JPH01261841A - Transfer apparatus - Google Patents

Transfer apparatus

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Publication number
JPH01261841A
JPH01261841A JP63089110A JP8911088A JPH01261841A JP H01261841 A JPH01261841 A JP H01261841A JP 63089110 A JP63089110 A JP 63089110A JP 8911088 A JP8911088 A JP 8911088A JP H01261841 A JPH01261841 A JP H01261841A
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JP
Japan
Prior art keywords
cassette
wafer
arm
sucking
rotary
Prior art date
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Application number
JP63089110A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masato Yamamoto
山本 眞人
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Individual
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Abstract

PURPOSE:To make it possible to mount two cassettes in close proximity and to implement the compact configuration for an entire apparatus and high working efficiency, by providing a rotary shaft which is supported with a rotary arm rotating around a fixed shaft and rotated in the reverse direction with respect to the rotary arm at a ratio of 1:2, providing a sucking means which is attached to the rotary shaft and reaches the upper part of the fixed shaft, and providing a lifting means which lifts and lowers a material to be transferred. CONSTITUTION:When a rotary arm 22 is rotated by 180 deg., a sucking arm 32 is rotated in the reverse direction by 360 deg.. Since the rotary angle of the sucking arm 32 with respect to a frame 9 is 180 deg., however, the direction of a wafer A which is sucked with the sucking arm 32 is reversed. The wafer A is moved to a cassette B' from a cassette B. After the wafer A has been moved to the cassette B', a motor on the side of the cassette B' is rotated, and the cassette B' is slightly lifted. When the upper surface of a supporting stage 3 is brought into contact with the wafer A, a solenoid valve is operated. Atmosphere is introduced into the sucking arm 32. The sucking of the wafer A is released through an air intake port 31. Thus, the wafer A is transferred. Therefore, it is not necessary to change the direction during the transfer movement. Since a supporting means for a material to be transferred can be provided in the vicinity of the side of the sucking means, the entire apparatus can be made compact.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、カセットに多数収容され、LSIの製造に使
用されるシリコン・ウェハ(以下ウェハと称する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention relates to silicon wafers (hereinafter referred to as wafers) that are housed in large numbers in a cassette and used in the manufacture of LSIs.

)等の移載物を、1枚づつ、1方のカセ7)から他方の
カセットに移載するような移載装置の改良に関する。
The present invention relates to an improvement of a transfer device that transfers items such as ) one by one from one cassette 7) to another cassette.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

第7図、第8図に示すように、LSIに使用されるウェ
ハAは、円周の一部がオリエンテーション・フラット1
 (以下オリフラと称する。)と称する直線状に裁断さ
れた円盤状に形成されている。
As shown in FIGS. 7 and 8, a part of the circumference of the wafer A used for LSI is orientation flat 1.
(hereinafter referred to as orientation flat) is formed into a disk shape cut into a straight line.

このウェハAは、オリフラ1を一定の向きとして、側壁
2に支持段3を多数列設したカセットBの支持段3に一
枚づつ載置されているものである。
The wafers A are placed one by one on the support stage 3 of a cassette B, which has a plurality of support stages 3 arranged on the side wall 2, with the orientation flat 1 in a fixed direction.

このようなウェハAを、1つのカセットBから他のカセ
ットB°に移載する支持装置の1つとしては、次に述べ
るようなものがあった。
One of the supporting devices for transferring such a wafer A from one cassette B to another cassette B is as described below.

この移載装置は、中心から90°の角度でウェハAを収
容しているカセットBと、ウェハAを移載されるカセッ
トB゛ とを、そのウェハAの出入口を中ノc、弓こ向
けてセントする。
This transfer device places cassette B containing wafer A at an angle of 90 degrees from the center and cassette B into which wafer A is being transferred, with the entrance and exit of wafer A facing inward. and cents.

そして、中心から伸縮する腕を伸ばしてカセットB内に
挿入し、その先端でウェハAを吸着した後、腕を縮めて
中心までウェハAを引き出し、次に腕の向きを90″変
えて腕を伸ばし、ウェハAをカセ7)B’ 内に挿入す
る。
Then, extend the extendable arm from the center and insert it into the cassette B. After adsorbing the wafer A with its tip, retract the arm and pull out the wafer A to the center. Next, change the direction of the arm by 90" and Stretch it out and insert wafer A into case 7)B'.

