JPH01237442A - 湿度センサ - Google Patents
湿度センサInfo
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- JPH01237442A JPH01237442A JP63063570A JP6357088A JPH01237442A JP H01237442 A JPH01237442 A JP H01237442A JP 63063570 A JP63063570 A JP 63063570A JP 6357088 A JP6357088 A JP 6357088A JP H01237442 A JPH01237442 A JP H01237442A
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Landscapes
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Fluid Adsorption Or Reactions (AREA)
- Non-Adjustable Resistors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
(産業上の利用分野)
この発明はポリグルタミン酸メチルとポリウレタンの共
重合体を感湿体とする湿度センサに関する。
重合体を感湿体とする湿度センサに関する。
(従来の技術)
湿度を検出して電気的な信号(こ変換するため、従来f
J)ら各機略湿材料が試みられている。それらはセラミ
ックを使用するもの、有機材料を用いるζこ大別される
。
J)ら各機略湿材料が試みられている。それらはセラミ
ックを使用するもの、有機材料を用いるζこ大別される
。
セラミックを用いたものの多くは、電気抵抗変化弐で、
湿度(こ応じてその電気抵抗が変化する。
湿度(こ応じてその電気抵抗が変化する。
この目的のfこめ、大気中の水分を吸着しやすい材料を
選定し、多孔質セラミックの形に焼成し、測定弔電2.
゛乗をAu焼付ペーストなどを用いて設ける。
選定し、多孔質セラミックの形に焼成し、測定弔電2.
゛乗をAu焼付ペーストなどを用いて設ける。
セラミックを用いfこ湿度センサは、現在“廻用比され
ているものの、応答速度が1唱い、 7.7I]湿時と
除湿時では、ヒステリシスが太きい浄の難点がある。
ているものの、応答速度が1唱い、 7.7I]湿時と
除湿時では、ヒステリシスが太きい浄の難点がある。
さらは最近の傾向として、cffLら%MO8FETS
l)ゲート−ヒに形成する(こはセラミックの焼収益度
が高G)ため、MOSFETそのも6つや金属電i蚕(
多くは蒸着(こよる)の′特製を損なうためIC比され
た湿度センサには適合しない。
l)ゲート−ヒに形成する(こはセラミックの焼収益度
が高G)ため、MOSFETそのも6つや金属電i蚕(
多くは蒸着(こよる)の′特製を損なうためIC比され
た湿度センサには適合しない。
一力、有Il幾物を用い1こものはPVAやSi樹1指
の膜が提案されているが、ヒステリシスや経時安定性に
欠けろため、信頼できる安価な湿度センサとして広く用
いられるEこ至っていない。
の膜が提案されているが、ヒステリシスや経時安定性に
欠けろため、信頼できる安価な湿度センサとして広く用
いられるEこ至っていない。
またヒステリシスが小さく、応答速度が速く、Si累子
と組み貧せ甘子が工程ヒ申能な湿度センサとしてポリグ
ルタミン酸メチル牟体の模も提案されているが、基板と
の密着性が悪く暎が剥離しやすいという難点があった。
と組み貧せ甘子が工程ヒ申能な湿度センサとしてポリグ
ルタミン酸メチル牟体の模も提案されているが、基板と
の密着性が悪く暎が剥離しやすいという難点があった。
(本発明が解決しようとする課題)
本発明は上記の事情を鑑み、ヒステリシスが小さく、応
答速度が速<、Si素子と組合わせ手が工程上可能で基
板との密着性が強い感湿膜を有する湿度センサを提供す
る。
答速度が速<、Si素子と組合わせ手が工程上可能で基
板との密着性が強い感湿膜を有する湿度センサを提供す
る。
(課題を解決するための手段と作用)
本発明は、上記の従来摩湿度センサの難点を克服し、安
