JPH01234166A - 研磨材粒子およびその製造法 - Google Patents
研磨材粒子およびその製造法Info
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- JPH01234166A JPH01234166A JP5948488A JP5948488A JPH01234166A JP H01234166 A JPH01234166 A JP H01234166A JP 5948488 A JP5948488 A JP 5948488A JP 5948488 A JP5948488 A JP 5948488A JP H01234166 A JPH01234166 A JP H01234166A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野J
本発明は、表面特性を改良した新規な研磨材粒子に関す
る。さらに詳しくは表面にSiOx(但し、2≧χ≧0
)の薄膜で被覆された研磨材粒子に関し、種々の結合剤
との親和性が高く、かつ電気絶縁性に優れているため電
着砥石に使用するには特に好適な研磨材粒子に関する。
る。さらに詳しくは表面にSiOx(但し、2≧χ≧0
)の薄膜で被覆された研磨材粒子に関し、種々の結合剤
との親和性が高く、かつ電気絶縁性に優れているため電
着砥石に使用するには特に好適な研磨材粒子に関する。
[従来の技術1
物質のカタサの大きい鉱物を利用して、ものを削りまた
は摩耗させる作業をするための材料として研磨材があり
、初めの内は天然品を利用していたが、最近はこのカタ
サを求めてその大部分が人工の物質を利用する様になっ
て来た。(本願においては研削と研磨の両者を研磨と称
す、)この開発された物質中には天然品を高純度にした
もの或は天然にない立方晶形窒化硼素(以下CBNと称
す、)など優れたカタサ、靭性を有する研磨材が提供さ
れる様になった。
は摩耗させる作業をするための材料として研磨材があり
、初めの内は天然品を利用していたが、最近はこのカタ
サを求めてその大部分が人工の物質を利用する様になっ
て来た。(本願においては研削と研磨の両者を研磨と称
す、)この開発された物質中には天然品を高純度にした
もの或は天然にない立方晶形窒化硼素(以下CBNと称
す、)など優れたカタサ、靭性を有する研磨材が提供さ
れる様になった。
しかし粒子がいかに優れていても、粒子を結合して製造
される研磨工具の品質は、達成される結合強度に大部分
依存する。つまり研磨粒子の卓越性が研磨工具に発現す
るには、粒子が適所に強固に保持されることがきわめて
重要であり、これは当然高い結合強度が要求される。事
実、研磨粒子が固<、シたがって耐久性があればあるほ
ど、結合強度への要求は大となる。つまり極度の硬さが
存在する際には、粒子は破砕または摩耗する傾向をほと
んどもたないので、研削の間の苛酷な力の下でその結合
から引き離れる傾向が大となるからである。したがって
研磨材粒子は、硬さの最大利益を達成させようとする際
には粒子と結合剤間の結合強度を高度に要求する。
される研磨工具の品質は、達成される結合強度に大部分
依存する。つまり研磨粒子の卓越性が研磨工具に発現す
るには、粒子が適所に強固に保持されることがきわめて
重要であり、これは当然高い結合強度が要求される。事
実、研磨粒子が固<、シたがって耐久性があればあるほ
ど、結合強度への要求は大となる。つまり極度の硬さが
存在する際には、粒子は破砕または摩耗する傾向をほと
んどもたないので、研削の間の苛酷な力の下でその結合
から引き離れる傾向が大となるからである。したがって
研磨材粒子は、硬さの最大利益を達成させようとする際
には粒子と結合剤間の結合強度を高度に要求する。
このため、例えばCBNについていえば、その結合剤と
の親和性を改善する目的で、先ず砥粒を空気中で775
℃の条件で熱処理して表面にB!O,taをつくり、さ
らにオルガノシリコン化合物溶液に浸してから約500
℃で加熱して表面にはうけい酸液膜をつ(る方法(特公
昭48−23589)がある。
の親和性を改善する目的で、先ず砥粒を空気中で775
℃の条件で熱処理して表面にB!O,taをつくり、さ
らにオルガノシリコン化合物溶液に浸してから約500
℃で加熱して表面にはうけい酸液膜をつ(る方法(特公
昭48−23589)がある。
