JPH01232791A - Manufacture of circuit board - Google Patents

Manufacture of circuit board

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Publication number
JPH01232791A
JPH01232791A JP5910488A JP5910488A JPH01232791A JP H01232791 A JPH01232791 A JP H01232791A JP 5910488 A JP5910488 A JP 5910488A JP 5910488 A JP5910488 A JP 5910488A JP H01232791 A JPH01232791 A JP H01232791A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
coating material
circuit
electric circuit
circuit board
paint
Prior art date
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Pending
Application number
JP5910488A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Koji Okawa
光司 大川
Ryuji Katsuo
勝尾 隆二
Michihiko Yoshioka
吉岡 道彦
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Cable Industries Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Cable Industries Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Cable Industries Ltd filed Critical Mitsubishi Cable Industries Ltd
Priority to JP5910488A priority Critical patent/JPH01232791A/en
Publication of JPH01232791A publication Critical patent/JPH01232791A/en
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/22Secondary treatment of printed circuits
    • H05K3/28Applying non-metallic protective coatings

Abstract

PURPOSE:To improve the breakdown strength of an electric circuit having an organic polymer insulating layer by applying a photosetting coating material over the entire surface on which the electric circuit is present, masking, irradiating the surface, and removing the coating material from the nonirradiated portion. CONSTITUTION:A photosetting coating material 4 is applied over the entire surface of the electric circuit 3. Then, a mask having a desired light-permeating hole pattern is placed on the photosetting coating material 4 to irradiate thereto light such as an ultraviolet ray. Lastly, the non-set coating material on the non-irradiated portion is removed by dissolving with an appropriate organic solvent to obtain a circuit board having a photosetting coating portion 4'. The application of the coating material over the entire surface is easier compared to the partial application thereof only on an edge portion 32, and the masking process can be performed by simply arranging and using the finely structured mask. Accordingly, it is possible to manufacture on a commercial basis a circuit board, in which it is ensured that at least all the edges 32 of the electric circuit 3 are coated with the completely photoset organic polymer and that at least any portions 31 on which electric connections are required to be made will be left uncoated.

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は、電子装置などの電気回路形成用として使用し
得る回路基板の製造方法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field] The present invention relates to a method for manufacturing a circuit board that can be used for forming an electric circuit in an electronic device or the like.

〔従来技術〕[Prior art]

最近の電子装置の小型化に伴い、各種の部品、たとえば
抵抗、コンデンサ、トランジスタ等を混成して一つの基
板上に設置し、電子的機能を実現しようとする所謂ハイ
ブリッドICが重視されている。
2. Description of the Related Art With the recent miniaturization of electronic devices, so-called hybrid ICs, in which various components such as resistors, capacitors, transistors, etc. are mixed together and installed on a single substrate to realize electronic functions, are becoming more important.

従来、ハイブリッドICとして、その絶縁層がアルミナ
を主体とするセラミック板製のものが主として使用され
てきたが、セラミック板は割れ易いために大サイズのも
のの製造が困難であり、また金属ヒートシンクとの接着
も工程的に複雑であるので、最近ではセラミック仮に代
わってポリイミド樹脂やエポキシ樹脂等の絶縁性有機高
分子を採用する傾向にある。これら絶縁性有機高分子は
、フィルム化および金属材との接着が容易であるので、
絶縁性有機高分子フィルムの片面にヒートシンクとなる
金属材層を、残る片面に電気回路層を接着した構造等で
使用される。
Conventionally, hybrid ICs made of ceramic plates whose insulating layers are mainly made of alumina have been mainly used, but ceramic plates are easily broken, making it difficult to manufacture large-sized ones, and they are difficult to manufacture with metal heat sinks. Since adhesion is also a complicated process, there has recently been a trend to use insulating organic polymers such as polyimide resins and epoxy resins instead of ceramics. These insulating organic polymers are easy to form into films and adhere to metal materials, so
It is used in a structure in which a metal material layer serving as a heat sink is adhered to one side of an insulating organic polymer film, and an electric circuit layer is adhered to the remaining side.