その後、ウェハAの吸着を解除して、これをカセットB
°内に置き、その移載を終了すると、腕は縮んで中心点
に戻るもので、これを反復して全てのウェハAの移載が
完了するものである。
After that, release the adsorption of wafer A and transfer it to cassette B.
When the wafer A is placed within the wafer A and the transfer is completed, the arm contracts and returns to the center point, and this process is repeated to complete the transfer of all wafers A.

このようなウェハAの移載によって、カセットB。By transferring wafer A in this way, cassette B is created.

B゛内におけるウェハAのオリフラ1の向きは、同一の
向きに保たれるものである。
The orientation of the orientation flat 1 of the wafer A in B is kept in the same direction.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

前述の従来の移載装置においては、カセットBからウェ
ハAを引き出した後、方向変換するために、装置全体が
大きくなると共に、方向変換の時間を必要とするため作
業効率が低く、腕の伸縮と方向変換の2つの駆動系統を
必要とする。
In the above-mentioned conventional transfer device, the direction is changed after pulling out the wafer A from the cassette B, which increases the size of the entire device and requires time to change the direction, resulting in low work efficiency and the need to extend and retract the arm. Two drive systems are required: one for driving and one for changing direction.

また、ベルト式装置では、ウェハをカセット内に挿入す
る際に、ウェハをカセットB°の奥面に当接させて位置
決めしていたので、ウェハAに微細な割れを生ずる等の
欠点もあった。
In addition, with the belt-type device, when inserting the wafer into the cassette, the wafer was positioned by making it contact the back surface of the cassette B°, which had the disadvantage of causing minute cracks in the wafer A. .

本発明は従来の移i12装置における前述の欠点を解消
するためのもので、ウェハを吸着した腕の方向変換を不
要とすることで、2つのカセットを近接して設置するこ
とを可能とし、装置全体の小型化と作業の効率化を図り
、1つの駆動系統での動作を可能とすることを第1図の
目的をする。
The present invention is intended to solve the above-mentioned drawbacks of the conventional transfer i12 device, and by eliminating the need to change the direction of the arm that holds the wafer, it is possible to install two cassettes close to each other, and the device The purpose of Fig. 1 is to reduce the overall size, improve work efficiency, and enable operation with a single drive system.

そして、カセットを傾けることでウェハの挿入深さを一
定にすると共に、支持台に対するカセットの着脱を容易
にし、且つこの着脱に際して吸着手段にウェハが当って
吸着手段やウェハが破損するのを防止するのを第2の目
的とする。
By tilting the cassette, the insertion depth of the wafer is made constant, the cassette can be easily attached to and removed from the support base, and the wafer is prevented from hitting the suction means and the wafer is damaged during this attachment and detachment. The second purpose is to

(!!題を解決するための手段〕 前述の目的を達成するため、本発明の移載装置において
は、固定軸と、該固定軸の周囲を駆動手段によって回転
される回転アームと、該回転アームに軸支され、回転ア
ームとは1:2の比をもって反対方向に回転される回転
軸と、該回転軸に取付けられ、前記固定軸の上部に達す
る吸着手段と、前記吸着手段の側方に対向して位置し、
移載物を支持する支持手段と、移載物を吸着手段に!!
置、離隔すべく支持手段を昇降させる昇降手段とを備え
たものである。
(Means for Solving the Problem!!) In order to achieve the above-mentioned object, the transfer device of the present invention includes a fixed shaft, a rotating arm rotated around the fixed shaft by a driving means, and a rotary arm that is rotated around the fixed shaft by a driving means. a rotating shaft supported by the arm and rotated in the opposite direction to the rotating arm at a ratio of 1:2; a suction means attached to the rotary shaft reaching the upper part of the fixed shaft; and a side of the suction means. located opposite the
A support means for supporting transferred objects and a suction means for transferred objects! !
The support means is provided with a lifting means for raising and lowering the support means to place and separate the support means.

又、移載物が支持手段であるカセットに収容されたウェ
ハである時には、カセットを取付けると共に昇降手段で
昇降する支持台が、最上昇位置に上昇した時に、これを
傾斜させる傾斜手段を設けることが効果的である。
Further, when the transferred object is a wafer housed in a cassette serving as a support means, a tilting means is provided for tilting the support table to which the cassette is attached and which is raised and lowered by the raising and lowering means when it is raised to the highest position. is effective.

