルキル基であ
りかつR1は1〜約20個の炭素原子を有するアルキル
基である。上記式中、Xは塩化物、臭化物及び沃化物イ
オンのようなハロゲン化物イオンでありかつZはSO4
“、Cl0a−、BF4− 、I −、PF6−及びI
SO,−のような陰イオンである) によって示される新規第四キノリニウム塩を含む。
ち式 (上記式中、nは2より大きい整数である)によって示
される反復ポリキノリン部分を有するオリゴマーがハロ
ゲン化p−アルキルベンジル、p−α−ジハロキシレン
、硫酸ジアルキルなどのようなアルキル化剤と反応して
、腐食防止剤として特に有用な新規第四ポリキノリニウ
ム塩を生成するという発見に基づくものである。かくし
て、本発明の1つの面は式 (上記式中、n及びmは整数であって、nは2より大き
くかつ約200まででありかつmは1に等しいかまたは
1より大きくかつ約100までである。また、Rは水素
または1〜約20個の炭素原子を有するアルキル基であ
りかつR1は1〜約20個の炭素原子を有するアルキル
基である。上記式中、Xは塩化物、臭化物及び沃化物イ
オンのようなハロゲン化物イオンでありかつZはSO4
“、Cl0a−、BF4− 、I −、PF6−及びI
SO,−のような陰イオンである) によって示される新規第四キノリニウム塩を含む。
本発明のさらにもう1つの実施態様に於て、弐(上記式
中、nは2〜約200である)のポリキノリンオリゴマ
ーまたはその混合物を、(上記式中、XはCI、Br又
は■であり、RはHまたは1〜約20個の炭素原子を有
するアルキル基でありかつR1は1〜約20個の炭素原
子を有するアルキル基である) のようなアルキル及びベンジル化合物並びにジメトキシ
及びジェトキシカルボニウムテトラフルオロ硼素酸塩及
びトリメチル及びトリエチルオキソニウムテトラフルオ
ロ硼素酸塩のようなジアルコキシカルボニウム塩及びト
リアルキルオキソニウム塩から選ばれるアルキル化剤と
反応させることによって製造されるポリキノリンオリゴ
マーの第四級アンモニウム塩の腐食防止量を含む金属の
腐食防止用に特に適した新規組成物が提供される。
中、nは2〜約200である)のポリキノリンオリゴマ
ーまたはその混合物を、(上記式中、XはCI、Br又
は■であり、RはHまたは1〜約20個の炭素原子を有
するアルキル基でありかつR1は1〜約20個の炭素原
子を有するアルキル基である) のようなアルキル及びベンジル化合物並びにジメトキシ
及びジェトキシカルボニウムテトラフルオロ硼素酸塩及
びトリメチル及びトリエチルオキソニウムテトラフルオ
ロ硼素酸塩のようなジアルコキシカルボニウム塩及びト
リアルキルオキソニウム塩から選ばれるアルキル化剤と
反応させることによって製造されるポリキノリンオリゴ
マーの第四級アンモニウム塩の腐食防止量を含む金属の
腐食防止用に特に適した新規組成物が提供される。
本発明のさらにもう1つの実施態様に於ては、式
(上記式中、原子価結合は任意の環位置に於て結合され
ることができかつnは2より大きい任意の整数である) を有するポリキノリンオリゴマーの新規第四級誘導体を
、かかるポリキノリンオリゴマーを式(上記式中、Rは
Hまたは1〜約20個の炭素原子を有するアルキル基で
ありかつR1は1〜約20個の炭素原子を有するアルキ
ル基である)を有するハロゲン化ベンジル及び硫酸アル
キル並びにジアルコキシカルボニウム塩及びトリアルキ
ルオキソニウム塩から選ばれるアルキル化剤と反応させ
ることによって製造する方法が提供される。
ることができかつnは2より大きい任意の整数である) を有するポリキノリンオリゴマーの新規第四級誘導体を
、かかるポリキノリンオリゴマーを式(上記式中、Rは
Hまたは1〜約20個の炭素原子を有するアルキル基で
ありかつR1は1〜約20個の炭素原子を有するアルキ
