JPH01245025A - 芳香族ポリアミドイミド樹脂 - Google Patents
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- 239000011347 resin Substances 0.000 title claims abstract description 25
- 229920005989 resin Polymers 0.000 title claims abstract description 25
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 title claims abstract description 18
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 title claims abstract description 18
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 title claims description 12
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 12
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 6
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims abstract description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 10
- ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N trimellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- YDYSEBSNAKCEQU-UHFFFAOYSA-N 2,3-diamino-n-phenylbenzamide Chemical class NC1=CC=CC(C(=O)NC=2C=CC=CC=2)=C1N YDYSEBSNAKCEQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- -1 tricarboxylic acid compounds Chemical class 0.000 description 10
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 6
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 6
- KZTYYGOKRVBIMI-UHFFFAOYSA-N diphenyl sulfone Chemical compound C=1C=CC=CC=1S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 KZTYYGOKRVBIMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 5
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 4
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JTERLNYVBOZRHI-RIIGGKATSA-N [(2r)-3-[2-aminoethoxy(hydroxy)phosphoryl]oxy-2-[(5e,8e,11e,14e)-icosa-5,8,11,14-tetraenoyl]oxypropyl] (5e,8e,11e,14e)-icosa-5,8,11,14-tetraenoate Chemical compound CCCCC\C=C\C\C=C\C\C=C\C\C=C\CCCC(=O)OC[C@H](COP(O)(=O)OCCN)OC(=O)CCC\C=C\C\C=C\C\C=C\C\C=C\CCCCC JTERLNYVBOZRHI-RIIGGKATSA-N 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 3
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 3
- 150000000000 tetracarboxylic acids Chemical class 0.000 description 3
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 3
- SXGMVGOVILIERA-UHFFFAOYSA-N (2R,3S)-2,3-diaminobutanoic acid Natural products CC(N)C(N)C(O)=O SXGMVGOVILIERA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 4-Aminophenyl ether Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 2
- 239000012433 hydrogen halide Substances 0.000 description 2
- 229910000039 hydrogen halide Inorganic materials 0.000 description 2
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 2
- CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N pyromellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(C(O)=O)=C(C(O)=O)C=C1C(O)=O CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- SRPWOOOHEPICQU-UHFFFAOYSA-N trimellitic anhydride Chemical group OC(=O)C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 SRPWOOOHEPICQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GGAUUQHSCNMCAU-ZXZARUISSA-N (2s,3r)-butane-1,2,3,4-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C[C@H](C(O)=O)[C@H](C(O)=O)CC(O)=O GGAUUQHSCNMCAU-ZXZARUISSA-N 0.000 description 1
