JPH01271934A - Optical information recording medium and its production - Google Patents

Optical information recording medium and its production

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JPH01271934A
JPH01271934A JP63099308A JP9930888A JPH01271934A JP H01271934 A JPH01271934 A JP H01271934A JP 63099308 A JP63099308 A JP 63099308A JP 9930888 A JP9930888 A JP 9930888A JP H01271934 A JPH01271934 A JP H01271934A
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JP
Japan
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optical information
information recording
recording medium
recording layer
layer
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Application number
JP63099308A
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Japanese (ja)
Inventor
Akira Goto
明 後藤
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Maxell Ltd
Original Assignee
Hitachi Maxell Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To easily and inexpensively produce the optical information recording medium suitable for high-density recording by uniformly dispersing a material which is higher in melting temp., decomposing temp. or sublimation temp. than the main material of a recording layer into said layer. CONSTITUTION:An underlying layer 2 consisting of polytetrafluoroethylene is formed to about 40nm thickness by a high-frequency sputtering method on the signal pattern surface of a PC substrate 1. The recording layer 3 is then formed to about 27nm thickness by the high-frequency sputtering method on the layer 2. The sputtering conditions of this time are a tellurium-selenium-lead alloy as a target, 40W throwing power, gaseous mixture composed of argon and H2O as the gas to be introduced, 5X10<-1>Pa gaseous argon pressure, and 7XPa partial pressure of H2O. The recording layer uniformly incorporated with tellurium oxide, selenium oxide, and the oxides such as lead oxide into the tellurium-selenium-lead alloy is thus formed. The substrate is taken out into the air after the formation and is subjected to a baking treatment for about 30 minutes at 80 deg.C.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、所謂穴あけタイプの記録層を備えた光情報記
録媒体に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to an optical information recording medium provided with a so-called perforated type recording layer.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来より、集束された放射線ビームを照射することによ
って、記録層に情報を穴(ピット)の形で記録するよう
にした光情報記録媒体が知られている。
2. Description of the Related Art Conventionally, optical information recording media have been known in which information is recorded in the form of holes (pits) in a recording layer by irradiation with a focused radiation beam.

この穴あけタイプの光情報記録媒体におけるピット形成
メカニズムはおよそ次の通りであると推定されている。
The mechanism of pit formation in this perforation type optical information recording medium is estimated to be approximately as follows.

まず、第4図(a)に示すように。First, as shown in FIG. 4(a).

記録層11に対物レンズ12より集束された放射線ビー
ム、例えばレーザビーム13を照射すると、記録711
1の放射線ビーム照射部がその光熱効果によって加熱さ
れ、その記録層材料の種類に応じて融解または分解とい
った熱的変形を生じる。なお1図中の符号14は透明基
板、15は下地層を示している。そして、第4図(b)
に示すように。
When the recording layer 11 is irradiated with a radiation beam, for example a laser beam 13, focused by the objective lens 12, a recording 711
One radiation beam irradiation portion is heated by its photothermal effect, causing thermal deformation such as melting or decomposition depending on the type of recording layer material. Note that the reference numeral 14 in FIG. 1 indicates a transparent substrate, and the reference numeral 15 indicates a base layer. And Fig. 4(b)
As shown.

最も高温になる中心が蒸発し、ピンホール16ができる
。これによって表面張力の均衡が破れ、第4図(c)に
示すように、中心部の融解または分解記録層が温度の低
いレーザビーム照射部の周辺部に収縮され、ピット17
が開設される。このため、冷却後、レーザビーム照射部
の周辺部には、第4図(d)に示すように、リムと呼称
される盛り土がすI8が形成される。
The hottest center evaporates, forming a pinhole 16. As a result, the balance of surface tension is broken, and as shown in FIG.
will be established. Therefore, after cooling, a mound I8 called a rim is formed around the laser beam irradiation part, as shown in FIG. 4(d).

なお、前記蒸発によるピンホール16を生じることなく
、融解または分解状態から直ちに収縮が生じるとの研究
結果もある。
Note that there are also research results that shrinkage occurs immediately from the melted or decomposed state without producing pinholes 16 due to the evaporation.

本願発明者らは、ピットの変調度が記録層11の下地材
料によって著しく影響されるという事実を見出し、先に
下地層15として有機薄膜を用いた光情報記録媒体を提
案した。ここで、ピットの変調度とは、ピットの形成さ
れ易さを示す度数であって、ピットが開設されていない
部分の反射率をA、記録層が形成されていない部分の反
射率をB、所定の放射線パワーを照射することによって
開設されたピットの部分の反射率をXとしたとき。
The inventors of the present application discovered the fact that the modulation degree of pits is significantly affected by the underlying material of the recording layer 11, and previously proposed an optical information recording medium using an organic thin film as the underlying layer 15. Here, the modulation degree of a pit is a frequency indicating the ease with which pits are formed, and the reflectance of a portion where no pit is formed is A, the reflectance of a portion where a recording layer is not formed is B, and B is the reflectance of a portion where a recording layer is not formed. When the reflectance of the pit portion opened by irradiating with a predetermined radiation power is defined as X.