〔解決を要すべき問題点〕[Problems that need to be solved]

ところで回路基板の電気回路は、予め銅、ニッケル等の
導電性金属の箔からこれを別工程で所望の回路に切断等
して仕上げたものを単に接着して形成する場合もあるが
、大量生産の場合には絶縁性存機高分子フィルムの上に
導電性金属の箔を接着し、この箔層につきエツチング処
理を施して所望の形状の電気回路に仕上げる方法が採用
されている。何れの方法を採用するにせよ電気回路は、
導電性金属箔の厚さ分だけ絶縁層表面から浮きあがって
おり、即ちこの箔厚骨に対応する側面を有し、この側面
上のエツジ部における集中電界によってコロナが生し易
い構造となっている。しかも有機高分子絶縁層は、従来
のセラミック絶縁層と比較して耐コロナ性が低い欠点が
あり、ために有機高分子絶縁の回路基板はコロナ破壊し
易い問題を孕んでいる。本発明者らは、エツジ部でのコ
ロナ破壊の問題を解決するために、この部分に絶縁材を
被覆する試みを行ったが、電気回路の表面のうちには電
気接続作業が必要となる部分、たとえばワイヤボンディ
ングを行う個所や抵抗、コンデンサ、トランジスタ等を
マウントする個所等絶縁材により被覆されてはならない
部分もあるため、エツジ部のみを確実に絶縁材で商業的
な生産規模で被覆することは相当に困難であることがわ
がった。
By the way, the electrical circuits on circuit boards are sometimes formed by simply gluing foils of conductive metals such as copper or nickel that are cut into the desired circuits in a separate process, but this is not possible with mass production. In this case, a method is adopted in which a conductive metal foil is adhered onto an insulating permanent polymer film, and this foil layer is subjected to an etching treatment to finish an electric circuit in the desired shape. Regardless of which method is used, the electrical circuit is
It is raised from the surface of the insulating layer by the thickness of the conductive metal foil, that is, it has a side surface that corresponds to the thickness of the foil, and has a structure in which corona is likely to occur due to the concentrated electric field at the edge portion on this side surface. There is. Moreover, the organic polymer insulating layer has a drawback of having lower corona resistance than the conventional ceramic insulating layer, and as a result, organic polymer insulating circuit boards have the problem of being susceptible to corona damage. In order to solve the problem of corona destruction at the edges, the present inventors attempted to coat these parts with an insulating material, but the surface of the electric circuit is not covered by electrical connection work. For example, there are some areas that should not be covered with insulating material, such as areas where wire bonding is performed and where resistors, capacitors, transistors, etc. are mounted, so it is necessary to ensure that only the edges are covered with insulating material on a commercial production scale. turned out to be quite difficult.

〔問題点を解決するための手段] 本発明は上記の問題に鑑みて、有機高分子の絶縁層を有
しながらしかも耐電圧強度の改善された回路基板並びに
その製造方法を提供することを目的とするものである。
[Means for Solving the Problems] In view of the above-mentioned problems, an object of the present invention is to provide a circuit board having an organic polymer insulating layer and improved voltage strength, and a method for manufacturing the same. That is.

即ち本発明は、金属基板の上に有機高分子性の電気絶縁
層を有し、更にその上に電気回路を有する回路基板を対
象として、電気回路が存在する面の全面に光硬化性塗料
を塗布し、少なくとも電気回路の全エツジ部にはマスク
を施さずに、一方電気回路の表面のうち少なくとも電気
接続作業が必要となる部分はマスクを施して光照射して
光照射された部分の塗料を硬化し、ついで未照射部の塗
料を除去することを特徴とする回路基板の製造方法に関
するものである。
That is, the present invention targets a circuit board that has an organic polymer electric insulating layer on a metal substrate and further has an electric circuit thereon, and coats the entire surface on which the electric circuit is present with a photocurable paint. At least all the edges of the electrical circuit are coated without a mask, while at least the parts of the surface of the electrical circuit that require electrical connection work are masked and irradiated with light to remove the paint on the irradiated parts. The present invention relates to a method for manufacturing a circuit board, which comprises curing the coating material and then removing the paint from the non-irradiated areas.

