JPH01241144A - Rough wiring method of semiconductor integrated circuit - Google Patents

Rough wiring method of semiconductor integrated circuit

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JPH01241144A
JPH01241144A JP63067117A JP6711788A JPH01241144A JP H01241144 A JPH01241144 A JP H01241144A JP 63067117 A JP63067117 A JP 63067117A JP 6711788 A JP6711788 A JP 6711788A JP H01241144 A JPH01241144 A JP H01241144A
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JP
Japan
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wiring
block
blocks
rough
wirings
Prior art date
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Pending
Application number
JP63067117A
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Japanese (ja)
Inventor
Masako Murofushi
室伏 真佐子
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
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Publication of JPH01241144A publication Critical patent/JPH01241144A/en
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Abstract

PURPOSE:To prevent the usage of redundant wirings and excess wiring regions by conducting inter-block rough wirings once after one-timeinter-block arrangement and after rough wirings before arrangement and wirings in blocks. CONSTITUTION:A building-block type integrated circuit using a computer is designed in a hierarchy manner. Rough wiring paths among blocks 10 and terminals onto the sides of blocks 6 are set before the detailed arrangement and wirings of logic cells 1 in a block 7 are executed, and the detailed array of the cells 1 in the block 7 is determined on the basis of the result of the rough wirings. Rough wirings among the blocks 10 are performed in consideration of the positions of the array of the cells 1 in the block 7 once more. Accordingly, rough wiring paths among the blocks 10 and the positions of terminals for each block 6 can be determined without generating redundant wiring wiring regions even on viewing without the discrimination of the hierarchy of in-block 7-inter-block 10.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 (産業上の利用分野) 本発明はコンビエータ−を用いたビルディングブロック
方式の半導体集積回路の概略配線方法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Object of the Invention] (Industrial Application Field) The present invention relates to a general wiring method for a building block type semiconductor integrated circuit using a combinator.

(従来の技術) 第8図に一般的なビルディングブロック方式による半導
体集積回路のチップの概略構成を示す。
(Prior Art) FIG. 8 shows a schematic configuration of a semiconductor integrated circuit chip using a general building block method.

チップ上には複数の回路ブロック6、各回路ブロック間
の配線領域106周辺には入出力回路領域11が設けら
れている。
A plurality of circuit blocks 6 are provided on the chip, and an input/output circuit area 11 is provided around a wiring area 106 between each circuit block.

ブロック間の配線領域は複数のチャネルとよばれる部分
10aに分けられ、チャネル配線手法を用いて配線され
ることが多い。各チャネルは、他のチャネルとのみ接続
する境界同士・他のチャネル−ブロックと接続する境界
同士が互い罠向かい合っている。他のチャネルとのみ接
続する境界を結ぶ方向を幹線方向、それと垂直な方向を
支線方向と呼ぶ。
The wiring area between blocks is divided into a plurality of portions 10a called channels, and wiring is often performed using a channel wiring method. In each channel, boundaries that connect only to other channels and boundaries that connect to other channels and blocks face each other. The direction connecting boundaries that connect only with other channels is called the trunk direction, and the direction perpendicular to it is called the branch direction.

また第9図に示すようにブロックには、セル1を配置し
たセル行9を配線領域7と交互に並べて所定の機能を満
たすように結線するものがある。
Further, as shown in FIG. 9, some blocks are arranged such that cell rows 9 in which cells 1 are arranged are alternately arranged with wiring areas 7 and wired to satisfy a predetermined function.

このようなブロックを仮にタイプ人のブロックと呼ぶこ
ととする。
Such a block will be tentatively called a type person block.

セルは、それ自身の論理的な機能を果すために配線パタ
ーンを持っているが、第10図に示すように、配線が施
されてbないセル1の上はセル行9から他のセル行9へ
のセル間を結ぶ配線が自由に通ることができる。セルl
上で既に配線が施されておシ、他の配線が自由に通れな
い部分を配線禁止領域2と呼ぶ。
Each cell has a wiring pattern to perform its own logical function, but as shown in FIG. The wiring connecting the cells to 9 can freely pass through. cell l
The area where wiring has already been applied and other wiring cannot freely pass through is called a wiring prohibited area 2.