- NSGXIBWMJZWTPY-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane Chemical compound FC(F)(F)CC(F)(F)F NSGXIBWMJZWTPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VITYLMJSEZETGU-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3,4,4,5,5-decafluoro-n,n'-diphenylpentane-1,5-diamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)NC1=CC=CC=C1 VITYLMJSEZETGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLTHXLWCVUJTFW-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3,4,4-octafluoro-n,n'-diphenylbutane-1,4-diamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)NC1=CC=CC=C1 JLTHXLWCVUJTFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMMYYBOQOTWQTD-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3-hexafluoro-n,n'-diphenylpropane-1,3-diamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)NC1=CC=CC=C1 UMMYYBOQOTWQTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRMDXTVKVHKWEK-UHFFFAOYSA-N 1,2-diaminoanthracene-9,10-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=C(N)C(N)=CC=C3C(=O)C2=C1 LRMDXTVKVHKWEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 1,3-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC(N)=C1 WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 1,4-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=C(N)C=C1 CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKTUQAYCCLMNOA-UHFFFAOYSA-N 2,3-diaminobenzoic acid Chemical compound NC1=CC=CC(C(O)=O)=C1N KKTUQAYCCLMNOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YUZSJKBFHATJHV-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[2-[4-(2-aminophenoxy)phenyl]-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl]phenoxy]aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1OC1=CC=C(C(C=2C=CC(OC=3C(=CC=CC=3)N)=CC=2)(C(F)(F)F)C(F)(F)F)C=C1 YUZSJKBFHATJHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJKVZDOEWYNQIO-UHFFFAOYSA-N 2-chlorobenzene-1,3-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1Cl NJKVZDOEWYNQIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZPXGNBIFHQKREO-UHFFFAOYSA-N 2-chloroterephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(Cl)=C1 ZPXGNBIFHQKREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRBJSXQPQWSCCF-UHFFFAOYSA-N 3,3'-Dimethoxybenzidine Chemical compound C1=C(N)C(OC)=CC(C=2C=C(OC)C(N)=CC=2)=C1 JRBJSXQPQWSCCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NUIURNJTPRWVAP-UHFFFAOYSA-N 3,3'-Dimethylbenzidine Chemical compound C1=C(N)C(C)=CC(C=2C=C(C)C(N)=CC=2)=C1 NUIURNJTPRWVAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZBMISJGHVWNWTE-UHFFFAOYSA-N 3-(4-aminophenoxy)aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=CC(N)=C1 ZBMISJGHVWNWTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSSYVKMJJLDTKZ-UHFFFAOYSA-N 3-phenylphthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1C(O)=O HSSYVKMJJLDTKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 4,4'-diaminodiphenylmethane Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1CC1=CC=C(N)C=C1 YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- INSQMADOBZFAJV-UHFFFAOYSA-N 4,4-diamino-n-phenylcyclohexa-1,5-diene-1-carboxamide Chemical compound C1=CC(N)(N)CC=C1C(=O)NC1=CC=CC=C1 INSQMADOBZFAJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWOLORXQTIGHFX-UHFFFAOYSA-N 4-(4-amino-2,3,5,6-tetrafluorophenyl)-2,3,5,6-tetrafluoroaniline Chemical compound FC1=C(F)C(N)=C(F)C(F)=C1C1=C(F)C(F)=C(N)C(F)=C1F FWOLORXQTIGHFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYIMZXITLDTULQ-UHFFFAOYSA-N 