JPH01271933A - フエーズロックされたダイオードレーザ・アレイを有する光学装置 - Google Patents
フエーズロックされたダイオードレーザ・アレイを有する光学装置Info
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- JPH01271933A JPH01271933A JP63249892A JP24989288A JPH01271933A JP H01271933 A JPH01271933 A JP H01271933A JP 63249892 A JP63249892 A JP 63249892A JP 24989288 A JP24989288 A JP 24989288A JP H01271933 A JPH01271933 A JP H01271933A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、フェーズロックされたダイオード・レーザ・
アレイとコリメータ・レンズとを有し、円形状に対称の
断面及び強度分布を持つ放射線ビームを得るための光学
装置に関する。この発明はまた、かかる光学装置を用い
、光ディスク・レコーダ及び／又は光ディスク・プレー
ヤ又はレーザ・プリンタのような、情報媒体を走査する
ための装置に関する。
アレイとコリメータ・レンズとを有し、円形状に対称の
断面及び強度分布を持つ放射線ビームを得るための光学
装置に関する。この発明はまた、かかる光学装置を用い
、光ディスク・レコーダ及び／又は光ディスク・プレー
ヤ又はレーザ・プリンタのような、情報媒体を走査する
ための装置に関する。
ヨーロッパ特許出願節０．１００，２４２号は、特別な
種類の複数の発光領域もつ半導体レーザであるフェーズ
ロックされたダイオード・レーザ・アレイを有する光学
装置を開示している。フェーズロックされたダイオード
・レーザ・アレイは、単一の発光領域をもつダイオード
・レーザよりもかなり高い出力パワーを得ることができ
るために多くの関心がある。多くの応用にとって、発光
領域からのすべての出力パワーをできるだけ高い効率で
、単体の円形状でしかも回折限界のスポットに集束させ
ることが必要である。しかしながらこのような集束は、
フェーズロックされたレーザ・アレイの特殊な放射線パ
ターンのために、高開口の対物レンズのみでは得ること
が不可能である。
種類の複数の発光領域もつ半導体レーザであるフェーズ
ロックされたダイオード・レーザ・アレイを有する光学
装置を開示している。フェーズロックされたダイオード
・レーザ・アレイは、単一の発光領域をもつダイオード
・レーザよりもかなり高い出力パワーを得ることができ
るために多くの関心がある。多くの応用にとって、発光
領域からのすべての出力パワーをできるだけ高い効率で
、単体の円形状でしかも回折限界のスポットに集束させ
ることが必要である。しかしながらこのような集束は、
フェーズロックされたレーザ・アレイの特殊な放射線パ
ターンのために、高開口の対物レンズのみでは得ること
が不可能である。
Ｎ個の発光領域を持つようなレーザ・アレイはＮ個のい
わゆるスーパーモードで放射し、そしてレーザ・アレイ
自体はその閾値電流が最小である１つ又は複数のスーパ
ーモードを選択する。閾値電流は、レーザ発振させるた
めにｐ−ｎ接合層に直交する方向に流す電流の値である
。特別な内部構成を持つダイオード・アレイは１つのス
ーパーモードにおいて放射する。実際の使用に対して最
も興味深いモードは、均一な近フィールド波面を持つ基
本的な、すなわち零次のシングルローブ・スーパーモー
ド、及び高い安定性を示す最高次のダブルローブ・スー
パーモードである。
わゆるスーパーモードで放射し、そしてレーザ・アレイ
自体はその閾値電流が最小である１つ又は複数のスーパ
ーモードを選択する。閾値電流は、レーザ発振させるた
めにｐ−ｎ接合層に直交する方向に流す電流の値である
。特別な内部構成を持つダイオード・アレイは１つのス
ーパーモードにおいて放射する。実際の使用に対して最
も興味深いモードは、均一な近フィールド波面を持つ基
本的な、すなわち零次のシングルローブ・スーパーモー
ド、及び高い安定性を示す最高次のダブルローブ・スー
パーモードである。
ダイオード・レーザ・アレイの理論においては、パ近フ
ィールド分布”及び“′遠フィールド分布“という用語
が使用される。近フィールド位相−又は強度分布は、ダ
イオード・レーザ・アレイの出射端面か又はこの出射端
面に共役な平面における分布である。遠フィールド位相
−又は強度分布はそのアレイの個々のスリット状発光領
域から放射する個々のビームの干渉の結果である。遠フ
ィールド分布はレーザの出射端面から成る距離の位置に
形成される。
ィールド分布”及び“′遠フィールド分布“という用語
が使用される。近フィールド位相−又は強度分布は、ダ
イオード・レーザ・アレイの出射端面か又はこの出射端
面に共役な平面における分布である。遠フィールド位相
−又は強度分布はそのアレイの個々のスリット状発光領
域から放射する個々のビームの干渉の結果である。遠フ
ィールド分布はレーザの出射端面から成る距離の位置に
形成される。
本願において近−及び遠−フィールドは、側方平面、す
なわち、放射線パターンの軸を通り且つｐ−ｎ接合層に
平行な平面でのフィールドに対して適用される。ｐ−ｎ
接合層に直交し且つ前記軸を通しての平面は横断状平面
である。
なわち、放射線パターンの軸を通り且つｐ−ｎ接合層に
平行な平面でのフィールドに対して適用される。ｐ−ｎ
接合層に直交し且つ前記軸を通しての平面は横断状平面
である。
フェーズロックされたダイオードレーザ・アレイから単
一つの円形状スポットを得るために、ヨーロッパ特許出
願筒０．１００，２４２号では、１つ又はそれ以上の円
筒状レンズと、レーザ出射端面の像平面又はその共役な
平面の位置に配置されてた制限用開口からなる空間フィ
ルタを使用することを提案している。空間フィルタは、
ローブの１つを選択するためのものであり、ビームが非
常に小さい側方ビームウェスト平面に配置されるために
、その寸法及び配置位置に関してきびしい精度が要求さ
れる。また、円筒状レンズの使用はいくつかの不都合を
生じる１円筒状レンズは、装置の光軸との位置合わせに
きびしい精度が要求される。光軸に対する円筒状レンズ
の小さな傾き又はズレはこのレンズの光学的作用に大き
く影響する。
一つの円形状スポットを得るために、ヨーロッパ特許出
願筒０．１００，２４２号では、１つ又はそれ以上の円
筒状レンズと、レーザ出射端面の像平面又はその共役な
平面の位置に配置されてた制限用開口からなる空間フィ
