JPH01236568A - E×b型エネルギーフィルタ - Google Patents
E×b型エネルギーフィルタInfo
- Publication number
- JPH01236568A JPH01236568A JP63064474A JP6447488A JPH01236568A JP H01236568 A JPH01236568 A JP H01236568A JP 63064474 A JP63064474 A JP 63064474A JP 6447488 A JP6447488 A JP 6447488A JP H01236568 A JPH01236568 A JP H01236568A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electric field
- magnetic
- magnetic field
- type energy
- energy filter
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000005684 electric field Effects 0.000 claims abstract description 30
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims abstract description 18
- 201000009310 astigmatism Diseases 0.000 abstract description 12
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 10
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- AZBAQHIVVLQMFX-UHFFFAOYSA-N 4-(2,4-dimethylphenyl)-5-methyl-1,3-thiazol-2-amine Chemical compound S1C(N)=NC(C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=C1C AZBAQHIVVLQMFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明は、ExB型エネルギーフィルタに係り、特に磁
場、電場が共に不均一な場合に非点なし結像を得ること
ができるE×B型エネルギーフィルタに関するものであ
る。
場、電場が共に不均一な場合に非点なし結像を得ること
ができるE×B型エネルギーフィルタに関するものであ
る。
[従来の技術]
電場と磁場を直交させ、この重畳場に直交する方向に荷
電粒子を直進させることによりエネルギー分析を行うE
×B型エネルギーフィルタは光軸が直線になるという利
点があるにも係わらず、光学系が理論的に解明されてい
なかったために、その他のエネルギーフィルタに比べて
ほとんど利用されていなかった。その理由の一つは、電
場方向には収束作用を持つが、磁場方向には収束作用が
ないために、ビームはその入射の開き角に応じて広がり
、丸いビームを入射させても出射ビームは細長くなり非
点結像してしまうということにある。
電粒子を直進させることによりエネルギー分析を行うE
×B型エネルギーフィルタは光軸が直線になるという利
点があるにも係わらず、光学系が理論的に解明されてい
なかったために、その他のエネルギーフィルタに比べて
ほとんど利用されていなかった。その理由の一つは、電
場方向には収束作用を持つが、磁場方向には収束作用が
ないために、ビームはその入射の開き角に応じて広がり
、丸いビームを入射させても出射ビームは細長くなり非
点結像してしまうということにある。
これに対して、ExB型エネルギーフィルタにおいて非
点なし結像、即ち丸いビームを入射した場合には丸いビ
ームが取り出せるようにするために種々の提案がなされ
てきた。
点なし結像、即ち丸いビームを入射した場合には丸いビ
ームが取り出せるようにするために種々の提案がなされ
てきた。
第3図にその一例を示す。図で1は磁極、2は電極であ
る。このものは傾斜磁極と円筒電極を使用し、図のX方
向(″wi場方同方向分布がそれぞれEx=Ew (1
+x/Re) = (1)BY=Bw (1+x
/Rm) −(2)なる式で表される不均一電場
、および不均一磁場を加えるようにしたものである。こ
こで、Reは円筒電極の曲率半径、Rmは磁極面中心に
おける曲率半径である。また、EwとBwはウィーン条
件を滴定する電場と磁場であり、直進する電子の速度を
Vとすると、Ew==v@Bwである。EwとBwの関
係は以下も同様である。
る。このものは傾斜磁極と円筒電極を使用し、図のX方
向(″wi場方同方向分布がそれぞれEx=Ew (1
+x/Re) = (1)BY=Bw (1+x