価で信頼性の高い湿度センサを提供することを目的とす
る。
価で信頼性の高い湿度センサを提供することを目的とす
る。
このため本発明では、感湿材料(こポリグルタミン酸メ
チルとポリウレタンの共重合体を用いる。
チルとポリウレタンの共重合体を用いる。
ポリグルタミン酸メチルは、下記の如き分子構造をもち
疎水性である。
疎水性である。
またポリウレタンは、下記の如き分子構造をもち疎水性
である。
である。
ポリグルタミン酸メチルの膜は多孔性で透湿性に富む反
面、吸湿性は少ない。このため吸湿性1こ富むPVAや
セラミックにくらべ、ヒステリシスを大幅に低減できる
。さらをこ、セラミックにくらべて薄@をたやすく形成
できるので応答速度は大幅に改善できる。
面、吸湿性は少ない。このため吸湿性1こ富むPVAや
セラミックにくらべ、ヒステリシスを大幅に低減できる
。さらをこ、セラミックにくらべて薄@をたやすく形成
できるので応答速度は大幅に改善できる。
さらに、ポリグルタミン酸メチルは、適当な溶媒で希釈
して、容易に基板上lこスピンコードでき、不要部分は
プラズマアッシャ−で除去できろうこれらの工程は、高
々200°C以下で行なうことができ、そのため、この
感湿膜をSl素子上に形成できる。
して、容易に基板上lこスピンコードでき、不要部分は
プラズマアッシャ−で除去できろうこれらの工程は、高
々200°C以下で行なうことができ、そのため、この
感湿膜をSl素子上に形成できる。
また、ポリグルタミン酸メチルとポリウレタンを共重合
させることによりポリグルタミン酸メチル単体の膜より
も高伸度の嘆が得られ、基板との密着性が向上する。そ
のためより信頼性の高い感湿膜が得られる。
させることによりポリグルタミン酸メチル単体の膜より
も高伸度の嘆が得られ、基板との密着性が向上する。そ
のためより信頼性の高い感湿膜が得られる。
ポリグルタミン酸メチルとポリウレタンを共重合体を用
いた感湿膜の感湿特性はポリグルタミン酸メチル単体の
ものよりも線形に近くなり、実用化tこ適している。
いた感湿膜の感湿特性はポリグルタミン酸メチル単体の
ものよりも線形に近くなり、実用化tこ適している。
(実施例)
以下、本発明の実施例を詳細に説明する。
実施例1
第1図は本発明の素子の断面構造を示す。SiN基板1
−4上醗こ蒸着により下部電極1−2として全電極を設
け、この上にポリグルタミン酸メチルとボリウレタ/の
共重合体1−1をジメチルホルムアミド(以(iDMF
)fこて体積比50%に希釈し′r−溶液を基板のS
i o、ガラスを回転してスピンコードした。この後乾
燥(室@)シ、さらlこ膜上に蒸着により上部電極1−
3である全電極を形成した。この後、この素子にリード
線e付け、湿度が可変な槽齋こて相対湿度10チ〜90
チ(25チ)で評価した。
−4上醗こ蒸着により下部電極1−2として全電極を設
け、この上にポリグルタミン酸メチルとボリウレタ/の
共重合体1−1をジメチルホルムアミド(以(iDMF
)fこて体積比50%に希釈し′r−溶液を基板のS
i o、ガラスを回転してスピンコードした。この後乾
燥(室@)シ、さらlこ膜上に蒸着により上部電極1−
3である全電極を形成した。この後、この素子にリード
線e付け、湿度が可変な槽齋こて相対湿度10チ〜90
チ(25チ)で評価した。
第2図番こは1本素子の相対湿度10チ下で電気容量C
3゜を基準としたとき、90%下の眠気容量C,。の非
並びに相対湿度10%→90チ→10チにおける行程で
の最大ヒステリシスを他の例と併せて示す。
3゜を基準としたとき、90%下の眠気容量C,。の非
並びに相対湿度10%→90チ→10チにおける行程で
の最大ヒステリシスを他の例と併せて示す。
実施例2
実施例1と同一構成であるが、ポリグルタミン酸メチル
とボリウレタ/の共重仕体@を形成乾燥後、紫外線(水
銀ランプ、波長的3300〜3700A)を一定時間照
射した後、上部!極を設けた。
とボリウレタ/の共重仕体@を形成乾燥後、紫外線(水
銀ランプ、波長的3300〜3700A)を一定時間照
射した後、上部!極を設けた。
この喋作をこより、′l?性分損うことなく感湿膜は。
より機械的1こ強固になり、実施例1のものは膜面を機
械的に擦ると剥離が生じたが、この例では生ずることが