(A−X)/ (A−B)をもって表わされるものをい
う(特願昭60−275112号、特願昭61−594
34号、特願昭61−59437号、特願昭61−11
0587号、特願昭61−168018号)。
(A-X) / (A-B)
No. 34, Japanese Patent Application No. 61-59437, Japanese Patent Application No. 1988-11
No. 0587, Japanese Patent Application No. 168018/1982).

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

これらの光情報記録媒体は、下地層として有機薄膜を用
いていない光情報記録媒体に比べて変調度が格段に改善
され、小さな放射線パワーで大きなピットを開孔するこ
とができる。
These optical information recording media have a significantly improved modulation degree compared to optical information recording media that do not use an organic thin film as an underlayer, and can open large pits with small radiation power.

然るに、この有機下地層を有する光情報記録媒体を大パ
ワーの放射線源を搭載した駆動装置に装着して情報の書
き込みを行うと、ピットの孔径が大きくなりすぎ、最密
パターンで記録したときに分解能が不足したり、トラッ
キング信号に悪影響を与えてトラッキングエラーを生じ
易くなるといった問題のあることが判明した。
However, when an optical information recording medium having this organic underlayer is attached to a drive device equipped with a high-power radiation source and information is written, the diameter of the pits becomes too large, and when recording in a close-packed pattern, It has been found that there are problems such as insufficient resolution and a tendency to cause tracking errors due to adverse effects on tracking signals.

本発明は、前記した従来技術の課題を解決するためにな
されたものであって、小パワーの放射線ビームを照射し
たときの変調度を害することなく、大パワーの放射線ビ
ームを照射したときのピット径が小さくなるように改善
し、もって高密度記録に適した光情報記録媒体を提供す
ることを目的とするものである。
The present invention has been made in order to solve the problems of the prior art as described above, and it is possible to eliminate pits when irradiated with a high power radiation beam without impairing the modulation degree when irradiated with a low power radiation beam. The object of this invention is to provide an optical information recording medium suitable for high-density recording by improving the diameter.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

本発明は、前記の目的を達成するため、穴あけ   ゛
タイプのヒートモード用記録材料から成る記録層中に、
この記録層の主部を構成するヒートモード用記録材料よ
りも融解温度または分解温度もしくは昇華温度が高い物
質を均一に分散したことを特徴とするものである。
In order to achieve the above object, the present invention includes a recording layer made of a perforated type heat mode recording material.
This recording layer is characterized in that a substance having a higher melting temperature, decomposition temperature, or sublimation temperature than that of the heat mode recording material constituting the main portion of the recording layer is uniformly dispersed.

また、スパッタ法やスピン塗布法によって基板上に記8
Mを成膜する際、記録層の主部を構成するヒートモード
用記録材料よりも融解温度または昇華温度もしくは分解
温度が高い物質を同時に混入するようにしたことを製造
上の特徴とするものである。
In addition, it is possible to write 8 on the substrate by sputtering or spin coating.
A manufacturing feature is that when forming M, a substance having a melting temperature, sublimation temperature, or decomposition temperature higher than that of the heat mode recording material constituting the main part of the recording layer is mixed at the same time. be.

〔作用〕[Effect]

記録層中に融解温度または分解温度もしくは昇華温度が
高い物質を均一に分散すると、記録層の融解温度または
分解温度もしくは昇華温度が、この記録層の主部を構成
するヒートモード用記録材料自体の融解温度または分解
温度もしくは昇華温度よりも上昇する。このため、強度
分布がガウス分布になっている放射線ビームを照射した
ときの融解または分解もしくは昇華範囲が制限される。
When a substance with a high melting temperature, decomposition temperature, or sublimation temperature is uniformly dispersed in the recording layer, the melting temperature, decomposition temperature, or sublimation temperature of the recording layer becomes higher than that of the heat mode recording material itself, which constitutes the main part of the recording layer. Elevated above the melting temperature or decomposition temperature or sublimation temperature. Therefore, the range of melting, decomposition, or sublimation when irradiated with a radiation beam having a Gaussian intensity distribution is limited.

また、融解または分解もしくは昇華しない固形の物質の
存在によって、融解または分解もしくは昇華した記録層
の収縮が抑制される。これによって、ピットが小型化さ
れ、記録密度の高密度化が図られる。
Furthermore, the presence of a solid substance that does not melt, decompose, or sublimate suppresses shrinkage of the melted, decomposed, or sublimated recording layer. As a result, the pits are made smaller and the recording density is increased.

また、記録層を成膜する際、ヒートモード用記録材料よ
りも融解温度または昇華温度もしくは分解温度が高い物
質を同時に混入するようにすると、製造工程が複雑化す
ることがなく、安価に実施することができる。
In addition, when forming the recording layer, if a substance with a melting temperature, sublimation temperature, or decomposition temperature higher than that of the heat mode recording material is mixed at the same time, the manufacturing process will not be complicated and can be carried out at low cost. be able to.

〔実施例〕〔Example〕

まず、本発明の概略を第1図および第2図に基づいて説
明する。第1図の光情報記録媒体は、基板1の信号パタ
ーン形成面に下地層2が成膜され。
First, an outline of the present invention will be explained based on FIG. 1 and FIG. 2. In the optical information recording medium shown in FIG. 1, a base layer 2 is formed on a signal pattern forming surface of a substrate 1.