r作用並びに効果〕 本発明は、電気回路が存在する面への光硬化性塗料の全
面塗布、マスキング、光照射、並びに未光照射部の塗料
(従って未硬化塗料)の除去を行うことを特徴とするも
のであるが、塗料の全面塗布はエツジ部のみに対する部
分塗布と比較して作業が容易であり、またマスキング自
体は微細構造のマスクを調製使用すれば済むことである
から、本発明により電気回路の少なくとも全エツジ部は
確実に光硬化した有機高分子により被覆され、しかも電
気回路の表面のうち少なくとも電気接続作業が必要とな
る部分は確実に未被覆となっている回路基板を商業的な
生産規模で製造することが出来る。
r Actions and Effects] The present invention is characterized by applying a photocurable paint to the entire surface where an electric circuit is present, masking, irradiating it with light, and removing the paint (therefore, uncured paint) in areas that have not been exposed to light. However, the entire surface application of the paint is easier than the partial application only to the edges, and the masking itself can be done by preparing and using a mask with a fine structure. A commercially available circuit board that ensures that at least all edges of the electrical circuit are coated with photocured organic polymer, and that at least the surface of the electrical circuit that requires electrical connection work is left uncovered. It can be manufactured on a large production scale.

また本発明の方法によって製造された回路基板は、優れ
た耐電圧強度を保持するので、高品質の各種電子機器の
生産に好適に採用すにことが出来る。
Further, since the circuit board manufactured by the method of the present invention maintains excellent withstand voltage strength, it can be suitably employed in the production of various high-quality electronic devices.

本発明においては、光硬化性塗料としては光硬化性でれ
ばよく、硬化した状態において体積抵抗率にして10’
Ωcm以上の電気絶縁性のもの、又は体積抵抗率が10
’−1o9ΩCm程度の半導電性のもの、特に耐コロナ
性に優れたものであれば種々の化学材料を制限なく使用
することができる。絶縁性であれば電気回路の全エツジ
部が絶縁材によって被覆されるので、エツジ部からの絶
縁破壊が生じ難くなり、−吉事導電性であれば電気回路
の全エツジ部での電界集中が緩和されてやはり基板の耐
電圧強度が向上する。
In the present invention, the photocurable paint only needs to be photocurable, and has a volume resistivity of 10' in the cured state.
Electrical insulation of Ωcm or more, or volume resistivity of 10
Various chemical materials can be used without restriction as long as they have semiconductivity of about '-1o9 ΩCm, especially those with excellent corona resistance. If it is insulating, all edges of the electric circuit are covered with insulating material, making it difficult for dielectric breakdown to occur from the edges, and if it is conductive, electric field concentration at all edges of the electric circuit is alleviated. As a result, the withstand voltage strength of the substrate is improved.

而して光硬化性塗料としては、アクリロイル基を含有す
る有機高分子を主剤とするものである。
The photocurable paint is one whose main ingredient is an organic polymer containing an acryloyl group.

この種の塗料としては、光重合性のプレポリマーとして
知られている、換言すると官能基としてのアクリロイル
基を1〜10個程度分子中に有する低重合度の、たとえ
ば重合度2〜100程度の各種の光硬化性樹脂が好まし
い。下記にかかる硬化性樹脂の例を示す。
This type of paint is known as a photopolymerizable prepolymer, in other words, it has a low degree of polymerization, for example, a polymer with a degree of polymerization of about 2 to 100, which has about 1 to 10 acryloyl groups as a functional group in the molecule. Various photocurable resins are preferred. Examples of the curable resin are shown below.