なくなった。
械的に擦ると剥離が生じたが、この例では生ずることが
なくなった。
実施例3
実施例1と同−構成であるが、ポリグルタミン酸メチル
とポリウレタンの共重合体@を形成乾燥後、60℃〜1
80℃で一定時間熱硬化した後、上部電極を設けた。こ
の操作により、特性を損うことなく感湿膜は、より長期
間にわたりて安定になった。実施例2のものは高湿試験
において電気容量が増加し感湿膜が劣化したが、この例
では電気容量の増υ口は見られなかった。
とポリウレタンの共重合体@を形成乾燥後、60℃〜1
80℃で一定時間熱硬化した後、上部電極を設けた。こ
の操作により、特性を損うことなく感湿膜は、より長期
間にわたりて安定になった。実施例2のものは高湿試験
において電気容量が増加し感湿膜が劣化したが、この例
では電気容量の増υ口は見られなかった。
実施例4
第3図−こ本発明の第4の実施例を説明する構造を断面
で示す。SIO!ガラス基板3−5上に蒸着により金の
面の歯状電極3−2.3−3を形成し。
で示す。SIO!ガラス基板3−5上に蒸着により金の
面の歯状電極3−2.3−3を形成し。
その上にポリグルタミン酸メチルとポリウレタンの共重
合体膜3−1を実施例1と同様にして設け、さらEこ、
その上に先番こ設けた櫛の歯状電極に電気的に接するこ
とがないように蒸着により金電極を被覆した。測定には
、前記一対の櫛の歯状電極を用いると、蒸着した金がな
んら段差を横切ることがないため、tlffi切れの心
配がない素子が得られ′た。感湿特性を第1表に示す。
合体膜3−1を実施例1と同様にして設け、さらEこ、
その上に先番こ設けた櫛の歯状電極に電気的に接するこ
とがないように蒸着により金電極を被覆した。測定には
、前記一対の櫛の歯状電極を用いると、蒸着した金がな
んら段差を横切ることがないため、tlffi切れの心
配がない素子が得られ′た。感湿特性を第1表に示す。
実施例5
実施列4と同様な構成をとり、ポリグルタミン酸メチル
とポリウレタンの共重曾体映乾保後、実施例2と同様な
紫外線を照射したものを試作した。
とポリウレタンの共重曾体映乾保後、実施例2と同様な
紫外線を照射したものを試作した。
感湿膜は、実施例2と同様丈夫になり、特性も実施例4
と大差なきものが得られた。
と大差なきものが得られた。
実施例6
第4図Gこ本発明の実施例の素子の構造を示す。
この素子はMOSFETを含むSi基板4−5上に設け
られた絶縁膜4−4の上に、さらに、MOSFETのゲ
ート表面に対面して、Ti−Au成る蒸着金属の積層電
極4−2を設け、さらにこれを覆うべくポリグルタミン
酸メチルとポリウレタンの共重合体@4−1 を設け、
不用部分をプラズマアッシャ−で除去した後、このポリ
グルタミン酸メチルとポリウレタンの共重合体膜膜上に
蒸着により上部電極4−3を設けて感湿部とした。
られた絶縁膜4−4の上に、さらに、MOSFETのゲ
ート表面に対面して、Ti−Au成る蒸着金属の積層電
極4−2を設け、さらにこれを覆うべくポリグルタミン
酸メチルとポリウレタンの共重合体@4−1 を設け、
不用部分をプラズマアッシャ−で除去した後、このポリ
グルタミン酸メチルとポリウレタンの共重合体膜膜上に
蒸着により上部電極4−3を設けて感湿部とした。
また、参考のため、このようなMOSFET5−2と感
湿集子5−1とを組み会わせた湿度センサ測定回路を第
51図に示す。このようにして試作したゲート上の感湿
部分のみを評価した結果を表1に他の例も併せて示す。
湿集子5−1とを組み会わせた湿度センサ測定回路を第
51図に示す。このようにして試作したゲート上の感湿
部分のみを評価した結果を表1に他の例も併せて示す。
上記の実施例1〜6と比べるため、次の参考例の試作2
行なった。
行なった。
参考例1
実施例1と同様な製法をこてPVAを感湿体に用いた。
用いたPVAの重仕度は約20000.その結晶化度に
よって多少の差はあるが5表11こ示すごとき結果とな
った。なお、ヒステリシスは、比較的小さいものを表1
1こ示したが、相対湿度90%を経験すると、全く復帰
せず測定不能なものが5個中2個あった。
よって多少の差はあるが5表11こ示すごとき結果とな
った。なお、ヒステリシスは、比較的小さいものを表1