[作用〕 本発明の移載装置においては、回転腕が回転すると、回
転腕に設けられた回転軸が、該回転腕と1:2の比で反
対方向に回転するので、回転腕の回転中心と一致する吸
着手段の点は、この回転中心を通る直線上を移動するこ
ととなる。
[Operation] In the transfer device of the present invention, when the rotary arm rotates, the rotary shaft provided on the rotary arm rotates in the opposite direction to the rotary arm at a ratio of 1:2, so that the rotation center of the rotary arm The point of the suction means that coincides with this will move on a straight line passing through this center of rotation.

しかし、吸着手段のこの点は、前記の直線上を通過する
間に180m回転することとなる。
However, this point of the suction means rotates by 180 m while passing on the above-mentioned straight line.

この回転腕の回転による吸着手段の直線運動によって、
一方の支持手段に支持されている移載物の下側に吸着手
段を挿入し、昇降手段によって移載物を下降させ、吸着
手段上に移載物を載置、吸着させる。
Due to the linear movement of the suction means due to the rotation of this rotating arm,
A suction means is inserted under the object to be transferred that is supported by one of the supporting means, and the object to be transferred is lowered by the elevating means, and the object to be transferred is placed on the suction means and adsorbed.

次に、回転腕を1800回転させ、吸着手段の前記直線
運動により移載物を他方の支持手段に挿入した後、吸着
手段による移載物の吸着を解除すると共に、この支持手
段を昇降手段で上昇して、これに積載物を支持させるも
のである。
Next, the rotary arm is rotated 1800 times, and the transferred object is inserted into the other supporting means by the linear movement of the suction means, and then the adsorption of the transferred object by the suction means is released, and this supporting means is moved by the lifting means. It rises to support the load.

又、移載物がカセットに収容されたウェハの場合には、
カセットの着脱に際しては、支持台を最上昇位置まで上
昇させて傾斜手段でこれを傾斜させ、その奥側にウェハ
を移動させ、カセットに対するウェハの前後位置を揃え
るものである。
In addition, if the transferred item is a wafer stored in a cassette,
When attaching or detaching a cassette, the support table is raised to the highest position, tilted by a tilting means, and the wafer is moved to the back of the support table to align the front and back positions of the wafer with respect to the cassette.

〔発明の実施例〕[Embodiments of the invention]

次に本発明の実施の一例として、カセット人すウエハの
移載装置を第1図〜第6図について説明する。
Next, as an example of the implementation of the present invention, a cassette wafer transfer device will be described with reference to FIGS. 1 to 6.

この移載装置においては、ウェハAを収容している第7
図、第8図に示すカセソ)Bと、ウェハAを収容してい
ないカセットB° とが、第6図に示すように、そのウ
ェハAの出入口を対面させて取付けることができるよう
に、1対の支持台5が第5図に示すように設けられてい
る。
In this transfer device, the seventh
The cassette B shown in FIGS. A pair of supports 5 are provided as shown in FIG.

各支持台5は、それぞれ昇降台6の軸7によって対向側
が上昇することができるように昇降台6に取付けられ、
その上昇による傾斜は支持台5が昇降台6のストソパ8
に当たることで、一定板上は傾斜しないようになってい
る。
Each support platform 5 is attached to the elevator platform 6 so that the opposite side thereof can be raised by a shaft 7 of the elevator platform 6,
The tilt due to the rise is caused by the support platform 5 being the lifting platform 6.
By hitting the target, the board is kept from tilting.

この昇降台6は、フレーム9のガイドシャフト10によ
って昇降可能な昇降ブロック11の支棒12の上端に取
付けられ、昇降ブロック11はモータ13によって駆動
される蝶棒14と螺合している。
This elevating table 6 is attached to the upper end of a support rod 12 of an elevating block 11 that can be raised and lowered by a guide shaft 10 of a frame 9, and the elevating block 11 is threadedly engaged with an insert pin 14 driven by a motor 13.