ルタを使用することを提案している。空間フィルタは、
ローブの１つを選択するためのものであり、ビームが非
常に小さい側方ビームウェスト平面に配置されるために
、その寸法及び配置位置に関してきびしい精度が要求さ
れる。また、円筒状レンズの使用はいくつかの不都合を
生じる１円筒状レンズは、装置の光軸との位置合わせに
きびしい精度が要求される。光軸に対する円筒状レンズ
の小さな傾き又はズレはこのレンズの光学的作用に大き
く影響する。
更に、ビームを拡大するために円筒状レンズを光学系に
導入すると、その系の光学路長が増大する。
導入すると、その系の光学路長が増大する。
２つの円筒状レンズの場合、その倍率は焦点距離の商に
比例する。光学的焦点距離が減少されると。
比例する。光学的焦点距離が減少されると。
球面収差が生じる。かかる収差の修正された円筒状レン
ズは安価に入手できない。
ズは安価に入手できない。
本発明の目的は、コンパクトで、しかも収差のない回折
限界の放射線スポットが得られることを可能にした光学
装置及びそれを用いた装置を提供するにある。
限界の放射線スポットが得られることを可能にした光学
装置及びそれを用いた装置を提供するにある。
本発明の光学装置は、光軸を通り且つｐ−ｎ接合層に平
行な側方平面内で入射放射線の軸に関して傾斜した入射
端面及び出射放射線の軸に直交している出射端面を持つ
少なくとも１つのプリズムからなるプリズム系と、レー
ザ・アレイの側方遠フィールドに配置された空間フィル
タとが、この順序でコリメータレンズの後方に配列され
ていることを特徴としている。
行な側方平面内で入射放射線の軸に関して傾斜した入射
端面及び出射放射線の軸に直交している出射端面を持つ
少なくとも１つのプリズムからなるプリズム系と、レー
ザ・アレイの側方遠フィールドに配置された空間フィル
タとが、この順序でコリメータレンズの後方に配列され
ていることを特徴としている。
プリズム系は、入射ビームを横方向に広げ、出射ビーム
の側方幅をその横断状幅に等しくする。
の側方幅をその横断状幅に等しくする。
空間フィルタは望ましくないローブを阻止し、そして拡
大されて選択されたローブのみを取り出す。
大されて選択されたローブのみを取り出す。
空間フィルタは、遠フィールドに配置されるために、そ
の寸法及び配置位置の精度は左程厳格でない。このプリ
ズム系は、そのアナモルフィック機能の外に、ビームの
非点収差を補正する効果をも持っている。球面状のコリ
メータ・レンズは、このレンズから出射される放射線が
なおも幾らかの波面球形を持つように配置されている０
発散又は収束ビームがプリズムを通過するとき、このプ
リズムはそのビームに対して非点収差を分は与えること
になる。このプリズムの非点収差の効果は、ダイオード
レーザ・アレイの非点収差を修正するために使用される
。
の寸法及び配置位置の精度は左程厳格でない。このプリ
ズム系は、そのアナモルフィック機能の外に、ビームの
非点収差を補正する効果をも持っている。球面状のコリ
メータ・レンズは、このレンズから出射される放射線が
なおも幾らかの波面球形を持つように配置されている０
発散又は収束ビームがプリズムを通過するとき、このプ
リズムはそのビームに対して非点収差を分は与えること
になる。このプリズムの非点収差の効果は、ダイオード
レーザ・アレイの非点収差を修正するために使用される
。
更に沖ましいことに、プリズム系の上記少なくとも１つ
のプリズムは、その入射端面に対向する頂角が９０度で
あることを特徴としている。かかるプリズムは、頂角が
９０度と異なっているプリズムよりも容易に製作できる
し、更に、光学装置の組立に際してプリズムの位置ぎめ
を簡単にする。
のプリズムは、その入射端面に対向する頂角が９０度で
あることを特徴としている。かかるプリズムは、頂角が
９０度と異なっているプリズムよりも容易に製作できる
し、更に、光学装置の組立に際してプリズムの位置ぎめ
を簡単にする。
空間フィルタは、プリズム系の最後のプリズムの後方に
配列されたダイヤフラムによって構成されても良い、好
ましくは、空間フィルタが、プリズム系の最後のプリズ
ムの出射端面上に中心状円形関口を除いて黒い被覆を形
成することによって構成するのが良い。この場合、別個
のダイヤプラムを必要としないので、光学ユニットが簡
単になり、作り易くなる。
配列されたダイヤフラムによって構成されても良い、好
ましくは、空間フィルタが、プリズム系の最後のプリズ
ムの出射端面上に中心状円形関口を除いて黒い被覆を形
成することによって構成するのが良い。この場合、別個
のダイヤプラムを必要としないので、光学ユニットが簡
単になり、作り易くなる。
また、空間フィルタを、プリズム系の最後のプリズムの
境界によって構成しても同じ利点が得られる。
境界によって構成しても同じ利点が得られる。
レーザアレイ結合光学系を、ダイオードレーザ・アレイ
の放射線が回折限界のスポットに集束される光学装置で
用いる場合、空間フィルタはその装置のスポット形成用
レンズの入射ひとみによって構成されても良い。
の放射線が回折限界のスポットに集束される光学装置で
用いる場合、空間フィルタはその装置のスポット形成用
レンズの入射ひとみによって構成されても良い。
前に述べたように、プリズム系は唯１つのプリズムから
構成しても良い、しかしながら、かかるプリズムは、出
射ビームの軸がその入射放射線の軸方向とは異なる方向
になる。特に、光学的記録担体を記録及び／又は読み出
すための装置において使用されるべき光学装置に対して
、これは適当でない、というのは、この場合、その光学
装置を小さな断面の管状の保持具へと収容することが好
ましいためである。
構成しても良い、しかしながら、かかるプリズムは、出
射ビームの軸がその入射放射線の軸方向とは異なる方向
になる。特に、光学的記録担体を記録及び／又は読み出
すための装置において使用されるべき光学装置に対して
、これは適当でない、というのは、この場合、その光学
装置を小さな断面の管状の保持具へと収容することが好
ましいためである。
それ故、プリズム系が２つのプリズムを含み、以って、
最後のプリズムの出射端面が第１のプリズム上に入射す
る放射線の軸に直交しているのがより好ましい。
最後のプリズムの出射端面が第１のプリズム上に入射す
る放射線の軸に直交しているのがより好ましい。
従って、最後のプリズムから出射するビームの軸はプリ
ズム系への入射放射線の軸に平行にあり、そしてそのビ
ーム拡大は１つのプリズムからなる系におけるよりも大
きくでき、このことはダイオードレーザ・アレイが増大
された数の放射用スリットを含み、結果的に増大された