ポリウレタンアクリレート類: ポリウレタンアクリレート類としては、ポリエーテルポ
リオール系のポリウレタンアクリレート、ポリエステル
ポリオール系のポリウレタンアクリレート、エーテル基
とエステル基とを分子中に有するポリウレタンアクリレ
ートなどが挙げられる。
Polyurethane acrylates: Examples of polyurethane acrylates include polyether polyol-based polyurethane acrylates, polyester polyol-based polyurethane acrylates, and polyurethane acrylates having an ether group and an ester group in the molecule.

上記のポリエーテルポリオールとしては、たとえばポリ
エチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリ
テトラメチレングリコール、1.3−ブチレングリコー
ル、l、4−ブチレングリコール、1.6−ヘキサンジ
オール、ネオペンチルグリコール、シクロヘキサンジメ
タツール、2゜2−ビス(4−ヒドロキシシクロヘキシ
ル)プロパン、エチレンオキサイドやプロピレンオキサ
イドなどが付加したビスフェノールAなどが挙げられる
。ポリエステルポリオールとしては、たとえば上記した
ポリエーテルポリオールの1種または2種以上とアジピ
ン酸、セバシン酸、アゼライン酸、ドデカンジカルボン
酸なとの二塩基酸あるいはそれらの酸無水物との反応生
成物などが挙げられる。上記材料などを用いてポリウレ
タンアクリレートを製造するときに用いるジイソシアネ
ートとしては、トリレンジイソシアネート、4,4゛−
ジフェニルメタンジイソシアネートなどの芳香族ジイソ
シアネート、イソホロンジイソシアネート、4,4“−
ジシクロヘキシルメタンジイソシアネートなどの脂環族
ジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、
2,2°−トリメチルへキサメチレンジイソシアネート
などの脂肪族ジイソシアネートなどが挙げられる。また
ヒドロキシ基含有重合性モノマーとしては、β−ヒドロ
キシエチルメタクリレート、β−ヒドロキシプロピルメ
タクリレート、β−ヒドロキシラウリルメタクリレート
、ε−カプロラクトン−β−ヒドロキシエチルメタクリ
レートなどのヒドロキシ基含有メタクリレートなどが挙
げられる。
Examples of the above polyether polyols include polyethylene glycol, polypropylene glycol, polytetramethylene glycol, 1,3-butylene glycol, 1,4-butylene glycol, 1,6-hexanediol, neopentyl glycol, cyclohexane dimetatool, Examples include 2゜2-bis(4-hydroxycyclohexyl)propane, and bisphenol A to which ethylene oxide or propylene oxide is added. Examples of polyester polyols include reaction products of one or more of the above-mentioned polyether polyols and dibasic acids such as adipic acid, sebacic acid, azelaic acid, and dodecanedicarboxylic acid, or their acid anhydrides. Can be mentioned. Diisocyanates used when producing polyurethane acrylate using the above materials include tolylene diisocyanate, 4,4゛-
Aromatic diisocyanates such as diphenylmethane diisocyanate, isophorone diisocyanate, 4,4“-
Alicyclic diisocyanates such as dicyclohexylmethane diisocyanate, hexamethylene diisocyanate,
Examples include aliphatic diisocyanates such as 2,2°-trimethylhexamethylene diisocyanate. Examples of the hydroxy group-containing polymerizable monomer include hydroxy group-containing methacrylates such as β-hydroxyethyl methacrylate, β-hydroxypropyl methacrylate, β-hydroxylauryl methacrylate, and ε-caprolactone-β-hydroxyethyl methacrylate.

