JPH05290408A - Optical information recording medium - Google Patents

Optical information recording medium

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JPH05290408A
JPH05290408A JP11694592A JP11694592A JPH05290408A JP H05290408 A JPH05290408 A JP H05290408A JP 11694592 A JP11694592 A JP 11694592A JP 11694592 A JP11694592 A JP 11694592A JP H05290408 A JPH05290408 A JP H05290408A
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JP
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protective layer
recording medium
optical information
heat
resistant protective
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JP11694592A
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Masahiro Tsumura
昌弘 津村
Original Assignee
Daicel Chem Ind Ltd
Sumitomo Chem Co Ltd
Sumitomo Metal Mining Co Ltd
ダイセル化学工業株式会社
住友化学工業株式会社
住友金属鉱山株式会社
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Abstract

PURPOSE: To obtain an optical information recording medium excellent in durabil ity as well as in recording characteristics.
CONSTITUTION: A first heat resistant protective layer 2, a phase change type recording layer 3, a second heat resistant protective layer 4 and a protective layer 6 of an org. resin are successively laminated on a transparent resin substrate 1 to obtain an optical information recording medium and information is recorded, reproduced and erased by irradiating the recording layer 3 with laser light. In this recording medium, at least the first heat resistant protective layer 2 is formed with a mixture based on zinc sulfide and niobium oxide.
COPYRIGHT: (C)1993,JPO&Japio

Description

【発明の詳細な説明】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】 [0001]

【産業上の利用分野】本発明は光情報記録媒体に関する。 The present invention relates to an optical information recording medium. より詳細には、本発明は、レーザ光を照射することにより発生する記録層の相変化により情報を記録する方式の光情報記録媒体であって、特にその記録層に隣接して耐熱保護層を具備する光情報記録媒体の新規な構成に関する。 More particularly, the present invention is an optical information recording medium of the method of recording information by a phase change of the recording layer generated by irradiating a laser beam, heat-resistant protective layer in particular adjacent to the recording layer novel configuration of an optical information recording medium comprising.

【0002】 [0002]

【従来の技術】近年、急速に処理量の増加した情報に対してその保存技術の確立が緊急且つ不可避な課題となっている。 In recent years, rapid establishment of the preservation techniques on the increased information throughput is an urgent and unavoidable problem. レーザ光を利用した各種の光記録媒体は、このような課題の解決に最も相応しいものとして注目されている。 Various optical recording medium using a laser beam has been attracting attention as the most suitable to solve such problems. 即ち、光記録媒体は、一般に高密度な情報記録が可能であり、更に、従来の磁気記録媒体と異なり記録情報が電磁障害に強い等の優れた特徴を有している。 That is, the optical recording medium is generally enables high-density information recording, further, recording information unlike the conventional magnetic recording medium has excellent characteristics of strong such as electromagnetic interference. 光情報記録媒体は、その記録方式により種々のものが開発されているが、近年、記録層の相変化による反射率の変化で情報を記録再生する相変化型と呼ばれる方式が注目されている。 The optical information recording medium, various ones have been developed by its recording method, in recent years, a method called phase-change for recording and reproducing information by a change in reflectance due to the phase change of the recording layer has attracted attention.

【0003】ところで、上述のような光情報記録媒体において、その記録層に隣接して、いわゆる耐熱保護層を設けることが提案されている。 Meanwhile, in the optical information recording medium as described above, adjacent to the recording layer, has been proposed to provide a so-called heat-resistant protective layer. その主な目的は以下のようなものである。 Its main purpose is as follows. 書込みあるいは読み出し用のレーザ光による加熱により、プラスチック等により形成された基板が損傷を受けることを防止する。 The heating by the laser beam for writing or reading, a substrate formed of plastic or the like to prevent damage. 酸化等により記録層が腐食劣化することを防止する。 Recording layer by oxidation or the like is prevented from corrosion degradation. 記録層の物理的な変形を防止する。 Preventing physical deformation of the recording layer. エンハンス効果によりC/N比を改善する。 The enhancement effect of improving the C / N ratio.