/Rm) −(2)なる式で表される不均一電場
、および不均一磁場を加えるようにしたものである。こ
こで、Reは円筒電極の曲率半径、Rmは磁極面中心に
おける曲率半径である。また、EwとBwはウィーン条
件を滴定する電場と磁場であり、直進する電子の速度を
Vとすると、Ew==v@Bwである。EwとBwの関
係は以下も同様である。
このようなE×B型エネルギーフィルタにおいては、サ
イクロトロン半径をrlとしたとき、1/Rm−1/R
e:1/2r@ ・ (3)という関係が成り立てば
非点なし結像が得られることが知られている。
イクロトロン半径をrlとしたとき、1/Rm−1/R
e:1/2r@ ・ (3)という関係が成り立てば
非点なし結像が得られることが知られている。
[発明が解決しようとする課題]
しかしながら、第3図において、3式を満たすようにす
ればよいとはいっても、フィルタの縁喘場、即ち、フィ
ルタの入射口、出射口付近の電場、磁場の影響や、ビー
ムと直交する方向で電極、磁極が有限の長さであること
によって生じる電場、磁場の不均一性の影響等があるた
めに、実際には計算どおりにはいかないものであった。
ればよいとはいっても、フィルタの縁喘場、即ち、フィ
ルタの入射口、出射口付近の電場、磁場の影響や、ビー
ムと直交する方向で電極、磁極が有限の長さであること
によって生じる電場、磁場の不均一性の影響等があるた
めに、実際には計算どおりにはいかないものであった。
縁端場による影響を少なくすることに関しては種々提案
されてぢり、ここでは問題としないが、ここでとりあげ
る問題は、電場、磁場が不均一であることによる影響を
数式的にどのように取り扱えばよいか、ということであ
る。
されてぢり、ここでは問題としないが、ここでとりあげ
る問題は、電場、磁場が不均一であることによる影響を
数式的にどのように取り扱えばよいか、ということであ
る。
ところで、電場と磁場のX軸方向の分布は一般には次の
式で表される。
式で表される。
Ex=Ew (1+aax+b*x2+−・・) ・”
(4)BY=Bw (1+abx+bbx”+=)
・” (5)しかし、これらの式において3次以上の項
は無視、しても問題無いので、以下は2次までの項を考
−えることにする。即ち、電場分布、および磁場分布の
X軸方向の成分を Ex=Ew(1+a、x+box”) ・・・
(8)B’Y=Bw (1+abx+bbx”)
・・・ (7)と表されるものとする。
(4)BY=Bw (1+abx+bbx”+=)
・” (5)しかし、これらの式において3次以上の項
は無視、しても問題無いので、以下は2次までの項を考
−えることにする。即ち、電場分布、および磁場分布の
X軸方向の成分を Ex=Ew(1+a、x+box”) ・・・
(8)B’Y=Bw (1+abx+bbx”)
・・・ (7)と表されるものとする。
そこで、1,2式と6.7式を比較すればわかるように
、従来のものにおいては2次の項を無視していたことが
分かる。6,7式の2次の項が無視してもよいものであ
れば、従来のものでも非点なし結像が得られる訳である
が、実際にはそうはならないということは、2次の項は
実質的に無視できないものである、ということを意味す
る。これはまた、電場と磁場の2次の項まで含めて考え
ることによって非点なし結像の条件を見いだせる可能性
がある、ということでもある。
、従来のものにおいては2次の項を無視していたことが
分かる。6,7式の2次の項が無視してもよいものであ
れば、従来のものでも非点なし結像が得られる訳である
が、実際にはそうはならないということは、2次の項は
実質的に無視できないものである、ということを意味す
る。これはまた、電場と磁場の2次の項まで含めて考え
ることによって非点なし結像の条件を見いだせる可能性
がある、ということでもある。
本発明は、上記課題を解決するものであって、電場分布
および磁場分布が不均一で2次の項が無視できない場合
に非点なし結像を得ることができるE×B型エネルギー
フィルタを提供することを目的とするものである。
および磁場分布が不均一で2次の項が無視できない場合
に非点なし結像を得ることができるE×B型エネルギー
フィルタを提供することを目的とするものである。
[課題を解決するための手段]
上記の目的を達成するために、本発明のE×B型エネル
ギーフィルタは、不均一電場を与える電極と、不均一磁
場を与える磁極とを存し、電場方向の電場分布および磁
場分布がそれぞれEx=Ew (1+aax+b*x2
)By=Bw (1+abx+bbx2)と表される場
合に、電極および磁極の形状を、Cを正の定数として (ab−aa) −c (bb−b、)の値が所定の正
の値になるようにしたことを特徴とする。
ギーフィルタは、不均一電場を与える電極と、不均一磁
場を与える磁極とを存し、電場方向の電場分布および磁
場分布がそれぞれEx=Ew (1+aax+b*x2
)By=Bw (1+abx+bbx2)と表される場
