JPH01245817A - Hot superpure water generating apparatus - Google Patents

Hot superpure water generating apparatus

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Publication number
JPH01245817A
JPH01245817A JP63077347A JP7734788A JPH01245817A JP H01245817 A JPH01245817 A JP H01245817A JP 63077347 A JP63077347 A JP 63077347A JP 7734788 A JP7734788 A JP 7734788A JP H01245817 A JPH01245817 A JP H01245817A
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JP
Japan
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water
hot
ultrapure water
pipe
pure water
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Pending
Application number
JP63077347A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tomoo Urano
浦野 智夫
Masasuke Miyamoto
宮本 昌祐
Mitsunobu Otani
大谷 光伸
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Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
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Publication date
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Publication of JPH01245817A publication Critical patent/JPH01245817A/en
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Abstract

PURPOSE:To perform pasteurization in the region of high temperature to obtain hot superpure water by providing, besides an ion-exchange device, a filter including a ceramic membrane therein at the last stage of a hot superpure water generating apparatus to prevent the elution of organic matters or particulates. CONSTITUTION:Raw water fed from an inlet pipe 1 passes through an ion- exchange device 3, whereby the ion components in the raw water are removed nearly completely by means of ion-exchange fibers and also the specific resistance of the raw water is raised approximately to 18.2MOMEGA.cm. Thereafter, the raw water, at the time of passing through heating devices 5A, 5B connected to the downstream side of the device 3, is heated to 60-95 deg.C to form hot pure water, during which pasteurization thereof is performed. Further, the water is passed through cylindrical ceramic tubes of a filter 7 disposed at the rear of the heating devices 5A, 5B, during which particulates, TOC, metal ions, etc., are removed from the water to turn it to hot superpure water, which is supplied to a use point or a recycle pipe.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、電子産業用、医療用などに用いられる比抵抗
が18MΩ・cm以上の純水で、その温度が60〜95
°C程度に加熱された所謂、熱超純水の製造装置に関す
る。
Detailed Description of the Invention [Industrial Field of Application] The present invention is directed to pure water with a specific resistance of 18 MΩ·cm or more used in the electronic industry, medical use, etc., whose temperature is 60 to 95
The present invention relates to an apparatus for producing so-called hot ultrapure water heated to about °C.

[従来の技術] 電子産業の中でも半導体製造技術は、その進歩がめざま
しく、パターンの超微細化、高集積化が進み、現在では
4メガビット以上のダイナミックメモリで代表される超
々LSIの時代に入っており、シリコンウェハの洗浄に
必要な超純水は、その洗浄効果を上げるため高温の超純
水、すなわち熱超純水が好ましいことが知られている。
[Conventional technology] Semiconductor manufacturing technology has made remarkable progress in the electronics industry, with ultra-fine patterns and higher integration, and we are now entering the era of ultra-super LSIs, represented by dynamic memories of 4 megabits or more. It is known that the ultrapure water required for cleaning silicon wafers is preferably high-temperature ultrapure water, that is, thermal ultrapure water, in order to increase the cleaning effect.

このような用途に用いられる熱超純水製造装置として、
出願人は、先に特願昭62−90943号明細書におい
て、イオン交換繊維を用いたイオン交換装置と、送水ポ
ンプと、逆浸透膜を用いた逆浸透膜装置と、加熱装置と
をこの順に直列に接続した装置を提案した。
As a thermal ultrapure water production device used for such applications,
The applicant previously proposed in Japanese Patent Application No. 62-90943 an ion exchange device using ion exchange fibers, a water pump, a reverse osmosis membrane device using a reverse osmosis membrane, and a heating device in this order. A device connected in series was proposed.

[発明が解決しようとする課題] しかしながら、上記従来装置は、濾過材として有機系の
素材の逆浸透膜モジュール、限外濾過膜モジュールなど
を用いているので、60’Cを超える高温領域では耐熱
性がなく、この温度領域の熱超純水が1qられないとい
う欠点があった。しかも上記高温領域になると、膜及び
モジュール部材からの有機物の溶出が顕著になり、加熱
装置及びユースポイントまでの配管中で微粒子が発生す
るなどの問題もあった。
[Problems to be Solved by the Invention] However, since the above-mentioned conventional device uses a reverse osmosis membrane module, an ultrafiltration membrane module, etc. made of an organic material as a filtration material, it is not heat resistant in a high temperature range exceeding 60'C. There was a drawback that 1q of hot ultrapure water in this temperature range could not be obtained. Moreover, in the above-mentioned high-temperature range, organic matter elution from the membrane and module members becomes noticeable, and there are also problems such as generation of fine particles in the heating device and piping to the point of use.

この傾向は、ユースポイント直前に公知の有機系平膜が
設置された公知の種々の濾過器においても同様であり、
事実上、上記高温領域の熱超純水を製造することが困難
であった。
This tendency is the same in various known filters in which a known organic flat membrane is installed just before the point of use.
In fact, it has been difficult to produce thermal ultrapure water in the above-mentioned high temperature range.

更には、上記従来装置は、高温化による滅菌処置ができ
ないため、定期的に装置の停止を要する薬剤滅菌を必要
とし、装置の運転可能時間が短かいという問題もあった
Furthermore, since the conventional apparatus described above cannot perform sterilization treatment by raising the temperature, it requires chemical sterilization that requires periodic shutdown of the apparatus, and there is also the problem that the operating time of the apparatus is short.