ル基である)を有するハロゲン化ベンジル及び硫酸アル
キル並びにジアルコキシカルボニウム塩及びトリアルキ
ルオキソニウム塩から選ばれるアルキル化剤と反応させ
ることによって製造する方法が提供される。
本発明のこれらの実施態様及び他の実施態様は以下の“
詳細な説明”を読むことによってよりよく理解されるで
あろう。
詳細な説明”を読むことによってよりよく理解されるで
あろう。
衾皿■用貫星脱貝
硫化レニウムを触媒として用いる1、2,3゜4−テト
ラヒドロキノリンの接触脱水素的重合は式1に示される
ように進行する。
ラヒドロキノリンの接触脱水素的重合は式1に示される
ように進行する。
基本的には、工業用1. 2. 3. 4−テトラヒド
ロキノリンをさらに精製することなく使用してキノリン
オリゴマーを製造することができる。
ロキノリンをさらに精製することなく使用してキノリン
オリゴマーを製造することができる。
一般に、キノリンオリゴマーの製造に於て、好ましい硫
化レニウム触媒は約0.02〜約30rd/gの表面積
を有する無定形粉末である。これらの触媒は、典型的に
は、過レニウム酸アンモニウムまたは塩化レニウム(V
)の硫化水素または硫化リチウムとの反応によって製造
される。適当な硫化レニウム触媒を製造するための別法
は米国特許第4.308.171号に記載されておりが
っ参照文として本明細書に含まれるものとする。
化レニウム触媒は約0.02〜約30rd/gの表面積
を有する無定形粉末である。これらの触媒は、典型的に
は、過レニウム酸アンモニウムまたは塩化レニウム(V
)の硫化水素または硫化リチウムとの反応によって製造
される。適当な硫化レニウム触媒を製造するための別法
は米国特許第4.308.171号に記載されておりが
っ参照文として本明細書に含まれるものとする。
前記方法で得られた粗製生成物は必要ならば触媒から分
離されかつ本明細書中の実施例に記載されているような
溶剤抽出技術によって精製される。
離されかつ本明細書中の実施例に記載されているような
溶剤抽出技術によって精製される。
前記方法によって得られたオリゴマーの分子量分布は、
温度及び圧力のような反応条件並びに反応生成物を分離
するために用いられる方法によって、パンチ毎に異なる
傾向がある。従って、本発明の腐食防止組成物の開発に
於て遂行される種々の実験に於ける一貫性を保証するた
め、酢酸に可溶でかつジエチルエーテル3容対クロロホ
ルム1容の比を有するジエチルエーテル−クロロホルム
混合物に不溶であるオリゴマーの分画を用いた。
温度及び圧力のような反応条件並びに反応生成物を分離
するために用いられる方法によって、パンチ毎に異なる
傾向がある。従って、本発明の腐食防止組成物の開発に
於て遂行される種々の実験に於ける一貫性を保証するた
め、酢酸に可溶でかつジエチルエーテル3容対クロロホ
ルム1容の比を有するジエチルエーテル−クロロホルム
混合物に不溶であるオリゴマーの分画を用いた。
この分画はその’H−NMRを特徴としかつ6の平均反
復キノリン単位を有するキノリンオリゴマーからなるこ
とがわかっている。しかし、試験の目的のためには、6
の反復キノリン単位を有するポリキノリンオリゴマーを
用いることが好ましかったが、一般に、約2〜約200
、好ましくは約5〜13の範囲の反復単位を有するキノ
リンオリゴマーは本発明の実施に於て全く適当であるこ
とは容易に理解されるべきである。
復キノリン単位を有するキノリンオリゴマーからなるこ
とがわかっている。しかし、試験の目的のためには、6
の反復キノリン単位を有するポリキノリンオリゴマーを
用いることが好ましかったが、一般に、約2〜約200
、好ましくは約5〜13の範囲の反復単位を有するキノ
リンオリゴマーは本発明の実施に於て全く適当であるこ
とは容易に理解されるべきである。
キノリンオリゴマーは、アルキル化剤、特に(上記式中
