JPH01261408A - Resin for optical material - Google Patents

Resin for optical material

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JPH01261408A
JPH01261408A JP8952088A JP8952088A JPH01261408A JP H01261408 A JPH01261408 A JP H01261408A JP 8952088 A JP8952088 A JP 8952088A JP 8952088 A JP8952088 A JP 8952088A JP H01261408 A JPH01261408 A JP H01261408A
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JP
Japan
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meth
parts
resin
monomer
acrylate
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JP8952088A
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Japanese (ja)
Inventor
Yukito Zanka
幸仁 残華
Mitsutoshi Aritomi
有富 充利
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Mitsubishi Petrochemical Co Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Petrochemical Co Ltd
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  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Abstract

PURPOSE:To attempt to improve optical characteristics, heat resistance and water resistance, by using a radical copolymer consisting of a (meth)acrylate having a tetracyclododecane(dodecene) group and a polyfunctional alicyclic monomer as a constitutional component. CONSTITUTION:The title resin for an optical material is a polymer obtd. by compounding a monomer consisting of 50-98wt.% (meth)acrylate of tetracyclododecane and/or tetracyclododecene of formula I and/or formula II (wherein R and R' are each H or CH3) and 50-2wt.% polyfunctional alicyclic monomer, e.g., tetracyclododecanedimethanol di(meth)acrylate, a photosensitizer, a radical-polymn. initiator, etc., and irradiating the compd. with ultraviolet rays, electron beams, etc. This resin is especially usable for applications where low birefringence, high heat resistance and low water absorbing property are required, such as rewritable and erasable optical disc bases.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、エチレン性不飽和単量体のラジカル重合体か
らなる光学材料用樹脂に関する。具体的には、重合させ
て樹脂とすべきエチレン性不飽和単i体に主要な特徴を
有する光学用樹脂材料に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Field of Application] The present invention relates to a resin for optical materials comprising a radical polymer of ethylenically unsaturated monomers. Specifically, the present invention relates to an optical resin material having a main feature in an ethylenically unsaturated monomer to be polymerized to form a resin.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

近年、レンズあるいは光デイスク基板に代表されるグラ
スチック光学用素子の要求が急増し、各種の樹脂が開発
され市場に提供されつつおる。
In recent years, the demand for glass optical elements such as lenses and optical disk substrates has rapidly increased, and various resins have been developed and are being offered on the market.

その中で代表的なポリメチルメタクリレート(PMMA
)樹脂は、その優れた光学特性、即ち高透明性、低複屈
折等により広汎な用途で使用されている。しかし、一方
で使用される環境が一層厳しくなり、耐熱性及び耐湿性
等の向上が強く望まれてお抄、この様な要求を解決すべ
く種々の改良技術が公開されている。例えばメタクリル
酸エステルのアルコール残基を高級化(炭素数増大)す
ることKよる低吸水化を試みたものとして、ポリシクロ
へキシルメタクリレート及びそのコポリマー等があるが
、耐熱性及び低吸水性を同時に向上させることは困難で
ある(特開昭58−125742、58−162614
各号公報他)。また、耐熱性を向上させる手法の一つと
して、メチルメタクリレートと架橋性七ツマ−を使用し
た注型重合による技術が開示されている(特開昭61−
83213、同41716各号公報他)。この技術では
熱変形温度のような熱的性質及び吸水性向上する場合も
あるが、大巾な改良な期寺はできない。
Among them, polymethyl methacrylate (PMMA) is a representative
) Resins are used in a wide range of applications due to their excellent optical properties, such as high transparency and low birefringence. However, on the other hand, the environment in which paper is used has become more severe, and improvements in heat resistance, moisture resistance, etc. are strongly desired, and various improved techniques have been disclosed to solve these demands. For example, polycyclohexyl methacrylate and its copolymers have been attempted to reduce water absorption by upgrading the alcohol residue of methacrylic acid ester (increasing the number of carbon atoms), but they simultaneously improve heat resistance and low water absorption. It is difficult to
each issue, etc.). In addition, as one method for improving heat resistance, a technique using cast polymerization using methyl methacrylate and crosslinkable hexamer has been disclosed (Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 1983-1982).
83213, 41716, etc.). Although this technology may improve thermal properties such as heat distortion temperature and water absorption, it cannot make any major improvements.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