また、金属硼素を含有するため電気絶縁性が低下した立
方晶窒化硼素砥粒を酸処理して表面の硼素を除去し、絶
縁性を付与する方法(特開昭57−149811)が知
られている。また、光硬化性樹脂による研磨材粒子をコ
ートする方法(USP3.408.172)も提案され
ている。
方晶窒化硼素砥粒を酸処理して表面の硼素を除去し、絶
縁性を付与する方法(特開昭57−149811)が知
られている。また、光硬化性樹脂による研磨材粒子をコ
ートする方法(USP3.408.172)も提案され
ている。
[発明が解決しようとする課M]
前述の特公昭48−23589の発明ハ、CBN以外の
砥粒については応用できず、また砥粒を二回熱処理する
ことは砥粒強度の低下を来し、経済的観点からも好まし
くない、さらに砥粒の電気絶縁性を問題とする場合には
十分な絶縁性のある膜とはいえない。
砥粒については応用できず、また砥粒を二回熱処理する
ことは砥粒強度の低下を来し、経済的観点からも好まし
くない、さらに砥粒の電気絶縁性を問題とする場合には
十分な絶縁性のある膜とはいえない。
特開昭57−149811についても、適用が酸可溶成
分が含有されている砥粒に限定され、更に可溶成分が多
い場合には砥粒の強度を低下させ、電着砥石を製作する
ような場合においては溶出空隙に電解液が浸入し、絶縁
効果を低下させる危険がある。
分が含有されている砥粒に限定され、更に可溶成分が多
い場合には砥粒の強度を低下させ、電着砥石を製作する
ような場合においては溶出空隙に電解液が浸入し、絶縁
効果を低下させる危険がある。
USP3,408.172においてはその適用が樹脂結
合剤を用いた工具に限定されるなど問題点がある。
合剤を用いた工具に限定されるなど問題点がある。
したがって、これらの問題点のない、研磨材粒子の種W
4および結合剤の種類に制限を受けない研磨材粒子の製
造法ならびに全ての結合剤に適応出来る研磨材粒子の開
発が望まれていた。
4および結合剤の種類に制限を受けない研磨材粒子の製
造法ならびに全ての結合剤に適応出来る研磨材粒子の開
発が望まれていた。
[課題を解決するための手段J
研削砥石を製造する場合、研磨材粒子(砥粒)および結
合剤の組み合わせでいくつかに分類されている。
合剤の組み合わせでいくつかに分類されている。
結合剤の面からの分類では、ビトリファイド砥石、シリ
ケート砥石、エラスチック砥石、特殊砥石などと分類さ
れている。この中、ビトリファイド砥石は、無材質材料
の溶化の過程を経ることにより、あるいはガラスにより
砥粒間を結合したものであるので主成分がS i Os
となっており、当然S i Ox被覆の砥粒とは親和性
は良い。
ケート砥石、エラスチック砥石、特殊砥石などと分類さ
れている。この中、ビトリファイド砥石は、無材質材料
の溶化の過程を経ることにより、あるいはガラスにより
砥粒間を結合したものであるので主成分がS i Os
となっており、当然S i Ox被覆の砥粒とは親和性
は良い。
シリケート砥石は、ケイ酸ソーダを主剤とし、変質剤そ
の他を加えて砥粒間を結合したものであり、当然S i
Os被覆砥粒との親和性は良い。
の他を加えて砥粒間を結合したものであり、当然S i
Os被覆砥粒との親和性は良い。
次のエラスチック砥石は、ゴム、シェラツク、ベークラ
イトその他の合成樹脂等を結合剤とした砥石であり、S
i O*はこれら合成樹脂等とは親和性がよく、耐衝
撃性、引張り強さ、耐熱性などを向上させるための充填
剤としても用いられている程である。
イトその他の合成樹脂等を結合剤とした砥石であり、S
i O*はこれら合成樹脂等とは親和性がよく、耐衝
撃性、引張り強さ、耐熱性などを向上させるための充填
剤としても用いられている程である。
これ以外に特殊な砥石として、ダイヤモンド、CBN砥
石などの超硬材料を研磨材粒子とし、金属、あるいは金
属を含む結合剤、あるいは炭化物、窒化物、硼化物など
硬質の耐熱性物質を結合剤とした焼結体砥石がある。こ
れらの砥石に使用される砥粒は当然表面処理をしたもの
が数多く提案されている。
石などの超硬材料を研磨材粒子とし、金属、あるいは金
属を含む結合剤、あるいは炭化物、窒化物、硼化物など
硬質の耐熱性物質を結合剤とした焼結体砥石がある。こ
れらの砥石に使用される砥粒は当然表面処理をしたもの
が数多く提案されている。
特にダイヤモンド、CBSなどの超硬材の砥粒の単、!