横断−側方遠フイールド・ビーム寸法部を含むときに重
要である。
ズム系への入射放射線の軸に平行にあり、そしてそのビ
ーム拡大は１つのプリズムからなる系におけるよりも大
きくでき、このことはダイオードレーザ・アレイが増大
された数の放射用スリットを含み、結果的に増大された
横断−側方遠フイールド・ビーム寸法部を含むときに重
要である。
他方、同じ側方ビーム拡大のために１つに代って２つの
プリズムを使用すると、各プリズムの拡大率は半分にで
きるので、それらのプリズムの配置及び公差についての
要件は厳しくない。
プリズムを使用すると、各プリズムの拡大率は半分にで
きるので、それらのプリズムの配置及び公差についての
要件は厳しくない。
更に改良された実施例では、４つのプリズムを含み、以
って、側方平面において第２及び第４のプリズムの出射
端面が第１のプリズム上に入射する放射線の軸に直交し
ていることを特徴としている。
って、側方平面において第２及び第４のプリズムの出射
端面が第１のプリズム上に入射する放射線の軸に直交し
ていることを特徴としている。
この実施例において、出射ビームの軸は第１のプリズム
上に入射する放射線の軸の方向に延在している。
上に入射する放射線の軸の方向に延在している。
本発明は、光学的記録担体を光学的に記録するための装
置において好都合に使用でき、そして相対的に高い記録
強度のために、記録されるべき情報に従って強度変調さ
れる放射線スポットを発生するための光学ヘッドを含ん
でいる。この装置は、その光学ヘッドが前に記述したよ
うな光学系とそしてこの光学系からのビームを記録担体
上で回折限界のスポットへと集束させるための対物レン
ズとを含んでいる。
置において好都合に使用でき、そして相対的に高い記録
強度のために、記録されるべき情報に従って強度変調さ
れる放射線スポットを発生するための光学ヘッドを含ん
でいる。この装置は、その光学ヘッドが前に記述したよ
うな光学系とそしてこの光学系からのビームを記録担体
上で回折限界のスポットへと集束させるための対物レン
ズとを含んでいる。
本発明は、記録担体を読み出すための装置においても使
用でき、記録担体を走査するための放射線スポットが発
生される光学ヘッドを含んでいる。
用でき、記録担体を走査するための放射線スポットが発
生される光学ヘッドを含んでいる。
この装置は、その光学ヘッドが前に記述したような光学
系とそしてこの光学系からのビームをその記録担体上で
回折限界の丸いスポットへと集束させるための対物レン
ズとを含んでいることを特徴としている。
系とそしてこの光学系からのビームをその記録担体上で
回折限界の丸いスポットへと集束させるための対物レン
ズとを含んでいることを特徴としている。
本発明は、第１の方向において移動可能な記録媒体担体
とそしてその第１の方向に直交ぜる第２の方向に沿って
放射線ビームを走査させるためのビーム偏向装置とを含
み、記録媒体上に情報をレーザ・プリントするための装
置においても好都合に使用できる。この装置は、ビーム
を発生するための前に記述したような光学系とそしてこ
の光学系からのビームを記録媒体上において回折限界の
放射線スポットへと集束させるための対物レンズとを含
んでいることを特徴としている。
とそしてその第１の方向に直交ぜる第２の方向に沿って
放射線ビームを走査させるためのビーム偏向装置とを含
み、記録媒体上に情報をレーザ・プリントするための装
置においても好都合に使用できる。この装置は、ビーム
を発生するための前に記述したような光学系とそしてこ
の光学系からのビームを記録媒体上において回折限界の
放射線スポットへと集束させるための対物レンズとを含
んでいることを特徴としている。
３つの述べられた装置は更に、その光学系の空間フィル
タが対物レンズの入口ひとみによって構成されることを
特徴としている。
タが対物レンズの入口ひとみによって構成されることを
特徴としている。
第１図は、多数の発光領域をもつ半導体レーザ・ユニッ
ト、いわゆるフェーズロックされたダイオードレーザ・
アレイを概略的に示す傾斜図である。このレーザ・ユニ
ット１０は、ｎ型材料の第１の層１１と、ｎ型材料の第
２の層１２と、中間層１３すなわちｐ−ｎ接合層とを含
み、レーザ作用は、成る閾値以上の電流がそのレーザ・
ユニットを通して２方向に印加されるときに生じる。レ
ーザ放射線はｐ−ｎ接合層１３の第１の端面１４を通し
て発散し、そしてＹ方向に伝搬する。この放射線は、側
方平面と呼ばれているＸＹ平面においては第１の小さな
発散を示し、横断状平面と呼ばれるＹＺ平面において第
２の大きな発散を示す。
ト、いわゆるフェーズロックされたダイオードレーザ・
アレイを概略的に示す傾斜図である。このレーザ・ユニ
ット１０は、ｎ型材料の第１の層１１と、ｎ型材料の第
２の層１２と、中間層１３すなわちｐ−ｎ接合層とを含
み、レーザ作用は、成る閾値以上の電流がそのレーザ・
ユニットを通して２方向に印加されるときに生じる。レ
ーザ放射線はｐ−ｎ接合層１３の第１の端面１４を通し
て発散し、そしてＹ方向に伝搬する。この放射線は、側
方平面と呼ばれているＸＹ平面においては第１の小さな
発散を示し、横断状平面と呼ばれるＹＺ平面において第
２の大きな発散を示す。
ｐ−ｎ接合層１３は、中間ストライプによって互いに分
離されている多くの放射線ガイドストライ チプ１３１，１３□などを含んでいる。簡略化のだイ めに、第１図では、４つのガイドストラクプだけが示さ
れているが、それらの数は１０又はそれ以上になる。例
えば、１９８４年６月号、“Ｌ ａｓｅｒＦｏｃｕｓ／
Ｅ １ｅｃｔｒｏ−Ｏｐｔｉｃｓ″において、Ｗ、ス
トレイファその他によって提出された文献、“Ｐ ｈａ
ｓｅｄ Ａ ｒｒｅｙ Ｄ ｆａｄｅ Ｌ ａｓｅｖｓ
”から周知のように、フェーズロックされたレーザ・ア
レイは、シングルスドライブのダイオード・レーザに対
してかなり増大されたパワー出力の利点を有する。
離されている多くの放射線ガイドストライ チプ１３１，１３□などを含んでいる。簡略化のだイ めに、第１図では、４つのガイドストラクプだけが示さ
れているが、それらの数は１０又はそれ以上になる。例
えば、１９８４年６月号、“Ｌ ａｓｅｒＦｏｃｕｓ／
Ｅ １ｅｃｔｒｏ−Ｏｐｔｉｃｓ″において、Ｗ、ス
トレイファその他によって提出された文献、“Ｐ ｈａ
ｓｅｄ Ａ ｒｒｅｙ Ｄ ｆａｄｅ Ｌ ａｓｅｖｓ
”から周知のように、フェーズロックされたレーザ・ア
レイは、シングルスドライブのダイオード・レーザに対
してかなり増大されたパワー出力の利点を有する。
故に、このレーザ・ユニット１０は光ディスクのような
光記録媒体又はレーザ・プリンタの記録媒体上に情報を