上記の様に、これまで提案されたものはいずれも光学的
特性、吸湿性、耐熱性のいずれかに問題を残しており充
分とはいえない。とりわけ、書き換え消去可i+s (
E −D RA W ) BJi光ディスク基板等の低
複屈折、高耐熱性、低吸水性を要求される用途に使用す
る為には、更に性能を向上させることが必要である。本
発明は、上記の問題点を解決し、優れた性能を有する光
学材料用樹脂を提供せんとするものでおる。
As mentioned above, all of the materials proposed so far have problems in optical properties, hygroscopicity, and heat resistance, and cannot be said to be sufficient. In particular, rewritable and erasable i+s (
In order to use it in applications requiring low birefringence, high heat resistance, and low water absorption, such as BJi optical disk substrates, it is necessary to further improve the performance. The present invention aims to solve the above problems and provide a resin for optical materials having excellent performance.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

上記の問題を解決するものとして、本発明者らは鋭意研
究の結果、下記に示す光学特性、耐熱性、耐水性にすぐ
れた光学用材料を開発した。
In order to solve the above problems, the inventors of the present invention have conducted extensive research and developed an optical material with excellent optical properties, heat resistance, and water resistance as shown below.

すなわち本発明は、−下式(1)及び/又は〔旧で示さ
れる化合物50〜98重殖%、脂1式多官能七ツマー2
〜50重量%からなる単縫体混合物をラジカル重合して
得られる光学材料用樹脂を提供するものである。
That is, the present invention provides - a compound represented by the following formula (1) and/or
The present invention provides a resin for optical materials obtained by radical polymerization of a single-seam mixture consisting of ~50% by weight.

O R′ (式中、R及びR′は、水素原子又はメチル基を表わす
。) 本発明に使用される化合物(1)及び(II)は、テト
ラシクロドデセンメタノール又はテトラシクロドデカン
メタノール(以下総称してTECDD−Mと略す)1モ
ルを(メタ)アクリル酸1モルでエステル化をして得ら
れる生成物である。
O R' (In the formula, R and R' represent a hydrogen atom or a methyl group.) Compounds (1) and (II) used in the present invention are tetracyclododecenemethanol or tetracyclododecanemethanol (hereinafter referred to as It is a product obtained by esterifying 1 mol of (generally abbreviated as TECDD-M) with 1 mol of (meth)acrylic acid.

TECDD−Mはシクロペンタジェンを用いて容易に得
られる。すなわち、シクロペンタジェンとアリルアルコ
ールとの付加物をシクロペンタジェンと反応させて得ら
れる。
TECDD-M is easily obtained using cyclopentadiene. That is, it is obtained by reacting an adduct of cyclopentadiene and allyl alcohol with cyclopentadiene.

更に触媒(例えばパラジウムカーボン)を用いて水素と
反応させれは水添体が得られる。また、シクロペンタジ
ェンとアクロレインを用いて合成されるテトラシクロド
デセンカーボアルデヒドを還元することKよってもTE
CDD−Mを得ることができる。
Further, by reacting with hydrogen using a catalyst (for example, palladium on carbon), a hydrogenated product can be obtained. In addition, by reducing tetracyclododecenecarbaldehyde synthesized using cyclopentadiene and acrolein, TE
CDD-M can be obtained.