!!fを合金に接着した電着砥石は、砥粒が単層ではあ
るが、よく固定され砥粒の突き出しが良好であるため切
れ味が優れている上、複雑な形状。
!!fを合金に接着した電着砥石は、砥粒が単層ではあ
るが、よく固定され砥粒の突き出しが良好であるため切
れ味が優れている上、複雑な形状。
微小な形状の砥石に用いられている。この場合の砥粒は
電導性がないことが要求される。
電導性がないことが要求される。
この点に関してもシリカは十分な電気絶縁性(>10”
Ω−c+*)を有し、カッ絶縁耐圧性<>10’V/c
■)も高いので、R膜となっても絶縁性の面からは心配
なく用いることが出来る(セラミックス且[4] 、2
85 (1985) i5よび日本化学合繊化学便覧P
、1000 (1986丸善))。
Ω−c+*)を有し、カッ絶縁耐圧性<>10’V/c
■)も高いので、R膜となっても絶縁性の面からは心配
なく用いることが出来る(セラミックス且[4] 、2
85 (1985) i5よび日本化学合繊化学便覧P
、1000 (1986丸善))。
シリカの低次酸化物に関するデータは少ないが、S i
Oxに関しては吉木文平著 鉱物工学P、153 (
1967、技報堂)およびサムソノフ監修 最新酸化物
便覧(1977、日ソ通信社)に二三のデータが記載さ
れている。
Oxに関しては吉木文平著 鉱物工学P、153 (
1967、技報堂)およびサムソノフ監修 最新酸化物
便覧(1977、日ソ通信社)に二三のデータが記載さ
れている。
それらによれば、SiOは蒸気圧が高<(1345°に
で0.5〜4Pa)、電気絶縁性があり、ガラス、プラ
スチック等の表面に金属を被覆する時、固着を助ける中
間膜として応用できるとされる。SiO以外の低次酸化
物についてはB、 C。
で0.5〜4Pa)、電気絶縁性があり、ガラス、プラ
スチック等の表面に金属を被覆する時、固着を助ける中
間膜として応用できるとされる。SiO以外の低次酸化
物についてはB、 C。
Weber等(JAC337[6]、267(1954
))が若干触しテイルカ、5ift、SiOおよびSi
の性質から類推されよう。
))が若干触しテイルカ、5ift、SiOおよびSi
の性質から類推されよう。
以上の知見に基づき本発明者は、研磨材粒子表面にSi
Ox(2≧χ≧0)をコーティングすれば当発明の目的
が達せられると考えた。その手段についてはCVD法は
使用ガスの流量制御や廃ガス処理のわずられしさがある
ため真空蒸着法を選んだ、SiOx(2≧χ≧0)Il
flをmWによってつくる場合の蒸発源につき検討する
と、まずSiの蒸気圧は温度1345°Kに置いて3.