、XはCIt % BrまたはIであり、Rは水素また
は1〜約20個の炭素原子を有するアルキル基でありか
つR1は1〜約20個の炭素原子を有するアルキル基で
ある) のようなハロゲン化p−アルキルベンジル、ジハロキシ
レン、硫酸ジアルキル、ジアルコキシカルボニウム塩及
びトリアルキルオキソニウム塩との相互作用によって新
規第四アンモニウム化合物へ転化される。
、XはCIt % BrまたはIであり、Rは水素また
は1〜約20個の炭素原子を有するアルキル基でありか
つR1は1〜約20個の炭素原子を有するアルキル基で
ある) のようなハロゲン化p−アルキルベンジル、ジハロキシ
レン、硫酸ジアルキル、ジアルコキシカルボニウム塩及
びトリアルキルオキソニウム塩との相互作用によって新
規第四アンモニウム化合物へ転化される。
例えば、約25℃〜150℃の範囲の温度に於て、好ま
しくは約90℃に於て、適当な溶媒中に於けるキノリン
オリゴマーとハロゲン化ベンジル及びハロゲン化p−置
換ベンジルとのアルキル化反応によってキノリンオリゴ
マーの種々の第四級塩を製造することができる。この反
応は式2で示される。
しくは約90℃に於て、適当な溶媒中に於けるキノリン
オリゴマーとハロゲン化ベンジル及びハロゲン化p−置
換ベンジルとのアルキル化反応によってキノリンオリゴ
マーの種々の第四級塩を製造することができる。この反
応は式2で示される。
この反応を行う際、オリゴマーに対しかつハロゲン化ベ
ンジルに対して反応性でない任意の有機物質を溶媒とし
て用いることができる。適当であることがわかったこれ
らの溶媒中には、トルエン、クロロホルム及びジメチル
スルホキシドがある。
ンジルに対して反応性でない任意の有機物質を溶媒とし
て用いることができる。適当であることがわかったこれ
らの溶媒中には、トルエン、クロロホルム及びジメチル
スルホキシドがある。
一般に、反応は僅かに過剰のハロゲン化ベンジルを用い
て行われる。
て行われる。
式2中に示されているように、明らかにキノリン部分間
の立体的影響のために、キノリンオリゴマーは完全には
第四級化されていない。それにも拘らず、キノリン部分
の50%までが第四級化され得ることがわかった。
の立体的影響のために、キノリンオリゴマーは完全には
第四級化されていない。それにも拘らず、キノリン部分
の50%までが第四級化され得ることがわかった。
本発明のもう1つの実施態様に於ては、キノリンオリゴ
マーをp−α−ジハロキシレンのようなハロゲン化ジア
ルキルアリールと反応させることによってポリキノリン
鎖を第四級化して複第四級塩(dowble quat
ernarg 5alt>を製造することができる。こ
の反応は下記の式3で示される。
マーをp−α−ジハロキシレンのようなハロゲン化ジア
ルキルアリールと反応させることによってポリキノリン
鎖を第四級化して複第四級塩(dowble quat
ernarg 5alt>を製造することができる。こ
の反応は下記の式3で示される。
基本的に、この反応を行う際には同じ型の溶媒及び温度
条件を用いることができる。しかし、−最に、この場合
には過剰のキノリンオリゴマーが用いられる。
条件を用いることができる。しかし、−最に、この場合
には過剰のキノリンオリゴマーが用いられる。
本発明のさらにもう1つの実施態様に於ては、キノリン
オリゴマーは、式4で示されるように硫酸ジアルキルと
の反応によって、及び別法ではそれぞれ式5及び6で示
されるようにテトラフルオロ硼素酸塩のようなジアルコ
キシカルボニウム塩またはトリアルキルオキソニウム塩
によって第四級化される。
オリゴマーは、式4で示されるように硫酸ジアルキルと
の反応によって、及び別法ではそれぞれ式5及び6で示
されるようにテトラフルオロ硼素酸塩のようなジアルコ
キシカルボニウム塩またはトリアルキルオキソニウム塩