4-(4-amino-2-methylphenyl)-3-methylaniline Chemical compound CC1=CC(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C=C1C QYIMZXITLDTULQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GEYAGBVEAJGCFB-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(3,4-dicarboxyphenyl)propan-2-yl]phthalic acid Chemical compound C=1C=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 GEYAGBVEAJGCFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZYEDGEXYGKWJPB-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-aminophenyl)propan-2-yl]aniline Chemical compound C=1C=C(N)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(N)C=C1 ZYEDGEXYGKWJPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCRRFJIVUPSNTA-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-aminophenoxy)phenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC(C=C1)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 JCRRFJIVUPSNTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HBLYIUPUXAWDMA-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[2-[4-(4-aminophenoxy)-3,5-bis(trifluoromethyl)phenyl]-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl]-2,6-bis(trifluoromethyl)phenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=C(C(F)(F)F)C=C(C(C=2C=C(C(OC=3C=CC(N)=CC=3)=C(C=2)C(F)(F)F)C(F)(F)F)(C(F)(F)F)C(F)(F)F)C=C1C(F)(F)F HBLYIUPUXAWDMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VCFYKCXKADGLPS-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[2-[4-(4-aminophenoxy)-3,5-dimethylphenyl]-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl]-2,6-dimethylphenoxy]aniline Chemical compound CC1=CC(C(C=2C=C(C)C(OC=3C=CC(N)=CC=3)=C(C)C=2)(C(F)(F)F)C(F)(F)F)=CC(C)=C1OC1=CC=C(N)C=C1 VCFYKCXKADGLPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HHLMWQDRYZAENA-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[2-[4-(4-aminophenoxy)phenyl]-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl]phenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(C(C=2C=CC(OC=3C=CC(N)=CC=3)=CC=2)(C(F)(F)F)C(F)(F)F)C=C1 HHLMWQDRYZAENA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N Acetaminophen Chemical compound CC(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L Calcium chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Ca+2] UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- MQJKPEGWNLWLTK-UHFFFAOYSA-N Dapsone Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(N)C=C1 MQJKPEGWNLWLTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N Phosgene Chemical compound ClC(Cl)=O YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- RSWGJHLUYNHPMX-ONCXSQPRSA-N abietic acid Chemical compound C([C@@H]12)CC(C(C)C)=CC1=CC[C@@H]1[C@]2(C)CCC[C@@]1(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-ONCXSQPRSA-N 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- HFACYLZERDEVSX-UHFFFAOYSA-N benzidine Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C=C1 HFACYLZERDEVSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910001628 calcium chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001110 calcium chloride Substances 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- UKJLNMAFNRKWGR-UHFFFAOYSA-N cyclohexatrienamine Chemical group NC1=CC=C=C[CH]1 UKJLNMAFNRKWGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STZIXLPVKZUAMV-UHFFFAOYSA-N cyclopentane-1,1,2,2-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1(C(O)=O)CCCC1(C(O)=O)C(O)=O STZIXLPVKZUAMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 229940018564 m-phenylenediamine Drugs 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- NOUUUQMKVOUUNR-UHFFFAOYSA-N n,n'-diphenylethane-1,2-diamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1NCCNC1=CC=CC=C1 NOUUUQMKVOUUNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBKARQMATMRWQZ-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2,5,6-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C=CC2=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C21 OBKARQMATMRWQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KYTZHLUVELPASH-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound C1=CC=CC2=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C21 KYTZHLUVELPASH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DSCIZKMHZPGBNI-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,3,5,8-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C2=CC(C(=O)O)=CC(C(O)=O)=C21 DSCIZKMHZPGBNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KQSABULTKYLFEV-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,5-diamine Chemical compound C1=CC=C2C(N)=CC=CC2=C1N KQSABULTKYLFEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOBFTMLCEYUAQC-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,3,6,7-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C=C2C=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC2=C1 DOBFTMLCEYUAQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- FVDOBFPYBSDRKH-UHFFFAOYSA-N perylene-3,4,9,10-tetracarboxylic acid Chemical group C=12C3=CC=C(C(O)=O)C2=C(C(O)=O)C=CC=1C1=CC=C(C(O)=O)C2=C1C3=CC=C2C(=O)O FVDOBFPYBSDRKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DYFXGORUJGZJCA-UHFFFAOYSA-N phenylmethanediamine Chemical compound NC(N)C1=CC=CC=C1 DYFXGORUJGZJCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 229920005575 poly(amic acid) Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 239000005297 pyrex Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 230000000930 thermomechanical effect Effects 0.000 description 1
- 150000003628 tricarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- ILWRPSCZWQJDMK-UHFFFAOYSA-N triethylazanium;chloride Chemical compound Cl.CCN(CC)CC ILWRPSCZWQJDMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、低熱膨張性の芳香族ポリアミドイミド樹脂に
係る。
係る。
[従来の技術]
従来、芳香族ポリアミドイミド樹脂は、トリカルボン酸
化合物とジアミン化合物により合成され、電線被覆ワニ
ス等に用いられているが、線膨張係数が大きく、種々の
無機材と複合して用いる場合、熱間時に線膨張係数の差
による歪みを生じるという問題があり、その用途が制限
されていた。
化合物とジアミン化合物により合成され、電線被覆ワニ
ス等に用いられているが、線膨張係数が大きく、種々の
無機材と複合して用いる場合、熱間時に線膨張係数の差
による歪みを生じるという問題があり、その用途が制限
されていた。
一方、低熱膨張性樹脂としは、ポリイミド樹脂が提案さ
れている(特開昭60−157.286@公報、特開昭
60−243.120号公報等)が、その原料が高価で
あるという問題であった。
れている(特開昭60−157.286@公報、特開昭
60−243.120号公報等)が、その原料が高価で
あるという問題であった。
[発明が解決しようとする課題]
本発明の目的は、機械的特性、吸水性等の緒特性を低下
させることなく、熱膨張係数を低下させた新規な芳香族
ポリアミドイミド樹脂を提供することにある。
させることなく、熱膨張係数を低下させた新規な芳香族
ポリアミドイミド樹脂を提供することにある。
[課題を解決するための手段」
すなわち、本発明は、下記一般式(1)(但し、Aは下
記に示す2価の芳香族残基を表し、R1及びR2はハロ
ゲン、低級アルキル基及び低級アルコキシ基から選択さ
れたいずれかの基であって互いに同じであっても異って
いてもよく、少なくとも1つはアルコキシ基であり、m
及びnはO〜4の整数である)で表される単位構造を有
する芳香族ポリアミドイミド樹脂である。
記に示す2価の芳香族残基を表し、R1及びR2はハロ
ゲン、低級アルキル基及び低級アルコキシ基から選択さ