65x10−’Torr(和田正信監修 電子材料ハン
ドブック、1970朝倉書店P、133の式より計算)
であり、SiOについては前述の値を換算して3.8x
lO−” 〜2.96X10−”Torr。
Ox(2≧χ≧0)をコーティングすれば当発明の目的
が達せられると考えた。その手段についてはCVD法は
使用ガスの流量制御や廃ガス処理のわずられしさがある
ため真空蒸着法を選んだ、SiOx(2≧χ≧0)Il
flをmWによってつくる場合の蒸発源につき検討する
と、まずSiの蒸気圧は温度1345°Kに置いて3.
65x10−’Torr(和田正信監修 電子材料ハン
ドブック、1970朝倉書店P、133の式より計算)
であり、SiOについては前述の値を換算して3.8x
lO−” 〜2.96X10−”Torr。
10−”%〜1.22x 1 (I’Torr (出典
はSiOに同じ)でSiOが格段に有利であることが分
かる。そこでSiとS i Oxとの各種モル比の粉末
混合物につきプレスして圧粉体として蒸発源に用いたと
ころ、短時間で良好な蒸着膜が得られることがわかり、
特にSiとSiO□のモル比がl:1のとき蒸発が短時
間で完了した。すなわち、Siまたは5iOz単独では
十分な蒸気圧が得難いのに、この両者の粉末を混合して
加熱すると、より蒸気圧の高いSiOとなって蒸発が行
なわれているものと推定できる。
はSiOに同じ)でSiOが格段に有利であることが分
かる。そこでSiとS i Oxとの各種モル比の粉末
混合物につきプレスして圧粉体として蒸発源に用いたと
ころ、短時間で良好な蒸着膜が得られることがわかり、
特にSiとSiO□のモル比がl:1のとき蒸発が短時
間で完了した。すなわち、Siまたは5iOz単独では
十分な蒸気圧が得難いのに、この両者の粉末を混合して
加熱すると、より蒸気圧の高いSiOとなって蒸発が行
なわれているものと推定できる。
蒸発源の温度は、あまり厳密に調節は要しないが、経済
的な見地から1500〜2000℃程度が選ばれる。ま
た、蒸着部は常温〜500℃位であれば充分である。
的な見地から1500〜2000℃程度が選ばれる。ま
た、蒸着部は常温〜500℃位であれば充分である。
上記方法によって得られる皮膜の組成は、蒸発源のSi
とSingの組成とは必ずしも一致しないが、1:1の
混合粉末の場合は皮膜は主としてSiOが主体となる様
である。
とSingの組成とは必ずしも一致しないが、1:1の
混合粉末の場合は皮膜は主としてSiOが主体となる様
である。
このように被覆された砥粒を電着砥石の原料とする場合
、あるいはS i Ox皮膜が欲しい場合には酸化性雰
囲気1例えば空気中で900−1100℃、30分位の
後処理(酸化)をすることが望ましい。
、あるいはS i Ox皮膜が欲しい場合には酸化性雰
囲気1例えば空気中で900−1100℃、30分位の
後処理(酸化)をすることが望ましい。
蒸発源のSiとS i O*の混合割合は厳密さはない
が、単体でなければそれなりの効果があるが1:l(ら
いが一番都合が良いと考えられる。
が、単体でなければそれなりの効果があるが1:l(ら
いが一番都合が良いと考えられる。
対象となる研磨材は常識的に特に制限はないが、CBN
、ダイヤモンド、炭化ケイ素、アルミナ、ジルコニア、
硼化ケイ素などをあげることが出来る。この中でもCB
Nは、真空蒸着後加熱処理し、電気絶縁性を高めて、電
着砥石に使用する場合に特に優れた効果を発揮する。
、ダイヤモンド、炭化ケイ素、アルミナ、ジルコニア、
硼化ケイ素などをあげることが出来る。この中でもCB
Nは、真空蒸着後加熱処理し、電気絶縁性を高めて、電
着砥石に使用する場合に特に優れた効果を発揮する。
粒度も砥石、研磨布等に使用する砥粒であれば特に制限
はない。
はない。
このようにして第一次的に被覆された皮膜は、SiOx
として表現してきたが、Si、SiOおよびS i 0
2またはこれらの混合物であり、このまま電着砥石に使
用せず、絶縁性の低いSiをSin、とする後処理をし
て製品とする方が良い。
として表現してきたが、Si、SiOおよびS i 0
2またはこれらの混合物であり、このまま電着砥石に使
用せず、絶縁性の低いSiをSin、とする後処理をし
て製品とする方が良い。
蒸発源のSiとS i O*の粉末は固体間反応と想像