エポキシアクリレート類: エポキシアクリレート類としては、各種のエポキシ樹脂
のエポキシ基をアクリル酸またはその誘導体でエステル
化してアクリロイル基としたものが用いられる。たとえ
ばビスフェノールA型、ノボラック型、多価アルコール
型、多塩基酸型、ポリブタジェン型などのものが挙げら
れる。
Epoxy acrylates: As epoxy acrylates, the epoxy groups of various epoxy resins are esterified with acrylic acid or its derivatives to form acryloyl groups. Examples include bisphenol A type, novolak type, polyhydric alcohol type, polybasic acid type, and polybutadiene type.

ポリエステルアクリレート類: ポリエステルアクリレート類としては、エチレングリコ
ール、ジエチレングリコール、1.4−ブタンジオール
、1.6−ヘキサンジオール、トリメチロールプロパン
、ジプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、
ポリプロピレングリコール、ペンタエリスリトール、ジ
ペンタエリスリトールなどの多価アルコールの少なくと
も1種とフタル酸、アジピン酸、マレイン酸、トリメリ
ット酸、イタコン酸、こはく酸、テレフタル酸、アルケ
ニルこはく酸などの多価アルコールの少なくとも1種と
から得たポリエステルをアクリル化して得られるものな
どが挙げられる。
Polyester acrylates: Examples of polyester acrylates include ethylene glycol, diethylene glycol, 1.4-butanediol, 1.6-hexanediol, trimethylolpropane, dipropylene glycol, polyethylene glycol,
At least one polyhydric alcohol such as polypropylene glycol, pentaerythritol, and dipentaerythritol and a polyhydric alcohol such as phthalic acid, adipic acid, maleic acid, trimellitic acid, itaconic acid, succinic acid, terephthalic acid, and alkenylsuccinic acid. Examples include those obtained by acrylicizing a polyester obtained from at least one type of polyester.

ポリシリコンアクリレートR: ポリシリコンアクリレート類としては、たとえば、水酸
基を存するポリシロキサンにメタクリル基を有するアル
コキシシランを反応させたもの、水酸基を有するポリシ
ロキサンにアリルメタクリレートなどの化合物を反応さ
せたもの、モノシンナモイルオキシメチルジェトキシシ
ランを用いた化合物、ポリジオルガノシロキサンにビス
アジド化合物を添加した化合物、アクリロイルクロリド
やp−アジドベンゾアートを反応させた怒光性シリコー
ン、メルカプト基を導入したシリコーンなど、オルガノ
ポリシロキサンに光反応性官能基を導入したものに光開
始剤や増感剤を添加したシリコーンなどである。
Polysilicon acrylate R: Examples of polysilicon acrylates include those obtained by reacting a polysiloxane containing a hydroxyl group with an alkoxysilane containing a methacrylic group, those obtained by reacting a polysiloxane containing a hydroxyl group with a compound such as allyl methacrylate, and polysiloxane containing a hydroxyl group. Compounds using cinnamoyloxymethyljethoxysilane, compounds made by adding a bisazide compound to polydiorganosiloxane, photosensitive silicones reacted with acryloyl chloride or p-azidobenzoate, silicones introduced with mercapto groups, etc. These include silicone, which is made by introducing a photoreactive functional group into siloxane and adding a photoinitiator or sensitizer.

上記以外でもウレタン−エポキシアクリレート類、ポリ
エステル−ウレタン−アクリレート類、ポリエーテルア
クリレート類、ポリオールアクリレート類、アルキドア
クリレート類、ポリアクリレート類、あるいは更に米国
特許第3876432号、同第3673140号、同第
4125644号、同第4099837号などに記載さ
れているアクリロイル基含有有機樹脂類なども好適に使
用することができる。上記した光硬化性樹脂と光硬化性
モノマー、重合開始剤、光増感剤、重合禁止剤などの種
々の薬剤とからなる紫外線硬化性組成物の塗料も好適に
使用することができる。
In addition to the above, urethane-epoxy acrylates, polyester-urethane-acrylates, polyether acrylates, polyol acrylates, alkyd acrylates, polyacrylates, or even US Pat. No. 3,876,432, US Pat. No. 3,673,140, US Pat. , acryloyl group-containing organic resins described in the same No. 4099837 and the like can also be suitably used. Paints made of ultraviolet curable compositions comprising the photocurable resin described above and various agents such as photocurable monomers, polymerization initiators, photosensitizers, and polymerization inhibitors can also be suitably used.

