JPH01232692A - 精錬用直流アーク炉 - Google Patents
精錬用直流アーク炉Info
- Publication number
- JPH01232692A JPH01232692A JP63057428A JP5742888A JPH01232692A JP H01232692 A JPH01232692 A JP H01232692A JP 63057428 A JP63057428 A JP 63057428A JP 5742888 A JP5742888 A JP 5742888A JP H01232692 A JPH01232692 A JP H01232692A
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- JP
- Japan
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- furnace
- arc
- electrode
- overcurrent
- thyristor
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- Pending
Links
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- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
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- 229910001021 Ferroalloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000604 Ferrochrome Inorganic materials 0.000 description 1
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P10/00—Technologies related to metal processing
- Y02P10/25—Process efficiency
Landscapes
- Discharge Heating (AREA)
- Furnace Details (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
この発明は精錬用直流アーク炉の電源装置に関するもの
である。
である。
［従来の技術］
フェロマンガン、フェロクローム等の合金鉄を溶解する
場合は、通常、３相エル−炉を用いて、定電流制御また
は定インピーダンス制御により、電極の高さを調整して
行う定電流制御または定インピーダンス制御によりアー
ク電流を制御している。一方、例えばフェロボロンの精
錬の場合のように、難溶融性物質が生成されるときは、
炉底電極をもつ直流アーク炉が用いられる。この炉はア
ークの安定性に優れ、また、熱集中型であるので、難溶
融性物質の炉底への堆積が避けられ、製品の収率が向上
する。
場合は、通常、３相エル−炉を用いて、定電流制御また
は定インピーダンス制御により、電極の高さを調整して
行う定電流制御または定インピーダンス制御によりアー
ク電流を制御している。一方、例えばフェロボロンの精
錬の場合のように、難溶融性物質が生成されるときは、
炉底電極をもつ直流アーク炉が用いられる。この炉はア
ークの安定性に優れ、また、熱集中型であるので、難溶
融性物質の炉底への堆積が避けられ、製品の収率が向上
する。
［発明が解決しようとする課題］
しかしながら、精錬用アーク炉は製鋼用アーク炉に比し
て、アーク電源は低電圧、大電流であり、また電極と溶
湯との間のアーク長さが短いので、炉内短絡が発生し易
く、安定したアーク電流を得ることが困難であり、さら
にこのときの短絡電流でサイリスタ素子が破壊される虞
がある。
て、アーク電源は低電圧、大電流であり、また電極と溶
湯との間のアーク長さが短いので、炉内短絡が発生し易
く、安定したアーク電流を得ることが困難であり、さら
にこのときの短絡電流でサイリスタ素子が破壊される虞
がある。
本発明はかかる事情に鑑みてなされたもので、前記炉内
短絡が発生した場合においても安定し１５：アーク電流
が得られ、サイリスタ素子が破壊される虞のない電源装
置を提供しようとするものである。
短絡が発生した場合においても安定し１５：アーク電流
が得られ、サイリスタ素子が破壊される虞のない電源装
置を提供しようとするものである。
［課題を解決するための手段］
本発明による精錬用直流アーク炉は、交流電源から直流
を得るサイリスタと、前記アーク炉の電極と前記サイリ
スタとの間に設けた空心リアクトルとを具備することを
特徴とする。
を得るサイリスタと、前記アーク炉の電極と前記サイリ
スタとの間に設けた空心リアクトルとを具備することを
特徴とする。
炉内短絡により、短絡電流が発生した場合において、こ
の過電流は電極と前記サイリスタとの間に設けた空心リ
アクトルにより低減され、サイリスタ素子の破壊を免れ
ることができる。
の過電流は電極と前記サイリスタとの間に設けた空心リ
アクトルにより低減され、サイリスタ素子の破壊を免れ
ることができる。
し実施例］
添付の図面を参照しながら本発明の実施例について説明
する。第１図は本発明に係わる回路図である９ 電源は３相３３００Ｖで受電され遮断器ＣＢ、交流リア
クトルＡｃｔ、を経て、トランスＴｒに入り、ここで３