【0004】 [0004]

【発明が解決しようとする問題点】上記耐熱保護層の材料としてはエンハンス効果によりC/N比を向上させるために屈折率が基板材料よりも高く、高融点で熱膨張率が小さいものが用いられ、特にZnSとSiO 2の混合物が耐熱保護層の材料として好ましいとの報告がある。 [Problems to be Solved by the Invention] Examples of the material for the heat resistant protective layer higher than the refractive index of the substrate material in order to improve the C / N ratio by enhancing effect of thermal expansion coefficient is small with a high melting point are, in particular, a mixture of ZnS and SiO 2 has been reported with the preferred material for the heat resistant protective layer. 即ち、光情報記録媒体に要求される特性としては、 記録消去再生特性が良好であること、 記録消去の繰り返しの信頼性が良好であること、 高温高湿度等の耐久性が良好であること 等が挙げられる。 That is, the characteristics required of the optical information recording medium, it recording and erasing reproduction characteristics are good, that repeated reliability recording and erasing is good, that such durability of the high temperature and high humidity are good and the like. これに対して、記録膜としてTeGeSbを用い、耐熱保護層としてZnSとSiO 2の混合物を用いた光情報記録媒体は、上記の条件およびを何れもほぼ満足している。 In contrast, using a TeGeSb as a recording film, an optical information recording medium using a mixture of ZnS and SiO 2 as a heat-resistant protective layer is satisfied almost any conditions and above.

【0005】しかしながら、上記の条件については依然として問題が残っている。 [0005] However, there remains a still problem with the above conditions. 即ち、上記の材料により作製された光情報記録媒体に対して温湿度サイクル試験や高温高湿度試験を行うと、その降温時に透明樹脂基板と耐熱保護層の間にブリスター(水膨れ)が発生するという問題がある。 That is, when performing the temperature and humidity cycle test and high-temperature and high-humidity test with respect to the optical information recording medium manufactured by the above materials, blister (blister) occurs during the temperature drop transparent resin substrate and the heat-resistant protective layer at there is a problem in that.

【0006】そこで、本発明は、上記従来技術の問題点を解決し、温湿度サイクル試験等での耐久性が良好な光情報記録媒体を提供することをその目的としている。 [0006] Therefore, the present invention is to solve the problems of the prior art, durability in temperature and humidity cycle test or the like as its object to provide a good optical information recording medium.

【0007】 [0007]

【問題を解決するための手段】即ち、本発明に従うと、 Means for Solving the problems] That is, according to the present invention,
第1耐熱保護層、相変化型の記録層、第2耐熱保護層および有機樹脂保護層を透明樹脂基板上に順次積層して構成され、該記録層にレーザ光を照射することにより情報の記録、再生および消去を行う光情報記録媒体において、該第1耐熱保護層が、硫化亜鉛と酸化ニオブとを主成分とする混合物により形成されていることを特徴とする光情報記録媒体が提供される。 The first heat-resistant protective layer, a recording layer of phase change type, is constituted by sequentially laminating the second heat-resistant protective layer and an organic resin protective layer a transparent resin substrate, a recording of information by irradiating a laser beam to the recording layer the optical information recording medium for reproduction and erasing, the first heat-resistant protective layer, an optical information recording medium is provided which is characterized in that it is formed by a mixture mainly composed of niobium oxide and zinc sulfide .

【0008】 [0008]

【作用】本発明に係る光情報記録媒体は、その記録層に隣接して設けられる耐熱保護層が、硫化亜鉛と酸化ニオブとを主成分とする混合物により形成されている点に主要な特徴がある。 [Action] The optical information recording medium according to the present invention, the recording layer adjacent to heat resistant protective layer provided is the main feature in that it is formed by a mixture mainly composed of niobium oxide and zinc sulfide is there.