従って、モータ13によって蝶棒14が回転すると、こ
れに螺合している昇降ブロック11はガイドシャフト1
0にガイドされながら昇降するので、支環12により昇
降台6も昇降する。
Therefore, when the insert pin 14 is rotated by the motor 13, the elevating block 11 screwed thereon is moved to the guide shaft 1.
Since the lifting platform 6 is raised and lowered while being guided by the support ring 12, the lifting platform 6 is also raised and lowered by the support ring 12.

支持台5の一側には突片15が突設されており、昇降台
6が前述のようにして上昇し、終端近くにおいてフレー
ム9に設けられた係止片16に突片15が当たるように
なっている。
A protruding piece 15 is provided on one side of the support base 5 so that when the elevating table 6 rises as described above, the protruding piece 15 hits the locking piece 16 provided on the frame 9 near the end. It has become.

そのため、昇降台6がそれ以上に上昇すると、係止片1
6によって突片15の上昇が阻止されるので、支持台5
は軸7を中心として中心部側が上昇するような角度で傾
斜される。
Therefore, if the lifting platform 6 rises further, the locking piece 1
6 prevents the protrusion 15 from rising, so the support base 5
is inclined at an angle such that the center side rises with respect to the axis 7.

そのため、支持台5に取付けられたカセットB。Therefore, the cassette B is attached to the support stand 5.

Boは、その対向する上端の間隔が開くように傾斜され
るが、通常は支持台5がストッパ8に当たる程度には傾
斜しないが、何かの力で支持台5が一層傾斜しよ゛うと
した時、ストッパ8がそれを阻止するものである。
Bo is tilted so that the distance between its opposing upper ends is widened, but normally the support base 5 does not tilt to the extent that it hits the stopper 8, but if the support base 5 tries to tilt further due to some force. At this time, the stopper 8 prevents this.

センサ17は、一定の基準位置でブロックの位置を検出
し、かくして検出されたセンサ信号は、モータ13に伝
達されその回転を制御するようになっている。
The sensor 17 detects the position of the block at a fixed reference position, and the sensor signal thus detected is transmitted to the motor 13 to control its rotation.

一方、対向する支持台5の間には移載動作部Cがフレー
ム9に設置されている。
On the other hand, a transfer operation section C is installed on a frame 9 between the opposing support tables 5.

この移載動作部Cには、第1図、第2図に示すように、
モータ20によって駆動される中心軸21に回転腕22
が一体的に取付けられている。
As shown in FIGS. 1 and 2, this transfer operation section C includes:
A rotating arm 22 is attached to a central shaft 21 driven by a motor 20.
are integrally installed.

中心軸21の周囲には、バキューム通路となる空間23
を介してフレーム9に対して固定されている固定軸24
が設けられている。
A space 23 serving as a vacuum passage is provided around the central axis 21.
A fixed shaft 24 fixed to the frame 9 via
is provided.

又、回転腕22には中空25に形成された回転軸26が
回転自在に軸承されており、この中空25と空間23と
は回転腕22の通路孔27によって連通されている。
Further, a rotating shaft 26 formed in a hollow 25 is rotatably supported on the rotating arm 22, and the hollow 25 and the space 23 are communicated through a passage hole 27 of the rotating arm 22.

そして、固定軸24にはプーリ28が、回転軸26には
プーリ28の径の半分のプーリ29が取付けられ、プー
リ28.29の間にはタイミングベルト30が架設され
ている。
A pulley 28 is attached to the fixed shaft 24, a pulley 29 having half the diameter of the pulley 28 is attached to the rotating shaft 26, and a timing belt 30 is installed between the pulleys 28 and 29.

従って、回転腕22がモータ20によって回転されると
、プーリ28.29間に架設されたタイミングベルト3
0によって、回転軸26は回転腕22の回転角度の倍の
角度、反対方向に回転する。
Therefore, when the rotary arm 22 is rotated by the motor 20, the timing belt 3 installed between the pulleys 28 and 29
0, the rotating shaft 26 rotates in the opposite direction by an angle twice the rotation angle of the rotating arm 22.

回転軸26の上端には、上面に吸気孔31がg設されて
いる吸着腕32が、その吸気孔31を中空25に連通さ
せて取付けられている。
A suction arm 32 having an intake hole 31 on its upper surface is attached to the upper end of the rotating shaft 26, with the intake hole 31 communicating with the hollow space 25.