概略配線径路を決定するとは、結線要求を満たすために
配線領域のどの部分を通るかを決定することである。第
11図は同じ結線要求を満たす異なる概略配線径路を示
している。第11図では、ブロック6とブロック間配線
領域10とを示し、ブロックへの配線は配線径路口とま
た別の配線径路62とを実線および点線で示す。
Determining the approximate wiring route means determining which part of the wiring area to pass through in order to satisfy the wiring requirements. FIG. 11 shows different schematic wiring paths that meet the same wiring requirements. In FIG. 11, the block 6 and the inter-block wiring area 10 are shown, and the wiring to the block is represented by a wiring route opening and another wiring route 62 by solid lines and dotted lines.

ビルディングブロック方式の半導体集積回路装置のレイ
アウト手法にはブロック内の詳細な配置拳配綜をしてか
ら、各ブロックの相対配置を行いブロック間の概略配線
・詳細配線を行うものと(第12図(a)参照)、ブロ
ック内の詳細な配置・配線をするまえに、各ブロックの
相対配置を行い、ブロック間の概略配線並びにブロック
端子位置を決定し、それからブロック内の配置配線を行
ないブロック間の詳細配線を行なうものがある。(第1
2図(b)参照) 前者によればブロックの配置・配線をするさいに何も外
部からの制約がないため、ある程度後者よシブ日ツクサ
イズを小さくできる。しかしブロック間の配線領域は大
きくなってしまう。例えば第13図の例においてブロッ
クAとブロックBを結ぶ信号線nは、ブロック内の鯖適
化を図ったときには、ブロック人の左辺とブロックBの
右辺にきまるが(M2S図(a)に示すようにブロック
内配線をしてからブロック間概略配線を行なう。)、こ
れはチップレベルでみると冗長な配線になっている。
One layout method for semiconductor integrated circuit devices using the building block method involves first making a detailed arrangement within the block, then relative placement of each block, and then performing general and detailed wiring between the blocks (see Figure 12). (Refer to (a)), before performing detailed placement and wiring within blocks, perform relative placement of each block, determine approximate wiring between blocks and block terminal positions, and then perform placement and wiring within blocks. There are some that perform detailed wiring. (1st
(See Figure 2 (b)) According to the former, there are no external constraints when arranging and wiring blocks, so the block size can be made smaller to some extent than the latter. However, the wiring area between blocks becomes large. For example, in the example of Fig. 13, the signal line n connecting block A and block B is determined to be on the left side of the block person and the right side of block B when optimization is performed within the block (as shown in M2S diagram (a)). (Intra-block wiring is first performed, and then inter-block general wiring is then performed.) This results in redundant wiring when viewed at the chip level.

それぞれ端子はブロック人の右辺・ブロックBの左辺に
決めたほうが信号線の配線長もブロック間の配線領域も
小さくできる(第13図(b)に示すようにブロック間
概略配線をしてからブロック内配置配線を行なう。)。
It is better to set the terminals on the right side of the block person and on the left side of block B, so that the wiring length of the signal line and the wiring area between blocks can be reduced (as shown in Figure 13 (b), after roughly wiring between blocks, Perform internal placement and wiring.)

後者によれば、ブロック間の配線長・ブロック間の配線
領域を容易に小さくできる。また、極端にプ胃ツクサイ
ズを大きくすることなくブロック間の最適化の結果をブ
ロック内の配置・配線に反映することができる。しかし
、ブロック内の配置−配線が決まっていない段階でブロ
ックの端子位置・ブロック間の概略配線を行うためにブ
ロック間0ブロック内の階層の区別なく見たときに最適
な配線径路になっていない場合がある。(第14図参照
)第14図(a)の例において、タイプAのブロックA
・B−Cの中のセルasb唾cを結ぶ配線が各ブロック
の下の方を通るよう罠なっておシ、配線の径路としてあ
きらかに遠回シである。しかし、ブロック内配置前に行
うブロック間の概略配線では、結線要求のあるセルがブ
ロックA@B、Cのどこに配置されるのかわからないの
で、最適な位置に端子を割付は配線径路を決めるのは困
難である。
According to the latter, the wiring length between blocks and the wiring area between blocks can be easily reduced. Furthermore, the results of optimization between blocks can be reflected in the arrangement and wiring within the block without excessively increasing the block size. However, since the terminal positions of blocks and the rough wiring between blocks are performed before the layout and wiring within the block have been decided, the wiring route is not optimal when viewed without distinction between blocks and hierarchies within the block. There are cases. (See Figure 14) In the example of Figure 14 (a), block A of type A
・The wiring connecting the cells ASB and C in B and C is arranged so that it passes under each block, which is clearly a long route for the wiring. However, in the rough wiring between blocks that is performed before placement within a block, it is not known where in blocks A@B and C the cells with connection requests will be placed, so it is difficult to allocate terminals to optimal positions and determine wiring routes. Have difficulty.