この下地層2上に記録層3が積層されている。−方、第
2図の光情報記録媒体は、基板1の信号パターン形成面
に記録層3が直接成膜されている。
A recording layer 3 is laminated on this base layer 2. - On the other hand, in the optical information recording medium shown in FIG. 2, the recording layer 3 is directly formed on the signal pattern forming surface of the substrate 1.

基板1は、ガラスやポリメチルメタクリレート(PMM
A) 、ポリカーボネート(PC)、エポキシといった
透明な硬質物質によって形成される。
The substrate 1 is made of glass or polymethyl methacrylate (PMM).
A) It is made of a transparent hard material such as polycarbonate (PC) or epoxy.

基板1の片面には、放射線ビームスポットを記録トラッ
クに沿って案内するプリグループ4やアドレス信号を信
号変調したプリピット5等の信号パターンが凹凸の形で
形成されている。
On one side of the substrate 1, a signal pattern such as a pre-group 4 for guiding a radiation beam spot along a recording track and a pre-pit 5 for signal-modulating an address signal is formed in the form of an uneven shape.

この信号パターン4,5は、基板材料の種類に応じて適
宜の方法で形成される0例えば、ガラスなどのセラミッ
クス材料については2P法(光硬化性樹脂法)、PMM
AやPC等の熱可塑性樹脂については射出成形法、エポ
キシなどの熱硬化性樹脂については2P法や注型法が適
する。
The signal patterns 4 and 5 are formed by an appropriate method depending on the type of substrate material. For example, for ceramic materials such as glass, the 2P method (photocurable resin method), PMM
Injection molding is suitable for thermoplastic resins such as A and PC, and 2P method and casting method are suitable for thermosetting resins such as epoxy.

前記下地層2は、第1図および第2図に示すように、必
要に応じて選択的に形成されるものであって、有機材料
および無機材料から選択された任意の透明材料を用いて
形成することができる。有機系の下地層材料としては、
例えばポリテトラフロロエチレンやプリン誘導体を核に
もつ有機化合物などを挙げることができ、無機系の下地
層材料としては、例えば酸化シリコン、窒化シリコン、
炭化シリコン、窒化アルミニウム、硫化亜鉛などを挙げ
ることができる。但し、変調度向上の観点からは、有機
系の材料をもってこの下地層2を形成することがより好
ましい。
As shown in FIGS. 1 and 2, the base layer 2 is selectively formed as necessary, and is formed using any transparent material selected from organic materials and inorganic materials. can do. As an organic base layer material,
For example, organic compounds having polytetrafluoroethylene or purine derivatives as a core can be mentioned, and examples of inorganic underlayer materials include silicon oxide, silicon nitride,
Examples include silicon carbide, aluminum nitride, and zinc sulfide. However, from the viewpoint of improving the degree of modulation, it is more preferable to form the base layer 2 using an organic material.

下地層2の形成手段としては、真空蒸着法、スパッタ法
、電子ビーム法、プラズマ重合法、スピン塗布法など、
公知に属する任意の薄膜形成手段を用いることができる
Examples of methods for forming the base layer 2 include vacuum evaporation, sputtering, electron beam, plasma polymerization, and spin coating.
Any known thin film forming means can be used.

記録N3の主部は、低融点金属系の記録材料や有機色素
系の記録材料など、放射線ビームの照射部にピットを穴
または透孔の形で形成する所謂穴あけタイプのヒートモ
ード用記録材料をもって形成される。そして、このヒー
トモード用記録材料中に、このヒートモード用記録材料
よりも融解温度または分解温度もしくは昇華温度が高い
物質を均一に分散して成る。
The main part of the recording N3 is made of a so-called perforation type heat mode recording material that forms pits in the form of holes or through holes in the radiation beam irradiation area, such as a low-melting point metal-based recording material or an organic dye-based recording material. It is formed. A substance having a melting temperature, decomposition temperature, or sublimation temperature higher than that of the heat mode recording material is uniformly dispersed in the heat mode recording material.

低融点金属系の記録材料としては、テルルを主成分とし
、これに少量のセレンを添加したもの、およびこれにイ
ンジウム、スズ、鉛、アンチモン。
Recording materials based on low melting point metals include those whose main component is tellurium, to which a small amount of selenium is added, as well as indium, tin, lead, and antimony.

ビスマスなどの金属元素を少量添加したものを挙げるこ
とができる。また、有機色素系の記録材料としては、シ
アニンなどを挙げることができる。
Examples include those to which a small amount of metal elements such as bismuth are added. Furthermore, examples of organic dye-based recording materials include cyanine and the like.

ヒートモード用記録材料よりも融解温度または分解温度
もしくは昇華温度が高い物質としては。
As a substance that has a higher melting temperature, decomposition temperature, or sublimation temperature than the heat mode recording material.