本発明は、このような問題点を解決し、有機物、微粒子
などの溶出がなく、しかも薬剤滅菌をせずとも高純度の
熱超純水が無駄なく得られる熱超純水の製造装置を提供
することを目的とする。
The present invention solves these problems and provides a hot ultrapure water production device that does not elute organic substances or fine particles and can produce high purity hot ultrapure water without waste without chemical sterilization. The purpose is to

[課題を解決するための手段] 前記課題を解決するためのこの発明の構成は、次の通り
である。すなわち、 (イ)原水の導入管と、 (ロ)前記原水を受け入れて純水とするためのイオン交
換繊維が収納されたイオン交換装置と、(ハ)前記純水
を加熱して熱純水とするための加熱装置と、 (ニ)前記熱純水の精製度を更に上げて、熱超純水とす
るためのセラミック膜が収納された濾過装置と、 (ホ)前記各装置を相互に接続する接続管と、(へ)前
記濾過装置からユースポイントへ前記熱超純水を供給す
るための供給管と、(ト)該供給管から分岐され、前記
導入管または前記接続管に接続された、熱超純水をリサ
イクルさせるためのリサイクル管と、 を備えた熱超純水製造装置でおる。
[Means for Solving the Problems] The structure of the present invention for solving the above problems is as follows. In other words, (a) an inlet pipe for raw water, (b) an ion exchange device containing ion exchange fibers for receiving the raw water and converting it into pure water, and (c) heating the pure water to produce thermally pure water. (d) a filtration device containing a ceramic membrane for further increasing the degree of purification of the thermally pure water to produce thermally ultrapure water; and (e) interconnecting each of the devices. (f) a supply pipe for supplying the hot ultrapure water from the filtration device to the point of use; and (g) a connection pipe branched from the supply pipe and connected to the introduction pipe or the connection pipe. In addition, it is a thermal ultrapure water production device equipped with a recycling pipe for recycling the thermal ultrapure water.

また、1qられた熱超純水を無駄なく有効に利用するた
めのこの発明の構成は、次のとおりである。
Further, the configuration of the present invention for effectively utilizing 1 q of heated ultrapure water without wasting it is as follows.

(イ)原水の導入管と、 (ロ)前記原水を受け入れて純水とするためのイオン交
換繊維が収納されたイオン交換装置と、(ハ)前記純水
を加熱して熱純水とするための加熱装置と、 (ニ)前記熱純水の精製度を更に上げて、熱超純水とす
るためのセラミック膜が収納された濾過装置と、 (ホ)前記各装置を相互に接続する接続管と、(へ)前
記接続管の少なくとも一つに介在された熱交換器と、 (ト〉前記濾過装置からユースポイントへ前記熱超純水
を供給するための供給管と、(チ)該供給管から分岐さ
れ、前記熱交換器に接続された、熱超純水をリサイクル
させるためのリサイクル管と、 を備えた熱超純水製造装置である。
(b) an inlet pipe for raw water; (b) an ion exchange device containing ion exchange fibers for receiving the raw water and converting it into pure water; and (c) heating the pure water to make thermally pure water. (d) a filtration device containing a ceramic membrane for further increasing the degree of purification of the thermally purified water to produce thermally ultrapure water; and (e) interconnecting each of the devices. a connecting pipe; (f) a heat exchanger interposed in at least one of the connecting pipes; (g) a supply pipe for supplying the hot ultrapure water from the filtration device to the point of use; A recycle pipe for recycling the hot ultrapure water, which is branched from the supply pipe and connected to the heat exchanger.

ここで本発明の処理対象でおる原水、すなわち、導入管
から供給される原水としては、一般に使用される水道水
、工業用水などであっても良いが、これを予め公知の逆
浸透膜、イオン交換樹脂、紫外線殺菌灯などのいわゆる
一次純水製造装置、あるいは公知のイオン交換樹脂(ポ
リラシャ−)、紫外線殺菌灯、限外濾過膜などのいわゆ
る二次純水製造装置などで前処理することにより、その
処理水質を比抵抗が16MΩ・cm以上、微粒子数が1
000個/m1以下、TOCが1000ppb以下、生
菌数が1000個/rrd!以下程度に精製度を上げた
ものが好ましい。ただし高純度水を必要としない用途に
おいては、前記−次処理、二次処理を加えることなく、
濾過程度の簡単な前処理を施しただけのものであっても
よい。
Here, the raw water to be treated in the present invention, that is, the raw water supplied from the inlet pipe, may be commonly used tap water, industrial water, etc. By pretreatment with so-called primary pure water production equipment such as exchange resins and ultraviolet germicidal lamps, or so-called secondary pure water production equipment such as known ion exchange resins (Polylasha), ultraviolet germicidal lamps, and ultrafiltration membranes. , the quality of the treated water is such that the specific resistance is 16 MΩ・cm or more and the number of fine particles is 1.
000 cells/m1 or less, TOC below 1000 ppb, viable bacteria count 1000 cells/rrd! It is preferable that the degree of purification is as high as below. However, in applications that do not require high purity water, without adding the above-mentioned secondary treatment or secondary treatment,
It may also be one that has been simply subjected to a simple pretreatment such as filtration.

また、イオン交換装置とは、上記原水を導入し、その原
水中のイオン成分を除去し、比抵抗を18゜2MΩ・c
m程度以上に上げることによって純水とするためのイオ
ン交換繊維等をイオン交換体に用いた公知の水処理装置
である。また、イオン交換体に公知のイオン交換膜を用
いてもよい。
In addition, an ion exchange device introduces the above-mentioned raw water, removes the ionic components in the raw water, and reduces the specific resistance to 18°2MΩ・c.
This is a known water treatment device that uses ion exchange fibers or the like as an ion exchanger to make water pure by increasing the water concentration to about m or more. Further, a known ion exchange membrane may be used as the ion exchanger.