されるので、出来るだけ細かい粉末を加圧して圧粉体と
して使用することが取り扱いにも便利であり、また反応
もうまくいくものと考えられる。
されるので、出来るだけ細かい粉末を加圧して圧粉体と
して使用することが取り扱いにも便利であり、また反応
もうまくいくものと考えられる。
[作用]
ケイ素あるいはケイ素の酸化物皮膜を蒸着によって得る
ことは一般には困難である。この理由は前述の如く、S
iO□やSiの蒸気圧が低いためであるが1本発明にお
いてはこれをS iOtとSiとの反応により高い蒸気
圧を有するSiOxとし、これを利用することにより達
成した。
ことは一般には困難である。この理由は前述の如く、S
iO□やSiの蒸気圧が低いためであるが1本発明にお
いてはこれをS iOtとSiとの反応により高い蒸気
圧を有するSiOxとし、これを利用することにより達
成した。
つまり、Siと5iO−とを共に数ミクロンの粉末とし
て混合し、ついで圧粉体とし、これをりングステンある
いはタンタル等で作った加熱用バスケットへいれ抵抗加
熱することによりS iOx + S i→2SiO なる反応を行なわせ、発生したSiOガスを研磨材粒子
に蒸着させる。また、この粉末混合物の比がSi過剰側
になっていればSiも蒸着されるが、後の加熱処理を行
なうことによりSiOx(但し、2≧χ≧0)組成の酸
化物とすることも可能である。このような蒸着膜を有す
る研磨材粒子が砥石等としての特性を向上させる理由は
、前述の如<SiOχ薄膜と結合剤との親和性が高いこ
とによるものと思われる。
て混合し、ついで圧粉体とし、これをりングステンある
いはタンタル等で作った加熱用バスケットへいれ抵抗加
熱することによりS iOx + S i→2SiO なる反応を行なわせ、発生したSiOガスを研磨材粒子
に蒸着させる。また、この粉末混合物の比がSi過剰側
になっていればSiも蒸着されるが、後の加熱処理を行
なうことによりSiOx(但し、2≧χ≧0)組成の酸
化物とすることも可能である。このような蒸着膜を有す
る研磨材粒子が砥石等としての特性を向上させる理由は
、前述の如<SiOχ薄膜と結合剤との親和性が高いこ
とによるものと思われる。
[実施例J
1践里±
粒度#80の黒色炭化ケイ素質研削材(Ca2Oと略記
)O−2gをMo板上に広げ、このM。
)O−2gをMo板上に広げ、このM。
叛上約50層請上方にタングステンバスケットをセット
して表1に示す各蒸発源を約100■gバスケットに充
填して10−’〜l O−’To r rの真空下、約
1750℃で通常の方法で真空蒸着操作を行なった。
して表1に示す各蒸発源を約100■gバスケットに充
填して10−’〜l O−’To r rの真空下、約
1750℃で通常の方法で真空蒸着操作を行なった。
1回の操作は表1の如く約1〜3分で、この操作を各蒸
発源に対し4回繰り返した、また、操作が1回終了する
ごとにMoi上のCa2Oは薬包紙上に回収して再び広
げ直した。
発源に対し4回繰り返した、また、操作が1回終了する
ごとにMoi上のCa2Oは薬包紙上に回収して再び広
げ直した。
蒸着が終了した試料につき必要な後処理を加えた後・
1ossφXl0mmの黄銅製の栓をした30・0Dx
lO・ID×20IIIlの硬質ゴム容器に充填し、栓
と同じ材質およびサイズのプランジャーを装入し、50
vの電圧を印加して絶縁抵抗を測定した。
1ossφXl0mmの黄銅製の栓をした30・0Dx
lO・ID×20IIIlの硬質ゴム容器に充填し、栓
と同じ材質およびサイズのプランジャーを装入し、50
vの電圧を印加して絶縁抵抗を測定した。
結果を表1に示す、結果は比較のため、試料長と断面積
とについて補正した固有抵抗(Ω・cm)で示す。
とについて補正した固有抵抗(Ω・cm)で示す。
表1からSiO□とSiとの混合圧粉体が蒸着時間と絶
縁抵抗に関し優れていることが分かるが、これは他の蒸
発源が1回の蒸発操作で残存しているのに対し、この蒸
発源がほとんどなくなっていることからも明らかである
。
縁抵抗に関し優れていることが分かるが、これは他の蒸
発源が1回の蒸発操作で残存しているのに対し、この蒸
発源がほとんどなくなっていることからも明らかである
。
なお蒸着後の後処理は被覆の酸化度を調節するのが目的