この温度条件を満たすものであれば、全屈、化合物、セ
ラミックスなど任意の材料を用いることができる。また
、その記録層を構成するヒートモード用記録材料の酸化
物、窒化物、および炭化物から選択された少なくとも1
種類の化合物を用いることもできる。
As long as it satisfies this temperature condition, any material such as a full bending material, a compound, or a ceramic can be used. Also, at least one selected from oxides, nitrides, and carbides of the heat mode recording material constituting the recording layer.
Different types of compounds can also be used.

一例として、テルル系の低融点金属系記録材料(テルル
の融解温度は449.8℃)およびシアニン系の有機色
素系記録材料(シアニンの融解温度は250℃)に対し
ては、酸化テルル(TeOz;融解温度が732.6℃
)、酸化シリコン(SiOZ;沸点が2230℃)、酸
化ゲルマニウム(GeOz;融解温度が1116°C)
、金(Au;融解温度が1063°C)、白金(Pt;
融解温度が1770℃)などを用いることができる。な
お、記DWJ中に混入する融解温度または分解温度もし
くは昇華温度が高い物質として金属を用いる場合には、
記録安定性を害さないため、腐蝕しにくい金属材料を用
いることが好ましい。
As an example, tellurium oxide (TeOz ; Melting temperature is 732.6℃
), silicon oxide (SiOZ; boiling point 2230°C), germanium oxide (GeOz; melting temperature 1116°C)
, gold (Au; melting temperature 1063°C), platinum (Pt;
(melting temperature is 1770°C), etc. can be used. In addition, when using a metal as a substance with a high melting temperature, decomposition temperature, or sublimation temperature mixed in the DWJ,
In order not to impair recording stability, it is preferable to use a metal material that does not easily corrode.

この記B層3の形成手段としては、有機色素系の記録材
料についてはスピン塗布法が採用され、それ以外の記録
材料については、例えば真空蒸着法やスパッタ法などの
真空成膜法が採られる。
As a means of forming layer B 3, spin coating is used for organic dye-based recording materials, and for other recording materials, vacuum film forming methods such as vacuum evaporation and sputtering are used. .

以下、本発明の具体的実施例を示し1本発明の効果に言
及する。
Hereinafter, specific examples of the present invention will be shown and effects of the present invention will be mentioned.

〈第1実施例〉 射出成形されたPC基板の信号パターン面に、高周波ス
パッタ法によってポリテトラフロロエチレンの下地層を
約40nm(ナノメータ)の厚さに形成した。このとき
のスパッタ条件は、投入パワーが120W、導入ガスが
純アルゴン、アルゴンガス圧が5X10−’Paである
First Example A base layer of polytetrafluoroethylene with a thickness of about 40 nm (nanometers) was formed on the signal pattern surface of an injection-molded PC board by high-frequency sputtering. The sputtering conditions at this time were that the input power was 120 W, the introduced gas was pure argon, and the argon gas pressure was 5×10 −′Pa.

次いで、この下地層上に高周波スパッタ法により記録層
を約27nmの厚さに形成した。このときのスパッタ条
件は、ターゲットがテルル−セレン−鉛合金、投入パワ
ーが40W、導入ガスがアルゴンとHzOの混合ガス、
アルゴンガス圧が5X10−IPa、H20の分圧が7
X10−4Paである。
Next, a recording layer with a thickness of about 27 nm was formed on this underlayer by high frequency sputtering. The sputtering conditions at this time were that the target was a tellurium-selenium-lead alloy, the input power was 40 W, the introduced gas was a mixed gas of argon and HzO,
Argon gas pressure is 5X10-IPa, H20 partial pressure is 7
It is X10-4Pa.

このようにすると、テルル−セレン−鉛合金中に酸化テ
ルル(TeOz等)や酸化セレン(SaO2等)、それ
に酸化鉛(PbOz等)の酸化物が均一に混入された記
録層が形成される。
In this way, a recording layer is formed in which oxides of tellurium oxide (TeOz, etc.), selenium oxide (SaO2, etc.), and lead oxide (PbOz, etc.) are uniformly mixed in the tellurium-selenium-lead alloy.

記録層形成後、基板を空気中に取り出し、80°Cで約
30分間ベータ処理を行った。
After forming the recording layer, the substrate was taken out into the air and subjected to beta treatment at 80°C for about 30 minutes.

〈第2実施例〉 以下のスパッタ条件の下で、ポリテトラフロロエチレン
の下地層上に記録層を形成した。これ以外の条件につい
ては、第1実施例と同一である。
Second Example A recording layer was formed on a polytetrafluoroethylene underlayer under the following sputtering conditions. Other conditions are the same as in the first embodiment.

本実施例と第1実施例におけるスパッタ条件の相違は、
主としてHz○の分圧を高めたものであって、ターゲッ
トがテルル−セレン−鉛合金、投入高周波パワーが45
W、導入ガスがアルゴンとHzOの混合ガスで、アルゴ
ンガス圧を5X10−’Pa、HzOの分圧を1.lX
10−’Paとした。
The difference in sputtering conditions between this example and the first example is as follows:
It mainly has a high partial pressure of Hz○, the target is a tellurium-selenium-lead alloy, and the input high frequency power is 45
W, the introduced gas was a mixed gas of argon and HzO, the argon gas pressure was 5×10-'Pa, and the partial pressure of HzO was 1. lX
The pressure was set at 10-'Pa.