第1図〜第4図は、本発明の方法での各工程における回
路基板の断面図を示す。
1 to 4 show cross-sectional views of a circuit board at each step in the method of the present invention.

第1図に示す回路基板1は、金属基板lの上に有機高分
子絶縁層2と電気回路3とを有する構造のものであって
、まず電気回路3の全面に光硬化性塗料4が塗布され(
第2図)、ついで所望光透過孔パターンを有するマスク
を光硬化性塗料4の上に置いて紫外線などの光を照射し
、最後に未照射部の、未硬化塗料を適当な有機溶剤で溶
解除去して光硬化塗料部4°を有する第3図または第4
図に示す構造の回路基板を得る。第3図の回路基板にお
いては、電気絶縁性の光硬化性塗料を使用して電気回路
3の表面のうちの電気接続作業が必要となる部分31を
除く他の全部分、即ち電気回路3のエツジ部32及び電
気回路3同士の間5が光硬化塗料部4°にて被覆されて
おり、第4図の回路基板においては、半導電性の光硬化
性塗料を使用して電気回路3のエツジ部32のみが光硬
化塗料部4”にて被覆されている。
The circuit board 1 shown in FIG. 1 has a structure having an organic polymer insulating layer 2 and an electric circuit 3 on a metal substrate l. First, a photocurable paint 4 is applied to the entire surface of the electric circuit 3. It is (
(Fig. 2), then place a mask with a desired light-transmitting hole pattern on the photocurable paint 4, irradiate it with light such as ultraviolet light, and finally dissolve the uncured paint in the unirradiated area with an appropriate organic solvent. Figure 3 or 4 with the photocurable paint section 4° removed.
A circuit board having the structure shown in the figure is obtained. In the circuit board shown in FIG. 3, an electrically insulating photocurable paint is used to cover all parts of the surface of the electric circuit 3 except for the part 31 that requires electrical connection work, that is, the surface of the electric circuit 3. The edge portion 32 and the space 5 between the electric circuits 3 are covered with a photocurable paint portion 4°, and in the circuit board of FIG. 4, the electric circuit 3 is coated with a semiconductive photocurable paint. Only the edge portion 32 is covered with the photocurable paint portion 4''.

第5図及び第6図は、いずれも電気回路3の表面のうち
のエツジ部32のみが光硬化塗料部4゛にて被覆されて
いる部分の拡大断面図であるが、第5図において光硬化
塗料部4“にて電気回路3の表面を覆うエツジ端からの
距離αは少なくとも0.1mmとすることが好ましい。
5 and 6 are both enlarged cross-sectional views of a portion of the surface of the electric circuit 3 where only the edge portion 32 is covered with the photocurable paint portion 4'; It is preferable that the distance α from the edge edge where the surface of the electric circuit 3 is covered by the cured paint portion 4'' be at least 0.1 mm.

またエツジ部32は、第6図に示すように、断面がエツ
ジ端を中心とする半径約0.O1〜1.0mm程度の円
形又はそれに近い形状となっていることが好ましい。が
かるエツジ部32での断面円形被覆は、光硬化性塗料4
を必要厚さに塗布し、マスクとして本来の回路パターン
より0.1〜0.3mm小さい寸法の回路パターン形状
のものを使用して光照射することで達成することが出来
る。
Further, as shown in FIG. 6, the edge portion 32 has a cross section with a radius of about 0.0 mm centered on the edge end. It is preferable that it has a circular shape or a shape close to it with a diameter of about 01 to 1.0 mm. The circular cross-sectional coating at the edge portion 32 is coated with the photocurable paint 4.
This can be achieved by coating the film to the required thickness and irradiating it with light using a mask with a circuit pattern shape that is 0.1 to 0.3 mm smaller than the original circuit pattern.