TECDD−Mと(メタ)アクリル酸との反応は、TE
CDDMIモルに対しくメタ)アクリル酸1.0〜1.
5モルを用い脱水エステル化反応により行なわれる。具
体的には、これらの原料を反応容器内に仕込み、脱水剤
をかねた反応溶媒及びエステル化触媒、必要に応じて重
合禁止剤を加えて、反応温度50〜200℃(好ましく
は、80〜150℃)で空気又は不活性ガス下でエステ
ル化を行う。
The reaction between TECDD-M and (meth)acrylic acid is TE
meth)acrylic acid per mole of CDDMI from 1.0 to 1.
The reaction is carried out by dehydration and esterification using 5 mol. Specifically, these raw materials are charged into a reaction vessel, a reaction solvent that also serves as a dehydrating agent, an esterification catalyst, and a polymerization inhibitor are added as necessary, and the reaction temperature is increased to 50 to 200°C (preferably 80 to 80°C). Esterification is carried out at 150° C.) under air or inert gas.

このとき、重合禁止剤としては、例えば、ラジカル重合
防止として用いられるハイドロキノン、ハイドロキノン
モノメチルエーテルナトフェノール類、ベンゾキノン、
ジフェニルベンゾキノンなどのキノン類、フェノチアジ
ン、銅塩等が挙ケラれる。これらの重合禁止剤の便用吐
は(メタ)アクリルl!i!100重欧部に対してo、
o o i〜10重量部、好ましくは0.1〜5重縫部
である。脱水共沸剤としては、n−へキサン、シクロヘ
キサン、ベンゼン、トルエン、トリクロロエチレンなど
が好ましく用いられる。
At this time, as the polymerization inhibitor, for example, hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether natophenols, benzoquinone, which is used to prevent radical polymerization,
Examples include quinones such as diphenylbenzoquinone, phenothiazine, and copper salts. The fecal discharge of these polymerization inhibitors is (meth)acrylic! i! o against 100 heavy European divisions,
o o i to 10 parts by weight, preferably 0.1 to 5 parts by weight. As the dehydration entrainer, n-hexane, cyclohexane, benzene, toluene, trichloroethylene, etc. are preferably used.

エステル化触媒としては、硫酸、塩酸、リン酸、p−ト
ルエンスルホン酸、カチオン型交換樹脂など通常のエス
テル化触媒が適宜用いられる。
As the esterification catalyst, common esterification catalysts such as sulfuric acid, hydrochloric acid, phosphoric acid, p-toluenesulfonic acid, and cationic exchange resins can be used as appropriate.

エステル化反応終了後、反応液はアルカリ水溶液及び水
で洗浄し、水層を分離し有機層を減圧下で脱水共沸剤を
除去する。
After the esterification reaction is completed, the reaction solution is washed with an aqueous alkaline solution and water, the aqueous layer is separated, and the organic layer is dehydrated under reduced pressure to remove the entrainer.

ここでエステル化は、必ずしも両反応本をアルコール及
びカルボン酸の形態として使用する脱水反応に限定され
ることを意味するものではなくて、その機能的誘導体の
形(例えば低級アルコールエステルの形態)でエステル
交換によりエステルを生成させる場合をも包含するもの
である。
Esterification here is not necessarily meant to be limited to dehydration reactions in which both reactants are used in the form of alcohol and carboxylic acid, but also in the form of their functional derivatives (for example in the form of lower alcohol esters). This also includes cases where esters are produced by transesterification.

前記の化合物(1)、(旧と併用される脂環式多(メタ
)アクリル酸エステルであり、2以上のエチレン性不飽
和基を有する七ツマ−である。
The above-mentioned compound (1) is an alicyclic poly(meth)acrylic acid ester used in combination with the above compound (1), and is a heptamer having two or more ethylenically unsaturated groups.

脂環構造としては、下記のものが例示される。Examples of the alicyclic structure include the following.