【0009】即ち、耐熱保護層の材料としてZnSとSiO [0009] That is, ZnS and SiO as a material for the heat resistant protective layer
2との混合物を使用した光情報記録媒体は、記録感度や繰り返し記録特性の点では優れているが、温度/湿度サイクルに曝されるとブリスタが発生し、耐久性の点では必ずしも優れていなかった。 The optical information recording medium using a mixture of 2, but in terms of recording sensitivity and repetitive recording characteristics are excellent when exposed to temperature / humidity cycles blisters occur, it is not necessarily good in terms of durability It was. そこで、ブリスタ発生の原因について詳細な検討を繰り返した結果、この種の材料により形成された耐熱保護層は透明樹脂基板との間の接着性が低く、このために急速な温度変化が生じたときにブリスタが発生することが判明した。 As a result of repeated detailed studies on the cause of blister generation, heat-resistant protective layer formed by such materials have low adhesion between the transparent resin substrate, when a rapid temperature change occurs for this blister was found to occur.

【0010】そこで、透明樹脂基板の直上に装荷される第1耐熱保護層の材料を広範に検討した結果、硫化亜鉛と酸化ニオブとを主成分とする混合物が優れた特性を有することを見出し本発明が完成された。 [0010] As a result of considering the material of the first heat-resistant protective layer which is loaded directly on the transparent resin substrate broadly, this has an excellent characteristic mixture composed mainly of a niobium oxide and zinc sulfide invention has been completed.

【0011】尚、上記材料により形成された第1耐熱保護層に対して、熱特性や膜の緻密さを調整する目的で、 [0011] Incidentally, the first heat-resistant protective layer formed by the material, in order to adjust the fineness of the thermal properties and film,
10モル%以下のSiO 2を含有させることができる。 It can contain 10 mole% or less of SiO 2. ただし、SiO 2の含有量が10モル%を越えた場合は直下の透明樹脂基板との接着性が劣化してブリスタの発生等を招くので、SiO 2の含有量は10モル%以下の範囲に限定される。 However, since the content of SiO 2 is lead to the occurrence of adhesion blisters and deterioration of a transparent resin substrate directly below if it exceeds 10 mol%, the content of SiO 2 in the range of 10 mol% or less It is limited.

【0012】以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、以下の開示は本発明の一実施例に過ぎず、本発明の技術的範囲を何ら限定するものではない。 [0012] Hereinafter, the present invention will be described by way of examples more specifically, the following disclosure only one example of the present invention and are not intended to limit the technical scope of the present invention in any way.

【0013】 [0013]

【実施例】図1は本発明に係る光情報記録媒体の物理的な構成を示す断面図である。 DETAILED DESCRIPTION FIG. 1 is a sectional view showing a physical configuration of an optical information recording medium according to the present invention.

【0014】同図に示すように、この光情報記録媒体は、透明樹脂基板1上に順次積層された第1耐熱保護層2、相変化型の記録層3、第2耐熱保護層4および有機樹脂保護層6から構成されている。 [0014] As shown in the figure, the optical information recording medium, the first heat-resistant protective layer 2, phase-change recording layer 3 which are sequentially stacked on the transparent resin substrate 1, the second heat-resistant protective layer 4 and organic and a resin protective layer 6.

【0015】ここで、透明樹脂基板1は、一般にディスク状であるが、カード状やドラム状であってもよい。 [0015] Here, the transparent resin substrate 1 is generally a disk-shaped, or may be a card shape or a drum shape. 透明樹脂基板1は、ポリカーボネイト樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、エポキシ樹脂、アモルファスポリオレフィン樹脂等を好ましく用いることができる。 Transparent resin substrate 1, polycarbonate resin, polymethylmethacrylate resin, epoxy resin, can be preferably used an amorphous polyolefin resin or the like.