また、加熱装置とは、前記水処理装置で得られた純水を
導入し、その温度を60〜95℃程度に昇温して熱純水
とする、前記イオン交換装置の後部に接続された加熱装
置である。この加熱装置の構成は、特に限定しないが、
例えば、アルミ鋳込み式の電熱ヒータ、温度検知端、コ
ントローラなどからなる公知の電熱式加熱装置、蒸気や
熱媒を加熱側の熱源とする二重管式の公知の蒸気式加熱
装置などが好ましい。また、加熱装置内で超純水が沸騰
すると、加熱装置の金属表面から金属イオンの溶出が多
くなるので、急激な加熱を避けるため、伝達熱量を分散
し、徐々に加熱温度を上げていく多段式の加熱装置とす
るのが好ましい。加熱装置の接液部には、例えば、電解
研磨、更に好ましくは、クロムM (Cr03 ) 、
濃硝酸(HNO3)などによる酸化不動態処理を施すこ
とが好ましい。加熱装置は、濾過装置での菌の繁殖防止
のため、濾過装置の前部に接続されるが、接続位置の組
合せは濾過装置の前部の他に、更に後部にも接続しても
よい。
In addition, the heating device is connected to the rear part of the ion exchange device, which introduces the pure water obtained in the water treatment device and raises the temperature to about 60 to 95°C to make hot pure water. It is a heating device. The configuration of this heating device is not particularly limited, but
For example, a known electric heating device consisting of an aluminum cast-in type electric heater, a temperature sensing end, a controller, etc., a known double pipe type steam heating device using steam or a heating medium as a heat source on the heating side, etc. are preferable. In addition, when ultrapure water boils inside the heating device, more metal ions will be eluted from the metal surface of the heating device, so in order to avoid rapid heating, the transferred heat is dispersed and the heating temperature is gradually increased. It is preferable to use a type heating device. For example, electrolytic polishing, more preferably chromium M (Cr03),
It is preferable to perform oxidative passivation treatment using concentrated nitric acid (HNO3) or the like. The heating device is connected to the front of the filtration device in order to prevent the growth of bacteria in the filtration device, but the heating device may be connected to the rear of the filtration device in addition to the front of the filtration device.

次に、濾過装置とは、前記加熱装置から導入した熱純水
中のTOC(全有機炭素量)、微粒子数、生菌数、金属
イオンなどの低減、シリカの除去などを目的とするセラ
ミック膜を用いた公知の水処理装置をいう。そしてこの
濾過装置は、供給原水の処理水質を上げる最終処理装置
であり、前述の加熱装置で加熱された熱純水をセラミッ
ク膜を介して濾過し、その水質を比抵抗が18.2MΩ
・cm以上、0.05μm径以上の微粒子数が1個/d
以下、TOCが1oppb以下程度に精製することによ
り、熱超純水とするためのものである。
Next, the filtration device is a ceramic membrane for the purpose of reducing TOC (total organic carbon), number of fine particles, number of viable bacteria, metal ions, etc., and removing silica in the hot pure water introduced from the heating device. Refers to a known water treatment device using This filtration device is a final treatment device that improves the treated water quality of the supplied raw water, and filters the hot pure water heated by the aforementioned heating device through a ceramic membrane to improve the water quality with a specific resistance of 18.2 MΩ.
・The number of fine particles with a diameter of cm or more and a diameter of 0.05 μm or more is 1/d
Hereinafter, by purifying the TOC to about 1 opppb or less, hot ultrapure water will be obtained.

そして、この熱純水は供給管を経て次工程、すなわら、
ユースポイントへ供給される。
Then, this hot pure water passes through the supply pipe to the next process, i.e.
Supplied to point of use.

また、セラミック膜とは、金属酸化物微粒子を焼結して
なる多孔質支持材の表層部に、その支持材を構成してい
る金属酸化物微粒子よりも小さな粒子径をもつ金属酸化
物微粒子の多孔質焼結rMが構成されたもので、詳しく
は特願昭60−261437号明細書に詳述されている
濾材である。
In addition, a ceramic membrane is a porous support material made by sintering metal oxide fine particles, and on the surface layer of the porous support material, metal oxide fine particles having a smaller particle size than the metal oxide fine particles constituting the support material are added. The filter medium is composed of porous sintered rM and is described in detail in Japanese Patent Application No. 60-261437.

前記多孔質支持材と多孔質焼結躍層のいずれもがアルミ
ナ、ジルコニアを主成分とする多孔質焼結体で構成され
ているのがより好ましい。
More preferably, both the porous support material and the porous sintered cline are composed of porous sintered bodies containing alumina and zirconia as main components.

また、この濾過装置の濾材以外の接液部材質は、耐蝕性
の理由からオーステナイト系ステンレス鋼が好ましく、
より好ましくは5US316Lを用い、表面粗さをRm
axl、0μm以下で酸化不動態処理を施すことが好ま
しい。
In addition, the material of the wetted parts other than the filter medium of this filtration device is preferably austenitic stainless steel for corrosion resistance reasons.
More preferably, 5US316L is used, and the surface roughness is Rm
It is preferable to perform oxidative passivation treatment at axl of 0 μm or less.

また、リサイクル管とは、前記濾過装置で1qられた熱
超純水がユースポイントで使用しきれない場合に、この
余剰熱超純水を前記原水の導入管、接続管、あるいはこ
れらの管に介在された熱交換器などにリターンさせて、
原水または排熱回収用熱源として再生するための還元管
である。
In addition, the recycle pipe is used to recycle surplus hot ultrapure water into the raw water introduction pipe, connection pipe, or these pipes when 1 q of hot ultrapure water produced by the filtration device cannot be used at the point of use. Return it to an interposed heat exchanger etc.
This is a return pipe for regenerating raw water or as a heat source for recovering waste heat.

上述した本発明装置の構成設備の接液部材質のうち、加
熱装置より上流側に配置された装置および配管類の材質
は、これらの装置からの超純水への金属イオンの溶出、
錆、微粒子などの混入を防ぐ目的から、例えば、5U8
304などのステンレス鋼や、ポリ塩化ビニール樹脂、
ポリプロピレン樹脂、ポリ弗化ビニリデン樹脂などの合
成樹脂類が好ましく用いられ、より好ましくは5US3
16系統の材質が好ましい。また、加熱装置以降の配管
材質および熱超純水と接する装置の接液部材質は、オー
ステナイト系ステンレス鋼、より好ましくは5US31
6Lを用い、表面粗さをRmaXl、0μm以下とする
ことが好ましい。
Among the materials of the wetted parts of the above-mentioned components of the apparatus of the present invention, the materials of the apparatus and piping located upstream from the heating apparatus are suitable for elution of metal ions into ultrapure water from these apparatuses,
For the purpose of preventing rust, fine particles, etc. from entering, for example, 5U8
Stainless steel such as 304, polyvinyl chloride resin,
Synthetic resins such as polypropylene resin and polyvinylidene fluoride resin are preferably used, more preferably 5US3
16 series materials are preferred. In addition, the material of piping after the heating device and the material of the wetted parts of the device that comes into contact with hot ultrapure water should be austenitic stainless steel, more preferably 5US31.
It is preferable to use 6L and set the surface roughness to RmaXl, 0 μm or less.

