JPH01253233A - パターン転写装置 - Google Patents
パターン転写装置Info
- Publication number
- JPH01253233A JPH01253233A JP63081718A JP8171888A JPH01253233A JP H01253233 A JPH01253233 A JP H01253233A JP 63081718 A JP63081718 A JP 63081718A JP 8171888 A JP8171888 A JP 8171888A JP H01253233 A JPH01253233 A JP H01253233A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reticle
- mask
- optical axis
- inclination
- monitor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、半導体装置の製造における。−ｅターンの
転写装置に関するものである。
転写装置に関するものである。
第２図は従来の縮小投影露光装置にマスク（以下レチク
ル（１）と呼ぶ。）をレチクル支枝台（２）（こセント
した図であり、以下、この図にしたがって説明する。
ル（１）と呼ぶ。）をレチクル支枝台（２）（こセント
した図であり、以下、この図にしたがって説明する。
まず、原理については以下のとおりである。
縮小投影露光装置の光源（３）からの光がレチクル（１
）を通過し、縮小投影レンズ（４）に入る。パターン転
写の精度を良くするために、縮小投影レンズ（４）の光
軸（５）とレチクル（１）を垂直にする。
）を通過し、縮小投影レンズ（４）に入る。パターン転
写の精度を良くするために、縮小投影レンズ（４）の光
軸（５）とレチクル（１）を垂直にする。
従来の縮小投影露光装置は以上のように構成されている
ので、レチクル（１）と光軸（６）を垂直にするために
、レチクル支枝台（２）を人間が研磨しなければならず
、また、その精度確認は実際にレジストを塗布したウェ
ハにパターン転写して光学測定するといった方法で、精
度が規格内に入るまで繰り返す必要があり、すぐに精度
確認や調整ができないという問題点があった。
ので、レチクル（１）と光軸（６）を垂直にするために
、レチクル支枝台（２）を人間が研磨しなければならず
、また、その精度確認は実際にレジストを塗布したウェ
ハにパターン転写して光学測定するといった方法で、精
度が規格内に入るまで繰り返す必要があり、すぐに精度
確認や調整ができないという問題点があった。
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、光軸とマスクの垂線の傾きの程度をモニタで
きるとともに、このモニタで確認しながら、傾きを零に
することができる投影露光装置を得ることを目的とする
。
たもので、光軸とマスクの垂線の傾きの程度をモニタで
きるとともに、このモニタで確認しながら、傾きを零に
することができる投影露光装置を得ることを目的とする
。
この発明に係るパターン転写装置は、投影露光装置のレ
ンズの光軸と、マスク面の垂線の傾きの程度をモニタす
るとともに、このモニタで確認しながら、マスクの傾き
を調整できる機能を有したものである。
ンズの光軸と、マスク面の垂線の傾きの程度をモニタす
るとともに、このモニタで確認しながら、マスクの傾き
を調整できる機能を有したものである。
この発明において、投影露光装置のレンズの光軸とマス
クの垂直性をモニタし、調整することにより、マスクの
傾きを防止することができる。
クの垂直性をモニタし、調整することにより、マスクの
傾きを防止することができる。
以下、この発明の一実施例について説明する。
第１図において、レチクル（１）の下面に（６）の反射
板を取りつける。反射板（６）の上方に光学系ボックス
（７）を設置する。投光器（８）から、縮小投影レンズ
（４）の光軸（５）と平行な投光光（スポット光）（９
）を光学系ボックス（７）の窓から取り込む、投光光（
９）は、ハーフミラ−ＱｃＪで直角に曲げられ、Ｑｌ）
のハーフミラ−を通過し、ミラー（２）でさらに下方へ
直角に曲げられ、レチクル上面に達し、レチクル内で屈
折し、反射板（６）で反射し、レチクル内から出て、ミ
ラー＠に再度反射され、（至）のレチクルこらの反射光
になる。レチクルからの反射光０は画像素子を敷きつめ
た受像板０祷で感知され、その信号は（イ）のコードで
ＯＱのモニタへ送られる。また、同様に、投光光（９）
はハーフミラ−００で曲げられた後、０υのハーフミラ
−で１８０°反射されて、αηのハーフミラ−からの反
射光となり、ＱｃＪのハーフミラ−を通過し、受像板α
りに達し、ｑＱのモニタに映し出される。
板を取りつける。反射板（６）の上方に光学系ボックス
（７）を設置する。投光器（８）から、縮小投影レンズ
（４）の光軸（５）と平行な投光光（スポット光）（９
）を光学系ボックス（７）の窓から取り込む、投光光（
９）は、ハーフミラ−ＱｃＪで直角に曲げられ、Ｑｌ）
のハーフミラ−を通過し、ミラー（２）でさらに下方へ
直角に曲げられ、レチクル上面に達し、レチクル内で屈
折し、反射板（６）で反射し、レチクル内から出て、ミ
ラー＠に再度反射され、（至）のレチクルこらの反射光
になる。レチクルからの反射光０は画像素子を敷きつめ