第14図(b)の例において、タイプAのブロックA・
Cの中にあるセルd@eを結ぶ配線径路としてブロック
Bの左辺上方から右辺上方を通るようになっているが、
ブロックBのセル行上通過領域よりもブロックAのセル
行上通過領域の方がすいていることがわかるのは、ブロ
ック内の概略配線後であシ、やはジブロック内配置前に
行うブロック間の概略配線では、最適な位置に端子を割
付は配線径路を決めるのは困難である。
In the example of FIG. 14(b), block A of type A.
The wiring path connecting cell d@e in block C runs from the upper left side of block B to the upper right side.
It can be seen that the passage area on the cell row of block A is smaller than the passage area on the cell row of block B after the rough wiring in the block or before the placement in the di-block. With rough wiring between terminals, it is difficult to allocate terminals to optimal positions and determine wiring routes.

第14図(C)の例において、タイプAのブロックA・
Cの中にあるセルf−gを結ぶ配線径路としてそれぞれ
のブロックの上辺に端子を設定しこれを結線しているが
、ブロックA・Cの正確な見積シができるのはブロック
内の概略配線の後であシ、ブロック内の配置がすむ前の
概略配線では、最適な配線径路を決めるのは困難である
In the example of FIG. 14(C), block A of type A.
Terminals are set on the top side of each block as a wiring path connecting cells f and g in block C, and these are connected, but accurate estimates for blocks A and C can only be made by using the rough wiring within the block. After that, it is difficult to determine the optimal wiring route using the general wiring before the layout within the block is completed.

(発明が解決しようとする課題) 従来の技術ではブロック間の概略配線はブロック内の配
置・配線の前か後のどちらか一方に一回だけ行っていた
。ブロック内の配置・配線の後に行なうとブロック間の
配線領域が増大する。ブロック内の配置・配線の前に行
なうとブロック内のセルの位置がわからない、ブロック
内の配線混雑度がわからない、ブロックのサイズが確定
していない等の理由によシ、ブロック内・ブロック間の
階層の区別なく見たときに冗長な配線・配線領域が発生
してしまう。そこで、ブロック間のみ見たときにも、ブ
ロック内・ブロック間の階層の区別なく見たときにも、
冗長な配線−配線領域を発生することなくブロック間の
概略配線径路と各ブロックの端子位置を決定することを
目的とする。
(Problem to be Solved by the Invention) In the conventional technology, rough wiring between blocks is performed only once, either before or after placement and wiring within a block. If it is performed after placement and wiring within blocks, the wiring area between blocks will increase. If you do this before placing and wiring within a block, you may not know the location of the cells within the block, the degree of wiring congestion within the block, the size of the block has not been determined, etc. When viewed without distinguishing between layers, redundant wiring and wiring areas occur. Therefore, both when looking only between blocks, and when looking without distinction of hierarchy within and between blocks,
It is an object of the present invention to determine approximate wiring paths between blocks and terminal positions of each block without creating redundant wiring-wiring areas.