【0016】また、相変化型の記録層3は、レーザ光を照射することにより相変化して屈折率nや消衰係数kが大きく変化し、更に、この相変化が可逆的で記録/消去の繰り返しが可能な材料が用いられる。 Further, the recording layer 3 of phase change type, a phase change to the refractive index n and extinction coefficient k by applying a laser beam greatly changes, further, the phase change is reversible recording / erasing materials repeatable of is used. 具体的には、Te Specifically, Te
GeSb、TeSb、TeGeSn、TeSeSn等のTe系媒体や、InSbTe、 GeSb, TeSb, TeGeSn, and Te-based medium, such as a TeSeSn, InSbTe,
InSe、InSb、InSbSe等のIn系媒体を例示することができるが、これに限定されない。 InSe, InSb, can be exemplified In-based medium, such as InSbSe, but is not limited thereto.

【0017】尚、耐熱保護層の屈折率は、CN比、記録感度等の記録特性を良好に維持するために、 1.8〜2.2 [0017] The refractive index of the heat-resistant protective layer, CN ratio, in order to maintain good recording characteristics such as recording sensitivity, 1.8-2.2
の範囲内とすることが好ましい。 It is preferably in the range of.

【0018】図2は本発明に係る光情報記録媒体の他の物理的な構成を示す図である。 [0018] FIG. 2 is a diagram illustrating another physical configuration of an optical information recording medium according to the present invention. 尚、図2において、図1 In FIG. 2, FIG. 1
と共通の構成要素には共通の参照番号を付している。 It is denoted by the common reference numerals to the common components.

【0019】同図に示すように、この光情報記録媒体は、図1に示した光情報記録媒体の構成に対して、更に、第2耐熱保護層4と有機樹脂保護層6との間に反射層5を付加した構成となっている。 As shown in the figure, the optical information recording medium, the configuration of the optical information recording medium shown in FIG. 1, further between the second heat-resistant protective layer 4 and the organic resin protective layer 6 It has a configuration obtained by adding a reflective layer 5.

【0020】ここで、反射層5の材料としては、Al、A [0020] Here, as a material of the reflective layer 5, Al, A
u、Ag、NiCr等を主成分とした高反射率金属を好ましく例示することができる。 u, Ag, NiCr or the like can be preferably exemplified a high reflectivity metal mainly composed of.

【0021】〔作製例1〕直径 130mmのポリカーボネイト樹脂製スパイラル溝付ディスク基板を使用して図1に示した構造の光情報記録媒体を作製した。 [0021] A Preparation Example 1 using the polycarbonate resin spiral grooved disc substrate having a diameter of 130mm to produce an optical information recording medium of the structure shown in FIG.

【0022】直径 150mmのZnSターゲット上に直径20m [0022] The diameter 20m on a ZnS target with a diameter of 150mm
m、厚さ5mmの Nb 25タブレット8個をのせた複合ターゲットを用いてRFスパッタリング法により基板上に第1耐熱保護層を形成した。 m, to form the first heat-resistant protective layer on the substrate by RF sputtering method using a composite target loaded with Nb 2 O 5 tablets eight thickness 5 mm.

【0023】尚、成膜前の到達真空度は5×10 -6 torr以下で、成膜は4mtorrのアルゴンガスの存在下で行い、 [0023] Incidentally, the ultimate vacuum before film formation in the following 5 × 10 -6 torr, the deposition is carried out in the presence of argon gas 4 mTorr,
屈折率は 2.1で、膜厚は 120nmであった。 Refractive index is 2.1, the film thickness was 120 nm.

【0024】また、EPMAの分析の結果、ZnS: Nb 2 [0024] In addition, the results of the analysis of EPMA, ZnS: Nb 2
5の存在比は70:30モル%であった。 Abundance ratio of O 5 was 70:30 mol%. 続いて、上述のようにして作製した耐熱保護層上に相変化記録層としTe Subsequently, a manner phase-change recording layer in the heat-resistant protective layer prepared above Te
GeSb(組成比55:17:28原子%)を、4mtorrのアルゴンガスの存在下でDCスパッタリング法により80nm成膜した。 GeSb (the composition ratio of 55:17:28 atom%) was 80nm deposited by DC sputtering in the presence of argon gas 4 mTorr.