なお、この発明の熱超純水製造装置は、濾材であるイオ
ン交換繊維、セラミック膜などの個々の通水抵抗が全濾
材の通水抵抗を合せても約0.5〜2.0k(]/7.
G程度と低いので、新たに加圧用の送水ポンプを付設し
なくとも、前記前処理装置に内蔵された送水ポンプの送
水圧力を利用することができる。
In addition, in the thermal ultrapure water production apparatus of this invention, the individual water flow resistances of the filter media, such as ion exchange fibers and ceramic membranes, are approximately 0.5 to 2.0 k (including the water flow resistance of all filter media). /7.
Since the pressure is as low as approximately G, the water supply pressure of the water supply pump built into the pretreatment device can be used without the need to newly install a water supply pump for pressurization.

[作用] 導入管から供給された原水は、イオン交換装置を通過す
ることにより、原水中のイオン成分がほぼ完全に除去さ
れると共に、比抵抗が18.2MΩ・Cm程度にまで上
げられ、更に、このイオン交換装置の下流側に接続され
た加熱装置を通過することにより、その温度が60〜9
5℃程度に昇温されて熱純水となる。また、この昇温過
程で滅菌される。
[Function] By passing the raw water supplied from the introduction pipe through the ion exchange device, the ionic components in the raw water are almost completely removed, the specific resistance is raised to about 18.2 MΩ・Cm, and the , by passing through a heating device connected downstream of this ion exchanger, the temperature is raised to 60 to 9.
The temperature is raised to about 5°C and it becomes thermally pure water. Additionally, this heating process sterilizes the product.

次に、熱交換器の復部に配設された濾過装置でその処理
水質を最終的に比抵抗が18.2MΩ・Cm、0.05
μm径以上の微粒子数が1個/d以下、TOCが1op
pb以下程度に上げられて熱超純水となる。
Next, a filtration device installed at the return section of the heat exchanger tests the quality of the treated water until the final resistivity is 18.2MΩ・Cm and 0.05MΩ・Cm.
The number of particles with a diameter of μm or more is 1/d or less, and the TOC is 1op.
The water is raised to below PB and becomes hot ultrapure water.

また、ユースポイントで消費し切れない熱超純水は、リ
サイクル管から上流側の原水の導入管、接続管、熱交換
器などに戻され再利用される。
In addition, hot ultrapure water that cannot be consumed at the point of use is returned from the recycling pipe to the upstream raw water introduction pipe, connecting pipe, heat exchanger, etc., and is reused.

[実施例] 第1図は、本発明に係る装置の一実施例を示す70−シ
ートであり、以下この図に基づき具体的に説明する。
[Example] FIG. 1 shows a 70-sheet showing an example of the apparatus according to the present invention, and a detailed description will be given below based on this figure.

1は、原水を供給する導入管、2は、供給量を調整する
ダイヤフラム弁である。3は、イオン交換繊維(東し株
式会社製”l0NEX”TlN100型)を1.2に9
充填したイオン交換装置であり、直径150mm、長さ
400mmの5US316L製の容器に収納されている
。4は、二重管式熱交換器であり、内筒に前記イオン交
換装置3で処理された処理水が通水される。この二重管
式熱交換器4は、内筒径15A、外筒径25Aの5US
316L製で、内筒長さ10m、内筒の内面表面粗さが
Rmax o、 1μmに処理されている。
1 is an introduction pipe for supplying raw water, and 2 is a diaphragm valve for adjusting the supply amount. 3 is an ion exchange fiber ("l0NEX" TlN100 type manufactured by Toshi Co., Ltd.) at a ratio of 1.2 to 9.
It is a filled ion exchange device and is housed in a 5US316L container with a diameter of 150 mm and a length of 400 mm. Reference numeral 4 denotes a double-tube heat exchanger, through which treated water treated by the ion exchange device 3 is passed through an inner tube. This double pipe heat exchanger 4 has an inner cylinder diameter of 15A and an outer cylinder diameter of 25A.
Made of 316L, the length of the inner cylinder is 10 m, and the inner surface roughness of the inner cylinder is treated to Rmax o, 1 μm.

5A、5Bは、外周をアルミ鋳込みヒータで覆われた円
筒形の電熱式加熱装置で、直列に2台がこの加熱装置の
温度コントロール用の温度検知端6Aを介して接続され
、更にその接部には、温度検知端6Bが接続されている
。各々の加熱装置の加熱部長さは5m、材質は5US3
16Lであり、内面には電解研磨処理(表面粗ざRma
X 0.1μm)が施されている。
5A and 5B are cylindrical electric heating devices whose outer periphery is covered with aluminum cast heaters, two of which are connected in series through a temperature detection end 6A for temperature control of this heating device, and furthermore, the connecting part A temperature sensing end 6B is connected to the temperature sensing end 6B. The length of the heating section of each heating device is 5m, and the material is 5US3.
16L, and the inner surface is electrolytically polished (surface roughness Rma
x 0.1 μm).

また、7は、公知の円筒型セラミック管が内蔵されたシ
ェルアンドチューブ型の濾過装置(詳細後述)である。
Further, 7 is a shell-and-tube type filtration device (details will be described later) having a built-in known cylindrical ceramic tube.

16は、熱超純水の最終水質を測定する水質計、17は
、三方自動弁であり、ユースポイントでの熱超純水の消
費量に応じて開度が調節される。三方自動弁17の3ポ
ートのうち入口ポートは、導管18と接続され、出口ポ
ートは、熱超純水の供給管19と導管20とに接続され
ている。導管20は、更に導管14、二重管式熱交換器
4に接続され、導管15からは図示しない公知の純水製
造装置に接続されている。
16 is a water quality meter that measures the final water quality of the hot ultrapure water, and 17 is a three-way automatic valve, the opening degree of which is adjusted according to the amount of hot ultrapure water consumed at the point of use. Among the three ports of the three-way automatic valve 17, the inlet port is connected to the conduit 18, and the outlet port is connected to the hot ultrapure water supply pipe 19 and the conduit 20. The conduit 20 is further connected to a conduit 14 and a double-pipe heat exchanger 4, and is connected from the conduit 15 to a known pure water production apparatus (not shown).