〈第3実施例〉 以下のスパッタ条件の下で、ポリテトラフロロエチレン
の下地層上に記録層を形成した。これ以外の条件につい
ては、第1実施例および第2実施例と同一である。
Third Example A recording layer was formed on a polytetrafluoroethylene underlayer under the following sputtering conditions. Other conditions are the same as those in the first and second embodiments.

本実施例と第1および第2実施例におけるスパッタ条件
の相違は、主として導入ガス中に添加するガスの種類を
酸素(02)に変更したものであって、ターゲットがテ
ルル−セレン−鉛合金、投入高周波パワーが40Wで、
導入ガスをアルゴンとOzの混合ガスとし、アルゴンガ
ス圧を5×1O−1Pa、Ozの分圧を4X10−4P
aに調整した。
The difference in sputtering conditions between this example and the first and second examples is mainly that the type of gas added to the introduced gas was changed to oxygen (02), and the target was a tellurium-selenium-lead alloy. The input high frequency power is 40W,
The introduced gas is a mixed gas of argon and Oz, the argon gas pressure is 5 x 1O-1Pa, and the partial pressure of Oz is 4X10-4P.
Adjusted to a.

このようにしても、テルル−セレン−鉛合金中に酸化テ
ルル(T e O2等)や酸化セレン(SaO2等)、
それに酸化鉛(P b Oz等)の酸化物が均一に混入
された記録層が形成される。
Even in this way, tellurium oxide (T e O2, etc.), selenium oxide (SaO2, etc.),
A recording layer in which an oxide of lead oxide (PbOz, etc.) is uniformly mixed is formed.

〈第4実施例〉 以下のスパッタ条件の下で、ポリテトラフロロエチレン
の下地層上に記Gmを形成した。これ以外の条件につい
ては、第1実施例と同一である。
<Fourth Example> The above Gm was formed on a polytetrafluoroethylene base layer under the following sputtering conditions. Other conditions are the same as in the first embodiment.

本実施例と第3実施例におけるスパッタ条件の相違は、
主として02の分圧を高めたものであって、ターゲット
がテルル−セレン−鉛合金、投入高周波パワーが45W
、導入ガスがアルゴンとOzの混合ガスで、アルゴンガ
ス圧を5X10−’Pa、Ozの分圧を8X10−’P
aに調整した。
The difference in sputtering conditions between this example and the third example is as follows:
Mainly, the partial pressure of 02 is increased, the target is tellurium-selenium-lead alloy, and the input high frequency power is 45W.
, the introduced gas is a mixed gas of argon and Oz, the argon gas pressure is 5X10-'Pa, and the partial pressure of Oz is 8X10-'P.
Adjusted to a.

く第5実施例〉 以下のスパッタ条件の下で、ポリテトラフロロエチレン
の下地層上に記録層を形成した。これ以外の条件につい
ては、第1実施例と同一である。
Fifth Example A recording layer was formed on a polytetrafluoroethylene underlayer under the following sputtering conditions. Other conditions are the same as in the first embodiment.

本実施例と第1ないし第4実施例におけるスパッタ条件
の相違は、主としてターゲットの種類および導入ガスの
種類を変更したものであって、ターゲットとして、テル
ル−セレン−鉛合金パウダーと酸化テルル(T e O
z )パウダーを焼結したものを使用した。このターゲ
ット中のテルルの全含有量に対するT e Ozの割合
は、約2原子%とした。その他のスパッタ条件は、投入
高周波パワーが40W、導入ガスが純アルゴン、アルゴ
ンガス圧が5 xto−’ P aである。
The difference in sputtering conditions between this example and the first to fourth examples is mainly that the type of target and the type of introduced gas were changed. e O
z) A sintered powder was used. The ratio of T e Oz to the total tellurium content in this target was approximately 2 atomic %. Other sputtering conditions were that the input high frequency power was 40 W, the introduced gas was pure argon, and the argon gas pressure was 5 xto-' Pa.

この場合には、テルル−セレン−鉛合金中に酸化テルル
(TeOz)が均一に混入された記録層が形成される。
In this case, a recording layer is formed in which tellurium oxide (TeOz) is uniformly mixed in a tellurium-selenium-lead alloy.

テルル−セレン−鉛合金に対する酸化テルルの混入率は
、約2原子%である。
The mixing ratio of tellurium oxide to the tellurium-selenium-lead alloy is about 2 atomic percent.

〈第6実施例〉 スピン塗布法により、第1実施例と同一のレプリカ基板
上に、有機系の下地層と記録層とを順次積層した。
Sixth Example An organic base layer and a recording layer were sequentially laminated on the same replica substrate as in the first example by spin coating.

下地層材料は重クロム酸アンモニウムが添加されたポリ
ビニルアルコール液であり、この溶液を4000m”で
回転駆動された基板の信号パターン面に滴下し、乾燥後
紫外線を約1分間照射して架橋することによって、約6
0nmの厚さの下地層を形成した。
The base layer material is a polyvinyl alcohol solution to which ammonium dichromate is added. This solution is dropped onto the signal pattern surface of a substrate that is rotated at 4000 m", and after drying, it is irradiated with ultraviolet rays for about 1 minute to cross-link it. by about 6
A base layer with a thickness of 0 nm was formed.