【0025】更に、前記した第1耐熱保護層の成膜と同じ材料および方法で、上記相変化記録層上にも屈折率 Furthermore, the same material and method as the formation of the first heat-resistant protective layer described above, the refractive index in the phase change recording layer
2.1で、膜厚 120nmの第2耐熱保護層を成膜した後、最後に、紫外線硬化性樹脂(大日本インキ製SD−17)をスピンコート法により5μm塗布し、紫外線によりこれを硬化させて有機樹脂保護層を形成した。 2.1, after forming a second heat-resistant protective layer having a thickness of 120 nm, finally, ultraviolet ray-curable resin (Dainippon Ink SD-17) was 5μm applied by spin coating, by curing this with ultraviolet to form an organic resin protective layer.

【0026】以上のようにして作製した光情報記録媒体に対して、 1800rpmで回転する媒体の中心から45mmの位置に、波長 830nmの半導体レーザを用いて8mWのパワーで初期化した後、周波数 3.7MHz、duty22%の反復信号を記録、再生および消去を行う操作を繰り返して実行した。 [0026] with respect to the optical information recording medium manufactured as described above, the center from the 45mm position of the medium rotating at 1800 rpm, after initializing a power of 8mW using a semiconductor laser having a wavelength of 830 nm, frequency 3.7 MHz, recorded Duty22% of repetitive signals was performed by repeating the operation for reproducing and erasing. 尚、情報の書込み時の記録パワーは14mW、消去のパワーは8mW、再生パワー1mWとした。 The write time of the recording power information 14 mW, the power of the erasure was 8 mW, and reproduction power 1 mW.

【0027】このような操作を 10 5回繰り返した後の再生信号のC/N比を測定した結果を初期値と共に表1に示す。 [0027] Table 1 shows the results of measuring the C / N ratio of the reproduced signal after repeating such an operation 10 5 times with the initial value.

【0028】更に、この光情報記録媒体に対して、JI Furthermore, with respect to the optical information recording medium, JI
S C5024 M-1に規定された温湿度サイクル試験を行った後、光情報記録媒体の表面を光学顕微鏡により観察した。 After a defined temperature and humidity cycle test in the S C5024 M-1, and the surface of the optical information recording medium was observed with an optical microscope. 観察は、試験を3サイクル行った後と6サイクル行った後とにそれぞれ実施した。 Observation was performed respectively and after 6 cycles and after three cycles of the test. 観察結果は、ブリスタの発生の有無と発生したブリスタの大きさとにより評価した。 Observation was evaluated by the size of the blister occurs and whether blister occurred. 評価結果を表2に示す。 The evaluation results are shown in Table 2.

【0029】〔比較例1〕作製例1で使用したものと同じ仕様のディスク基板を使用して、物理的には図1に示した構造の光情報記録媒体を作製した。 [0029] Comparative Example 1 using the disk substrate having the same specifications as that used in Preparation Example 1, the physical was prepared optical information recording medium of the structure shown in FIG. 但し、第1耐熱保護層2の材料は異るものを用いた。 However, the material of the first heat-resistant protective layer 2 was used yl. 即ち、本比較例では、ZnSおよびSiO 2の混合物により第1耐熱保護層2 In other words, in this comparative example, a mixture with the first heat-resistant protective layer 2 of ZnS and SiO 2
を形成した。 It was formed.

【0030】耐熱保護層の形成は、以下のようにして行った。 The formation of the heat-resistant protective layer was carried out as follows. まず、直径 150mmのSiO 2ターゲット上に直径20 First, the diameter 20 on the SiO 2 target having a diameter of 150mm
mm、厚さ5mmのZnSタブレット16個をのせた複合ターゲットを用いてRFスパッタリング法により基板上に第1 mm, first on a substrate by RF sputtering method using a composite target loaded with ZnS tablet 16 having a thickness of 5mm
耐熱保護層を形成した。 To form a heat-resistant protective layer. 尚、成膜前の到達真空度は5× Incidentally, the ultimate vacuum before film formation is 5 ×
10 -6 torr以下であり、成膜処理は4mtorrのアルゴンガスの存在下で行った。 And at 10 -6 torr or less, the film-forming process was carried out in the presence of argon gas 4 mTorr. こうして形成した第1耐熱保護層の膜厚は 120nmであり、屈折率は 2.1であった。 The thickness of the first heat-resistant protective layer thus formed is 120 nm, the refractive index was 2.1. また、 Also,
EPMAによる分析の結果、第1耐熱保護層中のZnS: Analysis by EPMA, ZnS of the first heat-resistant protective layer:
SiO 2の存在比は75:25(モル%)であった。 Abundance ratio of SiO 2 was 75:25 (mol%).