によって第四級化される。
? 3 つ
〒 +++ 上に挙げた同様な溶媒及び温度条件が用いられる。また
、この場合にも、僅か過剰のアルキル化剤が用いられる
。
〒 +++ 上に挙げた同様な溶媒及び温度条件が用いられる。また
、この場合にも、僅か過剰のアルキル化剤が用いられる
。
上記のようにして得られたアルキルオリゴマーキノリン
塩の陰イオンを適当な耐塩(countersalt)
との反応によってもう1つの陰イオンと交換することが
できる。例えば、硫酸メチルキノリニウムは水溶性であ
る。硫酸メチルキノリンの水溶液へ過塩素酸テトラブチ
ルアンモニウムを添加するとテトラフルオロ硼酸メチル
キノリニウムの沈殿が得られる。
塩の陰イオンを適当な耐塩(countersalt)
との反応によってもう1つの陰イオンと交換することが
できる。例えば、硫酸メチルキノリニウムは水溶性であ
る。硫酸メチルキノリンの水溶液へ過塩素酸テトラブチ
ルアンモニウムを添加するとテトラフルオロ硼酸メチル
キノリニウムの沈殿が得られる。
本発明の実施によって製造された第四アンモニウム塩は
種々の分光法(’)I−8MR113C−NMR,I
R。
種々の分光法(’)I−8MR113C−NMR,I
R。
及び質量分光法)によって及び元素分析によって同定さ
れた。
れた。
達成される第四級化度は、少なくとも原理的には、6.
5〜6.9 pPmのベンジルプロトンシグナルと7.
4〜11.0 ppmの芳香族プロトンシグナル(’H
−NMR)との間のピーク強度比から概算することがで
きる。事実、この方法が用いられたが、得られた結果は
元素分析から得られた値より少し低い傾向があった。
5〜6.9 pPmのベンジルプロトンシグナルと7.
4〜11.0 ppmの芳香族プロトンシグナル(’H
−NMR)との間のピーク強度比から概算することがで
きる。事実、この方法が用いられたが、得られた結果は
元素分析から得られた値より少し低い傾向があった。
本発明の新規第四級化合物は、特に水溶液で、新規の腐
食防止用組成物として用いることができる。水溶液で用
いられる第四アンモニウム塩の濃度は勿論広い範囲にわ
たって変わる。腐食防止剤として用いられる第四アンモ
ニウム化合物の有効量は有効な量であると言えば十分で
ある。任意の特別な適用に於て、腐食防止量は、勿論、
腐食に対して保護されるべき金属の性質、腐食性酸、酸
濃度、温度及び同様な変数に依存する。しかし、一般に
は、本発明の腐食防止組成物は、腐食防止剤と酸水溶液
との全重量基準で約0.01〜約4重量%、好ましくは
約0.05〜2重量%の範囲の量で用いられるときに有
効であることが発見された。
食防止用組成物として用いることができる。水溶液で用
いられる第四アンモニウム塩の濃度は勿論広い範囲にわ
たって変わる。腐食防止剤として用いられる第四アンモ
ニウム化合物の有効量は有効な量であると言えば十分で
ある。任意の特別な適用に於て、腐食防止量は、勿論、
腐食に対して保護されるべき金属の性質、腐食性酸、酸
濃度、温度及び同様な変数に依存する。しかし、一般に
は、本発明の腐食防止組成物は、腐食防止剤と酸水溶液
との全重量基準で約0.01〜約4重量%、好ましくは
約0.05〜2重量%の範囲の量で用いられるときに有
効であることが発見された。
本発明を以下実施例によってさらに説明する。
実施例1
キノリニオリゴマー〇ム
以下の実施例中で用いられるキノリンオリゴマーは下記
の方法で製造された。冷却器と不活性気体バブラーとを
備えた1つ口丸底フラスコに200gの1.2,3.4
−テトラヒドロキノリンと5gの硫化レニウム触媒とを
仕込んだ。この混合物をアルゴン雰囲気下に保ちかつ加
熱用マントル中で200℃に於て6時間及び次に270
℃に於て1週間加熱した0反応の終了時に、得られた混