次いで、シアニン系有機色素に粒径が10nm以下の白
金パウダーを約2体積%添加した溶液を。
Next, a solution in which about 2% by volume of platinum powder with a particle size of 10 nm or less was added to the cyanine-based organic dye was added.

2000m−1で回転駆動された基板の前記下地層上に
滴下し、下地層の全面にこの溶液が均一にコーティング
されたのちも基板の回転駆動を続行してこれをスピン乾
燥し、約60nmの厚さの記録層を形成した。
The solution was dropped onto the underlayer of the substrate which was rotated at 2000 m-1, and after the entire surface of the underlayer was uniformly coated with the solution, the substrate was continued to be rotated and spin-dried to form a layer of about 60 nm. A thick recording layer was formed.

く比較例1〉 以下のスパッタ条件の下で、ポリテトラフロロエチレン
の下地層上に記sMを形成した。これ以外の条件につい
ては、前記第1ないし第5実施例と同一である。
Comparative Example 1> The above sM was formed on a polytetrafluoroethylene base layer under the following sputtering conditions. Other conditions are the same as those in the first to fifth embodiments.

ターゲットがテルル−セレン−鉛合金合金、投入高周波
パワーが40W、導入ガスが純アルゴン、アルゴンガス
圧が5X10−1Paである。
The target is a tellurium-selenium-lead alloy, the input high-frequency power is 40 W, the introduced gas is pure argon, and the argon gas pressure is 5×10 −1 Pa.

この場合には、テルル−セレン−鉛合金中に酸化物が混
入されない。
In this case, no oxide is mixed into the tellurium-selenium-lead alloy.

く比較例2〉 第6実施例と同様の条件の下で、レプリカ基板の信号パ
ターン上に、重クロム酸アンモニウムが添加されたポリ
ビニルアルコールの下地層と、高融点のパウダーが混入
されていないシアニン系有機色素の記録層をスピン塗布
法によって形成した。
Comparative Example 2> Under the same conditions as in Example 6, a polyvinyl alcohol base layer containing ammonium dichromate and cyanine containing no high melting point powder were formed on the signal pattern of the replica substrate. A recording layer of an organic dye was formed by spin coating.

下表に、前記した第1実施例乃至第6実施例の光情報記
録媒体に放射線ビームを照射することによって開設され
るピットの変調度と、記録層の主部を構成するヒートモ
ード記録材料よりも融解温度または分解温度もしくは昇
華温度の高い物質が混入されていない従来の光情報記録
媒体に放射線ビームを照射することによって開設される
ピットの変調度の比較を示す、ただし、信号の書き込み
条件は、第1ないし第5実施例の光情報記録媒体、およ
び第1比較例の光情報記録媒体については、記録周波数
を3.7MHz、デユーティ比を22%、書き込みパワ
ーを8mWとし、第6実施例の光情報記録媒体および第
2比較例の光情報記録媒体については、記録周波数を3
.7MHz、デユーティ比を22%、書き込みパワーを
10mWとした。また1表中の変調度を示す数値は、基
板に予じめ形成されたセクターマーク用プリピットから
読み出される信号の振幅に対する書き込みピットから読
み出される信号の振幅の比から求めた。
The table below shows the modulation degree of the pits created by irradiating the optical information recording media of the first to sixth embodiments with a radiation beam, and the degree of modulation of the pits formed by the heat mode recording material constituting the main part of the recording layer. Also shows a comparison of the modulation degree of pits opened by irradiating a radiation beam on a conventional optical information recording medium that is not mixed with a substance with a high melting temperature, decomposition temperature, or sublimation temperature. However, the signal writing conditions are For the optical information recording media of the first to fifth embodiments and the first comparative example, the recording frequency was 3.7 MHz, the duty ratio was 22%, the writing power was 8 mW, and the sixth embodiment For the optical information recording medium and the optical information recording medium of the second comparative example, the recording frequency was set to 3.
.. The frequency was 7 MHz, the duty ratio was 22%, and the write power was 10 mW. Further, the numerical values indicating the degree of modulation in Table 1 were determined from the ratio of the amplitude of the signal read from the write pit to the amplitude of the signal read from the sector mark pre-pits formed in advance on the substrate.

この表から明らかなように、本発明に係る光情報記録媒
体は、比較例たる従来の光情報記録媒体に比べていずれ
も変調度が高くなっており、記録膜上のピットが小さく
、分解能が高いことが判る。
As is clear from this table, the optical information recording medium according to the present invention has a higher modulation degree than the conventional optical information recording medium used as a comparative example, has smaller pits on the recording film, and has a lower resolution. It turns out that it is expensive.

特に、第2実施例および第4実施例の光情報記録媒体が
良好であり、記録層中の添加物質の混入率がある程度高
い方が変調度の改善に効果がある。
In particular, the optical information recording media of the second example and the fourth example are good, and it is more effective to improve the degree of modulation if the mixing rate of the additive substance in the recording layer is higher to some extent.