【0031】続いて、DCスパッタリング法により、作製例1と同じ仕様の相変化記録層を形成した後、再び前記した第1耐熱保護層の成膜と同じ材料および方法で、 [0031] Then, the DC sputtering method to form a phase-change recording layer having the same specifications as Preparation Example 1, the same material and method as the formation of the first heat-resistant protective layer described above again,
上記相変化記録層上にも屈折率 2.1で、膜厚 120nmの第2耐熱保護層を成膜した。 A refractive index of 2.1 to the phase change recording layer was formed a second heat-resistant protective layer having a thickness of 120 nm. 最後に紫外線硬化性樹脂(大日本インキ製SD−17)をスピンコート法により5μm 5μm by a spin-coating method last in UV-curable resin (Dainippon Ink SD-17)
塗布し、紫外線によりこれを硬化させて有機樹脂保護層を形成した。 Coated to form an organic resin protective layer by curing this with ultraviolet rays.

【0032】以上のようにして作製した光情報記録媒体に対して、作製例1と同じ方法で特性および耐久性の評価を行った。 [0032] with respect to the optical information recording medium manufactured as described above were evaluated characteristics and durability in the same manner as Preparation Example 1. 評価結果は、表1および表2に併せて示す。 The evaluation results are shown in Table 1 and Table 2.

【0033】〔作製例2〕作製例1と同じ仕様のディスク基板を使用して、図2に示した構造の光情報記録媒体を作製した。 [0033] Preparation Example 2 by using the disc substrate having the same specifications as Preparation Example 1 to prepare an optical information recording medium having the structure shown in FIG.

【0034】直径 150mmのZnSターゲットに直径20mm、 [0034] diameter 20mm in ZnS target with a diameter of 150mm,
厚さ5mmの Nb 25タブレット8個と直径30mm、厚さ5 Thickness 5 mm Nb 2 O 5 tablets 8 and the diameter 30 mm, thickness 5
mmのSiO 2タブレット3個をのせた複合ターゲットを用いてRFスパッタリング法により基板上に第1耐熱保護層2を形成した。 to form the first heat-resistant protective layer 2 on the substrate by RF sputtering method using a mm SiO 2 composite target topped three tablets. 尚、成膜前の到達真空度は5×10 -6 to Incidentally, the ultimate vacuum before film formation is 5 × 10 -6 to
rr以下であり、成膜処理は4mtorrのアルゴンガスの存在下で行った。 And the rr less, the film-forming process was carried out in the presence of argon gas 4 mTorr. こうして得られた第1耐熱保護層の膜厚は 120nmであり、屈折率は 2.0であった。 The thickness of the first heat-resistant protective layer thus obtained is 120 nm, the refractive index was 2.0. また、EPM In addition, EPM
Aによる分析の結果、ZnS: Nb 25 :SiO 2の存在比は60:30:10(モル%)であった。 Analysis by A, ZnS: Nb 2 O 5 : abundance ratio of SiO 2 was 60:30:10 (mol%).

【0035】続いて、上述のようにして作製した耐熱保護層上に、DCスパッタリング法により記録層3を成膜した。 [0035] Then, on the heat-resistant protective layer prepared as described above was deposited recording layer 3 by DC sputtering. 記録層の材料はTeGeSb〔組成比55:17:28(原子%)〕とし、4mtorrのアルゴンガスの存在下で膜厚25 The material of the recording layer was set to TeGeSb [Composition ratio 55:17:28 (atomic%)], the film thickness in the presence of argon gas 4 mTorr 25
nmまで堆積させた。 Until nm was deposited.