れたいずれかの基であって互いに同じであっても異って
いてもよく、少なくとも1つはアルコキシ基であり、m
及びnはO〜4の整数である)で表される単位構造を有
する芳香族ポリアミドイミド樹脂である。
本発明の芳香族ポリアミドイミド樹脂は、トリメトリッ
ト酸又はその誘導体と下記一般式(3)(但し、式中R
1及びR2はハロゲン、低級アルキル基及び低級アルコ
キシ基から選択されたいずれかの基であって互いに同じ
であっても異っていて−しよく、少なくとも1つはアル
コキシ基であり、m及びnはO〜4の整数である)で表
されるジアミノベンズアニリド誘導体との反応によって
得られる。
ト酸又はその誘導体と下記一般式(3)(但し、式中R
1及びR2はハロゲン、低級アルキル基及び低級アルコ
キシ基から選択されたいずれかの基であって互いに同じ
であっても異っていて−しよく、少なくとも1つはアル
コキシ基であり、m及びnはO〜4の整数である)で表
されるジアミノベンズアニリド誘導体との反応によって
得られる。
トリメリット酸誘導体とは、無水トリメリット酸又は無
水トリメトリット酸ハライドであり、合成上の容易さや
安価である点から、無水トリメリット酸クロイドである
。
水トリメトリット酸ハライドであり、合成上の容易さや
安価である点から、無水トリメリット酸クロイドである
。
ジアミノベンズアニリド誘導体としては、ハロゲン、低
級アルキル基、低級アルコキシ基等の種々の置換基をと
り得るが、アルキル基及びアルコキシ基としては、耐熱
性の点から炭素数10以下のものがよい。
級アルキル基、低級アルコキシ基等の種々の置換基をと
り得るが、アルキル基及びアルコキシ基としては、耐熱
性の点から炭素数10以下のものがよい。
本発明で使用するジアミノベンズアニリド誘導体は、少
なくとも1個の低級アルコキシ基を有するものであるが
、このアルコキシ基としては好ましくはメトキシ基ある
いはエトキシ基であり、さらに好ましくは、合成上の容
易な点等からくは、 合成反応は、通常、N−メチルピロリドン(N)IP)
、ジメチルホルムアミド(D)IF)、ジメチルアセト
アミド(DHAc) 、ヘキサメヂルフォスホアミド(
88PA)等の非プロトン性極性溶媒中で0〜200℃
、好ましくは0〜100℃の範囲で行なわれる。
なくとも1個の低級アルコキシ基を有するものであるが
、このアルコキシ基としては好ましくはメトキシ基ある
いはエトキシ基であり、さらに好ましくは、合成上の容
易な点等からくは、 合成反応は、通常、N−メチルピロリドン(N)IP)
、ジメチルホルムアミド(D)IF)、ジメチルアセト
アミド(DHAc) 、ヘキサメヂルフォスホアミド(
88PA)等の非プロトン性極性溶媒中で0〜200℃
、好ましくは0〜100℃の範囲で行なわれる。
これらの溶媒中で、上記一般式に対応するジアミン化合
物とトリメリット酸又はその誘導体とをほぼ等モル混合
して反応させることにより芳香族ポリアミドイミド前駆
体樹脂が得られる。
物とトリメリット酸又はその誘導体とをほぼ等モル混合
して反応させることにより芳香族ポリアミドイミド前駆
体樹脂が得られる。
この際に、無水トリメリット酸ハライドを使用するとハ
ロゲン化水素が生成するが、減圧下に除去したり、また
、三級アミン化合物や炭酸塩等の脱酸剤を併用してもよ
い。また、上記ハロゲン化水素塩を除去する目的で、−
口承中に再沈して洗浄後、再び溶解して成形してもよい
。
ロゲン化水素が生成するが、減圧下に除去したり、また
、三級アミン化合物や炭酸塩等の脱酸剤を併用してもよ
い。また、上記ハロゲン化水素塩を除去する目的で、−
口承中に再沈して洗浄後、再び溶解して成形してもよい
。
本発明の芳香族ポリアミドイミド樹脂は、通常このにう
な重合反応によりその前駆体化合物であるポリアミック
酸が得られるが、その後の熱処ljlによってイミド化
反応が起り、芳香族ポリアミドイミド樹脂が得られる。
な重合反応によりその前駆体化合物であるポリアミック
酸が得られるが、その後の熱処ljlによってイミド化
反応が起り、芳香族ポリアミドイミド樹脂が得られる。
本発明のポリアミドイミド樹脂は、その繰返し単位構造
中に上記単位構造を、少なくとも30モル%以上、好ま
しくは50モル%以上、より好ましくは70モル%以上
含むものである。30モル%未満であると低熱膨張化が
困難である。
中に上記単位構造を、少なくとも30モル%以上、好ま
しくは50モル%以上、より好ましくは70モル%以上
含むものである。30モル%未満であると低熱膨張化が
困難である。
そして、その他の成分としては、種々のジアミン、ジカ
ルボン酸、トリカルボン酸、テトラカルボン酸あるいは
その誘導体がある。これらをコポリマリゼーションした
り、また、別途合成して1qられたポリアミド、ポリア
ミドイミド、ポリイミド又はその前駆体等をブレンドす
ることができる。
ルボン酸、トリカルボン酸、テトラカルボン酸あるいは
その誘導体がある。これらをコポリマリゼーションした
り、また、別途合成して1qられたポリアミド、ポリア
ミドイミド、ポリイミド又はその前駆体等をブレンドす
ることができる。
具体的に例を挙げると、p−フェニレンジアミン、m−
フェニレンジアミン、3,4゛−ジアミノジフェニルエ
ーテル、4,4゛−ジアミノジフェニルエーテル、ジア
ミノクロルベンゼン、4,4゛−ジアミノベンズアミド
、4,4°−ジアミノジフェニルメタン、3.3°−ジ
メチル−4,4゛−ジアミノジフェニルメタン、2.2
−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロ
パン、1,2−ビス(アニリノ)エタン、ジアミノジフ
ェニルスルホン、ジアミノベンズアニリド、ジアミノベ
ンゾエート、ジアミノジフェニルスルフィド、2,2−
ビス(p−アミノフェニル)プロパン、2.2−ヒス(
p−アミノフェニル)へキサフルオロプロパン、1,5
−ジアミノナフタレン、ジアミノトルエン、ジアミノベ
ンシトリフルオライド、1.4−ビス(p−アミノフェ
ノキシ)ベンゼン、4,4°−ビス(p−アミノ゛ノエ
ノキシ)ピフェニル、ジアミノアントラキノン、4,4
°−ヒス(3−アミノフェノキシフェニル)ジフェニル
スルホン、1,3−ビス(アニリノ)へキサフルオロプ
ロパン、1,4−ビス(アニリノ)オクタフルオロブタ
ン、1,5−ビス(アニリノ)デカフルオロペンタン、
1,7−ビス(アニリノ)テトラデカフルオロへブタン
、下記一般式%式% (但し、式中R4及びR6は2価の有機基を示し、R3
及びR5は1価の有機基を示し、p及びqは1より大き
い整数を示す)で表されるジアミノシロキサン、2,2
−ビス[4−(p−アミノフェノキシ)フェニル]ヘキ
サフルオロプロパン、2.2−ビス[4−(3−アミノ
フェノキシ)フェニル]ヘキナフルオロプロパン、2,
2−ビス[4−(2−アミノフェノキシ)フェニル]へ
キサフルオロプロパン、2.2−ビス[4−(4−アミ
ノフェノキシ)−3,5−ジメチルフェニル]へキサフ
ルオロプロパン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェ
ノキシ)−3,5−ジトリフルオロメチルフェニル]ヘ
キサフルオロプロパン、叶ビス(4−アミノ−2−トリ
フルオロメチルフェノキシ)ベンゼン、4.4−ビス(
4−アミノ−2−トリフルオロメチルフェノキシ)ピフ
ェニル、4,4°−ビス(4−アミノ−3−トリフルオ
ロメチルフェノキシ)ピフェニル、4.4°−ヒス(4
−アミノ−2−トリフルオロメチルフェノキシ)ジフェ