1こ示したが、相対湿度90%を経験すると、全く復帰
せず測定不能なものが5個中2個あった。
参考例2
実施例2と同様な構成によりアクリル系モノマー重合体
を用いた。重合度は不明である。感湿特性は湿度センサ
としては十分であるが、塗れ性が良くないので、均一な
素子を作成するのが困難であった。
を用いた。重合度は不明である。感湿特性は湿度センサ
としては十分であるが、塗れ性が良くないので、均一な
素子を作成するのが困難であった。
参考列3
実施例1と同様な構成で感湿)摸としてAJ、O,スパ
ッタ模と用いた。AA、O,とターゲットとし、O3:
Ar=1:1とし、10”Torr下でマグネトロンス
パッタを行ない、I@3000Aの感湿膜を作成した。
ッタ模と用いた。AA、O,とターゲットとし、O3:
Ar=1:1とし、10”Torr下でマグネトロンス
パッタを行ない、I@3000Aの感湿膜を作成した。
表1で明らかな如く、ポリグルタミン酸メチルとポリウ
レタンの共重合体を用いた限度センサはCoo/Coo
が十分大きい上に、ヒステリシスが小さく、かつ応答速
度が速い。応答速度は通常膜厚により左右されるが、実
施例1〜6.参考例1〜2はほぼ同一の厚みで、およそ
1μm前後である。
レタンの共重合体を用いた限度センサはCoo/Coo
が十分大きい上に、ヒステリシスが小さく、かつ応答速
度が速い。応答速度は通常膜厚により左右されるが、実
施例1〜6.参考例1〜2はほぼ同一の厚みで、およそ
1μm前後である。
従って、これらの例の差は1本発明(こよる効果が顕著
に現われているといえる。また、参考例3ハ念)k b
A ’ 20 a模につぃての結果を示したがこれも
本発明の結果を大きく下回るものである。
に現われているといえる。また、参考例3ハ念)k b
A ’ 20 a模につぃての結果を示したがこれも
本発明の結果を大きく下回るものである。
([2)
上述の如く、ポリグルタミン酸メチルとポリウンタ/の
共重合体は、各種の形態をもって、湿度センサEこ適応
しつるが、第6図Qこ示すごとく感湿素子をリングオシ
レータの発振回路6−2fこ挿入し、容量変化がオシレ
ータの周波数変化として、信号を取り出すことができる
。
共重合体は、各種の形態をもって、湿度センサEこ適応
しつるが、第6図Qこ示すごとく感湿素子をリングオシ
レータの発振回路6−2fこ挿入し、容量変化がオシレ
ータの周波数変化として、信号を取り出すことができる
。
また、この場合発振器の他の部品をSiチツプ上にIC
化し、そのICの基板の一部Eこ本発明による感湿膜を
設けることも可能である。
化し、そのICの基板の一部Eこ本発明による感湿膜を
設けることも可能である。
さらに、S1チツプ上全而を感湿部とした構成であって
も良い。
も良い。
第1図は本活明の実施例1(こおける構造図、第2図は
第1図の素子の25°C1こおける特性図、第3図は本
発明の池の構成例を示す断面図、第4図は本発明の池の
実施列を示す)析面図、第5図は第4図の素子のF E
T湿度センサとしての測定回路を示す回路図、第6図
は本発明による感湿素P6−1を発振回路6−2の一部
をご用いたリングオシレータを示す回路図である。 1−1・・・ポリグルタミン酸メチルとポリウレタンの
共重合体から成る感湿膜、2・・・下部電極、3・・・
上部透湿性電極、4・・・基板、3−1・・・ポリグル
タミン酸メチルとボリウレタ/の共重合体膜、2−3・
・・櫛型電極、4・・・上部電極、5・・・基板、4−
1・・・ポリグルタミン酸メチルとポリウレタンの共重
合体膜、2・・・Ti−Auからなるゲート電極。 3・・・上部透湿性電極、4・・・Si上に設けた絶縁
膜、5・・・MOSFETを言むSi基板。 代理人 弁理士 則 近 憲 缶 周 松 山 光 之/−会 第 1 図 第 3 図 第 4 図 珂も 乙 凶
第1図の素子の25°C1こおける特性図、第3図は本
発明の池の構成例を示す断面図、第4図は本発明の池の
実施列を示す)析面図、第5図は第4図の素子のF E
T湿度センサとしての測定回路を示す回路図、第6図
は本発明による感湿素P6−1を発振回路6−2の一部
をご用いたリングオシレータを示す回路図である。 1−1・・・ポリグルタミン酸メチルとポリウレタンの
共重合体から成る感湿膜、2・・・下部電極、3・・・