合に、電極および磁極の形状を、Cを正の定数として (ab−aa) −c (bb−b、)の値が所定の正
の値になるようにしたことを特徴とする。
[作用]
本発明のE×B型エネルギーフィルタは、電場および磁
場の電場方向(X軸方向)の分布がE x= E w
(1+ aoX +box”)BY=Bw (1+ab
x+bbx”)七いう式で表されるとき、四つの係数、
ao、bo、ahおよびす、の間に所定の関係を持たせ
ることにより、電場および磁場の2次の項を無視できな
い場合であっても、非点なし結像を得ることができるも
のである。
場の電場方向(X軸方向)の分布がE x= E w
(1+ aoX +box”)BY=Bw (1+ab
x+bbx”)七いう式で表されるとき、四つの係数、
ao、bo、ahおよびす、の間に所定の関係を持たせ
ることにより、電場および磁場の2次の項を無視できな
い場合であっても、非点なし結像を得ることができるも
のである。
[実施例]
以下、図面を参照しつつ実施例を説明する。
第1図は本発明に係るE×B型エネルギーフィルタの例
を示す図、第2図は第1図の電極と磁極の配置を決定す
る課程を示す図である。
を示す図、第2図は第1図の電極と磁極の配置を決定す
る課程を示す図である。
8.7式を前提として非点なし結像を得るためには、四
つの係数、ao、bo、a、およびbbの間にどのよう
な関係がなければならないかを知る必要があるが、Ex
B型エネルギーフィルタでの荷電粒子の振舞いが完全に
は解明されていないので、これらの係数の関係を理論的
に導出することはできず、電子の軌道計算によって実験
的に求めざるを得ない。そこで、種々の軌道計算の結果
、四つの係数の間に次の関係があれば非点なし結像が得
られることが分かった。
つの係数、ao、bo、a、およびbbの間にどのよう
な関係がなければならないかを知る必要があるが、Ex
B型エネルギーフィルタでの荷電粒子の振舞いが完全に
は解明されていないので、これらの係数の関係を理論的
に導出することはできず、電子の軌道計算によって実験
的に求めざるを得ない。そこで、種々の軌道計算の結果
、四つの係数の間に次の関係があれば非点なし結像が得
られることが分かった。
(ab aa) −〇 (bb b、)=πλ百L
−L f ・・・(8)ここで、Lは実効フィルタ
長、Lfは縁喘場に対する補正項、Cは0.274mm
という値の定数である。また、8式の右辺は正の値であ
る。−船釣な形状の電極と磁極を想定した場合、磁場の
2次の係数す、は負の値であり、電場の2次の係数す。
−L f ・・・(8)ここで、Lは実効フィルタ
長、Lfは縁喘場に対する補正項、Cは0.274mm
という値の定数である。また、8式の右辺は正の値であ
る。−船釣な形状の電極と磁極を想定した場合、磁場の
2次の係数す、は負の値であり、電場の2次の係数す。
は正の値である。これは第3図に示す形状でも同様であ
る。
る。
8式の条件を満足する電極形状、磁極形状およびそれら
の配置は次のようにして求める。
の配置は次のようにして求める。
先ず、ビームの通る空間の大きさ、つまり、フィルタ長
しとそのx−y平面での断面の大きさを決定する。これ
を決めるについては格別の制約条件はないので、必要に
応じて決定することができる。ここでは、断面の大きさ
は電場方向と磁場方向を同じような寸法とすることを考
える。
しとそのx−y平面での断面の大きさを決定する。これ
を決めるについては格別の制約条件はないので、必要に
応じて決定することができる。ここでは、断面の大きさ
は電場方向と磁場方向を同じような寸法とすることを考
える。
次にその空間の回りに適当な形状の電極と磁極を配置す
る。第2図にその例を示す。図で、1は磁極、2は電極
、G’e+ Gbはそれぞれ電極間ギャップ、磁極間
ギャップ、D、、Dhはそれぞれ電極頂面径、磁極頂面
径である。ここではフィルタ断面の条件からG −”
G bであることは明かである。
る。第2図にその例を示す。図で、1は磁極、2は電極
、G’e+ Gbはそれぞれ電極間ギャップ、磁極間
ギャップ、D、、Dhはそれぞれ電極頂面径、磁極頂面
径である。ここではフィルタ断面の条件からG −”
G bであることは明かである。
さて、磁場の2次の項の係数bbは、磁極間ギャップ長
対磁極頂面径比、およびテーパー角等にょうて決まるか
ら、第2図のように電極形状、磁極形状およびその配置
が決まれば、D b、/ G b、 および磁極形状
によりbbの値を求めることができる。
対磁極頂面径比、およびテーパー角等にょうて決まるか
ら、第2図のように電極形状、磁極形状およびその配置
が決まれば、D b、/ G b、 および磁極形状
によりbbの値を求めることができる。
電場の2次の項の係数す、についても同様である。
こうして2次の係数が求まったら、次に1次の係数を決
める。1次の係数は、第3図のRe、 Rmを用いて
ab=1/Rm+ aa=1/Reと表されるから、