なお本発明において使用する光硬化性塗料4は、常温で
100〜10,000 cps、特には500〜5.O
OOcpsの範囲の粘度を有するものが好ましく、また
耐コロナ性改善のためにアルミナ、ジルコニヤ等の無機
粉末を含んでいても良いし、またカーボンブランク、導
電性金属粉末等を配合して半導電性化されていても良い
Note that the photocurable paint 4 used in the present invention has a molecular weight of 100 to 10,000 cps, particularly 500 to 5.0 cps, at room temperature. O
It is preferable to have a viscosity in the range of OOcps, and it may contain inorganic powder such as alumina or zirconia to improve corona resistance, or it may contain carbon blank, conductive metal powder, etc. to make it semiconductive. It is okay if it is

これまでは、光硬化性樹脂を使用した技術を示したが、
光分解型の樹脂を利用し、回路パターン以外の部分をマ
スキングし、光照射して回路パターン部分の樹脂を分解
し、次いで有機溶剤等で溶解除去する方法にても同一の
結果が得られる。
So far, we have shown technology using photocurable resin, but
The same results can be obtained by using a photodegradable resin, masking parts other than the circuit pattern, irradiating light to decompose the resin in the circuit pattern part, and then dissolving and removing it with an organic solvent or the like.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明を実施例並びに比較例をもってより具体的
に説明するが、本発明はこれら実施例によって何等限定
されるものではない。
Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to these Examples in any way.

実施例1 両面に厚さ15μ−の接着剤層を存するポリイミドフィ
ルム(厚さ:25u*)を厚さ2.0−のアルミニウム
板の上に置き、更にその上に厚さ35μ−の銅箔を重ね
て170°C160分、30kg / cdの条件で熱
プレスし、回路基板材を得た。
Example 1 A polyimide film (thickness: 25u*) with a 15μ-thick adhesive layer on both sides was placed on a 2.0-thick aluminum plate, and a 35μ-thick copper foil was placed on top of it. were stacked and heat pressed at 170°C for 160 minutes at 30kg/cd to obtain a circuit board material.

この回路基板材から100鵬角片を採取し、ついでその
銅箔層をエツチング処理して100■角片の中央に30
11I11角の部分のみに銅箔層を残した多数の模擬回
路基板を得た。試料の銅箔層の側面をエポキシアクリレ
ート系の化学組成物の紫外線硬化性塗料を全面塗布し、
マスクを施して紫外線を約30秒間照射して硬化させ、
第3図に示す回路基板のような、即ち、電気絶縁電気回
路3の表面のうちの電気接続作業が必要となる部分31
を除く他の全部分、即ち電気回路3のエツジ部32及び
電気回路3同士の間5が光硬化塗料部4°にて被覆され
た回路基板を得た。なお電気接続作業が必要となる部分
31におけるエツジ端からの被覆距離αは、0.3園で
あった。
A 100mm square piece was taken from this circuit board material, and then the copper foil layer was etched to form a 30mm square piece in the center of the 100mm square piece.
A large number of simulated circuit boards were obtained in which the copper foil layer was left only at the 11I11 corners. The side surface of the copper foil layer of the sample was completely coated with an ultraviolet curable paint made of an epoxy acrylate-based chemical composition.
Apply a mask and irradiate ultraviolet rays for about 30 seconds to harden.
A portion 31 of the surface of the electrically insulated electrical circuit 3 that requires electrical connection work, such as the circuit board shown in FIG.
A circuit board was obtained in which all other parts except for the edges 32 of the electric circuits 3 and the gaps 5 between the electric circuits 3 were covered with the photo-curing paint part 4°. The covering distance α from the edge of the portion 31 requiring electrical connection work was 0.3 mm.