ニルスルホン、4,4°−ビス(3−アミノ−5−トリ
フルオロメチルフェノキシ)ジフェニルスルフォン、2
.2−ビス(4−(4−アミノ−3−トリフルオロメチ
ルフェノキシ)フェニル]へキサフルオロプロパン、ベ
ンジジン、3.3’、5,5°−テトラメチルベンジジ
ン、オクタフルオロベンジジン、3,3゛−ジメトキシ
ベンジジン、o−トリジン、m−トリジン、2,2°、
5,5°、6,6°−ヘキサフルオロトリジン、4,4
°°−ジアミノターフェニル、4,4°゛°−ジアミノ
クォーターフェニル等のジアミン類、並びにこれらのジ
アミンとホスゲン等の反応によって得られるジイソシア
ナート類がある。
フェニレンジアミン、3,4゛−ジアミノジフェニルエ
ーテル、4,4゛−ジアミノジフェニルエーテル、ジア
ミノクロルベンゼン、4,4゛−ジアミノベンズアミド
、4,4°−ジアミノジフェニルメタン、3.3°−ジ
メチル−4,4゛−ジアミノジフェニルメタン、2.2
−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロ
パン、1,2−ビス(アニリノ)エタン、ジアミノジフ
ェニルスルホン、ジアミノベンズアニリド、ジアミノベ
ンゾエート、ジアミノジフェニルスルフィド、2,2−
ビス(p−アミノフェニル)プロパン、2.2−ヒス(
p−アミノフェニル)へキサフルオロプロパン、1,5
−ジアミノナフタレン、ジアミノトルエン、ジアミノベ
ンシトリフルオライド、1.4−ビス(p−アミノフェ
ノキシ)ベンゼン、4,4°−ビス(p−アミノ゛ノエ
ノキシ)ピフェニル、ジアミノアントラキノン、4,4
°−ヒス(3−アミノフェノキシフェニル)ジフェニル
スルホン、1,3−ビス(アニリノ)へキサフルオロプ
ロパン、1,4−ビス(アニリノ)オクタフルオロブタ
ン、1,5−ビス(アニリノ)デカフルオロペンタン、
1,7−ビス(アニリノ)テトラデカフルオロへブタン
、下記一般式%式% (但し、式中R4及びR6は2価の有機基を示し、R3
及びR5は1価の有機基を示し、p及びqは1より大き
い整数を示す)で表されるジアミノシロキサン、2,2
−ビス[4−(p−アミノフェノキシ)フェニル]ヘキ
サフルオロプロパン、2.2−ビス[4−(3−アミノ
フェノキシ)フェニル]ヘキナフルオロプロパン、2,
2−ビス[4−(2−アミノフェノキシ)フェニル]へ
キサフルオロプロパン、2.2−ビス[4−(4−アミ
ノフェノキシ)−3,5−ジメチルフェニル]へキサフ
ルオロプロパン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェ
ノキシ)−3,5−ジトリフルオロメチルフェニル]ヘ
キサフルオロプロパン、叶ビス(4−アミノ−2−トリ
フルオロメチルフェノキシ)ベンゼン、4.4−ビス(
4−アミノ−2−トリフルオロメチルフェノキシ)ピフ
ェニル、4,4°−ビス(4−アミノ−3−トリフルオ
ロメチルフェノキシ)ピフェニル、4.4°−ヒス(4
−アミノ−2−トリフルオロメチルフェノキシ)ジフェ
ニルスルホン、4,4°−ビス(3−アミノ−5−トリ
フルオロメチルフェノキシ)ジフェニルスルフォン、2
.2−ビス(4−(4−アミノ−3−トリフルオロメチ
ルフェノキシ)フェニル]へキサフルオロプロパン、ベ
ンジジン、3.3’、5,5°−テトラメチルベンジジ
ン、オクタフルオロベンジジン、3,3゛−ジメトキシ
ベンジジン、o−トリジン、m−トリジン、2,2°、
5,5°、6,6°−ヘキサフルオロトリジン、4,4
°°−ジアミノターフェニル、4,4°゛°−ジアミノ
クォーターフェニル等のジアミン類、並びにこれらのジ
アミンとホスゲン等の反応によって得られるジイソシア
ナート類がある。
また、ジカルボン酸並びにその誘導体としては、テレフ
タル酸、イソフタル酸、ナフタレンジカルボン酸、ビフ
ェニルジカルボン酸、クロルテレフタル酸、クロルイソ
フタル酸及びその酸ハロゲン化物等を挙げることができ
る。
タル酸、イソフタル酸、ナフタレンジカルボン酸、ビフ
ェニルジカルボン酸、クロルテレフタル酸、クロルイソ
フタル酸及びその酸ハロゲン化物等を挙げることができ
る。
また、テトラカルボン酸並びにその誘導体の例としては
次のようなものが挙げられる。なお、ここではテトラカ
ルボン酸として例示するが、これらのエステル化物、酸
無水物、酸ハロゲン化物も勿論使用できる。ピロメリッ
ト酸、3,3°、4,4“−ビフェニルテトラカルボン
酸、3,3°、4.4’−ベンゾフェノンテトラカルボ
ン酸、3,3°、4,4°−ジフェニルスルホンテトラ
カルボン ルエーテルテトラカルボン酸、2,3.3’,4−ベン
ゾフェノンテトラカルボン酸、2,3,6.7−ナフタ
レンテトラカルボン酸、1,4,5.7−ナフタレンテ
トラカルボン酸、1,2,5.6−ナフタレンテトラカ
ルボン酸、3、3°,4,4°−ジフェニルメタンテト
ラカルボン酸、2、2−ビス(3.4−ジカルボキシフ
ェニル)プロパン、2、2−ビス(3,4−ジカルボキ
シフェニル)へキサフルオロプロパン、3,4,9.1
0−テトラカルボキシペリレン、2.2−ビス[4−(
3.4−ジカルボキシフ・エノキシ)フェニル]プロパ
ン、2.2−ビス[4− (3.4−ジカルボキシフェ
ノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、ブタンテ
トラカルボン酸、シクロペンタンテトラカルボン酸等が
ある。
次のようなものが挙げられる。なお、ここではテトラカ
ルボン酸として例示するが、これらのエステル化物、酸
無水物、酸ハロゲン化物も勿論使用できる。ピロメリッ
ト酸、3,3°、4,4“−ビフェニルテトラカルボン
酸、3,3°、4.4’−ベンゾフェノンテトラカルボ
ン酸、3,3°、4,4°−ジフェニルスルホンテトラ
カルボン ルエーテルテトラカルボン酸、2,3.3’,4−ベン
ゾフェノンテトラカルボン酸、2,3,6.7−ナフタ
レンテトラカルボン酸、1,4,5.7−ナフタレンテ
トラカルボン酸、1,2,5.6−ナフタレンテトラカ
ルボン酸、3、3°,4,4°−ジフェニルメタンテト
ラカルボン酸、2、2−ビス(3.4−ジカルボキシフ
ェニル)プロパン、2、2−ビス(3,4−ジカルボキ
シフェニル)へキサフルオロプロパン、3,4,9.1
0−テトラカルボキシペリレン、2.2−ビス[4−(
3.4−ジカルボキシフ・エノキシ)フェニル]プロパ
ン、2.2−ビス[4− (3.4−ジカルボキシフェ
ノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、ブタンテ
トラカルボン酸、シクロペンタンテトラカルボン酸等が
ある。
本発明では、これら上記各成分を使用して変性すること
により、線膨張係数等をコントロールすることができる
。
により、線膨張係数等をコントロールすることができる
。
本発明のポリアミド樹脂は、任意の成形法を用いてフィ
ルム、繊維、不織布、フィラー等の任意の形態に成形可
能である。また、ワニスとして電線被覆、印刷インキ、
光フアイバー被膜、IC用]−ト材、耐熱塗料等、種々
の用途に使用できる。
ルム、繊維、不織布、フィラー等の任意の形態に成形可
能である。また、ワニスとして電線被覆、印刷インキ、
光フアイバー被膜、IC用]−ト材、耐熱塗料等、種々
の用途に使用できる。
また、金属箔にワニスを塗工して熱処理することにより
、無接着剤タイプのフレキシブルプリントm板の′l!
A造が可能である。
、無接着剤タイプのフレキシブルプリントm板の′l!