第3図に、第2実施例の光情報記録媒体について、書き
込みパワーの強さと開設されるピットの直径との関係を
示す、このグラフにおいて、横軸は書き込みパワーを、
また縦軸はピットの直径を示し、第2実施例の特性がx
印で、また比較例1の特性が・で表示されている。なお
、ピットの直径の測定は、走査型電子顕微鏡によった。
FIG. 3 shows the relationship between the strength of the write power and the diameter of the pit created for the optical information recording medium of the second example. In this graph, the horizontal axis represents the write power;
Moreover, the vertical axis indicates the diameter of the pit, and the characteristics of the second embodiment are x
The characteristics of Comparative Example 1 are indicated by . Note that the diameter of the pit was measured using a scanning electron microscope.

この図から明らかなように、第2実施例の光情報記録媒
体は、書き込みパワーを上げてもピットの直径が第1比
較例のものほど大きくならず、分解能の改善および記録
密度の向上に効果があることが判る。その反面、書き込
みパワーが小さい場合には第1比較例のものと同程度の
直径のピットを開設することができ、記録感度が低下す
ることがない。
As is clear from this figure, the pit diameter of the optical information recording medium of the second example is not as large as that of the first comparative example even when the writing power is increased, and it is effective in improving resolution and recording density. It turns out that there is. On the other hand, when the writing power is low, pits can be formed with a diameter comparable to that of the first comparative example, and the recording sensitivity does not decrease.

なお、第3図においては、第2実施例のデータのみを例
示したが、第1、第3、第4、第5実施例の光情報記録
媒体でも同様の効果があることが判った。また、第2比
較例の光情報記録媒体では、10mWの書き込みパワー
で直径が1.05μmのピットが開設されたのに対し、
第6実施例の光情報記録媒体では同じ書き込みパワーで
ピットの直径が0.85μmであり、同様の効果がある
ことが判った。
Although FIG. 3 shows only the data of the second example, it has been found that the optical information recording media of the first, third, fourth, and fifth examples have similar effects. In addition, in the optical information recording medium of the second comparative example, pits with a diameter of 1.05 μm were created with a writing power of 10 mW.
In the optical information recording medium of the sixth example, the pit diameter was 0.85 μm at the same writing power, and it was found that the same effect was obtained.

また、前記各実施例においては、ポリテトラフロロエチ
レンの下地層を有する光情報記録媒体についてのみデー
タを挙げて説明したが、他の材質の下地層を設けた場合
、および基板上に直接記録層を形成した場合にも同様の
効果があることが確認された。
Furthermore, in each of the above examples, data has been given and explained only for optical information recording media having an underlayer of polytetrafluoroethylene. It was confirmed that a similar effect was obtained when forming a .

なお、本発明の要旨は、記録層中に、この記録層の主部
を構成するヒートモード記録材料よりも融解温度および
分解温度もしくは昇華温度が高い物質を均一に分散した
点にあるのであって、記録層中に分散される物質の種類
が前記各実施例に掲げたものに限定されるものではない
、この場合にも、前記各実施例の試験結果より、同様の
効果があるものと推定することができる。
The gist of the present invention is that a substance having a higher melting temperature, decomposition temperature, or sublimation temperature than the heat mode recording material constituting the main part of the recording layer is uniformly dispersed in the recording layer. The types of substances dispersed in the recording layer are not limited to those listed in each of the examples above, and in this case, it is presumed that similar effects will be obtained from the test results of each of the above examples. can do.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したように、本発明の光情報記録媒体は、記録
層中に融解温度または分解温度もしくは昇華温度の高い
物質を分散混入した結果、記録層の平均融解温度または
分解温度が上昇し、記録層が溶けにくくなること、およ
び表面張力による融解または分解記録層の収縮が溶けな
い物質によって制限されることから、大パワーにて信号
を書き込んでもピットの直径が過大に開設されることが
ない。よって、記録感度が高くかつ高密度記録に適した
光情報記録媒体を提供することができる。
As explained above, in the optical information recording medium of the present invention, as a result of dispersing and mixing a substance with a high melting temperature, decomposition temperature, or sublimation temperature into the recording layer, the average melting temperature or decomposition temperature of the recording layer increases, and recording Since the layer becomes difficult to melt and the shrinkage of the recording layer due to surface tension is limited by the insoluble material, the diameter of the pit will not become excessively large even when a signal is written with high power. Therefore, it is possible to provide an optical information recording medium that has high recording sensitivity and is suitable for high-density recording.