なお、前述していない21.23〜27は、前後の構成
装置を接続する内面が電解研磨された5US316Lか
らなる導管であり、22.28は、前記導管23.27
に埋め込まれた圧力検知端で、イオン交換装置3と濾過
装置7の目づまりの程度を知るため、その二次側圧力信
号を圧力コントローラ30に伝えるためのものである。
Note that 21.23 to 27 not mentioned above are conduits made of 5US316L whose inner surfaces are electropolished and connect the front and rear components, and 22.28 is the conduit 23.27.
This is a pressure sensing end embedded in the ion exchanger 3 and the filtration device 7 to transmit a secondary side pressure signal to the pressure controller 30 in order to determine the degree of clogging of the ion exchange device 3 and the filtration device 7.

次に、濾過装置7の構造を第2図および第3図を用いて
更に具体的に説明する。
Next, the structure of the filtering device 7 will be explained in more detail with reference to FIGS. 2 and 3.

第2図は、濾過装置7の縦断面図であり、71は、内外
層の両面に焼結′a層が形成された外径1omm、内径
6mm、長さ600mmの円筒型セラミック管(東し株
式会社製セラミック膜TAZ型)であり、直径250m
m、長さ900mmの5US316L製の円筒型容器7
2に90本(外層面の濾過面積は1.7m2)が収納さ
れている。そして、シェル側とチューブ側とは、円筒型
セラミック管71の両端にOリングが嵌挿されことによ
り相互に水密を保っている。このOリングの材質は、シ
リコンゴム製でおり、予め100℃の熱水による抽出で
溶出物質を除去して必る。また、73は、熱純水の導入
口、74は、熱純水のブロー口、75は、導入ロア3か
ら流入した熱純水が円筒型セラミック管71の管壁を透
過することにより熱超純水となった精製水を取り出すた
めの熱超純水の取水口である。
FIG. 2 is a longitudinal cross-sectional view of the filtration device 7, and 71 is a cylindrical ceramic tube (east side) with an outer diameter of 1 om, an inner diameter of 6 mm, and a length of 600 mm, with sintered 'a layers formed on both the inner and outer layers. Ceramic membrane TAZ type manufactured by Co., Ltd.) with a diameter of 250 m.
Cylindrical container 7 made of 5US316L with a length of 900 mm
2 contains 90 filters (the filtration area of the outer layer is 1.7 m2). The shell side and the tube side are kept watertight from each other by fitting O-rings into both ends of the cylindrical ceramic tube 71. The material of this O-ring is silicone rubber, and eluted substances must be removed by extraction with hot water at 100° C. in advance. Further, 73 is a hot pure water introduction port, 74 is a hot pure water blowing port, and 75 is a hot pure water inlet where the hot pure water that has flowed in from the introduction lower 3 passes through the wall of the cylindrical ceramic tube 71. This is a hot ultrapure water intake for taking out purified water.

第3図は、円筒型セラミック管71の管壁部の縦断面図
でおり、図の上方が管外、下方が管内方向である。
FIG. 3 is a longitudinal sectional view of the tube wall of the cylindrical ceramic tube 71, with the upper side of the figure being outside the tube and the lower side being inside the tube.

図において、76は、平均粒子径2〜10μmの金属酸
化物微粒子の焼結体層でおり、その上部には、更に前記
金属酸化物微粒子76と、平均粒子径0.03〜0.1
0μmの金属酸化物微粒子77との多孔質焼結層78が
形成されている。そして、この金属酸化物微粒子76と
、多孔質焼結層7Bとで多孔質支持材79が形成されて
いる。
In the figure, 76 is a sintered body layer of metal oxide fine particles with an average particle size of 2 to 10 μm, and on top of the sintered body layer, the metal oxide fine particles 76 and an average particle size of 0.03 to 0.1 μm are formed.
A porous sintered layer 78 is formed with metal oxide fine particles 77 of 0 μm. A porous support material 79 is formed by the metal oxide fine particles 76 and the porous sintered layer 7B.

更に、多孔質支持材79の表層部には、平均粒子径0.
002〜0.01μmの金属酸化物の多孔質焼結層から
なる躍層80が形成されている。この躍層80は、多孔
質支持材79の表面にのみに存在しているのではなく、
多孔質焼結層78にまで延びている。このように多孔質
焼結層78と濾層80とが絡み合って結合しているため
′fj1層80は安定しており、熱純水を管内側から管
外側へ透過しても剥離しない。
Furthermore, the surface layer portion of the porous support material 79 has an average particle size of 0.
A cline 80 made of a porous sintered layer of metal oxide with a thickness of 0.02 to 0.01 μm is formed. This cline 80 does not exist only on the surface of the porous support material 79;
It extends to the porous sintered layer 78. Since the porous sintered layer 78 and the filter layer 80 are intertwined and bonded together in this way, the 'fj1 layer 80 is stable and does not peel off even when hot pure water passes from the inside of the tube to the outside of the tube.

このように濾層80が多孔質支持材79の一面にだけ存
在する時は、純水中の微粒子、TOC1金属イオンなど
が、支持材の空隙に蓄積する場合がある。従って、好ま
しくは多孔質支持材79の両面にm1aoが形成されて
いるのがよい。
When the filter layer 80 exists only on one surface of the porous support material 79 as described above, fine particles in pure water, TOC1 metal ions, etc. may accumulate in the voids of the support material. Therefore, preferably m1ao is formed on both sides of the porous support material 79.

このような円筒型セラミック管71によれば、熱純水に
接する側の多孔質焼結層79で熱純水中の微粒子、TO
C1金属イオン、微粒子、溶解物などを濾過するが、多
孔質焼結層79に何らかの欠陥が生じて異物の流入があ
っても、濾層80で濾過できる二重の分離機能を持つ特
徴がある。
According to such a cylindrical ceramic tube 71, the fine particles and TO in the hot pure water are removed by the porous sintered layer 79 on the side in contact with the hot pure water.
It filters C1 metal ions, fine particles, dissolved substances, etc., but even if some defect occurs in the porous sintered layer 79 and foreign matter flows in, it has a dual separation function that allows it to be filtered by the filter layer 80. .