記録するのに非常に良く適している。
光記録媒体又はレーザ・プリンタの記録媒体上に情報を
記録するのに非常に良く適している。
個々のストライプからのすべての放射線は、単体でかつ
円形な回折限界のスポットに集束される必要がある。ダ
イオードレーザ・アレイの特別な放射線パターンのため
に、放射線をコリメートする第１のレンズとその放射線
を集束させる第２のレンズとの組合せの外に付加的な光
学素子すなわちエレメントが必要である。
円形な回折限界のスポットに集束される必要がある。ダ
イオードレーザ・アレイの特別な放射線パターンのため
に、放射線をコリメートする第１のレンズとその放射線
を集束させる第２のレンズとの組合せの外に付加的な光
学素子すなわちエレメントが必要である。
例えば、１９８４年６月発行、” Ｌ ａｓｅｒ Ｆ
ｏｃｕｓ／ Ｅ １ｅｃｔｒｏ−Ｏｐｔｉｃｓ”におけ
る上述の文献から周知のように、Ｎ個の発光領域をもつ
レーザアレイはＮ個のスーパーモードで放射し、そして
特別な内部構造を持つレーザ・アレイはそれ自体、その
閾値電流を最小にするためにそれらスーパーモードのう
ちの１つを選択する０本発明は、基本的な。
ｏｃｕｓ／ Ｅ １ｅｃｔｒｏ−Ｏｐｔｉｃｓ”におけ
る上述の文献から周知のように、Ｎ個の発光領域をもつ
レーザアレイはＮ個のスーパーモードで放射し、そして
特別な内部構造を持つレーザ・アレイはそれ自体、その
閾値電流を最小にするためにそれらスーパーモードのう
ちの１つを選択する０本発明は、基本的な。
すなわち、零次のスーパーモードで放射するダイオード
レーザ・アレイに対して特に有利である。
レーザ・アレイに対して特に有利である。
零次スーパーモードでは、レーザ放射領域のすべてから
の放射線が同相にあり、その近フィールド位相分布、す
なわち、波面が均一であるために、実用性に優んでいる
。その近フィールドは、レーザアレイの出射端面１４に
おけるフィールドであり、第２ａ図に示されているよう
に、偏平な波面ＷＦが入射する格子ｇと見做される。放
射線ストライプの個々の副ビームは、コリメータ・レン
ズの入射ひとみにおける遠フィールドにおいて、干渉パ
ターン、すなわち、強度分布を形成するように互いに干
渉する。
の放射線が同相にあり、その近フィールド位相分布、す
なわち、波面が均一であるために、実用性に優んでいる
。その近フィールドは、レーザアレイの出射端面１４に
おけるフィールドであり、第２ａ図に示されているよう
に、偏平な波面ＷＦが入射する格子ｇと見做される。放
射線ストライプの個々の副ビームは、コリメータ・レン
ズの入射ひとみにおける遠フィールドにおいて、干渉パ
ターン、すなわち、強度分布を形成するように互いに干
渉する。
このパターンは第２ｂ図に示されており、図において、
工は強度であり、θはそのシステムの光軸に対する遠フ
ィールドでの角度位置である。遠フィールド・パターン
は、λを放射線の波長、Ｄを回折格子の期間とすると、
λ／Ｄとシングルスドライブの放射線パターンとの積に
よって与えられる。側方平面における強度パターンは、
中心の主ローブと、その主ローブの両側の多くの側ロー
ブとから構成されている。ＦＷＨＭ、すなわち、その最
大強度の１／ｅ２である強度におけるローブの幅Ｗｅは
、Ｎを放射ストライプの数とすると。
工は強度であり、θはそのシステムの光軸に対する遠フ
ィールドでの角度位置である。遠フィールド・パターン
は、λを放射線の波長、Ｄを回折格子の期間とすると、
λ／Ｄとシングルスドライブの放射線パターンとの積に
よって与えられる。側方平面における強度パターンは、
中心の主ローブと、その主ローブの両側の多くの側ロー
ブとから構成されている。ＦＷＨＭ、すなわち、その最
大強度の１／ｅ２である強度におけるローブの幅Ｗｅは
、Ｎを放射ストライプの数とすると。
λ
を持っている。
生還フィールド側面ローブは、レーザ端面から小さな距
離でレーザ内に位置するビームウェスト、すなわち、仮
想の原点を持っている。単一つのスポットは、その側ロ
ーブが光学系の外側に遷移しそして主ローブのみがこの
光学系を通過するようにその放射線パターンが拡張され
るときに得られるにれは遠フィールドにおける空間フィ
ルタ作用と呼ばれる。また、側ローブのマスキングは。
離でレーザ内に位置するビームウェスト、すなわち、仮
想の原点を持っている。単一つのスポットは、その側ロ
ーブが光学系の外側に遷移しそして主ローブのみがこの
光学系を通過するようにその放射線パターンが拡張され
るときに得られるにれは遠フィールドにおける空間フィ
ルタ作用と呼ばれる。また、側ローブのマスキングは。
スポット形成用レンズの開口数（ｎｕｍｅｒｉｃａｌａ
ｐｅｒｔｕｒｅ）の減少と見做され、このレンズの分解
力は、レーザアレイの放射用ストライプ間の中間ストラ
イプを弁別するのには小さ過ぎる。この空間フィルタ作
用により、主ローブと他のローブとの間での干渉が回避
される。
ｐｅｒｔｕｒｅ）の減少と見做され、このレンズの分解
力は、レーザアレイの放射用ストライプ間の中間ストラ
イプを弁別するのには小さ過ぎる。この空間フィルタ作
用により、主ローブと他のローブとの間での干渉が回避
される。
側方平面では、主ローブの原点がレーザ端面よリレーザ
内に位置し、他方、横断状平面でのこの点はレーザ端面
にあるために、そのローブ及び全体としてのレーザアレ
イ放射線は、ゲインガイ１型のシングルエミッタダイオ
ード・レーザと類似した非点収差を示す、単一つの収差
のない回折限界のスポットを得るためには、この非点収
差が除去されなければならない。
内に位置し、他方、横断状平面でのこの点はレーザ端面
にあるために、そのローブ及び全体としてのレーザアレ
イ放射線は、ゲインガイ１型のシングルエミッタダイオ
ード・レーザと類似した非点収差を示す、単一つの収差
のない回折限界のスポットを得るためには、この非点収
差が除去されなければならない。
レーザアレイは線状の発光領域であって、例えば１０個
の発光領域をもつアレイは例えば４０μｍＸ２μｍの大
きさとなる。ダイオードレーザ・アレイから放出される
合成ビームの開口は、側方平面においては比較的小さく
、そして横断状平面においては比較的大きい１合成され
た放射線ビームは楕円状断面を持ち、そして丸いスポッ
トを得るためには、その断面が円形になるようにそのビ
ームを再整形する必要がある。
の発光領域をもつアレイは例えば４０μｍＸ２μｍの大
きさとなる。ダイオードレーザ・アレイから放出される
合成ビームの開口は、側方平面においては比較的小さく
、そして横断状平面においては比較的大きい１合成され
た放射線ビームは楕円状断面を持ち、そして丸いスポッ
トを得るためには、その断面が円形になるようにそのビ