合物を室温へ冷却して暗色固体を得た。氷酢酸(80〇
−)を溶媒として用いるソックスレー抽出によって、生
成物を触媒粒子から単離した。この酢酸溶液を次に80
℃に於ける真空下での溶媒蒸発によって100d未満へ
濃縮し、次に21の水を加えて橙色半固体を沈殿させた
。この橙色半固体を濾過し、希(IN)水酸化ナトリウ
ム溶液中の水で洗浄した。この固体を次に500−のメ
タノール中で2日間攪拌した。得られた不溶性黄色固体
を濾過し、メタノールで洗って第1分画60gを得た。
の方法で製造された。冷却器と不活性気体バブラーとを
備えた1つ口丸底フラスコに200gの1.2,3.4
−テトラヒドロキノリンと5gの硫化レニウム触媒とを
仕込んだ。この混合物をアルゴン雰囲気下に保ちかつ加
熱用マントル中で200℃に於て6時間及び次に270
℃に於て1週間加熱した0反応の終了時に、得られた混
合物を室温へ冷却して暗色固体を得た。氷酢酸(80〇
−)を溶媒として用いるソックスレー抽出によって、生
成物を触媒粒子から単離した。この酢酸溶液を次に80
℃に於ける真空下での溶媒蒸発によって100d未満へ
濃縮し、次に21の水を加えて橙色半固体を沈殿させた
。この橙色半固体を濾過し、希(IN)水酸化ナトリウ
ム溶液中の水で洗浄した。この固体を次に500−のメ
タノール中で2日間攪拌した。得られた不溶性黄色固体
を濾過し、メタノールで洗って第1分画60gを得た。
メタノール濾液を次に濃縮し、500−のジエチルエー
テルを加え、固体の沈殿を得た。この固体を濾過によっ
て分離し、エーテルで洗って40gの黄色固体を得た。
テルを加え、固体の沈殿を得た。この固体を濾過によっ
て分離し、エーテルで洗って40gの黄色固体を得た。
これら2つの分画を次に合わせ、クロロホルムとエーテ
ルとの1=3の容積比の溶液で洗って以下の実施例で用
いられるキノリンオリゴマーを得た。
ルとの1=3の容積比の溶液で洗って以下の実施例で用
いられるキノリンオリゴマーを得た。
大施拠l二l
これらの実施例は本発明の実施によって臭化ベンジルキ
ノリニウムオリゴマー(BQO)の合成を示す。これら
の反応に於て、1つ口丸底フラスコに冷却器を連結し、
100mの溶媒、実施例1で製造したキノリンオリゴマ
ー6.4g及び10.3gのブロモメチルベンゼンを仕
込んだ。各実施例で用いた溶媒は表1に示しである。混
合物を溶媒の還流温度または90℃のいずれか、どちら
でも低い方で、少なくとも10時間攪拌した。反応混合
物を次に室温へ冷却し、600−のジエチルエーテルを
加えて生成物を沈殿させた。沈殿を濾過によって分離し
、エーテルで洗浄し、真空中で乾燥してオリゴマー臭化
ベンジルキノリニウムを表1に示した収率で得た。表1
には第四アンモニウム塩と反応した存在するキノリニウ
ムオリゴマーの窒素原子の分率をも欄見出し“Y゛で示
してある。
ノリニウムオリゴマー(BQO)の合成を示す。これら
の反応に於て、1つ口丸底フラスコに冷却器を連結し、
100mの溶媒、実施例1で製造したキノリンオリゴマ
ー6.4g及び10.3gのブロモメチルベンゼンを仕
込んだ。各実施例で用いた溶媒は表1に示しである。混
合物を溶媒の還流温度または90℃のいずれか、どちら
でも低い方で、少なくとも10時間攪拌した。反応混合
物を次に室温へ冷却し、600−のジエチルエーテルを
加えて生成物を沈殿させた。沈殿を濾過によって分離し
、エーテルで洗浄し、真空中で乾燥してオリゴマー臭化
ベンジルキノリニウムを表1に示した収率で得た。表1
には第四アンモニウム塩と反応した存在するキノリニウ
ムオリゴマーの窒素原子の分率をも欄見出し“Y゛で示
してある。
表1
3 トルエン 66% 0.384
クロロホルム 68% 0.55 ジ
メチルスルホキシド 80% 0.5実施例6〜
9 これらの実施例は架橋臭化ベンジル(p−α−キシレニ