であるが900℃未満では効果がなく1100℃以上で
は被覆の強度を下げるので900〜1100℃が好まし
い。
であるが900℃未満では効果がなく1100℃以上で
は被覆の強度を下げるので900〜1100℃が好まし
い。
また、蒸発源として圧粉体を用いる効果はその原料粉末
の粒度のほぼ2乗に反比例する。
の粒度のほぼ2乗に反比例する。
(以下空白)
表I Ca2Oの蒸着テスト
宜JLILu
ボロンを過剰に含む立方晶窒化硼素砥粒(#80)0.
6gに対し上記と同じ5insとSiとの等モル混合物
圧粉体を蒸発源として実験例1と同様にして蒸着を行な
い、その0.2gにつき上記と同様にして比抵抗を測定
した結果を表2に示す。
6gに対し上記と同じ5insとSiとの等モル混合物
圧粉体を蒸発源として実験例1と同様にして蒸着を行な
い、その0.2gにつき上記と同様にして比抵抗を測定
した結果を表2に示す。
表の如く電気比抵抗の変化から良好な皮膜が生じている
ことが明らかである。
ことが明らかである。
4回蒸着済砥粒を空気中で900℃、30分加熱処理を
したところ、8回蒸着済砥粒より高い比抵抗が得られた
。
したところ、8回蒸着済砥粒より高い比抵抗が得られた
。
表2 ボロン・リッチの立方晶窒化硼素砥粒#80の蒸
着テスト [効果] 一般に研磨材粒子は、結合剤を加えて研削砥石や研磨布
等として用いられるため、その表面の結合剤との親和性
の改善のために研磨布用砥粒では酸化鉄をコートするな
ど数多くの提案がある・また研削熱を逃がす目的で砥粒
表面にニッケルをコートすることも行なわれている。
着テスト [効果] 一般に研磨材粒子は、結合剤を加えて研削砥石や研磨布
等として用いられるため、その表面の結合剤との親和性
の改善のために研磨布用砥粒では酸化鉄をコートするな
ど数多くの提案がある・また研削熱を逃がす目的で砥粒
表面にニッケルをコートすることも行なわれている。
一方、電着砥石を型造する場合においては、砥粒の電気
絶縁性が欠如していると砥粒表面においてニッケルイオ
ンの放電が生じる結果、砥粒がニッケル中に埋没し1粒
子の露出した砥石が作れないので、研磨材粒子は十分な
電気絶縁性が必要である。
絶縁性が欠如していると砥粒表面においてニッケルイオ
ンの放電が生じる結果、砥粒がニッケル中に埋没し1粒
子の露出した砥石が作れないので、研磨材粒子は十分な
電気絶縁性が必要である。
以上の二点、つまり結合剤との親和性および電気絶縁性
につき本発明によるSiOx(但し、2≧χ≧0)を被
覆した研磨材粒子は両者の特性を備えていることは前述
の説明および実施例により明白である。
につき本発明によるSiOx(但し、2≧χ≧0)を被
覆した研磨材粒子は両者の特性を備えていることは前述
の説明および実施例により明白である。
また、炭化ケイ素砥粒の場合には、バリスター、アレス
ター等への応用も可能である。
ター等への応用も可能である。
Claims (3)
- (1)表面にSiO_χ(但し、2≧χ≧0)の薄膜を
有する研磨材粒子。 - (2)Si粉末とSiO_2粉末との混合粉末を蒸発源
として研磨材粒子に真空蒸着を施すことを特徴とする研
磨材粒子の製造法。 - (3)Si粉末とSiO_2粉末との混合粉末を蒸発源
として研磨材粒子に真空蒸着を施し、ついで酸化性雰囲
気中で900〜1100℃で加熱処理することを特徴と
する研磨材粒子の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63059484A JP2652190B2 (ja) | 1988-03-15 | 1988-03-15 | 研磨材粒子およびその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63059484A JP2652190B2 (ja) | 1988-03-15 | 1988-03-15 | 研磨材粒子およびその製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01234166A true JPH01234166A (ja) | 1989-09-19 |
JP2652190B2 JP2652190B2 (ja) | 1997-09-10 |
Family
ID=13114625