次に、この様に構成されたこの発明の装置の作用を、更
に第1図を用いて説明する。
Next, the operation of the apparatus of the present invention constructed in this manner will be further explained with reference to FIG.

図の左側矢印方向から、公知の前処理装置で処理された
比抵抗17MΩ・cm、微粒子数1000個/d以下、
生菌数1000個/d以下、水圧2゜5〜3.5kL’
CI?t、G、温度20〜30℃程度の原水が前処理装
置の図示しないポンプで原水の導入管1、ダイヤフラム
弁2を経て、イオン交換装置3に供給されると、ここで
イオン交換繊維の精製作用により原水のイオン交換がな
され、処理水の比抵抗が向上して18.2MΩ−cm程
度となる。
From the direction of the arrow on the left side of the figure, resistivity 17 MΩ・cm, number of fine particles 1000 particles/d or less, treated with a known pretreatment device,
Number of viable bacteria 1000 cells/d or less, water pressure 2°5-3.5kL'
CI? When raw water at a temperature of about 20 to 30°C is supplied to the ion exchange equipment 3 via the raw water introduction pipe 1 and the diaphragm valve 2 by a pump (not shown) of the pretreatment equipment, the ion exchange fibers are purified here. The action causes ion exchange of the raw water, and the specific resistance of the treated water improves to about 18.2 MΩ-cm.

この処理水は、導管23を経て二重管式熱交換器4に通
水され、ここで温度30〜60’C程度に、導管14か
ら流入される余剰熱純水又は余剰熱超純水により予熱さ
れる。予熱された処理水は、導管23を経て2台の加熱
装置5A、5Bに通水されるが、まず第1段目の加熱装
置5Aで規定温度50〜80℃に昇温され、更に、第2
段目の加熱装置5Bで本実施例の最終温度である60〜
95℃程度に昇温される。これらの規定温度は、それぞ
れ温度検知端6A、6B、温度コントローラ29とで制
御される。
This treated water is passed through the conduit 23 to the double-pipe heat exchanger 4, where the temperature is raised to about 30 to 60'C by excess hot pure water or surplus hot ultrapure water flowing in from the conduit 14. Preheated. The preheated treated water is passed through the conduit 23 to the two heating devices 5A and 5B. First, the first stage heating device 5A raises the temperature to a specified temperature of 50 to 80°C, and then 2
The final temperature of this example is 60~ in the heating device 5B of the third stage.
The temperature is raised to about 95°C. These specified temperatures are controlled by temperature sensing terminals 6A, 6B and temperature controller 29, respectively.

次に、加熱された熱純水は、導管26を経て濾過装@7
に通水され、ここで通水流量のうち約9O%が本装置で
濾過されるが、その過程でセラミック膜の作用により、
処理水質が粒径0.05μm以上の微粒子数1個/ml
以下、TOolog)pb以下、生菌数0.1個/d以
下に上げられ、この熱超純水製造装置における熱超純水
としての最終水質が達成される。
Next, the heated hot pure water passes through the conduit 26 to the filtration device @7.
Approximately 90% of the water flow is filtered by this device, but in the process, due to the action of the ceramic membrane,
The number of fine particles with a particle size of 0.05 μm or more in the treated water is 1/ml
Hereinafter, the number of viable bacteria is raised to less than TOolog) pb and less than 0.1 cells/d, and the final water quality as thermal ultrapure water in this thermal ultrapure water production apparatus is achieved.

一方、セラミック膜を通過しない熱純水は、セラミック
膜の濾過性能を確保するため、その流量がダイヤフラム
弁10と、流量計11とで約10%に設定されて、ブロ
ー管8、導管12,13゜14.15を経て前記前処理
装置に還元される。
On the other hand, the flow rate of hot pure water that does not pass through the ceramic membrane is set to approximately 10% by the diaphragm valve 10 and the flow meter 11 in order to ensure the filtration performance of the ceramic membrane. 13°14.15 and is returned to the pretreatment device.

また、熱超純水がユースポイントで全量使用されず、余
剰熱超純水が発生した場合は、温度コントローラ29か
らの指示で三方自動弁17の弁開度が調整され、余剰熱
超純水は、導管20.14を経て前記二重管式熱交換器
4に戻され、排熱回収用水として利用される。
In addition, if the entire amount of hot ultrapure water is not used at the point of use and surplus hot ultrapure water is generated, the valve opening degree of the three-way automatic valve 17 is adjusted according to instructions from the temperature controller 29, and the surplus hot ultrapure water is The water is returned to the double-pipe heat exchanger 4 through the conduit 20.14 and used as waste heat recovery water.

また、圧力検知端9.22.28での規定圧力はそれぞ
れ3 、5 kg/cri、G、2.5kMcff1.
G、0゜5〜2.0kC1/cff1.Gに設定されて
おり、圧力コントローラ30は常時これらの圧力を監視
している。
Moreover, the specified pressures at the pressure detection ends 9, 22, and 28 are 3, 5 kg/cri, G, and 2.5 kMcff1, respectively.
G, 0°5~2.0kC1/cff1. G, and the pressure controller 30 constantly monitors these pressures.

ここで各圧力検知端9.22.28と三方自動弁17と
はインターロックされており、イオン交換装置3のイオ
ン交換繊維、濾過装置7のセラミック膜などが異物の詰
まりにより濾過性能の低下を招き、イオン交換装置3の
二次側圧力の低下、濾過装置7の一時側圧力の上昇、ユ
ースポイントへの熱超純水の通水圧力の低下などのトラ
ブルが生じると、圧力コントローラ30は直ちに警報信
号を発すると共′に、三方自動弁17を閉止してユース
ポイントへの給水を停止する。
Here, each pressure detection end 9, 22, 28 and the three-way automatic valve 17 are interlocked, and the ion exchange fiber of the ion exchange device 3, the ceramic membrane of the filtration device 7, etc. are prevented from deteriorating the filtration performance due to clogging with foreign matter. If a problem occurs, such as a drop in the secondary side pressure of the ion exchange device 3, a rise in the temporary side pressure of the filtration device 7, or a drop in the pressure of flowing hot ultrapure water to the point of use, the pressure controller 30 immediately At the same time as issuing an alarm signal, the three-way automatic valve 17 is closed to stop water supply to the point of use.