〔発明の構成〕[Structure of the invention]

(課題を解決するための手段) ブロック内の配置・配線の前に一回ブロック間の概略配
線を行い、ブロック間の最適化の結果をブロック内の配
置・配線に反映させ、ブロック内配置後セルの位置を考
慮してブロック間概略配線を行ない、ブロック内概略配
線後ブロック内の配線混雑度・ブロックサイズを考慮し
てブロック間概略配線を行うことに本シ、ブロック間の
み見たときにも、ブロック内・ブロック間の階層の区別
なく見たときにも、冗長な配線・配線領域を発生するこ
となくブロック間の概略配線径路と各ブロックの端子位
置を決定する。
(Means for solving the problem) Perform rough wiring between blocks once before placing and wiring within the block, reflect the results of optimization between blocks in the placement and wiring within the block, and after placing the blocks within the block In this article, we perform rough wiring between blocks by considering the cell position, and after rough wiring within a block, we perform rough wiring between blocks by taking into consideration the degree of wiring congestion and block size within the block. Also, when looking at the hierarchy within and between blocks, the approximate wiring paths between blocks and the terminal positions of each block are determined without generating redundant wiring and wiring areas.

(作用) ブロック内の配置・配線の前に一回・ブロック内の配置
後および概略配線後に一回、ブロック間概略配線を行う
ことによって、冗長な配線や余計な配線領域を使ンこと
をふせぐ。
(Function) Prevent the use of redundant wiring or unnecessary wiring area by performing rough wiring between blocks once before placement and wiring within a block and once after placement within a block and after rough wiring. .

(実施例) 第1図に、プ田ツク内配置前に一回、配置後゛に一回、
ブロック内概略配線後に一回、ブロック間概略配線処理
を行うときのフローチャートを示す。
(Example) In Fig. 1, once before placement in the plant, once after placement,
A flowchart is shown when performing inter-block general wiring processing once after intra-block general wiring.

タイIA以外の回路ブロックとタイプAに含まれる論理
素子(セル)の形状情報と、上記回路ブロック・論理素
子間の接続情報と、論理素子のタイプ大ブロツクへの割
当て(タイプ大ブロツクが複数ある時に行われる)と各
回路ブロックの相対位置が入力された時に5tartす
る。
Shape information of logic elements (cells) included in circuit blocks other than tie IA and type A, connection information between the circuit blocks and logic elements, and assignment of logic elements to type large blocks (if there are multiple type large blocks) 5 tart when the relative position of each circuit block is input.

5tep 1 :テップをおおう径路グラフを形成し。5step 1: Create a path graph that covers the steps.

その径路グラフ上で最短径路探索を行うことにより、ブ
ロック間の概略径路を決定する。径路グラフは例えば第
4図のようなものを用いる。
By searching for the shortest route on the route graph, an approximate route between blocks is determined. For example, the path graph shown in FIG. 4 is used.

さらにタイプAのブロックの端子位置をブロック間配線
領域を最小にするように決定する。(参考文献 情報処
理学会拳設計自動化研究会36−8゜1987年2月、
昭和62年9願第238836号)8 tep 2 :
上記処理で求められた端子位置情報をもとにブロック内
の自動配置を行う。
Furthermore, the terminal positions of type A blocks are determined so as to minimize the wiring area between blocks. (References Information Processing Society of Japan Fist Design Automation Study Group 36-8゜February 1987,
1986 Application No. 238836) 8 step 2:
Automatic placement within the block is performed based on the terminal position information obtained in the above process.

5tep 3 :セルの配電情報をもとに再度ブロック
間の最短径路探索を行う。この時径路グラフは第5図の
ようにセルの位置がちる程度反映できるようなものを用
いる。例えば第3図に示されるような手順で径路グラフ
作成・最短径路探索を行う。
5tep 3: Search for the shortest route between blocks again based on the cell power distribution information. At this time, a path graph is used that can reflect the cell positions to a certain degree, as shown in FIG. For example, the route graph is created and the shortest route search is performed in accordance with the procedure shown in FIG.

詳細については後述。端子位置を決定するときにもセル
の位置を考慮し余計な幹線を発生しないようにする。セ
ル位置から決まる端子設定可能範囲Mに端子を設定する
。(第7図参照) Step4ニブロック内の概略配線を行う。それに付随
してブロック内の各チャネルの幹線の重なシ度合い(d
ensityと呼ぶ。)を求める。またセル行上通過配
線領域がどれだけ使われたかを調べる。
More details later. To avoid unnecessary trunk lines by considering the cell position when determining the terminal position. A terminal is set in a terminal setting range M determined from the cell position. (See Figure 7) Step 4: Perform general wiring within the block. Along with this, the degree of overlapping of the main lines of each channel within the block (d
It is called "sensity". ). It is also checked how much of the cell row on-pass wiring area is used.