た受像板０祷で感知され、その信号は（イ）のコードで
ＯＱのモニタへ送られる。また、同様に、投光光（９）
はハーフミラ−００で曲げられた後、０υのハーフミラ
−で１８０°反射されて、αηのハーフミラ−からの反
射光となり、ＱｃＪのハーフミラ−を通過し、受像板α
りに達し、ｑＱのモニタに映し出される。
上記の説明からもわかるように、レチクル（１）と光軸
（５）が垂直でないと、反射光叫とａ７）はずれるが、
垂直であれば、反射光α４とα力は一致する。このずれ
る量をモニタ（壇で確認することができる。また、この
ずれ量から幾何的計算により、光軸（４）に対するレチ
クル（１）の傾きがわかる。
（５）が垂直でないと、反射光叫とａ７）はずれるが、
垂直であれば、反射光α４とα力は一致する。このずれ
る量をモニタ（壇で確認することができる。また、この
ずれ量から幾何的計算により、光軸（４）に対するレチ
クル（１）の傾きがわかる。
さらに、レチクル（１）の１点もしくは数点を同時にモ
ニタし、フィードバックをかけながら、（２）のレチク
ル支持台を上下させ、前記の傾きを所望の値に設定する
ことができる。
ニタし、フィードバックをかけながら、（２）のレチク
ル支持台を上下させ、前記の傾きを所望の値に設定する
ことができる。
上記実施例は、縮小投影露光装置のレチクル（１）のセ
ットの場合について示したが、等倍投影露光装置などの
他の投影露光装置のマスクでもよい。
ットの場合について示したが、等倍投影露光装置などの
他の投影露光装置のマスクでもよい。
また、前記の傾きをモニタしたい場合や傾きを調整した
い場合なら、レチクル（１）、レチクル支持台（２）の
代わりに、各々、透明板、その支持物であってもよい。
い場合なら、レチクル（１）、レチクル支持台（２）の
代わりに、各々、透明板、その支持物であってもよい。
さらに、上記実施例では、投光器（８）を用いて光学系
を考慮したが、光のかわりにレーザ光などでもよい。そ
して、（６）の反射板のかわりに、マスク上のパターン
で光などを反射するものであってもよい。
を考慮したが、光のかわりにレーザ光などでもよい。そ
して、（６）の反射板のかわりに、マスク上のパターン
で光などを反射するものであってもよい。
以上のように、この発明によれば、マスク上に光学系を
第１図のように構成したので、レンズ光軸とマスク面の
傾きをモニタでき、簡単に精度よく、敏速に調整できる
効果がある。
第１図のように構成したので、レンズ光軸とマスク面の
傾きをモニタでき、簡単に精度よく、敏速に調整できる
効果がある。
第１図はこの発明の一実施例による縮小投影露光装置の
構成図、第２図は従来の構成図である。 第１図で、（１）はレチクル、（２）はレチクル支持台
、（３） １，１光諒、（４）は縮小投影レンズ、（５
）は（４ンのレンズの光軸、（６）は反射板、（７）は
光学系ボックス、（８）は投光器、（９）は投光光、α
ｑはハーフミラ−１ａｖはハーフミラ−１（２）はレチ
クルからの反射光、α伺よ受像板、ａ谷はコード、ＯＱ
はモニタ（装ｆｆり、σηは反射光である。 なお、図中、同一符号は同一、又は相当部分を示す。
構成図、第２図は従来の構成図である。 第１図で、（１）はレチクル、（２）はレチクル支持台
、（３） １，１光諒、（４）は縮小投影レンズ、（５
）は（４ンのレンズの光軸、（６）は反射板、（７）は
光学系ボックス、（８）は投光器、（９）は投光光、α
ｑはハーフミラ−１ａｖはハーフミラ−１（２）はレチ
クルからの反射光、α伺よ受像板、ａ谷はコード、ＯＱ
はモニタ（装ｆｆり、σηは反射光である。 なお、図中、同一符号は同一、又は相当部分を示す。
Claims (1)
- 投影露光装置にマスクをセットする場合に、上記の投
影露光装置の光源の光軸とマスク面の垂線との傾きの程
度をモニタすることと、この傾きを零にすることを特徴
としたパターン転写装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63081718A JPH01253233A (ja) | 1988-03-31 | 1988-03-31 | パターン転写装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63081718A JPH01253233A (ja) | 1988-03-31 | 1988-03-31 | パターン転写装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01253233A true JPH01253233A (ja) | 1989-10-09 |
Family
ID=13754190
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63081718A Pending JPH01253233A (ja) | 1988-03-31 | 1988-03-31 | パターン転写装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01253233A (ja) |
-
1988
- 1988-03-31 JP JP63081718A patent/JPH01253233A/ja active Pending
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