実施例2 紫外線硬化性塗料としてポリシリコンアクリレート系材
料を使用する以外は実施例1と同様にして回路基板を作
製した。なお電気接続作業が必要となる部分31に於け
るエツジ端からの被覆距離αは0.2−であった。
Example 2 A circuit board was produced in the same manner as in Example 1 except that a polysilicon acrylate material was used as the ultraviolet curable paint. The covering distance α from the edge of the portion 31 where electrical connection work is required was 0.2-.

比較例1 実施例1と同様にしてエツチング処理試料を作製後、紫
外線硬化性塗料を使用せず、そのまま評価試料とした。
Comparative Example 1 An etched sample was prepared in the same manner as in Example 1, and then used as an evaluation sample without using an ultraviolet curable paint.

実施例1〜2、比較例1の各試料につき、アルミニウム
板と銅箔層との間にAC2k V (60tlz)を課
電し、絶縁破壊が生じるまでの時間、即ち課電寿命(し
、単位:時間)を測定した。またその際コロナ開始電圧
(CV、単位:■)も測定した。
For each sample of Examples 1 to 2 and Comparative Example 1, AC 2 kV (60 tlz) was applied between the aluminum plate and the copper foil layer, and the time until dielectric breakdown occurred, that is, the applied life (unit: : Time) was measured. At that time, the corona onset voltage (CV, unit: ■) was also measured.

課電寿命(L)並びにコロナ開始電圧(CV)の平均値
(Av)および標準偏差(σ)についての測定結果を下
表に示す。
The measurement results for the average value (Av) and standard deviation (σ) of the charging life (L) and the corona onset voltage (CV) are shown in the table below.

table

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図〜第4図は、本発明の方法での各工程における回
路基板の断面図を示す。第5図及び第6図は、いずれも
電気回路3の表面のうちのエツジ部32のみが光硬化塗
料部4゛にて被覆されている部分の拡大断面図である。 1   回路基板 2   有機高分子絶縁層 3   電気回路 31  電気接続作業が必要となる部分32  エツジ
部 4   光硬化性塗料 4゛  光硬化塗料部 5   電気回路3同士の間 第1図 第2図 第4図 第S図 第6図
1 to 4 show cross-sectional views of a circuit board at each step in the method of the present invention. 5 and 6 are both enlarged sectional views of a portion of the surface of the electric circuit 3 in which only the edge portion 32 is covered with the photocuring paint portion 4'. 1 Circuit board 2 Organic polymer insulating layer 3 Electric circuit 31 Portion where electrical connection work is required 32 Edge portion 4 Photo-curing paint 4゛ Photo-curing paint portion 5 Between the electric circuits 3 Figure 1 Figure 2 Figure 4 Figure SFigure 6

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 金属基板の上に有機高分子性の電気絶縁層を有し、更に
その上に電気回路を有する回路基板を対象として、電気
回路が存在する面の全面に光硬化性塗料を塗布し、少な
くとも電気回路の全エッジ部にはマスクを施さずに、一
方電気回路の表面のうち少なくとも電気接続作業が必要
となる部分はマスクを施して光照射して光照射された部
分の塗料を硬化し、ついで未照射部の塗料を除去するこ
とを特徴とする回路基板の製造方法。
For circuit boards that have an organic polymer electrical insulating layer on a metal substrate and an electrical circuit on top, a photocurable paint is applied to the entire surface on which the electrical circuit is present, and at least the electrical All edges of the circuit are left unmasked, while at least the parts of the surface of the electrical circuit that require electrical connections are masked and exposed to light to harden the paint on the irradiated areas. A method for manufacturing a circuit board, characterized by removing paint from non-irradiated areas.
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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5441102A (en) * 1977-09-07 1979-04-02 Victor Co Of Japan Ltd Signal converting circuit
JPS5482073A (en) * 1977-11-21 1979-06-29 Ciba Geigy Ag Method of solder checking mask

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