A造が可能である。
[実施例]
以下、実施例及び比較例に基いて、本発明を具体的に説
明する。
明する。
なお、実施例中の各特性値は次の測定方法によりおこな
った。
った。
(1)固有粘度
固有粘度=ρn (t/lo )/Cの式に基いて算
出した。ここで、Cは溶液1硬中のポリマーのグラム数
を、toは溶剤のみの流化時間を、また、tは溶液の流
化時間をそれぞれ示す。
出した。ここで、Cは溶液1硬中のポリマーのグラム数
を、toは溶剤のみの流化時間を、また、tは溶液の流
化時間をそれぞれ示す。
(2)吸水率
吸水率=(”(M−Mo )/Mo ) xlooの式
に基いて算出した。ここで、Mは水中24時間浸漬後の
フィルムの重さを示し、また、MOは絶乾後のフィルム
の重さを示す。
に基いて算出した。ここで、Mは水中24時間浸漬後の
フィルムの重さを示し、また、MOは絶乾後のフィルム
の重さを示す。
(3)耐折曲げ性
幅10InMのフィルムを用い、東洋精機社製MLT試
験機を使用し、荷重1 Kyで0.38Rのチャックを
用いて測定した。
験機を使用し、荷重1 Kyで0.38Rのチャックを
用いて測定した。
(4)熱膨張係数
十分にイミド化が終了したフィルムについてサーモメカ
ニカルアナライザー(TMA)を用いて行ない、210
℃に昇温後10℃/min.で冷却し、200℃から1
00’Cまでの平均の線膨張率を篩用して求めた。
ニカルアナライザー(TMA)を用いて行ない、210
℃に昇温後10℃/min.で冷却し、200℃から1
00’Cまでの平均の線膨張率を篩用して求めた。
なお、各実施例及び比較例中の略号は、下記の通りであ
る。
る。
DABA: 4,4−ジアミノベンズアニリドNo−
DAB^= 2°−メトキシ−4.4−ジアミノベンズ
アニリド CI−DABA: 2−クロル−4,4°−ジアミノ
ベンズアニリド Ht−D^B八:2’−メチル−4,4“−ジアミノベ
ンズアニリド Eo−DABA: 2−エトキシ−4,3゛−ジアミノ
ベンズアニリド 〇へPF: 4,4’−ジアミノジフェニルエーテル
T)tc :無水トリメトリット酸クロイド実施例1 温度計、塩化カルシウム管、攪拌機及び窒素吸入口を取
付けた500戒の4つロフラスコに毎分200miの窒
素を流しながら、0.08モルのN。
DAB^= 2°−メトキシ−4.4−ジアミノベンズ
アニリド CI−DABA: 2−クロル−4,4°−ジアミノ
ベンズアニリド Ht−D^B八:2’−メチル−4,4“−ジアミノベ
ンズアニリド Eo−DABA: 2−エトキシ−4,3゛−ジアミノ
ベンズアニリド 〇へPF: 4,4’−ジアミノジフェニルエーテル
T)tc :無水トリメトリット酸クロイド実施例1 温度計、塩化カルシウム管、攪拌機及び窒素吸入口を取
付けた500戒の4つロフラスコに毎分200miの窒
素を流しながら、0.08モルのN。
−DABA0.02モルのDAPE及びDHAC (ジ
メチルアセトアミド)を加え、攪拌して溶解さけた後、
この系を水冷浴中で10°C以下に冷却しながら0。
メチルアセトアミド)を加え、攪拌して溶解さけた後、
この系を水冷浴中で10°C以下に冷却しながら0。
10モルのTHCを徐々に加えたところ、発熱と共に重
合反応が進行し、系が白濁するとともに粘稠なポリアミ
ドイミド前駆体樹脂溶液が得られた。
合反応が進行し、系が白濁するとともに粘稠なポリアミ
ドイミド前駆体樹脂溶液が得られた。
この樹脂溶液を水に入れたミキサー中に攪拌しながら徐
々に滴下し再沈させた。
々に滴下し再沈させた。
1qられた樹脂粉末をイオン交換水を用いて3度洗浄し
、トリエチルアミン塩酸塩を除去した後、フィルターで
濾過し、次いでso’cで24時間真空中で乾燥し、淡
黄色の樹脂粉末を得た。
、トリエチルアミン塩酸塩を除去した後、フィルターで
濾過し、次いでso’cで24時間真空中で乾燥し、淡
黄色の樹脂粉末を得た。
この樹脂粉末の固有粘度は1.18 (d12/y>で
めった。
めった。
ざらに、この樹脂粉末を樹脂濃度が15重量%になるよ
うにDHAc中に溶解し、アプリケーターを用いて最終
的にフィルム厚が25pとなるようにパイレックスガラ
ス板上にキャスティングした。
うにDHAc中に溶解し、アプリケーターを用いて最終
的にフィルム厚が25pとなるようにパイレックスガラ
ス板上にキャスティングした。
これを100’Cの熱風オーブン中で30分間乾燥した
後、30分間かけて徐々に昇温し、300℃まで熱処理
した。得られたフィルムはイミド化により褐色に着色し
ていた。
後、30分間かけて徐々に昇温し、300℃まで熱処理
した。得られたフィルムはイミド化により褐色に着色し
ていた。
このフィルムの物性は、吸水率が3.5%で、耐折曲げ
性が1万回以上であり、熱膨張係数は5x 10’(1
/K)と極めて低いレベルであった。
性が1万回以上であり、熱膨張係数は5x 10’(1
/K)と極めて低いレベルであった。
結果を第1表にまとめて示す。
比較例1〜3
No−DABAに代えて0AISA、 CI−DABA
又は)It−DABAを使用し対外は、上記実施例1と
同様にしてポリアミドイミド樹脂を調製し、また、これ
を使用してフィルムを調製し、それぞれ実施例1と同様
の物性を測定した。結果を第1表に示す。
又は)It−DABAを使用し対外は、上記実施例1と
同様にしてポリアミドイミド樹脂を調製し、また、これ
を使用してフィルムを調製し、それぞれ実施例1と同様
の物性を測定した。結果を第1表に示す。
実施例2
ジアミン成分として0.065モルのNo−DABA及
び0.035モルのDAPEを使用し対外は、上記実施
例1と同様にしてポリアミドイミド樹脂を調製し、また
、これを使用してフィルムを調製し、それぞれ実施例1
と同様の物性を測定した。結果を第1表に示す。吸水率
及び熱膨張係数とも低いレベルであった。
び0.035モルのDAPEを使用し対外は、上記実施
例1と同様にしてポリアミドイミド樹脂を調製し、また
、これを使用してフィルムを調製し、それぞれ実施例1
と同様の物性を測定した。結果を第1表に示す。吸水率