そして、第6図の2点鎖線に示すように、両力セン)B
、B’即ち2つの支持台5の中間の位置に回転腕22が
ある時、吸着腕32は回転腕22と重なる位置にある。
Then, as shown in the two-dot chain line in Fig. 6, both force sensor)B
, B', that is, when the rotary arm 22 is located at a position between the two support stands 5, the suction arm 32 is at a position overlapping the rotary arm 22.

そのため、回転腕22が同図1点鎖線の方向に回動する
と、吸着腕32はその倍の角度反対方向に回転するため
、吸着腕32の固定軸24の中心と一致していた点りは
、カセットB、B’ の中心を結ぶ直線E−E°上を移
動する。
Therefore, when the rotary arm 22 rotates in the direction indicated by the one-dot chain line in the figure, the suction arm 32 rotates in the opposite direction by an angle twice that, so that the dot that was aligned with the center of the fixed shaft 24 of the suction arm 32 is , cassettes B and B' on the straight line E-E° connecting the centers of the cassettes B and B'.

そして回転腕22の回転角度が901に達すると、吸着
腕32もその点線E−E’ 上に到達し、カセットBに
収容されているウェハAの中心Fと点りとが一致すうよ
うになるものである。
When the rotation angle of the rotary arm 22 reaches 901, the suction arm 32 also reaches the dotted line EE', and the dot coincides with the center F of the wafer A stored in the cassette B. It is something.

次に、この移載!a置の動作について説明する。先づ、
左右の支持台5を、それぞれモータ13が回転して前述
のように上昇させるが、センサ17によって昇降ブロッ
ク11が一定の位lに達したのを検出すると、その後モ
ータ13は一定量回転して支持台5を傾斜させた後、モ
ータ13は停止する。
Next, this transfer! The operation at position a will be explained. First,
The left and right support stands 5 are raised as described above by the rotation of the motors 13, respectively. When the sensor 17 detects that the lifting block 11 has reached a certain level l, the motors 13 are then rotated by a certain amount. After tilting the support base 5, the motor 13 stops.

この状態で2つの支持台5に、それぞれカセットB。In this state, the cassette B is placed on each of the two support stands 5.

カセットB゛を取付けるのであるが、この取付けに当た
ってカセットBも傾斜されるので、カセットBに収容さ
れているウェハAの前後位置がバラついていても、ウェ
ハAはカセットBの後側に滑り込み、カセットBの奥側
に接して、一定の位置に揃えられる。
When installing cassette B, cassette B is also tilted, so even if the front and rear positions of wafers A stored in cassette B are uneven, wafers A will slide into the rear side of cassette B and the cassette It touches the back side of B and is aligned at a certain position.

又、この傾斜によって、カセットBやウェハAが吸着腕
32に当たる危険性が少なくなり、ウェハAや、薄い吸
着腕32の損傷を防止でき、且つ近接しているカセット
B、B’ の着脱も容易となる。
In addition, this inclination reduces the risk of cassette B and wafer A hitting the suction arm 32, preventing damage to wafer A and the thin suction arm 32, and making it easy to attach and detach cassettes B and B' that are close to each other. becomes.

前記、カセットBに対するウェハAの揃えは移送が終わ
り、ウェハAを収容したカセットB゛を取り外す際にも
、ウェハAの揃えはカセットB°の(嘆きによって、同
様に行われる。
The above-mentioned alignment of wafers A with respect to cassette B is carried out in the same way when the transfer is completed and cassette B' containing wafers A is removed.

前述のようにしてカセットB、B’ の取り付けが終わ
ると、カセットB側のモータ13が逆回転して昇降台6
を下降させ、突片15と係止片16の接触を離して支持
台5を水平に戻した後、カセットB内の最下段のウェハ
Aの下面が吸着腕32の上面より僅かに上方に位置する
まで下降させて停止する。
When the installation of cassettes B and B' is completed as described above, the motor 13 on the cassette B side rotates in the opposite direction, and the lifting platform 6
After lowering the protruding piece 15 and the locking piece 16 and returning the support stand 5 to the horizontal position, the lower surface of the lowermost wafer A in the cassette B is positioned slightly above the upper surface of the suction arm 32. Lower it until it stops and stop.