３００Ｖから９０Ｖに降圧されてサイリスタＴＨＹで整
流されて直流とされる。この直流は空心リアクトルＤＣ
Ｌを経て陽極である炉底電極Ｅ１から電気炉Ｆの中を通
り、アーク電流となって土竜ｉＥ２に至り、トランスＴ
ｒにもどる。この電流は上記サイリスタＴ Ｉ（Ｙによ
り一定に制御される。
する。第１図は本発明に係わる回路図である９ 電源は３相３３００Ｖで受電され遮断器ＣＢ、交流リア
クトルＡｃｔ、を経て、トランスＴｒに入り、ここで３
３００Ｖから９０Ｖに降圧されてサイリスタＴＨＹで整
流されて直流とされる。この直流は空心リアクトルＤＣ
Ｌを経て陽極である炉底電極Ｅ１から電気炉Ｆの中を通
り、アーク電流となって土竜ｉＥ２に至り、トランスＴ
ｒにもどる。この電流は上記サイリスタＴ Ｉ（Ｙによ
り一定に制御される。
モータＭ及びウィンチＷは上電極Ｅ２の高さを制御する
ための駆動装置で、これは炉底と上電極Ｅ２の間の電圧
を一定とするように制御が行われる。
ための駆動装置で、これは炉底と上電極Ｅ２の間の電圧
を一定とするように制御が行われる。
精錬用アーク炉のアーク電源は低電圧、大電流であるの
で、上電極Ｅ２と溶湯の間で短絡が発生し易い、この短
絡が発生した場合、空心リアクトルＤＣＬにより過を流
が低下され、サイリスタＴＨＹが保護される。また、こ
れによって、サイリスタＴＨＹの過電流耐量を下げて経
済的な電源装置とすることができる。
で、上電極Ｅ２と溶湯の間で短絡が発生し易い、この短
絡が発生した場合、空心リアクトルＤＣＬにより過を流
が低下され、サイリスタＴＨＹが保護される。また、こ
れによって、サイリスタＴＨＹの過電流耐量を下げて経
済的な電源装置とすることができる。
前記空心リアクトルＤＣＬのインダクタンスはここを流
れる大電流によって低下されることがなく、また、前記
過電流に対する応答が早いので、大電流で短絡し易いア
ーク電流の制御に好適なものである。また、空心リアク
トルＤＣＬによってサイリスタＴＨＹの過ＴＬ流耐量を
下げて、経済的な電源装置とすることができる。
れる大電流によって低下されることがなく、また、前記
過電流に対する応答が早いので、大電流で短絡し易いア
ーク電流の制御に好適なものである。また、空心リアク
トルＤＣＬによってサイリスタＴＨＹの過ＴＬ流耐量を
下げて、経済的な電源装置とすることができる。
［発明の効果］
本発明によればアーク炉の電極とサイリスタとの間に空
心リアクトルを設けであるので、安定したアーク電流が
得られ、サイリスタ素子の破壊を免れることができる。
心リアクトルを設けであるので、安定したアーク電流が
得られ、サイリスタ素子の破壊を免れることができる。
第１図は本発明に係わる精錬用アーク炉の回路図である
。 ＣＢ・・・遮断器、ＡＣＬ・・・交流リアクトル、Ｔｒ
・・・トランス、Ｔ ｌ−Ｉ Ｙ・・・サイリスタ、Ｅ
ｌ・・・炉底？Ｘ１極、Ｅ２・・・上電極、ＤＣＬ−・
・空心リアクトル。
。 ＣＢ・・・遮断器、ＡＣＬ・・・交流リアクトル、Ｔｒ
・・・トランス、Ｔ ｌ−Ｉ Ｙ・・・サイリスタ、Ｅ
ｌ・・・炉底？Ｘ１極、Ｅ２・・・上電極、ＤＣＬ−・
・空心リアクトル。
Claims (1)
- 精錬用直流アーク炉において、交流電源から直流を得
るサイリスタと、前記アーク炉の電極と前記サイリスタ
との間に設けた空心リアクトルとを具備することを特徴
とする精錬用直流アーク炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63057428A JPH01232692A (ja) | 1988-03-11 | 1988-03-11 | 精錬用直流アーク炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63057428A JPH01232692A (ja) | 1988-03-11 | 1988-03-11 | 精錬用直流アーク炉 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01232692A true JPH01232692A (ja) | 1989-09-18 |
Family
ID=13055385
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63057428A Pending JPH01232692A (ja) | 1988-03-11 | 1988-03-11 | 精錬用直流アーク炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01232692A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS575358A (en) * | 1980-06-13 | 1982-01-12 | Fujitsu Ltd | Semiconductor device and manufacture thereof |
-
1988
- 1988-03-11 JP JP63057428A patent/JPH01232692A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS575358A (en) * | 1980-06-13 | 1982-01-12 | Fujitsu Ltd | Semiconductor device and manufacture thereof |
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