H3 具体的には、ヘプタシクロアイコサンジメタノールシア
クリレート、ペンタシクロペンタデカンジメタノールジ
アクリレート、テトラシクロデカンジメタノールジアク
リレート、これらと同様のジメタクリレート、(メタ)
アクリレート、ヘプタシクロアイコサンジアクリレート
、ペンタシクロペンタデカンジアクリレート、テトラシ
クロデカンジアクリレート、ヘキサシクロヘプタデカン
ジメタノールジアクリレート、テトラシクロドデカンジ
メタノールジアクリレート、ビシクロへブタンジメタツ
ールジアクリレート、ヘキササシクロヘプタデカンジア
クリレートテトラシクロドデカンジアクリレート、ビシ
クロへブタンジアクリレート、2.27−ビス(4’−
(β−メタクロイルオキシ)シクロヘキシル〕プロパン
ジアクリレート、シクロヘキサンジメタツールジアクリ
レート、シクロヘキサンジアクリレート、及びこれらと
同様のジメタクリレート、ジ(メタ)アクリレート等が
例示できる。これらの中でも高耐熱性、低吸水性を推持
する為には、ペンタシクロペンタデカンジアクリレート
、テトラシクロデカンジメタノールジアクリレート、テ
トラシクロデカンジメタノールジアクリレート等が好ま
しい。
H3 Specifically, heptacycloeicosan dimethanol cyacrylate, pentacyclopentadecane dimethanol diacrylate, tetracyclodecane dimethanol diacrylate, dimethacrylate similar to these, (meth)
Acrylate, heptacycloeicosane diacrylate, pentacyclopentadecane diacrylate, tetracyclodecane diacrylate, hexacycloheptadecane dimethanol diacrylate, tetracyclododecane dimethanol diacrylate, bicyclohebutane dimethatool diacrylate, hexacyclohepta Decane diacrylate Tetracyclododecane diacrylate, Bicyclohebutane diacrylate, 2.27-bis(4'-
Examples include (β-methacloyloxy)cyclohexyl]propane diacrylate, cyclohexane dimetatool diacrylate, cyclohexane diacrylate, and similar dimethacrylates and di(meth)acrylates. Among these, in order to maintain high heat resistance and low water absorption, pentacyclopentadecane diacrylate, tetracyclodecane dimethanol diacrylate, tetracyclodecane dimethanol diacrylate, etc. are preferred.

ラジカル重合の手法は周知であって、例えば重合性組成
物に有機過酸化物、アゾ化合物等のラジカル開始剤を配
合し、加熱する方法及び光増感剤を配合して、紫外線、
電子線、放射線等を照射する方法等によりラジカル共重
合することができる。
Radical polymerization techniques are well known, such as a method in which a radical initiator such as an organic peroxide or an azo compound is blended into a polymerizable composition and heated;
Radical copolymerization can be carried out by irradiation with electron beams, radiation, etc.

その際に使用されるラジカル開始剤としては、例えば過
酸化ベンゾイル、ジイソプロピルパーオキサイド、ター
シャリープテルパーオキシビパレート、ラウロイルパー
オキサイド等の有機過酸化物、アゾイソブチロニトリル
等のアゾ化合物、ベンゾフェノン、ベンゾイルエチルエ
ーテル、ベンジル、アセトフェノン、アントラキノン等
の光mg 剤、ジフェニルスルフイツト、チオカーバメ
ート等硫黄化合物などのラジカル開始剤が使用できる。
Examples of radical initiators used in this case include organic peroxides such as benzoyl peroxide, diisopropyl peroxide, tertiary pteroperoxybiparate, and lauroyl peroxide, azo compounds such as azoisobutyronitrile, and benzophenone. Radical initiators such as photomagnetic agents such as , benzoylethyl ether, benzyl, acetophenone and anthraquinone, and sulfur compounds such as diphenyl sulfite and thiocarbamate can be used.

ラジカル開始剤の使用機は、前記−数式で表わされるア
クリル系化合物100部に対して0.01〜20部、更
に好ましくは0.01〜10部、の範囲である。
The amount of the radical initiator used is in the range of 0.01 to 20 parts, more preferably 0.01 to 10 parts, per 100 parts of the acrylic compound represented by the above formula.