上部透湿性電極、4・・・基板、3−1・・・ポリグル
タミン酸メチルとボリウレタ/の共重合体膜、2−3・
・・櫛型電極、4・・・上部電極、5・・・基板、4−
1・・・ポリグルタミン酸メチルとポリウレタンの共重
合体膜、2・・・Ti−Auからなるゲート電極。 3・・・上部透湿性電極、4・・・Si上に設けた絶縁
膜、5・・・MOSFETを言むSi基板。 代理人 弁理士 則 近 憲 缶 周 松 山 光 之/−会 第 1 図 第 3 図 第 4 図 珂も 乙 凶
Claims (11)
- (1)基板上に設けた一対の湿度測定用電極、及びこの
電極間に設けたポリグルタミン酸メチルとポリウレタン
の共重合体からなる感湿膜から成ることを特徴とする湿
度センサ。 - (2)基板上に第1の電極を設け、その上にポリグルタ
ミン酸メチルとポリウレタンの共重合体から成る感湿膜
を積層し、さらにその上部に透湿性の第2電極を設けた
積層構造を特徴とする請求項1記載の湿度センサ。 - (3)基板上に櫛の歯状電極を設け、その両方を覆うべ
くポリグルタミン酸メチルとポリウレタンの共重合体か
ら成る感湿膜を設け、その上部を透過性の金属電極で覆
ったことを特徴とする請求項1記載の湿度センサ。 - (4)第1の電極がSiMOSFETのゲート電極を兼
ねるべく配置されたことを特徴とする請求項2記載の湿
度センサ。 - (5)感湿部分の形成がMOSFETと同一の基板上に
形成され、感湿膜に接する一方の電極が該FETのゲー
ト電極と電気的に接続して成ることを特徴とする請求項
2記載の湿度センサ。 - (6)形成される湿度センサが、外部回路と接続され、
リングオシレータを形成し、該リングオシレータの発振
周波数が湿度によって変化することを特徴とする請求項
1記載の湿度センサ。 - (7)リングオシレータを形成するSi基板上の一部に
湿度センサを設けたことを特徴とする請求項6記載の湿
度センサ。 - (8)リングオシレータを形成するSi基板上の湿度セ
ンサ接続電極を除く全面に絶縁膜を設け、この上に第1
項における湿度センサを形成したことを特徴とする請求
項6記載の湿度センサ。 - (9)ポリグルタミン酸メチルとポリウレタンの共重合
体膜を塗布後、紫外光を照射して硬化、安定化せしめた
感湿膜としたことを特徴とする請求項1記載の湿度セン
サ。 - (10)ポリグルタミン酸メチルとポリウレタンの共重
合体膜を塗布後、風乾して硬化、安定化せしめた感湿膜
としたことを特徴とする請求項1記載の湿度センサ。 - (11)ポリグルタミン酸メチルとポリウレタンの共重
合体膜を塗布後、熱硬化を行なって硬化、安定化せしめ
た感湿膜としたことを特徴とする請求項1記載の湿度セ
ンサ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63063570A JPH01237442A (ja) | 1988-03-18 | 1988-03-18 | 湿度センサ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63063570A JPH01237442A (ja) | 1988-03-18 | 1988-03-18 | 湿度センサ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01237442A true JPH01237442A (ja) | 1989-09-21 |
Family
ID=13233040
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63063570A Pending JPH01237442A (ja) | 1988-03-18 | 1988-03-18 | 湿度センサ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01237442A (ja) |
-
1988
- 1988-03-18 JP JP63063570A patent/JPH01237442A/ja active Pending
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