同時に、カセットB°側のモータ13も逆回転して支持
台5を水平に戻した後、カセットB゛の最上段の支持段
3の上面が吸着腕32の上面より僅かに上方に位置する
まで下降させて、停止する。
At the same time, the motor 13 on the cassette B° side also rotates in the opposite direction to return the support stand 5 to the horizontal position, until the upper surface of the uppermost support stage 3 of the cassette B is positioned slightly above the upper surface of the suction arm 32. Lower it and stop.

これ等のカセットB、B’ の下降動作中、吸着腕32
は、第6図の2点鎖線の位置にあるが、前記のカセノ)
B、B’ の下降が終了すると、回転@22が同図の実
線位置A”にまで90”回動し、吸着腕32がこれと直
線状となって、ウェハAの下面に入り込む。
During the downward movement of these cassettes B and B', the suction arm 32
is located at the position indicated by the two-dot chain line in Fig. 6, but the above case line)
When B and B' have finished lowering, the rotation @22 rotates 90'' to the solid line position A'' in the figure, and the suction arm 32 enters the lower surface of the wafer A in a straight line therewith.

この時、吸着腕32の点りとウェハAの中心Fとが一致
した状態となるもので、次にカセットB側のモータ13
が僅かに回転してカセットBを下降させ、ウェハAの下
面を吸着腕32の上面に接させる。
At this time, the point on the suction arm 32 and the center F of the wafer A are aligned, and then the motor 13 on the cassette B side
rotates slightly to lower the cassette B, bringing the lower surface of the wafer A into contact with the upper surface of the suction arm 32.

すると、空間23に連通ずる接続路33によって接続さ
れた図示しない電磁弁が動作し、これを真空状態にする
ため、これが通路孔23、中空25を介して吸着腕32
の吸気孔31に導かれ、吸着腕32はウェハAを吸着す
る。
Then, a solenoid valve (not shown) connected to the space 23 through a connection path 33 is operated, and in order to make this into a vacuum state, the suction arm 32 is moved through the passage hole 23 and the hollow space 25.
The suction arm 32 suctions the wafer A.

次に、回転腕22が180°回動するので、吸着腕32
は逆方向に360″′回転する。
Next, since the rotary arm 22 rotates 180 degrees, the suction arm 32
rotates 360'' in the opposite direction.

しかし、吸着腕32のフレーム9に対する回転角度は、
360”−180”=180’であるため、吸着腕32
に吸着されたウェハAは、180″″回転、即ち方向が
逆となる。
However, the rotation angle of the suction arm 32 with respect to the frame 9 is
Since 360"-180"=180', the suction arm 32
The wafer A attracted by the wafer A is rotated by 180'', that is, the direction is reversed.

前記、回転腕22の回転に際し、吸着腕32の点りは点
線E−E’ 上を移動するため、揃えられたウェハAの
中心Fは点りと一致するため、中心Fは直&1lE−E
゛上を移動することとなり、ウェハAはカセットBから
カセットB°に移行する。
When the rotary arm 22 rotates, the dot of the suction arm 32 moves on the dotted line E-E', so the center F of the aligned wafers A coincides with the dot, so the center F is straight &1lE-E.
Wafer A moves from cassette B to cassette B°.

このウェハAの移行に除し、ウェハAがカセットB°に
移行した時のカセットB°に対するオリフラ1の位置は
前述のようにウェハAが1809回転されるため、カセ
ットBに収容されている時のオリフラ1の位置と同一の
関係となるものである。
In addition to this transfer of wafer A, the position of orientation flat 1 with respect to cassette B° when wafer A is transferred to cassette B° is the same as that when wafer A is accommodated in cassette B because wafer A is rotated 1809 degrees as described above. This is the same relationship as the position of the orientation flat 1.

又、ウェハAは中心Fが直線F、−E’上を移動するの
で、その円周がカセットB、B’ の壁面2に当たり、
接触したりして、吸着が外れたり、吸着腕32やウェハ
Aが破損したりすることがない。
Also, since the center F of the wafer A moves on the straight line F, -E', its circumference hits the wall surface 2 of the cassette B, B',
The suction arm 32 and the wafer A will not be damaged due to contact.

斯くして、ウェハAがカセットB゛に移行された後、カ
セットB°側のモータ13が回転してカセットB。
After the wafer A is transferred to the cassette B, the motor 13 on the cassette B side rotates to transfer the wafer A to the cassette B.