また、記録層形成時に所望の物質を記録層中に混入する
ようにしたので、光情報記録媒体の製造工程が複雑にな
ることがなく、安価に実施することができる。
Further, since a desired substance is mixed into the recording layer when forming the recording layer, the manufacturing process of the optical information recording medium does not become complicated and can be carried out at low cost.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図および第2図は本発明に係る光情報記録媒体の基
本的構造を示す要部断面図、第3図は本発明の詳細な説
明するグラフ、第4図の各回はピットの形成メカニズム
を説明する断面図である。 l二基板、1a:信号パターン、2:下地層、3:記録
層。 第1図 j ( 第2図 1:X λ及         4:ブリクJレーフ゛
2;丁z層     5:7ソごアト 3:¥a層 第3図
1 and 2 are sectional views of essential parts showing the basic structure of the optical information recording medium according to the present invention, FIG. 3 is a graph explaining the present invention in detail, and each time in FIG. 4 is a pit formation mechanism. FIG. 12 substrates, 1a: signal pattern, 2: underlayer, 3: recording layer. Figure 1 j (Figure 2 1:

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)基板の片面に、少なくとも穴あけタイプのヒート
モード用記録材料から成る記録層を含む薄膜層を形成し
て成る光情報記録媒体において、前記記録層中に、この
記録層の主部を構成するヒートモード用記録材料よりも
融解温度または分解温度もしくは昇華温度が高い物質を
均一に分散したことを特徴とする光情報記録媒体。
(1) In an optical information recording medium formed on one side of a substrate, a thin film layer including at least a recording layer made of a perforated type heat mode recording material, in which the main part of the recording layer is formed. An optical information recording medium characterized in that a substance having a melting temperature, decomposition temperature, or sublimation temperature higher than that of a heat mode recording material is uniformly dispersed therein.
(2)請求項1記載の光情報記録媒体において、前記記
録層中に、この記録層の主部を構成するヒートモード用
記録材料の酸化物、窒化物、および炭化物から選択され
た少なくとも1種類の化合物を分散したことを特徴とす
る光情報記録媒体。
(2) In the optical information recording medium according to claim 1, at least one type of heat mode recording material selected from oxides, nitrides, and carbides forming the main part of the recording layer is contained in the recording layer. An optical information recording medium characterized by dispersing a compound.
(3)請求項1記載の光情報記録媒体において、前記記
録層をテルルを主成分とするヒートモード用記録材料か
ら形成し、この記録層中に前記物質としてテルルの酸化
物を分散したことを特徴とする光情報記録媒体。
(3) In the optical information recording medium according to claim 1, the recording layer is formed from a heat mode recording material containing tellurium as a main component, and tellurium oxide is dispersed as the substance in the recording layer. Characteristic optical information recording media.
(4)基板上に記録層を成膜する工程を含む光情報記録
媒体の製造方法において、前記基板上に記録層を成膜す
る際、前記物質を同時に混入するようにしたことを特徴
とする光情報記録媒体の製造方法。
(4) A method for manufacturing an optical information recording medium including a step of forming a recording layer on a substrate, characterized in that the substance is mixed at the same time when forming the recording layer on the substrate. A method for manufacturing an optical information recording medium.
(5)請求項4記載の光情報記録媒体の製造方法におい
て、基板および所望のヒートモード用記録材料から成る
ターゲットが収納された真空槽内に、酸素、窒素、炭素
から選択された少なくとも一種類の元素を含む反応ガス
を導入し、前記ターゲットをスパッタリングすることに
よつて、前記基板上に前記ヒートモード用記録材料中に
このヒートモード用記録材料の酸化物、窒化物、炭化物
から選択された少なくとも1種類の物質が分散混入され
た記録層を成膜するようにしたことを特徴とする光情報
記録媒体の製造方法。
(5) In the method for manufacturing an optical information recording medium according to claim 4, at least one type selected from oxygen, nitrogen, and carbon is placed in a vacuum chamber containing a substrate and a target made of a desired heat mode recording material. By introducing a reactive gas containing an element of 1. A method for manufacturing an optical information recording medium, comprising forming a recording layer in which at least one kind of substance is dispersed and mixed.
(6)請求項4記載の光情報記録媒体の製造方法におい
て、真空槽内に所望のヒートモード用記録材料とこのヒ
ートモード用記録材料の酸化物、窒化物、炭化物から選
択された少なくとも1種類の物質との混合体から成るタ
ーゲットを収納し、このターゲットをスパッタリングす
ることによつて前記基板上に、前記ヒートモード用記録
材料中にこのヒートモード用記録材料の酸化物、窒化物
、炭化物から選択された少なくとも1種類の物質が分散
混入された記録層を成膜するようにしたことを特徴とす
る光情報記録媒体の製造方法。
(6) In the method for manufacturing an optical information recording medium according to claim 4, a desired heat mode recording material and at least one kind selected from oxides, nitrides, and carbides of the heat mode recording material are placed in the vacuum chamber. By sputtering this target, a mixture of oxides, nitrides, and carbides of the heat mode recording material is deposited in the heat mode recording material onto the substrate. A method for producing an optical information recording medium, comprising forming a recording layer in which at least one selected substance is dispersed and mixed.
(7)請求項4記載の光情報記録媒体の製造方法におい
て、液状の有機色素系のヒートモード用記録材料にこの
記録材料よりも融解温度または分解温度もしくは昇華温
度が高い物質から成る粒子を混入し、前記基板上にこの
混合物をスピン塗布したことを特徴とする光情報記録媒
体の製造方法。
(7) In the method for producing an optical information recording medium according to claim 4, particles made of a substance having a higher melting temperature, decomposition temperature, or sublimation temperature than that of the liquid organic dye-based heat mode recording material are mixed. and a method for manufacturing an optical information recording medium, characterized in that this mixture is spin-coated on the substrate.
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