上記のように溝、成された本実施例装置に対し、処理条
件を送水圧力3.5kL/CIi、G、 i!!過1置
7の二次側圧力0.5kCI/CIA、G、セラミック
膜透過流量を90%、加熱装置5A、5Bの設定温度を
それぞれ60℃、95℃に設定して、前処理装置で処理
された原水を12.1/分で供給したところ、94.5
℃の熱超純水が11rLZ分の流量で1qられた。
For the apparatus of this embodiment having the grooves as described above, the processing conditions were as follows: water supply pressure: 3.5 kL/CIi, G, i! ! The secondary side pressure of 0.5 kCI/CIA, G, ceramic membrane permeation flow rate of 90%, and the set temperatures of heating devices 5A and 5B were set to 60°C and 95°C, respectively, and the treatment was performed with the pretreatment equipment. When the raw water was supplied at a rate of 12.1/min, the rate was 94.5
1 q of hot ultrapure water at ℃ was added at a flow rate of 11 rLZ.

なお、この熱純水の供給水質は、比抵抗が18゜OMΩ
−cmXO,05μm以上の微粒子数が30個/m!、
丁OCが40ppbであったが、濾過装置7を透過した
熱超純水の水質は、比抵抗が18゜2MΩ・cmSo、
05μm以上の微粒子数が1個/d、TOCが1opp
bであった。
In addition, the quality of the supplied hot pure water has a specific resistance of 18゜OMΩ.
-cmXO, the number of particles larger than 05 μm is 30 pieces/m! ,
Although the OC was 40 ppb, the quality of the hot ultrapure water that passed through the filtration device 7 had a specific resistance of 18°2MΩcmSo,
Number of particles larger than 0.05μm is 1/d, TOC is 1opp
It was b.

一方、セラミック膜を通過しない1.1/分の熱純水は
、ブロー管8から熱交換器4を経て前記前処理装置へ還
元した。
On the other hand, the 1.1/min hot pure water that did not pass through the ceramic membrane was returned to the pretreatment device via the blow tube 8 and the heat exchanger 4.

この実施例装置によれば、装置内に送水ポンプを特別に
設ける必要がないので、ポンプインペラの回転、軸受部
の摺動などによる熱超純水への微粒子の混入がない。
According to the device of this embodiment, there is no need to specifically provide a water pump in the device, so there is no mixing of fine particles into the hot ultrapure water due to rotation of the pump impeller, sliding of the bearing, etc.

また、加熱装置5A、5Bを多段分割して加熱装置1段
当りの純水の昇温幅を小さく設定しているので、急激な
加熱が防止され、加熱装置からのイオン成分の溶出が少
なく、昇温時間の短縮も図れるという特有の効果がある
In addition, since the heating devices 5A and 5B are divided into multiple stages and the heating range of pure water per stage of the heating device is set small, rapid heating is prevented, and elution of ionic components from the heating device is reduced. It has the unique effect of shortening the temperature rise time.

次に、第4図は、本発明の熱超純水製造装置の他の実施
例を示すフローシートである。
Next, FIG. 4 is a flow sheet showing another embodiment of the thermal ultrapure water production apparatus of the present invention.

この装置が第1図で示した熱超純水製造装置と異なる点
は、導管26の管路中に流量コントローラ31の指示に
より、ユースポイントでの熱超純水の消費量に応じた流
量だけを濾過装置7へ通過するように開閉する三方自動
弁17と、この弁と前記導管14とを接続する導管32
を設けたことである。このようにすればユースポイント
で必要とする熱超純水量のみが濾過装置7のセラミック
膜を通過して熱超純水となるため、セラミック膜に余計
な濾過負担をかけずに済み、セラミック膜の性能が安定
し、しかも濾過装置7とユースポイントとの間に不純物
の混入原因となる部材が少なくなるので、清浄な熱超純
水が得られるという特有の効果がある。
The difference between this device and the hot ultrapure water production device shown in FIG. a three-way automatic valve 17 that opens and closes to allow the water to pass through to the filtration device 7; and a conduit 32 connecting this valve and the conduit 14.
This is because we have established the following. In this way, only the amount of hot ultrapure water required at the point of use passes through the ceramic membrane of the filtration device 7 and becomes hot ultrapure water, so there is no need to place unnecessary filtration burden on the ceramic membrane. The unique effect is that clean hot ultrapure water can be obtained because the performance of the system is stable, and there are fewer parts between the filtration device 7 and the point of use that can cause impurities to be mixed in.

[発明の効果] この発明の装置は、イオン交換装置の他に加熱装置と熱
超純水の供給管との間、すなわち、熱超純水製造装置の
最終段に、TOCの溶出がなく、かつ無機物の溶出もな
い安定したセラミック膜が収納された濾過装置を設けた
ので、比抵抗の向上とTOCの低減が図れると共に、濾
過装置よりも前に配置されたイオン交換装置、加熱装置
、接続管などから発生する微粒子、ゴミ、異物などを最
終的に除去することができる。
[Effects of the Invention] In addition to the ion exchange device, the device of the present invention does not elute TOC between the heating device and the hot ultrapure water supply pipe, that is, in the final stage of the hot ultrapure water production device. In addition, the filtration device is equipped with a stable ceramic membrane that does not elute inorganic substances, improving specific resistance and reducing TOC. It can ultimately remove particles, dirt, foreign matter, etc. generated from pipes, etc.

また、加熱装置後部の濾過装置には耐熱性のあるセラミ
ック膜を用いたので、60〜95°C程度の従来は不可
能であった高温の熱超純水が容易に得られると共に、滅
菌も効果的になすことができる。
In addition, since a heat-resistant ceramic membrane is used in the filtration device at the rear of the heating device, hot ultrapure water at a high temperature of 60 to 95°C, which was previously impossible, can be easily obtained, and sterilization is also possible. can be done effectively.