を僅かに上昇させ、その支持段3の上面をウェハAに接
させた後、1i磁弁が動作して、吸着腕32内に大気を
導入し、吸気孔31によるウェハAの吸着を解消し、ウ
ェハAの移載が完了する。
After the upper surface of the support stage 3 is brought into contact with the wafer A, the 1i magnetic valve is operated to introduce atmospheric air into the suction arm 32 and eliminate the suction of the wafer A by the suction hole 31. , the transfer of wafer A is completed.

その後、回転腕22を180°回転させて、第6図のカ
セットB側の実線の位置に戻した後に、カセットBを下
降させて次段のウェハAの下面を吸着腕22の上面より
僅かに上まで下降させ、同時にカセットB。
After that, the rotary arm 22 is rotated 180 degrees and returned to the position indicated by the solid line on the side of the cassette B in FIG. Lower it to the top and cassette B at the same time.

を上昇させて次段の支持段3の上面を吸着腕32の上面
より僅かに上方まで上昇させる。
is raised to raise the upper surface of the next supporting stage 3 to slightly above the upper surface of the suction arm 32.

そして、回転腕22の回転を行わせる動作を繰り返して
、カセットBの全部のウェハAをカセットB°に移載す
るものである。
Then, by repeating the operation of rotating the rotary arm 22, all the wafers A in the cassette B are transferred to the cassette B°.

本発明は上記したカセット已に収容されているウェハA
の移載の他に、種々の移載物の角度を反転させて移載す
る移載装置に利用でき、又その各部も本発明の趣旨に反
しない範囲で種々変更できるものである。
The present invention relates to a wafer A housed in the above-mentioned cassette.
In addition to the transfer described above, the present invention can be used as a transfer device that transfers various objects by reversing the angle thereof, and each part thereof can be modified in various ways without departing from the spirit of the present invention.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明は枝上のように、吸着手段の運動方向を移載物の
移載動作中に方向変換する必要がなく、移載物の支持手
段を吸着手段の側方に近接して設置できるので、装置全
体が小型化できると共に、方向変換の機構が不要となる
ので、構成の簡略化が可能であり、且つ方向変換の時間
も費用で動作距離も短く、高速で移載可能となる。
In the present invention, there is no need to change the direction of movement of the suction means during the transfer operation of the transferred object, unlike on a branch, and the means for supporting the transferred object can be installed close to the side of the suction means. The entire device can be made smaller, and since a mechanism for changing the direction is not required, the configuration can be simplified, and the time and cost for changing the direction can be shortened and the operating distance can be shortened, making it possible to transfer the device at high speed.

そして、移載物の支持手段への受渡し時には、吸着手段
の移載方向への速度は0となるので、移載物、特にウェ
ハがカセットに当たり、微細なかけ、割れ等の損傷を生
ずる危険性もない。
When the transferred object is transferred to the support means, the speed of the suction means in the transfer direction becomes 0, so there is a risk that the transferred object, especially the wafer, will hit the cassette and cause damage such as minute chips or cracks. Nor.

又、移載物の移載中に、移載物は180@回転している
ので、支持手段に対する関係方向は、移載前後で同一に
保たれ、ウェハの場合にはカセットに対するオリフラの
位置が一定化されるため後で位置合わせする手数を無く
すことができる。
Furthermore, since the transferred object is rotated by 180 degrees during the transfer, the direction relative to the support means is kept the same before and after the transfer, and in the case of a wafer, the position of the orientation flat relative to the cassette is Since it is made constant, it is possible to eliminate the need for alignment later.

更に、回転軸と固定軸とを遊星歯車やベルト等で連結す
ることで、移載駆動手段が1つの駆動手段で駆動できる
ものである。
Furthermore, by connecting the rotating shaft and the fixed shaft with a planetary gear, a belt, etc., the transfer driving means can be driven by a single driving means.

そして、カセットに収容されたウェハの移載に使用すれ
ば、カセット着脱時に、カセットを傾けることで、ウェ
ハの位置が揃えられ、吸着手段に吸着されるウェハの位
置を一定化し、その中心が直線運動できるため、ウェハ
がカセットに接して吸着が外れる等の不手際がない。
If used to transfer wafers housed in a cassette, tilting the cassette when loading or unloading the cassette aligns the wafers, making the position of the wafers sucked by the suction means constant, and keeping the center straight. Since it can be moved, there is no chance of the wafer coming into contact with the cassette and becoming unadsorbed.