また各タイプ人のブロックの大きさ(幅・高さ)を見積
もる。ブロック内の概略配線後にはブロックの幅を正確
に知ることができ、ブロックの高さもdensityか
らかなシ正確に見積もることができる。
Also, estimate the size (width and height) of each type of person's block. After rough wiring within a block, the width of the block can be accurately known, and the height of the block can also be accurately estimated from the density.

5tep 5 : 5tep 4の結果からブロック内
の配線でブロック人のセルにつながる径路情報を削除す
る。
5step 5: From the result of 5step 4, delete the route information that connects to the cell of the blocker with the wiring within the block.

セルの位置とともに各ブロック内チャネルのdensi
 t)’ 。
The density of the channel within each block along with the cell position
t)'.

セル行上通過配線領域を考慮して第6図のようにチップ
を格子状の領域に分け、径路探索を行なう。
The chip is divided into lattice-like regions as shown in FIG. 6, taking into consideration the area of passing wiring on the cell row, and a route search is performed.

格子状に分ける方法は図7参照。詳細については後述。See Figure 7 for the method of dividing into a grid. More details later.

径路グラフは物理的な距離ではなくどれだけ配線領域に
余裕がないかをその重みとして持つ。
The weight of the route graph is not based on physical distance, but on how much space there is in the wiring area.

図のものは重みの算出方法の一例である。必要に応じて
物理的な回シ遂に対して制約を設ける。またタイプAの
ブロックの端子位置を決定する。
The figure is an example of a method for calculating weights. Place restrictions on physical execution as necessary. Also, determine the terminal position of the type A block.

5tep 6 : 5tep 4の処理にともないブロ
ック内の配線径路の一部変更を行う。
5tep 6: In accordance with the process of 5tep 4, the wiring route within the block is partially changed.

S tep 7 *ブロック内・ブロック間の詳細配線
を行う。
Step 7 * Perform detailed wiring within and between blocks.

上記の例では、ブロック内配置前に一回、ブロック内配
置後に一回、ブロック内概略配線後に一回、ブロック間
概略配線をおこなうものであるが。
In the above example, inter-block general wiring is performed once before intra-block placement, once after intra-block placement, and once after intra-block general wiring.

ブロック内配置後会ブロック内概略配線後どちらかで一
回行うことも可能である。
It is also possible to perform this once after the intra-block placement and general wiring within the block.

また、経路グラフを用いずに1本発明のブロック間概略
配線を行うことも可能である。
Furthermore, it is also possible to perform the general wiring between blocks according to the present invention without using a route graph.

ブロック内配置後の概略配線をするための径路グラフの
作シ方は以下のとおシ。各ネットごとに径路グラフを作
成し、径路探索をおとなり。(第3図参照) 当該ネットと接続のあるタイプAプayりのグラフをま
ず作成する。当該ネットと接続のあるセルで上下左右の
各辺に一番近いセルを選択しそのセルの上にノードをお
く。それぞれのノードから上下左右の各辺に垂線をおろ
しこれを枝とする。
The following is how to create a route graph for rough wiring after placement in a block. Create a path graph for each net and perform the path search. (See Figure 3) First, create a graph of the type A play that is connected to the net. Select the cell closest to the top, bottom, left, and right sides of the cells that are connected to the net, and place a node on top of that cell. Draw perpendicular lines from each node to the top, bottom, left, and right sides and use these as branches.

垂線の足をノードとする。Let the legs of the perpendicular line be the nodes.

タイプA以外のチップ内の領域の径路グラフを作成する
Create a path graph for regions within the chip other than type A.

ブロック内概略配線後のブロック内概略配線をするため
の径路グラフの作υ方は以下のとおシ。
The method of creating a route graph for performing the general wiring within the block after the general wiring within the block is as follows.

(第2図参照) チップ内の各領域を格子状に細かく分け、各格子領域に
ついて配線の通り難くさを算出する。タイプ大ブロツク
を格子上の領域に分けるには縦方向には配線領域・セル
行領域ごとに、横方向には適当な領域ごとに分ける。X
方向に通過しようとするときの通り難くさは、配線領域
では・・・0とし。
(See Figure 2) Each region within the chip is divided into grids, and the difficulty of passing the wiring is calculated for each grid region. To divide a large type block into areas on a grid, it is divided vertically into wiring areas and cell row areas, and horizontally into appropriate areas. X
The difficulty of passing when trying to pass in the direction is 0 in the wiring area.