゛ 更に、余剰熱超純水のリサイクル管、熱交換器など
を設けたので、排熱回収が可能となると共に、無駄なく
熱超純水を利用することができる。
゛Furthermore, a recycling pipe for excess hot ultrapure water, a heat exchanger, etc. are installed, making it possible to recover waste heat and making use of hot ultrapure water without waste.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は、本発明に係る熱超純水製造装置の一実施例を
示すフローシート、第2図は、第1図の濾過装置の縦断
面図、第3図は、第2図に示した円筒型セラミック管の
要部縦断面図でおる。 第4図は、第1図の装置とは異なる態様の本発明に係る
熱超純水製造装置のフローシートでおる。 1:原水の導入管 2:ダイヤフラム弁 3:イオン交換装置 4:二重管式熱交換器 5A、5B:加熱装置 6A、6B:温度検知端 7:濾過装置 8ニブロー管 10:ダイヤフラム弁 11:流量計 12〜15.18〜21.23〜27.32:導管 16:水質′計 17:三方自動弁 9.22.28:圧力検知端 29:温度コントローラ 30:圧力コントローラ 31:流量コントローラ
FIG. 1 is a flow sheet showing an embodiment of the thermal ultrapure water production apparatus according to the present invention, FIG. 2 is a longitudinal cross-sectional view of the filtration device shown in FIG. 1, and FIG. 1 is a vertical cross-sectional view of a main part of a cylindrical ceramic tube. FIG. 4 is a flow sheet of a thermal ultrapure water production apparatus according to the present invention, which is different from the apparatus shown in FIG. 1: Raw water introduction pipe 2: Diaphragm valve 3: Ion exchange device 4: Double pipe heat exchanger 5A, 5B: Heating device 6A, 6B: Temperature sensing end 7: Filtration device 8 Niblow tube 10: Diaphragm valve 11: Flowmeter 12-15.18-21.23-27.32: Conduit 16: Water quality meter 17: Three-way automatic valve 9.22.28: Pressure detection end 29: Temperature controller 30: Pressure controller 31: Flow rate controller

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)(イ)原水の導入管と、 (ロ)前記原水を受け入れて純水とするためのイオン交
換繊維が収納されたイオン交換装置と、 (ハ)前記純水を加熱して熱純水とするための加熱装置
と、 (ニ)前記熱純水の精製度を更に上げて、熱超純水とす
るためのセラミック膜が収納された濾過装置と、 (ホ)前記各装置を相互に接続する接続管と、 (ヘ)前記濾過装置からユースポイントへ前記熱超純水
を供給するための供給管と、 (ト)該供給管から分岐され、前記導入管または前記接
続管に接続された、熱超純水をリサイクルさせるための
リサイクル管と、 を備えた熱超純水製造装置。
(1) (B) An inlet pipe for raw water; (B) An ion exchange device containing ion exchange fibers for receiving the raw water and converting it into pure water; (C) Heat purifying the pure water by heating it. (d) A filtration device containing a ceramic membrane for further increasing the degree of purification of the thermally pure water and converting it into thermal ultrapure water; and (e) mutually interconnecting each of the devices. (f) a supply pipe for supplying the hot ultrapure water from the filtration device to the point of use; (g) branched from the supply pipe and connected to the introduction pipe or the connection pipe; A thermal ultrapure water production device equipped with a recycling pipe for recycling the thermal ultrapure water that has been produced.
(2)(イ)原水の導入管と、 (ロ)前記原水を受け入れて純水とするためのイオン交
換繊維が収納されたイオン交換装置と、 (ハ)前記純水を加熱して熱純水とするための加熱装置
と、 (ニ)前記熱純水の精製度を更に上げて、熱超純水とす
るためのセラミック膜が収納された濾過装置と、 (ホ)前記各装置を相互に接続する接続管と、 (ヘ)前記接続管の少なくとも一つに介在された熱交換
器と、 (ト)前記濾過装置からユースポイントへ前記熱超純水
を供給するための供給管と、 (チ)該供給管から分岐され、前記熱交換器に接続され
た、熱超純水をリサイクルさせるためのリサイクル管と
、 を備えた熱超純水製造装置。
(2) (a) an inlet pipe for raw water; (b) an ion exchange device containing ion exchange fibers for receiving the raw water and converting it into pure water; and (c) heating the pure water to thermally purify it. (d) a filtration device containing a ceramic membrane for further increasing the degree of purification of the thermally pure water and converting it into thermal ultrapure water; and (e) interconnecting each of the devices. (f) a heat exchanger interposed in at least one of the connecting pipes; (g) a supply pipe for supplying the hot ultrapure water from the filtration device to the point of use; (H) A recycling pipe for recycling the hot ultrapure water, which is branched from the supply pipe and connected to the heat exchanger.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013506249A (en) * 2009-09-25 2013-02-21 エンバイロ コリア カンパニー リミテッド Ionization generation tube and ionization generation apparatus provided with the same
WO2023100443A1 (en) * 2021-12-03 2023-06-08 栗田工業株式会社 Warm ultrapure water production device

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60261585A (en) * 1984-06-07 1985-12-24 Kubota Ltd Manufacture of extremely pure water
JPS62136204U (en) * 1986-02-24 1987-08-27
JPS634808A (en) * 1986-06-24 1988-01-09 Takuma Co Ltd Reverse-osmosis membrane device system

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60261585A (en) * 1984-06-07 1985-12-24 Kubota Ltd Manufacture of extremely pure water
JPS62136204U (en) * 1986-02-24 1987-08-27
JPS634808A (en) * 1986-06-24 1988-01-09 Takuma Co Ltd Reverse-osmosis membrane device system

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013506249A (en) * 2009-09-25 2013-02-21 エンバイロ コリア カンパニー リミテッド Ionization generation tube and ionization generation apparatus provided with the same
WO2023100443A1 (en) * 2021-12-03 2023-06-08 栗田工業株式会社 Warm ultrapure water production device

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