磁極については傾斜角、電極については曲率半径をそれ
ぞれ変えることによって任意の値にすることができる。
める。1次の係数は、第3図のRe、 Rmを用いて
ab=1/Rm+ aa=1/Reと表されるから、
磁極については傾斜角、電極については曲率半径をそれ
ぞれ変えることによって任意の値にすることができる。
このようにして四つの係数が決まったら、8式に当ては
めて計算し、8式を構足しなければ、形状を変える。具
体的には磁極の傾斜角を変える。
めて計算し、8式を構足しなければ、形状を変える。具
体的には磁極の傾斜角を変える。
そうするとり、が変わってくるから、再度係数を計算し
て8式を満足するかどうか検証する。このような手順を
繰り返すことによって8式を満足するエネルギーフィル
タを設計することができる。
て8式を満足するかどうか検証する。このような手順を
繰り返すことによって8式を満足するエネルギーフィル
タを設計することができる。
以上のようにして得られたエネルギーフィルタの例を第
1図に示す。このものにおいては、Rm: 3B 、4
箇m、 Re = oo、 L = [15mmで
あり、 また、 °a*:0.005mm−’、bs=
0.039mm−’、ab:0.0275w−1、b
b = −0,0022m+w −” t’ある。 今
、L f =0.001mm −’の場合を考えると、
8式からπ/、J2 L = 0.0338目■−1と
なり、実際のLの値から計算される値、0.0333目
■弓とほぼ一致する。従って非点なし結像を得ることが
できる。
1図に示す。このものにおいては、Rm: 3B 、4
箇m、 Re = oo、 L = [15mmで
あり、 また、 °a*:0.005mm−’、bs=
0.039mm−’、ab:0.0275w−1、b
b = −0,0022m+w −” t’ある。 今
、L f =0.001mm −’の場合を考えると、
8式からπ/、J2 L = 0.0338目■−1と
なり、実際のLの値から計算される値、0.0333目
■弓とほぼ一致する。従って非点なし結像を得ることが
できる。
[発明の効果コ
以上のように本発明によれば、電場分布および磁場分布
の2次の項を無視し得ない場合、電場、磁場それぞれの
1次と2次の係数の間に所定の関係を持たせることによ
り、非点なし結像を得ることができる。
の2次の項を無視し得ない場合、電場、磁場それぞれの
1次と2次の係数の間に所定の関係を持たせることによ
り、非点なし結像を得ることができる。
第1図は本発明に係るE×B型エネルギーフィルタの設
計例を示す図、第2図は第1図の電極と磁極の配置を決
定する課程を示す図、第3図は従来のE×B型エネルギ
ーフィルタの例を示す図である。 1・・・磁極、 2・・・電極。
計例を示す図、第2図は第1図の電極と磁極の配置を決
定する課程を示す図、第3図は従来のE×B型エネルギ
ーフィルタの例を示す図である。 1・・・磁極、 2・・・電極。
Claims (2)
- (1)不均一電場を与える電極と、不均一磁場を与える
磁極とを有し、電場方向の電場分布および磁場分布がそ
れぞれ Ex=Ew(1+a_ax+b_ax^2)By=Bw
(1+a_bx+b_bx^2)と表されるE×B型エ
ネルギーフィルタにおいて、前記電極および磁極の形状
が、Cを正の定数として (a_b−a_a)−C(b_b−b_a)の値が所定
の正の値になるように定められていることを特徴とする
E×B型エネルギーフィルタ。 - (2)前記所定の正の値が、実効フィルタ長をL、縁端
場に対する補正項をLfとしたとき、 π/√2L−Lf であることを特徴とする請求項1記載のE×B型エネル
ギーフィルタ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63064474A JPH01236568A (ja) | 1988-03-17 | 1988-03-17 | E×b型エネルギーフィルタ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63064474A JPH01236568A (ja) | 1988-03-17 | 1988-03-17 | E×b型エネルギーフィルタ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01236568A true JPH01236568A (ja) | 1989-09-21 |
Family
ID=13259261