セル行領域では・・・ その区間の大きさ一配線領域一七の区間を通っている配
線本数と算出する。X方向に通過するときの通り難<さ
は、配線領域では、その配線領域内の最大densit
yをdMその格子内のdensityをdとすると。
In the cell row area... Calculate the size of the section as the number of wires passing through the section of wiring area 17. The difficulty of passing in the X direction is the maximum density in the wiring area.
Let y be dM and the density within the grid be d.

出する。put out

ブロック間チャネルは支線方向の直線で分割し格子を作
る。通り難くさは、支線方向には・・・O1幹線方向に
は、そのチャネル内の最大densityをdMとし、
その格子内のdensity ftdとすると、□ と
算出する。
Channels between blocks are divided by straight lines in the branch line direction to create a lattice. The difficulty of passage is as follows: In the branch line direction...In the O1 main line direction, the maximum density in that channel is dM,
If the density in the grid is ftd, it is calculated as □.

dM−d タイプA以外のブロックに関しては、適当な格子に分割
しx、1両方向とも通9@くさを、配線禁止領域ならば
・・・無限大、そうでなければ・・・0゜とする。
dM-d For blocks other than type A, divide them into appropriate grids, and set the width of 9@ in both x and 1 directions to infinity if it is a wiring prohibited area, and 0° if it is not. .

これにより、ある領域をある方向で通過するとどれだけ
通過した方向の垂直な方向にその領域が増えるかが評価
でき、評価値が低い径路はどチップの面積を増やさない
ことがわかる。配線混雑度の均一化を図ることによυチ
ップの高集積度化を図る。
This makes it possible to evaluate how much the area increases in the direction perpendicular to the passing direction when passing through a certain area in a certain direction, and it can be seen that routes with low evaluation values do not increase the area of any chip. By equalizing the degree of wiring congestion, we aim to increase the degree of integration of the υ chip.

各格子の重みを基に径路探索を行ない同じ重みの径路が
複数存在するときには物理的な距離が一番短い径路を採
用する。
A route search is performed based on the weight of each grid, and if there are multiple routes with the same weight, the route with the shortest physical distance is selected.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

ブロック内の配置・配線の前に一回・ブロック内の配置
後か概略配線後または両方にブロック間概略配線を一回
づつ行うことによってブロック間のみ見たときにも、ブ
ロック間・ブロック内の階層の区別なく見たときにも冗
長な配線・配線領域を発生することなく概略径路を決定
する。チップの高集積度の向上が可能となる。
By performing inter-block rough wiring once before placement and wiring within a block, once after placement within a block or after rough routing, or once after both, even when looking only between blocks, To determine an approximate route without generating redundant wiring/wiring areas even when viewed without distinguishing between layers. It becomes possible to increase the degree of integration of chips.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図および第2図は本発明の詳細な説明するフローチ
ャート図、第3図は配置後に行なうブロック間概略配線
に使う径路グラフの作成方法の例を示すフローチャート
図、第4図、第5図および第6図はそれぞれブロック内
配置前の概略配線時に、ブロック内配置後の概略配線時
に、プ四ツク間概略配線後の概略配線時に使う径路グラ
フの例の図、第7図はブロック内配置後に行なう概略配
線時にブロックの端子の位置を決める方法の例の図、第
8図は一般的なビルディングプ四ツクによるチップの概
略構成図、第9図はブロックの図。 第10図はセルの通過配線禁止領域の図、第11図は配
線径路の図、第12図は従来のレイアウトフローの図、
第13図は配線径路の例の図、第14図は従来の技術の
問題点を説明する図である。 1・・・セ ル。 2・・・セル上配線禁止領域。 6・・・ブロック。 7・・・ブロック内配線領域。 9・・・セル行。 10・・・ブロック間配線領域。 11・・・周辺回路ブロック。 代理人 弁理士  則 近 憲 佑 同   松山光速 第1図 第2図 第3図 第 4 図 硅陀ドア゛ラフヱ 第5図 イ蚤ンb7゛ラフ ■− 第6図 第8図 −一曵錦方同 第9図 第10図 第11図 第12図 11−一−。 ぐト    Q
1 and 2 are flowcharts explaining the present invention in detail, FIG. 3 is a flowchart showing an example of a method for creating a path graph used for schematic wiring between blocks after placement, and FIGS. 4 and 5. and Figure 6 are examples of route graphs used during rough wiring before placing within a block, during rough wiring after placing within a block, and during rough wiring after rough wiring between four blocks, respectively. A diagram illustrating an example of a method for determining the positions of block terminals during general wiring to be performed later; FIG. 8 is a schematic configuration diagram of a chip using a general building block; and FIG. 9 is a block diagram. Fig. 10 is a diagram of a prohibited area for cell passage wiring, Fig. 11 is a diagram of a wiring route, and Fig. 12 is a diagram of a conventional layout flow.
FIG. 13 is a diagram illustrating an example of a wiring route, and FIG. 14 is a diagram illustrating problems in the conventional technology. 1...Cell. 2... Area where wiring is prohibited on the cell. 6...Block. 7...Intra-block wiring area. 9... Cell row. 10...Inter-block wiring area. 11... Peripheral circuit block. Agent Patent Attorney Yudo Nori Chika Matsuyama Light Speed Figure 1 Figure 2 Figure 3 Figure 4 Figure 5 Illustrator B7 Rough ■- Figure 6 Figure 8 - Ippon Nishikikata 9, 10, 11, and 12. Guto Q