ームを再整形する必要がある。
本発明によると、フェーズロックされたレーザアレイの
放射線は、側方平面における放射線パターンを拡大しそ
して好ましい、例えば基本的なスーパーモードを濾波す
ることによって単体の、丸くてそして回折限界の放射線
スポットを形成するのに適するビームへと変換され、以
って、拡大、ビーム整形及び非点収差除去の機能が１つ
の同じプリズム系によって行われる。
放射線は、側方平面における放射線パターンを拡大しそ
して好ましい、例えば基本的なスーパーモードを濾波す
ることによって単体の、丸くてそして回折限界の放射線
スポットを形成するのに適するビームへと変換され、以
って、拡大、ビーム整形及び非点収差除去の機能が１つ
の同じプリズム系によって行われる。
２つのローブを持つ最高次スーパーモードで放射するフ
ェーズロックされたダイオードレーザアレイを有し、そ
こでの隣接ストライプが１８０度の位相差を持っている
装置において、その放射線路には、１８０度及び０度の
位相遷移をそれぞれ与える第１及び第２の領域を交互に
配列した位相板が配置される。そこでは、２つの中心ロ
ーブに代って１つの中心ローブを持つ放射線パターンが
得られる。この放射線パターンからは、単体の、丸くて
そして回折限界の放射線スポットが本発明を使用するこ
とによって得られる。
ェーズロックされたダイオードレーザアレイを有し、そ
こでの隣接ストライプが１８０度の位相差を持っている
装置において、その放射線路には、１８０度及び０度の
位相遷移をそれぞれ与える第１及び第２の領域を交互に
配列した位相板が配置される。そこでは、２つの中心ロ
ーブに代って１つの中心ローブを持つ放射線パターンが
得られる。この放射線パターンからは、単体の、丸くて
そして回折限界の放射線スポットが本発明を使用するこ
とによって得られる。
本発明は、中心ローブが選択される場合に限定されるも
のではなく、他の放射線モードが選択されるダイオード
レーザ・アレイに対しても使用される。更に、このダイ
オードレーザ・アレイはインデックスガイド型か又はゲ
インガイド型である。
のではなく、他の放射線モードが選択されるダイオード
レーザ・アレイに対しても使用される。更に、このダイ
オードレーザ・アレイはインデックスガイド型か又はゲ
インガイド型である。
第３ａ＠及び第３ｂ図は、本発明の光学系の第１の実施
例を側方断面及び横断状断面においてそれぞれ示してい
る０図において、１０は案内用ストライプ１３を持つダ
イオードレーザ・アレイである。このアレイから放出さ
れる合成された放射線ビームｂはその側方平面における
開口角γ１とこの平面における原点Ｏ１とを持っている
が、他方、横断状平面においてこの角はγ２でありそし
て原点はｏｓである。０１と０．との間における距離Δ
ｙは非点収差的距離である９合成されたビームの放射線
路にはレンズ１７が、次のように、つまり、それが横断
状平面においてそのビームを近似的にコリメートするよ
うに配列されている。しかしながら、側方平面において
、レンズ１７を通過後のビームの波面は、この平面にお
ける原点Ｏ工の遷移Δｙによって一層弯曲される。コリ
メータレンズ１７の背後には、プリズム２０が配列され
ている。横断状平面において、このプリズム２０は、コ
リメートされたビームがそのプリズムの入射端面２１及
び出射端面２２に対してほぼ直交しているために、ビー
ムはほとんど影響を受けない、しかしながら、側方平面
において、その入射端面２３はビームの軸りと角度αを
なして配列されている。入射端面２３において、その屈
折は、そのビームが角度αに依存して広げられるように
生じる。これは、レーザアレイ放射線の遠フィールド放
射線パターンが広げられることを意味し、第３ａ図の上
部には光軸に沿った異なる位置における遠フィールド・
パターンが例示されている。
例を側方断面及び横断状断面においてそれぞれ示してい
る０図において、１０は案内用ストライプ１３を持つダ
イオードレーザ・アレイである。このアレイから放出さ
れる合成された放射線ビームｂはその側方平面における
開口角γ１とこの平面における原点Ｏ１とを持っている
が、他方、横断状平面においてこの角はγ２でありそし
て原点はｏｓである。０１と０．との間における距離Δ
ｙは非点収差的距離である９合成されたビームの放射線
路にはレンズ１７が、次のように、つまり、それが横断
状平面においてそのビームを近似的にコリメートするよ
うに配列されている。しかしながら、側方平面において
、レンズ１７を通過後のビームの波面は、この平面にお
ける原点Ｏ工の遷移Δｙによって一層弯曲される。コリ
メータレンズ１７の背後には、プリズム２０が配列され
ている。横断状平面において、このプリズム２０は、コ
リメートされたビームがそのプリズムの入射端面２１及
び出射端面２２に対してほぼ直交しているために、ビー
ムはほとんど影響を受けない、しかしながら、側方平面
において、その入射端面２３はビームの軸りと角度αを
なして配列されている。入射端面２３において、その屈
折は、そのビームが角度αに依存して広げられるように
生じる。これは、レーザアレイ放射線の遠フィールド放
射線パターンが広げられることを意味し、第３ａ図の上
部には光軸に沿った異なる位置における遠フィールド・
パターンが例示されている。
プリズム２０の背後には、ダイヤフラム１９が配置され
ている。このダイヤフラム１９の開口とプリズム２０の
配向及びパラメータとは、そのダイヤフラムが例えばそ
の放射線パターンの中心ローブ悲。のみを通過させそし
て側ローブＱｚｔ Ｑ１′などのすべてを阻止するよう
に互いに適合されている。
ている。このダイヤフラム１９の開口とプリズム２０の
配向及びパラメータとは、そのダイヤフラムが例えばそ
の放射線パターンの中心ローブ悲。のみを通過させそし
て側ローブＱｚｔ Ｑ１′などのすべてを阻止するよう
に互いに適合されている。
かくして、対物レンズ１８によって単一つのスポット■
に集束されるような分布を持つビームが得られる。レン
ズひとみが適切に満たされるようにこのレンズ１８の開
口数をそのビーム断面に対して適合させることにより、
最小寸法を持つ回折限界のスポットが得られる。
に集束されるような分布を持つビームが得られる。レン
ズひとみが適切に満たされるようにこのレンズ１８の開
口数をそのビーム断面に対して適合させることにより、
最小寸法を持つ回折限界のスポットが得られる。
側方平面におけるビームの拡大は、この平面におけるビ
ーム寸法が横断状平面におけるものに等しくなるように
設定されているので、プリズム２０を出射したビームは
円形の断面を持ち、結果的に、スポットＶは丸くなる。