本発明の重合性組成物のラジカル共重合方法は、大気中
もしくは不活性ガス中で、10−150℃の温度で行う
のが好ましい。
The method for radical copolymerization of the polymerizable composition of the present invention is preferably carried out at a temperature of 10 to 150°C in the atmosphere or in an inert gas.

重合は所謂「注型重合」によって行なって、生成重合体
を板状あるいは塊状で得ることが好ましいといえる。
It can be said that it is preferable to carry out the polymerization by so-called "cast polymerization" to obtain the resulting polymer in the form of a plate or a block.

また、あらかじめ、モノマーを予備重合した後注型重合
に供することもできる。
Alternatively, the monomer can be prepolymerized in advance and then subjected to casting polymerization.

〔実施例〕〔Example〕

以下に実験例を示して、本発明をより具体的に説明する
The present invention will be explained in more detail by showing experimental examples below.

尚、例中の部は重量部、%は重量%である。また、諸物
性は、下記の試験法により測定した。
In addition, parts in the examples are parts by weight, and % is weight %. In addition, various physical properties were measured by the following test methods.

(11光透過率二分光光度計にて500部m の光透過
率を測定 (2)複 屈折二偏光顕微鏡にて測定 (3)飽和吸水率=60℃で水中に浸漬した時の飽和吸
水率 (4)  弾 性 率:ダイナばツクメカニカルアナリ
シス(DMA)によって測定(50℃ における貯蔵弾性率) (5)耐 熱性:同上損失弾性率のピーク温度製造例 攪拌装置、温度計、窒素導入管、水分離器を備えた30
0mノ四ツロフラスコ内に、テトラシクロドデカンメタ
ノール0.27モル(52部)にNuでメタクリル酸0
.39モル(34部))ルエン(75部)p−トルエン
スルホン酸−水n物(z、s部)銅粉(0,02部)を
同時に仕込み、窒素ガス雰囲気下、反応温度90〜12
0℃で2時間反応させた。反応終了後、冷却し過剰の酸
を炭酸カリウム水溶液で中和し、更に有機層を純水で3
回洗浄シ、エバポレーターでトルエンを留去シてメタク
ロイルオキシメチルテトラシクロドデカン67部を得た
(11 Light transmittance Measure the light transmittance of 500 parts m with a dual spectrophotometer (2) Measure with a birefringence dual polarization microscope (3) Saturated water absorption = Saturated water absorption when immersed in water at 60°C (4) Elastic modulus: Measured by Dynabat Mechanical Analysis (DMA) (storage modulus at 50°C) (5) Heat resistance: Same as above at peak temperature of loss modulus Manufacturing example Stirring device, thermometer, nitrogen introduction tube, 30 with water separator
In a 0 m Yotsuro flask, add 0.27 mol (52 parts) of tetracyclododecane methanol and 0 methacrylic acid with Nu.
.. 39 mol (34 parts)) toluene (75 parts) p-toluenesulfonic acid-hydrogen (z, s parts) copper powder (0.02 parts) were simultaneously charged, and the reaction temperature was 90 to 12 mol under nitrogen gas atmosphere.
The reaction was carried out at 0°C for 2 hours. After the reaction is completed, cool the excess acid and neutralize it with an aqueous solution of potassium carbonate.
After washing twice, toluene was distilled off using an evaporator to obtain 67 parts of methacroyloxymethyltetracyclododecane.