及び熱膨張係数とも低いレベルであった。
実施例3
ジアミン成分として0.10モルのEo−DABAを使
用し対外は、上記実施例1と同様にしてポリアミドイミ
ド樹脂を調製し、また、これを使用してフィルムを調製
し、それぞれ実施例1と同様の物性を測定した。結果を
第1表に示す。
用し対外は、上記実施例1と同様にしてポリアミドイミ
ド樹脂を調製し、また、これを使用してフィルムを調製
し、それぞれ実施例1と同様の物性を測定した。結果を
第1表に示す。
比較例4
ジアミン成分として0.10モルのDAPEを使用し対
外は、上記実施例1と同様にしてポリアミドイミド樹脂
を調製し、また、これを使用してフィルムを調製し、そ
れぞれ実施例1と同様の物性を測定した。結果を第1表
に示す。
外は、上記実施例1と同様にしてポリアミドイミド樹脂
を調製し、また、これを使用してフィルムを調製し、そ
れぞれ実施例1と同様の物性を測定した。結果を第1表
に示す。
第 1 表
L発明の効果]
本発明の芳香族ポリアミドイミド樹脂は、吸水率が小さ
く、しかも、熱膨張係数が小さいので、低熱膨張性か要
求される種々の用途に好適である。
く、しかも、熱膨張係数が小さいので、低熱膨張性か要
求される種々の用途に好適である。
特許出願人 析日鐵化学株式会社
Claims (2)
- (1)下記一般式(1) ▲数式、化学式、表等があります▼(1) (但し、Aは下記に示す2価の芳香族残基 ▲数式、化学式、表等があります▼ を表し、R1及びR2はハロゲン、低級アルキル基及び
低級アルコキシ基から選択されたいずれかの基であって
互いに同じであつても異つていてもよく、少なくとも1
つはアルコキシ基であり、m及びnは0〜4の整数であ
る)で表される単位構造を有することを特徴とする芳香
族ポリアミドイミド樹脂。 - (2)単位構造が下記式(2) ▲数式、化学式、表等があります▼ である請求項1記載の芳香族ポリアミドイミド樹脂。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7182388A JPH01245025A (ja) | 1988-03-28 | 1988-03-28 | 芳香族ポリアミドイミド樹脂 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7182388A JPH01245025A (ja) | 1988-03-28 | 1988-03-28 | 芳香族ポリアミドイミド樹脂 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01245025A true JPH01245025A (ja) | 1989-09-29 |
Family
ID=13471660
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7182388A Pending JPH01245025A (ja) | 1988-03-28 | 1988-03-28 | 芳香族ポリアミドイミド樹脂 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01245025A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2772034A1 (fr) * | 1997-12-08 | 1999-06-11 | Samsung Electronics Co Ltd | Poly (amide-imide) pour communications optiques et procede pour sa preparation |
WO2003072639A1 (en) * | 2002-02-26 | 2003-09-04 | Toyo Boseki Kabushiki Kaisha | Polyamide-imide resin, flexible metal-clad laminate, and flexible printed wiring board |
JP2006028073A (ja) * | 2004-07-15 | 2006-02-02 | Toyobo Co Ltd | ジイソシアネート化合物及びポリアミドイミド樹脂 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6284049A (ja) * | 1985-10-09 | 1987-04-17 | Toray Ind Inc | 芳香族ポリアミド酸および/または芳香族ポリアミド製造方法 |
JPS62209138A (ja) * | 1986-03-11 | 1987-09-14 | Toray Ind Inc | 熱可塑性芳香族ポリアミドイミド共重合体 |
-
1988
- 1988-03-28 JP JP7182388A patent/JPH01245025A/ja active Pending
Patent Citations (2)
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US7364799B2 (en) | 2002-02-26 | 2008-04-29 | Toyo Boseki Kabushiki Kaisha | Polyamide-imide resin, flexible metal-clad laminate, and flexible printed wiring board |
US7728102B2 (en) | 2002-02-26 | 2010-06-01 | Toyo Boseki Kabushiki Kaisha | Polyamide-imide resin, flexible metal-clad laminate, and flexible printed wiring board |
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