ーム寸法が横断状平面におけるものに等しくなるように
設定されているので、プリズム２０を出射したビームは
円形の断面を持ち、結果的に、スポットＶは丸くなる。
特に、側方平面において、スキュー・プリズムを通過す
るビームはコリメートされないために、プリズム２０は
そのビームに対して非点収差を分は与える。それは、こ
の非点収差がダイオードレーザ・アレイ１０の非点収差
を補償するように配列されるので、プリズム２０からの
ビームの波面は、側方及び横断状平面において同じ曲率
を有している。
るビームはコリメートされないために、プリズム２０は
そのビームに対して非点収差を分は与える。それは、こ
の非点収差がダイオードレーザ・アレイ１０の非点収差
を補償するように配列されるので、プリズム２０からの
ビームの波面は、側方及び横断状平面において同じ曲率
を有している。
プリズム２０の面２４と２５との間での角度βは任意の
値を持つことができる。実際の場合において、この角度
は、製作及び組立の容易さからして、９０度であるのが
好ましい、このことは、以下に記述されるプリズム系の
他の実施例に対してもあてはまる。
値を持つことができる。実際の場合において、この角度
は、製作及び組立の容易さからして、９０度であるのが
好ましい、このことは、以下に記述されるプリズム系の
他の実施例に対してもあてはまる。
こうした実施例の第１のものは、側方及び横断状断面に
おいてそれぞれ第４ａ図及び第４ｂ図に示され、そして
２つのプリズム３０及び３４を含んでいる。第２のプリ
ズム３４を使用することにより、入射放射線の軸りに平
行にあるように、軸ｈ′を曲げ戻すのを可能にする。本
実施例では光学系の横断状寸法は減少され、それは、そ
の光学系が光ディスク・レコーダ／プレーヤにおいて使
用されるときに特に重要である。更に、第４ａ図及び第
４ｂ図の実施例において、各プリズムに対して、そのプ
リズムのビーム拡幅度は小さくて良い。
おいてそれぞれ第４ａ図及び第４ｂ図に示され、そして
２つのプリズム３０及び３４を含んでいる。第２のプリ
ズム３４を使用することにより、入射放射線の軸りに平
行にあるように、軸ｈ′を曲げ戻すのを可能にする。本
実施例では光学系の横断状寸法は減少され、それは、そ
の光学系が光ディスク・レコーダ／プレーヤにおいて使
用されるときに特に重要である。更に、第４ａ図及び第
４ｂ図の実施例において、各プリズムに対して、そのプ
リズムのビーム拡幅度は小さくて良い。
第５ａ図及び第５ｂ図は、４つのプリズム３８゜３９．
４０及び４１を持つ光学系の実施例を示している。各プ
リズムに対して必要とされるビーム拡幅度が一層減少さ
れる上に、この実施例は出射放射線の軸ｈ′が入射放射
線の軸りと一致するので、プリズム系が小さい断面を持
つ管状の保持具に収容されるという利点を持っている。
４０及び４１を持つ光学系の実施例を示している。各プ
リズムに対して必要とされるビーム拡幅度が一層減少さ
れる上に、この実施例は出射放射線の軸ｈ′が入射放射
線の軸りと一致するので、プリズム系が小さい断面を持
つ管状の保持具に収容されるという利点を持っている。
２つ又は４つのプリズムを持つ実施例において、ビーム
拡幅度は各プリズムで等しく分割されるのが好ましい、
好ましいことに、このプリズムは同じ形状及び寸法を持
ち、それは、その装置の製造コストを大いに減少させて
いる。
拡幅度は各プリズムで等しく分割されるのが好ましい、
好ましいことに、このプリズムは同じ形状及び寸法を持
ち、それは、その装置の製造コストを大いに減少させて
いる。
第３図、第４図及び第５図の実施例において。
空間フィルタは分離した保持具上におけるダイヤフラム
の形態の分離せるエレメント１９によって構成できる。
の形態の分離せるエレメント１９によって構成できる。
また、かかるダイヤフラムは、第３図及び第４図それぞ
れの実施例での最後のプリズムの出射端面２４及び３６
それぞれに設けられ、且つ第５図の実施例での最後のプ
リズムの出射端面に設けられても良い、第４図に示され
ているように、不透明な被覆４２を前記面上に、中央開
口を除いてコートすることが可能である。別な可能性は
、点線４３．４４により第４ａ図において示されている
ように、最後のプリズムの境界がスポット形成用レンズ
１８に向った放射線に対する停止部材を構成することで
ある。最後に、スポット形成用レンズ１８がそのプリズ
ム系の最後のプリズム４１に密接して配列されている装
置において。
れの実施例での最後のプリズムの出射端面２４及び３６
それぞれに設けられ、且つ第５図の実施例での最後のプ
リズムの出射端面に設けられても良い、第４図に示され
ているように、不透明な被覆４２を前記面上に、中央開
口を除いてコートすることが可能である。別な可能性は
、点線４３．４４により第４ａ図において示されている
ように、最後のプリズムの境界がスポット形成用レンズ
１８に向った放射線に対する停止部材を構成することで
ある。最後に、スポット形成用レンズ１８がそのプリズ
ム系の最後のプリズム４１に密接して配列されている装
置において。
空間フィルタは、第５ａ図及び第５ｂ図における４５に
よって示されているように、スポット形成用レンズ１８
のひとみによって形成されても良い。
よって示されているように、スポット形成用レンズ１８
のひとみによって形成されても良い。
第６図は光学的記録担体５ｏの表面５１に情報を記録す
るための装置を概略的に示している。表面５１には前厄
って記録されているサーボトラック５２が設けられてい
る。フェーズロックされたダイオードレーザアレイ１０
は、対物レンズ１８によって、情報表面５１上で高い強
度の、丸くてそして回折限界の放射線スポットＶへと集
束されることになるビームｂを放出する０本発明による
と、レーザアレイ１０と対物レンズ１８との間には、第
３ａ図及び第３ｂ図、又は第４ａ図及び第４ｂ図、又は
第５ａ図及び第５ｂ図に示されている如きコリメータレ
ンズ、プリズム系及び空間フィルタを含むユニット６０
がそのレーザアレイからの放射線を、規準されて、回転
状に対称なビームへと変換するように配列されている。
るための装置を概略的に示している。表面５１には前厄
って記録されているサーボトラック５２が設けられてい
る。フェーズロックされたダイオードレーザアレイ１０
は、対物レンズ１８によって、情報表面５１上で高い強
度の、丸くてそして回折限界の放射線スポットＶへと集
束されることになるビームｂを放出する０本発明による
と、レーザアレイ１０と対物レンズ１８との間には、第
３ａ図及び第３ｂ図、又は第４ａ図及び第４ｂ図、又は
第５ａ図及び第５ｂ図に示されている如きコリメータレ