【0036】更に、前記した第1耐熱保護層の成膜と同じ材料および方法で、膜厚20nm、屈折率 2.0の第2耐熱保護層を成膜した。 Furthermore, the same material and method as the formation of the first heat-resistant protective layer described above, the film thickness of 20 nm, a second heat-resistant protective layer having a refractive index of 2.0 was deposited. 更に、4mtorrのアルゴンガスの存在下で行うDCスパッタリング法により、膜厚50nmのAl Further, the DC sputtering method carried out in the presence of argon gas of 4 mTorr, a film thickness of 50 nm Al
薄膜により形成された反射層を成膜した。 A reflective layer formed by a thin film was formed. 最後に、紫外線硬化性樹脂(大日本インキ製SD−17)をスピンコート法により5μm塗布し、紫外線によりこれを硬化させて有機樹脂保護層を形成した。 Finally, an ultraviolet curable resin (Dainippon Ink SD-17) was 5μm applied by spin coating to form an organic resin protective layer by curing this with ultraviolet rays.

【0037】こうして作製した光情報記録媒体に対して、作製例1と同じ方法で特性および耐久性の評価を行なった。 [0037] with respect to the optical information recording medium manufactured in this way were evaluated for properties and durability in the same manner as Preparation Example 1. 評価結果は、表1および表2に併せて示す。 The evaluation results are shown in Table 1 and Table 2.

【0038】〔比較例2〕作製例2と同じ仕様のディスク基板を使用して、物理的には図2に示した構造の光情報記録媒体を作製した。 [0038] Comparative Example 2 using the disc substrate having the same specifications as the production example 2, the physical was prepared optical information recording medium having the structure shown in FIG. ただし、ここでは、耐熱保護層の材料を、ZnS、Nb 25およびSiO 2の混合物とした。 However, in this case, the material of the heat-resistant protective layer, ZnS, and a mixture of Nb 2 O 5 and SiO 2.

【0039】耐熱保護層の成膜は以下のようにして行った。 The formation of the heat-resistant protective layer was carried out in the following manner. まず、直径 150mmのZnSターゲットに直径20mm、厚さ5mmの Nb 25タブレット6個と直径30mm、厚さ5mm First, diameter 20mm to ZnS target with a diameter of 150 mm, Nb 2 O 5 Tablet 6 and 30mm diameter with a thickness of 5mm, thickness of 5mm
のSiO 2タブレット5枚をのせた複合ターゲットを用い、RFスパッタリング法により基板上に堆積させた。 Using a SiO 2 composite target topped five tablets was deposited on a substrate by RF sputtering.
尚、成膜前の到達真空度は5×10 -6 torr以下であり、成膜処理は4mtorrのアルゴンガスの存在下で行った。 Incidentally, the ultimate vacuum before film formation is less 5 × 10 -6 torr, the deposition process was carried out in the presence of argon gas 4 mTorr. こうして得られた耐熱保護層の膜厚は 120nmであり、屈折率は 2.0であった。 The film thickness of the thus obtained heat-resistant protective layer is 120 nm, the refractive index was 2.0. また、EPMAによる分析の結果、 In addition, the results of analysis by EPMA,
ZnS: Nb 25 :SiO 2の存在比は60:25:15(モル%)であった。 ZnS: Nb 2 O 5: abundance ratio of SiO 2 was 60:25:15 (mol%).

【0040】続いて、上述のようにして作製した耐熱保護層上に作製例2と同じ仕様の記録層を形成した後、上記第1耐熱保護層の成膜と同じ材料および方法で、第2 [0040] Subsequently, after forming the recording layer of the same specification as Preparation Example 2 on heat-resistant protective layer prepared as described above, the same material and method as the formation of the first heat-resistant protective layer, a second
耐熱保護層を成膜した。 Thereby forming a heat-resistant protective layer. 第2耐熱保護層の膜厚は25nmであり、屈折率は 2.0であった。 The thickness of the second heat-resistant protective layer is 25 nm, the refractive index was 2.0.