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63064474A Pending JPH01236568A (ja) | 1988-03-17 | 1988-03-17 | E×b型エネルギーフィルタ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01236568A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7135677B2 (en) | 2002-08-13 | 2006-11-14 | Carl Zeiss Nts Gmbh | Beam guiding arrangement, imaging method, electron microscopy system and electron lithography system |
-
1988
- 1988-03-17 JP JP63064474A patent/JPH01236568A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7135677B2 (en) | 2002-08-13 | 2006-11-14 | Carl Zeiss Nts Gmbh | Beam guiding arrangement, imaging method, electron microscopy system and electron lithography system |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4389571A (en) | Multiple sextupole system for the correction of third and higher order aberration | |
EP0582193B1 (en) | Synchrotron radiation light-source apparatus and method of manufacturing same | |
US8436317B1 (en) | Wien filter | |
US8785880B2 (en) | Chromatic aberration corrector and electron microscope | |
EP1432006A2 (en) | Energy filter and electron microscope | |
JP4242101B2 (ja) | ウィーンフィルタ | |
JPS5978432A (ja) | 多種形状粒子ビ−ム形成用の偏向対物系を備える装置 | |
JPH01236568A (ja) | E×b型エネルギーフィルタ | |
GB1463748A (en) | Electron beam apparatus | |
US6797962B1 (en) | Electrostatic corrector for eliminating the chromatic aberration of particle lenses | |
CN115604902A (zh) | 一种自引出回旋加速器 | |
JP3397347B2 (ja) | オメガフィルタ | |
JPH01264149A (ja) | 荷電粒子線応用装置 | |
US3781732A (en) | Coil arrangement for adjusting the focus and/or correcting the aberration of streams of charged particles by electromagnetic deflection, particularly for sector field lenses in mass spectrometers | |
WO2023053011A1 (en) | Magnetic vector potential-based lens | |
JPH02109238A (ja) | E×b型エネルギーフィルタ | |
Tsuno et al. | Simulation of Multipole Wien Filters | |
Ahmed et al. | Performance and Analysis of a Designed Magnetic Lens for Microscopic Applications. | |
JP2856518B2 (ja) | E×b型エネルギーフィルタ | |
CN116550145A (zh) | 改变电磁分离器偏转半径的方法 | |
RU2105378C1 (ru) | Ионно-оптическая система с аксиально-симметричным магнитным полем | |
JP2956706B2 (ja) | 質量分析装置 | |
JPH01239754A (ja) | 不均一磁場を利用したエネルギーフィルタ | |
HORÁK | STUDY OF THE ELECTRON OPTICAL SYSTEMS WITH BROKEN ROTATIONAL SYMMETRY | |
JP2603673B2 (ja) | 不均一電場を利用した重畳場エネルギー分析装置 |