ンズ、プリズム系及び空間フィルタを含むユニット６０
がそのレーザアレイからの放射線を、規準されて、回転
状に対称なビームへと変換するように配列されている。
情報トラックの記録は、記録されるべき情報に従ってそ
のビーム強度を変調することによりそしてその記録担体
をその軸５３の周囲で回転することによって行われ゛る
。エレメント１０．６０及び１８を持つ全光学ヘッド又
はその一部をその記録担体の半径状方向に移動させるこ
とにより、そのトラックのすべてが記録される。記録ビ
ームめ変調は、例えば、そのレーザユニットを通してそ
の電流を変調することによって行われる。
のビーム強度を変調することによりそしてその記録担体
をその軸５３の周囲で回転することによって行われ゛る
。エレメント１０．６０及び１８を持つ全光学ヘッド又
はその一部をその記録担体の半径状方向に移動させるこ
とにより、そのトラックのすべてが記録される。記録ビ
ームめ変調は、例えば、そのレーザユニットを通してそ
の電流を変調することによって行われる。
記録担体から反射されたビームの一部を光検出器５６に
向けさせる例えばビーム分割ミラー５５のようなビーム
分割器をブロック６０の前又は後に配列することにより
、第６図の装置はその記録担体上に記録されている情報
を読み出すために使用できる。読出し中、そのビームは
、その記録表面に何の変化をも惹起しないようなレベル
の一定の強度を持っている。
向けさせる例えばビーム分割ミラー５５のようなビーム
分割器をブロック６０の前又は後に配列することにより
、第６図の装置はその記録担体上に記録されている情報
を読み出すために使用できる。読出し中、そのビームは
、その記録表面に何の変化をも惹起しないようなレベル
の一定の強度を持っている。
第７図は１例えば記録用の引続くラインに対して、その
軸７２の周囲で回転されるドラム７０の周囲に巻かれた
記録媒体７１を持つレーザプリンタを概略的に示してい
る。ライン走査は、例えば多くのミラー小面７４を担持
しそしてその軸７５の周囲で回転するポリゴン（回転多
面鏡）７３によって行われる。１８は対物レンズであっ
て、これは、フェーズロックされたダイオードレーザ・
アレイ１０から発生されそして小面７４によって反射さ
れた放射線をその記録媒体上での小さな直径の丸いスポ
ットＶへと集束させることになる。
軸７２の周囲で回転されるドラム７０の周囲に巻かれた
記録媒体７１を持つレーザプリンタを概略的に示してい
る。ライン走査は、例えば多くのミラー小面７４を担持
しそしてその軸７５の周囲で回転するポリゴン（回転多
面鏡）７３によって行われる。１８は対物レンズであっ
て、これは、フェーズロックされたダイオードレーザ・
アレイ１０から発生されそして小面７４によって反射さ
れた放射線をその記録媒体上での小さな直径の丸いスポ
ットＶへと集束させることになる。
そのレーザビームは、そのレーザユニットを駆動する電
流か又はそのビーム通路内に設けられた変調器のいずれ
かにより、記録されるべき情報に従って強度変調される
。
流か又はそのビーム通路内に設けられた変調器のいずれ
かにより、記録されるべき情報に従って強度変調される
。
レーザアレイから出され、発散されそして楕円状波面を
持っている組成されたビームを回転状に対称の波面を持
つコリメートされたビームへと変換するために、第３ａ
図及び第３ｂ図、又は第４ａ図及び第４ｂ図、又は第５
ａ図及び第５ｂ図に示されているように、コリメータレ
ンズと、プリズム・システムと、そして空間フィルタと
を含むブロック６０がレーザユニット１０と対物レンズ
１８との間に配列されている。
持っている組成されたビームを回転状に対称の波面を持
つコリメートされたビームへと変換するために、第３ａ
図及び第３ｂ図、又は第４ａ図及び第４ｂ図、又は第５
ａ図及び第５ｂ図に示されているように、コリメータレ
ンズと、プリズム・システムと、そして空間フィルタと
を含むブロック６０がレーザユニット１０と対物レンズ
１８との間に配列されている。
以上本発明が情報記録装置を手助けとして記述されたと
いうことは、本発明がこうした装置に限定されることを
意味しない、この発明は、高強度の小さくてそして丸い
スポットが位フェーズロックされたダイオードレーザ・
アレイの放射線から形成される必要のあるすべての装置
において使用！ することがでする１例としては、（カラー）ＴＶ情報を
持つレーザ放射線を変調するための光スィッチ又は液晶
デイスプレィ（ＬＣＤ）を有する投影ＴＶ装置がある。
いうことは、本発明がこうした装置に限定されることを
意味しない、この発明は、高強度の小さくてそして丸い
スポットが位フェーズロックされたダイオードレーザ・
アレイの放射線から形成される必要のあるすべての装置
において使用！ することがでする１例としては、（カラー）ＴＶ情報を
持つレーザ放射線を変調するための光スィッチ又は液晶
デイスプレィ（ＬＣＤ）を有する投影ＴＶ装置がある。
また、本発明は長い運搬距離のファイバー光通信システ
ム又は外科用器具においても使用できる。
ム又は外科用器具においても使用できる。
本発明によれば、コンパクトで、しかも収差のない回折
限界のスポットを得ることができる光学装置が得られる
。
限界のスポットを得ることができる光学装置が得られる
。
第１図は、半導体レーザユニットを示す斜視図、第２ａ
図はそのレーザ・アレイの格子状構造を示す図、 第２ｂ図はレーザアレイの遠フィールド放射線分布を表
わす図、 第３ａ図及び第３ｂ図は０、本発明による光学装置の第
１の実施例を側方及び横断状断面においてそれぞれ示す
図、 第４ａ図及び第４ｂ図は、本発明の光学系装置の第２の
実施例をその同じ断面において示す図。 第５ａ図及び第５ｂ図は第３の実施例を側面及び横断状
断面において示す図、 第６図は本発明の光学装置を含む光ディスクを記録する
ための装置を示す図、 第７図は本発明の光学装置を含むレーザ・プリンタを示
す図である。
図はそのレーザ・アレイの格子状構造を示す図、 第２ｂ図はレーザアレイの遠フィールド放射線分布を表
わす図、 第３ａ図及び第３ｂ図は０、本発明による光学装置の第
１の実施例を側方及び横断状断面においてそれぞれ示す
図、 第４ａ図及び第４ｂ図は、本発明の光学系装置の第２の
実施例をその同じ断面において示す図。 第５ａ図及び第５ｂ図は第３の実施例を側面及び横断状
断面において示す図、 第６図は本発明の光学装置を含む光ディスクを記録する
ための装置を示す図、 第７図は本発明の光学装置を含むレーザ・プリンタを示
す図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、フェーズロックされたダイオードレーザ・アレイと