ル)キノリニウムオリゴマー(CBQO)の合成を示す
、これらの実施例では、冷却器を連結した1つ日丸底フ
ラスコに、溶媒100−1実施例1の方法で得たキノリ
ンオリゴマー6.4g及びp−α−ジブロモキシレン7
.9gを仕込んだ。この反応混合物を、溶媒の還流温度
か90℃かのいずれかの低い方の温度に於て、少なくと
も10時間攪拌した0反応混合物を次に室温へ冷却し、
600mのジエチルエーテルを加えて生成物を沈殿させ
た。沈殿を濾過し、エーテルで洗浄しかつ真空中で乾燥
して下記表2中に示す臭化p−α−キシレニルキノリニ
ウムオリゴマーを得た。表2には、実験操作に用いられ
た溶媒並びにキノリンオリゴマーの収率及び第四級化度
(Y)も示しである。
クロロホルム 68% 0.55 ジ
メチルスルホキシド 80% 0.5実施例6〜
9 これらの実施例は架橋臭化ベンジル(p−α−キシレニ
ル)キノリニウムオリゴマー(CBQO)の合成を示す
、これらの実施例では、冷却器を連結した1つ日丸底フ
ラスコに、溶媒100−1実施例1の方法で得たキノリ
ンオリゴマー6.4g及びp−α−ジブロモキシレン7
.9gを仕込んだ。この反応混合物を、溶媒の還流温度
か90℃かのいずれかの低い方の温度に於て、少なくと
も10時間攪拌した0反応混合物を次に室温へ冷却し、
600mのジエチルエーテルを加えて生成物を沈殿させ
た。沈殿を濾過し、エーテルで洗浄しかつ真空中で乾燥
して下記表2中に示す臭化p−α−キシレニルキノリニ
ウムオリゴマーを得た。表2には、実験操作に用いられ
た溶媒並びにキノリンオリゴマーの収率及び第四級化度
(Y)も示しである。
7 トルエン 80% 0.358
クロロホルム 75% 0.59 ジメ
チルスルホキシド 95% 0.5ス1」(L更 本実施例は硫酸メチルキノリニウムオリゴマー(MQO
)の合成を示す。この反応では、1つ日丸底フラスコに
冷却器を連結し、クロロホルム1001111、実施例
1で製造したキノリンオリゴマー6.4g及び硫酸ジメ
チル10gを仕込んだ。この混合物をクロロホルムの還
流温度に於て少なくとも10時間攪拌した0反応混合物
を次に室温へ冷却し、60(ldのジエチルエーテルを
加えて生成物を沈殿させた。沈殿を濾過によって分離し
、エーテルで洗浄しかつ真空中で乾燥してオリゴマー硫
酸メチルキノリニウムを収率92%で得た。
クロロホルム 75% 0.59 ジメ
チルスルホキシド 95% 0.5ス1」(L更 本実施例は硫酸メチルキノリニウムオリゴマー(MQO
)の合成を示す。この反応では、1つ日丸底フラスコに
冷却器を連結し、クロロホルム1001111、実施例
1で製造したキノリンオリゴマー6.4g及び硫酸ジメ
チル10gを仕込んだ。この混合物をクロロホルムの還
流温度に於て少なくとも10時間攪拌した0反応混合物
を次に室温へ冷却し、60(ldのジエチルエーテルを
加えて生成物を沈殿させた。沈殿を濾過によって分離し
、エーテルで洗浄しかつ真空中で乾燥してオリゴマー硫
酸メチルキノリニウムを収率92%で得た。
大旌勇土土
本実施例は本発明の第四アンモニウム塩の腐食防止性を
決定する方法を示す、これらの試験では、2種の鋼試料
、すなわち冷間圧延鋼及びステンレス鋼304を用いた
。−船釣試験法では、適当な金属表面を金属布で磨き、
次に蒸留水及びアセトンで洗った後、試験する。勿論、
比較のため、冷間圧延鋼及びステンレス鋼304を、腐
食防止剤の存在下に於て下記表3に示した濃度を有する
酸で処理することによって不在下での腐食試験を行った
。その後で、種々の金属表面を下表に示した腐食防止剤
の指定量を含む酸で処理し、表面上の相対的金属腐食活
性を試験中の重量損失で解釈した。基本的には、表3中
に示されるように、本発明の化合物は強酸性水溶液中で
有効な金属腐食防止剤である。
決定する方法を示す、これらの試験では、2種の鋼試料