又、近接してのカセットの着脱が容易となる他に、ウェ
ハ間の少ない間隔に挿入するため、薄くて破損し易い吸
着手段とウェハ、或いははカセットを衝突させ、これ等
を破損する危険性が少ない等の効果を有するものである
Furthermore, in addition to making it easier to attach and detach cassettes in close proximity, since the cassettes are inserted into a small space between wafers, there is a risk that the thin and easily damaged suction means will collide with the wafers or cassettes, causing damage to them. This has the effect of reducing

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の一実施例の移載動作部の断面図、第2
図はその平面図、第3図は全体の正面図、第4図はその
側面図、第5図はその平面図、第6図はカセットの配置
と吸着腕、回転腕との関係を示す平面図、第7図はカセ
ットの横断面図、第8図はその縦断面図である。 A・・・ウェハ    B、 B’  ・・・カセット
C・・・Ppfi!動作部  130.オリフラ2・・
・側壁     3・・・支持段5・・・支持台   
 6・・・昇降台9・・・フレーム  11・・・昇降
ブロック14、 、 、蝮桿    15・・・突片1
6・・・係止片   21・・・中心軸22・・・回転
腕   24・・・固定軸26・・・回転軸   28
.29・・・プーリ30・・・タイミングベルト  3
1・・・吸気孔32・・・吸着腕
Fig. 1 is a cross-sectional view of the transfer operation section of one embodiment of the present invention;
The figure is a plan view, Figure 3 is a front view of the whole, Figure 4 is a side view, Figure 5 is a plan view, and Figure 6 is a plane showing the relationship between the arrangement of the cassette, the suction arm, and the rotating arm. FIG. 7 is a cross-sectional view of the cassette, and FIG. 8 is a vertical cross-sectional view thereof. A...Wafer B, B'...Cassette C...Ppfi! Operating part 130. OriFla 2...
・Side wall 3...Support stage 5...Support stand
6... Elevating table 9... Frame 11... Elevating block 14, , , Vibration rod 15... Protruding piece 1
6... Locking piece 21... Central shaft 22... Rotating arm 24... Fixed shaft 26... Rotating shaft 28
.. 29...Pulley 30...Timing belt 3
1...Intake hole 32...Suction arm

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、固定軸と、該固定軸の周囲を駆動手段によって回転
される回転アームと、該回転アームに軸支され、回転ア
ームとは1:2の比をもって反対方向に回転される回転
軸と、該回転軸に取付けられ、前記固定軸の上部に達す
る吸着手段と、前記吸着手段の側方に対向して位置し、
移載物を支持する支持手段と、移載物を吸着手段に載置
、離隔すべく支持手段を昇降させる昇降手段とを備えた
ことを特徴とする移載装置。 2、移載物がウェハであり、支持手段がカセットであっ
て、該カセットを取付け、昇降手段によって昇降する支
持台が、昇降手段によって最上昇した際に、該支持台を
傾斜させる傾斜手段を備えたことを特徴とする特許請求
の範囲第1項記載の移載装置。
[Scope of Claims] 1. A fixed shaft, a rotating arm rotated around the fixed shaft by a driving means, and a rotary arm that is pivotally supported by the rotating arm and rotates in the opposite direction with a ratio of 1:2. a rotating shaft, a suction means attached to the rotary shaft and reaching an upper part of the fixed shaft, and located opposite to the side of the suction means,
1. A transfer device comprising a support means for supporting an object to be transferred, and an elevating means for raising and lowering the support means to place and separate the object on an adsorption means. 2. The transferred object is a wafer, the support means is a cassette, and the cassette is attached to the support table, which is raised and lowered by the lifting means, and when the support table is raised and lowered by the lifting means, the support table is tilted by tilting means. A transfer device according to claim 1, further comprising: a transfer device according to claim 1;
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0529149U (en) * 1991-09-24 1993-04-16 山形日本電気株式会社 Vacuum pin set

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0529149U (en) * 1991-09-24 1993-04-16 山形日本電気株式会社 Vacuum pin set

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