実施例1 製造例で得た単量体70部に対してTCD−MA(テト
ラシクロドデカンメタノールジ(メタ)アクリレート)
30部、ベンゾイルパーオキサイド(B、P、0 ) 
0.5部、イルガキュアー184(チパ・ガイギー社製
、光増感剤)0.2部を加え均一に加熱攪拌混合し、ガ
ラス板とシリコンゴムのスペーサーで構成された型の中
に注入して紫外線を照射した後150℃で2時間保持し
て重合を行い、型より取出し硬化物を得た。硬化物の物
性測定結果を表−1に示す。
Example 1 TCD-MA (tetracyclododecane methanol di(meth)acrylate) was added to 70 parts of the monomer obtained in the production example.
30 parts, benzoyl peroxide (B, P, 0)
Add 0.5 parts of Irgacure 184 (manufactured by Chipa Geigy, photosensitizer), mix uniformly with stirring, and pour into a mold consisting of a glass plate and a silicone rubber spacer. After irradiating with ultraviolet rays, the mixture was held at 150° C. for 2 hours to perform polymerization, and then taken out from the mold to obtain a cured product. Table 1 shows the physical property measurement results of the cured product.

実施例2 実施例1において製造例で得た単量体60部とTCD−
MA40部を用いる以外は全く同様にして硬化物を得た
Example 2 60 parts of the monomer obtained in the production example in Example 1 and TCD-
A cured product was obtained in exactly the same manner except that 40 parts of MA was used.

実施例3 実施例1において製造例で得た単量体70部、2.2′
−ビス(4’−(β−メタクロイルオキシ)シクロヘキ
シル〕プロパン30部を用いる以外は全く同様にして硬
化物を得た。
Example 3 70 parts of the monomer obtained in the production example in Example 1, 2.2'
A cured product was obtained in exactly the same manner except that 30 parts of -bis(4'-(β-methacroyloxy)cyclohexyl)propane was used.

比較例1 実施?lJ 1においてTCL)・MA30部の代わり
に、l、6−ヘキサンジオールジアクリレート30部を
用いる以外は全く同様にして硬化物を得た。
Comparative example 1 Implementation? A cured product was obtained in exactly the same manner as in IJ 1 except that 30 parts of 1,6-hexanediol diacrylate was used instead of 30 parts of TCL).MA.

比較例2 実施例1において、製造例で得た単量体70部の代わり
に、シクロヘキシルメタクリレート70部、を用いた以
外は全く同様にして硬化物を得た。
Comparative Example 2 A cured product was obtained in exactly the same manner as in Example 1, except that 70 parts of cyclohexyl methacrylate was used instead of 70 parts of the monomer obtained in Production Example.

比較例3 実施例1において、TCD−MA30部の代わりにMM
A(シロップ状)70部を用いた以外は全く同様にして
硬化物を得た。
Comparative Example 3 In Example 1, MM was used instead of 30 parts of TCD-MA.
A cured product was obtained in exactly the same manner except that 70 parts of A (syrup) was used.

硬化物の物性測定結果を表−1にまとめて示す。The physical property measurement results of the cured product are summarized in Table 1.

(以下余白)(Margin below)

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)エチレン性不飽和単量体のラジカル重合体からな
る光学材料用樹脂において、該単量体が下式〔 I 〕、
〔II〕で示される化合物50〜98重量%、脂環式多官
能モノマー50〜2重量%からなるものである光学材料
用樹脂。 ▲数式、化学式、表等があります▼〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔II〕 (式中、R及びR′は、水素原子又はメチル基を表わす
。)
(1) In a resin for optical materials comprising a radical polymer of an ethylenically unsaturated monomer, the monomer has the following formula [I],
A resin for optical materials comprising 50 to 98% by weight of the compound represented by [II] and 50 to 2% by weight of an alicyclic polyfunctional monomer. ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼[I] ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼[II] (In the formula, R and R' represent a hydrogen atom or a methyl group.)
JP8952088A 1988-04-12 1988-04-12 Resin for optical material Pending JPH01261408A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02258806A (en) * 1989-03-30 1990-10-19 New Japan Chem Co Ltd Acrylate based curing composition

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02258806A (en) * 1989-03-30 1990-10-19 New Japan Chem Co Ltd Acrylate based curing composition

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