【0041】更に、4mtorrのアルゴンガスの存在下で行うDCスパッタリング法により膜厚50nmのAl薄膜による反射層を成膜した。 [0041] Further, by forming a reflective layer of Al film with a thickness of 50nm by a DC sputtering method carried out in the presence of argon gas 4 mTorr. 最後に、紫外線硬化性樹脂(大日本インキ製SD−17)をスピンコート法により5μm塗布し、紫外線によりこれを硬化させて有機樹脂保護層を形成した。 Finally, an ultraviolet curable resin (Dainippon Ink SD-17) was 5μm applied by spin coating to form an organic resin protective layer by curing this with ultraviolet rays.

【0042】以上のようにして作製した光情報記録媒体に対して、作製例1と同じ方法で特性および耐久性の評価を行なった。 [0042] with respect to the optical information recording medium manufactured as described above were evaluated for properties and durability in the same manner as Preparation Example 1. 評価結果は表1および表2に併せて示す。 The evaluation results are shown in Table 1 and Table 2.

【0043】 [0043]

【表1】 [Table 1]

【0044】 [0044]

【表2】 [Table 2]

【0045】 [0045]

【発明の効果】以上説明したように、本発明に従う光情報記録媒体は、その記録特性に優れていると同時に、耐久性も優れている。 As described above, according to the present invention, an optical information recording medium according to the present invention, at the same time is excellent in the recording characteristics, has excellent durability.

【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

【図1】本発明が適用可能な光情報記録媒体の典型的な構造を示す断面図である。 [1] The present invention is a cross-sectional view showing a typical structure of the applicable optical information recording medium.

【図2】本発明が適用可能な光情報記録媒体の他の構造を示す断面図である。 [2] The present invention is a cross-sectional view showing another structure applicable the optical information recording medium.

【符号の説明】 DESCRIPTION OF SYMBOLS

1 透明樹脂、 2 第1耐熱保護層、 3 相変化記録層、 4 第2耐熱保護層、 5 反射層、 6 有機樹脂保護層 First transparent resin, 2 first heat-resistant protective layer, 3-phase change recording layer, 4 a second heat-resistant protective layer, 5 reflecting layer, 6 an organic resin protective layer

Claims (3)

    【特許請求の範囲】 [The claims]
  1. 【請求項1】第1耐熱保護層、相変化型の記録層、第2 1. A first heat-resistant protective layer, a phase change type recording layer of the second
    耐熱保護層および有機樹脂保護層を透明樹脂基板上に順次積層して構成され、該記録層にレーザ光を照射することにより情報の記録、再生および消去を行う光情報記録媒体において、 少なくとも該第1耐熱保護層が、硫化亜鉛と酸化ニオブとを主成分とする混合物により形成されていることを特徴とする光情報記録媒体。 Is configured by sequentially laminating a heat-resistant protective layer and an organic resin protective layer a transparent resin substrate, a recording of information by irradiating a laser beam on the recording layer, an optical information recording medium for reproduction and erasing, at least said 1 heat-resistant protective layer, an optical information recording medium characterized in that it is formed by a mixture mainly composed of niobium oxide and zinc sulfide.
  2. 【請求項2】請求項1に記載された光情報記録媒体において、前記第1耐熱保護層が、10モル%以下のSiO 2を含むことを特徴とする光情報記録媒体。 2. A optical information recording medium according to claim 1, wherein the first heat-resistant protective layer, an optical information recording medium, characterized in that it comprises a SiO 2 of 10 mol% or less.
  3. 【請求項3】請求項1または請求項2に記載された光情報記録媒体において、前記第2耐熱保護層と前記有機樹脂保護層との間に形成された反射層を更に備えることを特徴とする光情報記録媒体。 3. An optical information recording medium according to claim 1 or claim 2, and further comprising a reflective layer formed between said second heat-resistant protective layer and the organic resin protective layer optical information recording medium.
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