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)半導体基板に、複数の論理セルからなるセル行を
複数個配列し、各論理セル間を配線することにより所望
の論理機能を実現したブロックを複数配置したビルディ
ングブロック方式の集積回路を階層的に設計する際のブ
ロック間の概略配線手法において、ブロック内の論理セ ルの詳細な配置・配線を実行前に、ブロック間の概略配
線径路及び当該ブロック辺上へ端子を設定した後、その
概略配線の結果に基づいてブロック内のセルの詳細な配
置を決定し、さらにもう一度、ブロック内のセルの配置
位置を考慮してブロック間の概略配線を行うことを特徴
とする半導体集積回路の概略配線方法。
(1) A building block type integrated circuit in which multiple blocks are arranged on a semiconductor substrate, each of which achieves a desired logic function by arranging multiple cell rows each consisting of multiple logic cells and wiring between each logic cell. In the general wiring method between blocks when designing a block, before performing the detailed placement and wiring of logic cells within a block, after setting the general wiring route between blocks and terminals on the sides of the block, Schematic wiring of a semiconductor integrated circuit, characterized in that detailed placement of cells within a block is determined based on the wiring results, and then rough wiring between blocks is performed once again, taking into account placement positions of cells within the block. Method.
(2)ブロック内配置後のブロック間概略配線が決定し
、その後ブロック内の概略配線が決定した後で、さらに
もう一度ブロック内の配線混雑度を考慮してブロック間
の概略配線を行うことを特徴とする請求項1記載の半導
体集積回路の概略配線方法。
(2) The general wiring between blocks after intra-block placement is determined, and after the general wiring within the block is determined, the general wiring between blocks is performed once again taking into account the degree of wiring congestion within the block. 2. A method for schematically wiring a semiconductor integrated circuit according to claim 1.
(3)ブロック内の概略配線がすんだあとのブロック間
の概略配線時に、物理的な距離ではなく配線の混雑度に
よる配線の通り難さを考慮し配線混雑度の均一化を図る
ことを特徴とする請求項1記載の半導体集積回路の概略
配線方法。
(3) During the general wiring between blocks after the general wiring within a block has been completed, the difficulty of passing the wiring due to the degree of congestion of the wiring is considered, not the physical distance, to equalize the degree of wiring congestion. 2. A method for schematically wiring a semiconductor integrated circuit according to claim 1.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH04216668A (en) * 1990-12-15 1992-08-06 Sharp Corp Semiconductor integrated circuit
JPH04304656A (en) * 1991-03-05 1992-10-28 Internatl Business Mach Corp <Ibm> Automatic macro optimum sequencing method

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