コリメータレンズとを有し、円形状で対称な断面及び強
度分布を持つ放射線ビームを得るための光学装置におい
て、光 軸を通り且つ前記レーザ・アレイのｐ−ｎ接合層に平行
な側方平面内で、入射放射線の軸に関して傾斜した入射
端面及び、出射放射線の軸に対して直交している出射端
面を持つ少なくとも１つのプリズムからなるプリズム系
と、前記レーザ・アレイの側方遠フィールドに配置され
た空間フィルタとが、この順序で前記コリメートレンズ
の後方に配列されていることを特徴とするフェーズロッ
クされたダイオードレーザ・アレイを有する光学装置。 ２、前記少なくとも１つのプリズムは、その入射端面に
対向する頂角が９０度であることを特徴とする請求項１
に記載のフェーズロックされたダイオードレーザ・アレ
イを有する光学装置。 ３、前記空間フィルタは、前記プリズム系の最後のプリ
ズムの出射端面上に、中央の円形開口を除いて、黒の被
覆によって構成されていることを特徴とする請求項１又
は２に記載のフェーズロックされたダイオードレーザ・
アレイを有する光学装置。 ４、前記空間フィルタは前記プリズム系の最後のプリズ
ムの境界によって構成されていることを特徴とする請求
項１又は２に記載のフェーズロックされたダイオードレ
ーザ・アレイを有する光学装置。 ５、前記プリズム系は２つのプリズムを含み、以って、
その最後のプリズムの出射端面はその第１のプリズム上
に入射する放射線の軸に直交していることを特徴とする
請求項１、２、３又は４に記載のフェーズロックされた
ダイオードレーザ・アレイを有する光学装置。 ６、４つのプリズムを含み、以って、その側方平面にお
いて、その第２及び第４のプリズムの出射端面はその第
１のプリズム上に入射する放射線の軸に直交しているこ
とを特徴とする請求項１、２、３又は４に記載のフェー
ズロックされたダイオードレーザ・アレイを有する光学
装置。 ７、記録されるべき情報に従って強度変調される放射線
スポットを発生するための光学ヘッドを含み、光学的記
録担体を光学的に記録するための装置において、前記光
学ヘッドは、請求項１乃至６のいずれかに記載された光
学装置と、この光学装置からのビームを前記記録担体上
で回折限界の丸いスポットへと集束させるための対物レ
ンズとを含んでいることを特徴とする装置。 ８、放射線スポットが記録担体を走査するために発生さ
れるようになっている光学ヘッドを含み、記録担体を読
み出すための装置において、前記光学ヘッドは、請求項
１乃至６のいずれかに記載された光学装置と、この光学
装置からのビームを前記記録担体上に回折限界のスポッ
トへと集束させるための対物レンズとを含んでいること
を特徴とする装置。 ９、第１の方向において移動可能な記録媒体担体とそし
てその第１の方向に直交させる第２の方向に沿って放射
線ビームを走査するためのビーム偏向装置とを含み、記
録媒体上における情報をレーザプリントするための装置
において、請求項１乃至６のいずれかに記載された光学
装置と、この光学装置からのビームを前記記録媒体上に
回折限界の放射線スポットへと集束させるための対物レ
ンズとを備えていることを特徴とする装置。 １０、前記空間フィルタは前記対物レンズの入口ひとみ
によって構成されることを特徴とする請求項７、８又は
９に記載の装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP87201896.5 | 1987-10-05 | ||
| EP87201896A EP0310711B1 (en) | 1987-10-05 | 1987-10-05 | Optical device with phase-locked diodelaser array |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01271933A true JPH01271933A (ja) | 1989-10-31 |
| JP2613278B2 JP2613278B2 (ja) | 1997-05-21 |
Family
ID=8197680
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63249892A Expired - Lifetime JP2613278B2 (ja) | 1987-10-05 | 1988-10-05 | フエーズロックされたダイオードレーザ・アレイを有する光学装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4904068A (ja) |
| EP (1) | EP0310711B1 (ja) |
| JP (1) | JP2613278B2 (ja) |
| DE (1) | DE3787282T2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPH0276136A (ja) * | 1988-09-13 | 1990-03-15 | Fuji Xerox Co Ltd | 光学的記録再生装置 |
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1987
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- 1987-10-05 DE DE87201896T patent/DE3787282T2/de not_active Expired - Fee Related
-
1988
- 1988-03-02 US US07/162,828 patent/US4904068A/en not_active Expired - Fee Related
- 1988-10-05 JP JP63249892A patent/JP2613278B2/ja not_active Expired - Lifetime
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Also Published As
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| US4904068A (en) | 1990-02-27 |
| JP2613278B2 (ja) | 1997-05-21 |
| EP0310711B1 (en) | 1993-09-01 |
| EP0310711A1 (en) | 1989-04-12 |
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