、すなわち冷間圧延鋼及びステンレス鋼304を用いた
。−船釣試験法では、適当な金属表面を金属布で磨き、
次に蒸留水及びアセトンで洗った後、試験する。勿論、
比較のため、冷間圧延鋼及びステンレス鋼304を、腐
食防止剤の存在下に於て下記表3に示した濃度を有する
酸で処理することによって不在下での腐食試験を行った
。その後で、種々の金属表面を下表に示した腐食防止剤
の指定量を含む酸で処理し、表面上の相対的金属腐食活
性を試験中の重量損失で解釈した。基本的には、表3中
に示されるように、本発明の化合物は強酸性水溶液中で
有効な金属腐食防止剤である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、キノリンオリゴマーの第四級化誘導体を含む新規組
成物であって、該誘導体が式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 及び より大きくかつ約200までであり、mは1に等しいか
または1より大きく、RはHまたは1〜約20個の炭素
原子を有するアルキル基であり、R^1は1〜約20個
の炭素原子を有するアルキル基であり、X^−は塩化物
、臭化物または沃化物でありかつZ^−はBF_4^−
、SO_4^−、ClO_4^−、PF_6^−、及び
HSO_4^−から選ばれる陰イオンである)を有する
組成物。 2、該誘導体が式 ▲数式、化学式、表等があります▼ を有する請求項1記載の組成物。 3、該誘導体が式 ▲数式、化学式、表等があります▼ を有する請求項1記載の組成物。 4、該誘導体が式 ▲数式、化学式、表等があります▼ を有する請求項1記載の組成物。 5、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (上記式中、nは2〜約200である) を有するキノリンオリゴマーまたはその混合物の第四級
アンモニウム誘導体の製造法であって、該オリゴマーを
、約25℃を越えて約150℃までの温度に於て、 ▲数式、化学式、表等があります▼ (上記式中、XはCl、BrまたはIであり、RはHま
たは1〜約20個の炭素原子のアルキル基でありかつR
^1は1〜約20個の炭素原子のアルキル基である) からなる群から選ばれるアルキル化剤と接触させること
を含み、かつ該接触が該第四アンモニウム誘導体を生成
するのに十分な時間である製造法。 6、該接触が有機溶媒中で行われる請求項5記載の製造
法。 7、該アルキル化剤が ▲数式、化学式、表等があります▼ でありかつ該オリゴマーより過剰に存在する請求項6記
載の製造法。 8、該アルキル化剤が ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、かつ該オリゴマーが該アルキル化剤より過剰に
存在する請求項6記載の製造法。9、該アルキル化剤が
(R^1O)_2SO_2である請求項6記載の製造法
。 10、ポリキノリンオリゴマー及びその混合物の第四級
化誘導体で金属を処理することを含む金属の腐食防止方
法であって、該誘導体が式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼ 及び (上記式中、n及びmは整数であって、nは2より大き
くかつ約200まででありかつmは1に等しいか1より
大きく、RはHまたは1〜約20個の炭素原子を有する
アルキル基であり、R^1は1〜約20個の炭素原子を
有するアルキル基であり、X^−は塩化物、臭化物また
は沃化物でありかつZ^−はBF_4^−、SO_4^
−、ClO_4^−、PF_6^−及びHSO_4^−
から選ばれる陰イオンである)を有する方法。
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