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63059484A Expired - Lifetime JP2652190B2 (ja) | 1988-03-15 | 1988-03-15 | 研磨材粒子およびその製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2652190B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1112981A1 (fr) * | 1999-12-30 | 2001-07-04 | Norbert Couget | Procédé de préparation d'un revêtement optique sur un substrat par évaporation sous vide d'une poudre |
JP2007229848A (ja) * | 2006-02-28 | 2007-09-13 | Saitama Univ | SiOx粉を含む成形体および砥石、それを用いた研削方法 |
JP2010012545A (ja) * | 2008-07-02 | 2010-01-21 | Noritake Super Abrasive Co Ltd | 超砥粒砥石、砥粒コート剤、ビトリファイド砥石用超砥粒の製造方法、および、砥粒コート剤の製造方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60177870A (ja) * | 1984-02-22 | 1985-09-11 | Showa Denko Kk | 磁性研磨材 |
JPS6151444A (ja) * | 1984-08-17 | 1986-03-13 | Tokyo Koku Keiki Kk | 印刷機の二枚差検出装置 |
-
1988
- 1988-03-15 JP JP63059484A patent/JP2652190B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60177870A (ja) * | 1984-02-22 | 1985-09-11 | Showa Denko Kk | 磁性研磨材 |
JPS6151444A (ja) * | 1984-08-17 | 1986-03-13 | Tokyo Koku Keiki Kk | 印刷機の二枚差検出装置 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1112981A1 (fr) * | 1999-12-30 | 2001-07-04 | Norbert Couget | Procédé de préparation d'un revêtement optique sur un substrat par évaporation sous vide d'une poudre |
FR2803289A1 (fr) * | 1999-12-30 | 2001-07-06 | Norbert Couget | Procede de preparation d'un revetement optique sur un substrat par evaporation sous vide d'une poudre |
JP2007229848A (ja) * | 2006-02-28 | 2007-09-13 | Saitama Univ | SiOx粉を含む成形体および砥石、それを用いた研削方法 |
JP2010012545A (ja) * | 2008-07-02 | 2010-01-21 | Noritake Super Abrasive Co Ltd | 超砥粒砥石、砥粒コート剤、ビトリファイド砥石用超砥粒の製造方法、および、砥粒コート剤の製造方法 |
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---|---|
JP2652190B2 (ja) | 1997-09-10 |
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