JPH01230A - 一方向性けい素鋼板の鉄損低減連続処理設備 - Google Patents
一方向性けい素鋼板の鉄損低減連続処理設備Info
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- JPH01230A JPH01230A JP62-305965A JP30596587A JPH01230A JP H01230 A JPH01230 A JP H01230A JP 30596587 A JP30596587 A JP 30596587A JP H01230 A JPH01230 A JP H01230A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
この発明は、一方向性けい素鋼板の鉄損低減連続処理設
備に関し、と(に真空を利用し、鋼板表面に連続的に局
所熱処理を施すことによって、効果的な磁区の細分化ひ
いては鉄損特性の有利な改善を図ろうとするものである
。
備に関し、と(に真空を利用し、鋼板表面に連続的に局
所熱処理を施すことによって、効果的な磁区の細分化ひ
いては鉄損特性の有利な改善を図ろうとするものである
。
一方向性けい素鋼板は、一般に熱間圧延と冷間圧延を経
た冷延薄板の2次再結晶粒を、(110)(001)方
位、(すなわちゴス方位)に高度に集積させて所望の磁
気的性質を具備させ、主に変圧器その他の電気機器類の
鉄心に使用され、ここに磁束密度(B10値で代表され
る)が高くしかも鉄損(Wl/!1@値で代表される)
の低いことが要求されるが、これまでの研究努力により
当今は、板厚0.3鴫でBoo : 1.90T以上、
W+v/so : 1.05 W/廟以下また、板厚0
.23mではB、。: 1.89T以上、WIT/S。
た冷延薄板の2次再結晶粒を、(110)(001)方
位、(すなわちゴス方位)に高度に集積させて所望の磁
気的性質を具備させ、主に変圧器その他の電気機器類の
鉄心に使用され、ここに磁束密度(B10値で代表され
る)が高くしかも鉄損(Wl/!1@値で代表される)
の低いことが要求されるが、これまでの研究努力により
当今は、板厚0.3鴫でBoo : 1.90T以上、
W+v/so : 1.05 W/廟以下また、板厚0
.23mではB、。: 1.89T以上、WIT/S。
: 0.90 W/kg以下のような超低鉄損一方向性
けい素鋼板も製造され得るようになった。
けい素鋼板も製造され得るようになった。
しかるに省エネルギーの見地で電力損失のより厳しい低
減要求は、とくに欧米にて鉄損の減少分を換価して変圧
器価格に上積みする、ロスエバリユエーション(鉄損評
価)制度にまで発展し、それも定着するに至っている。
減要求は、とくに欧米にて鉄損の減少分を換価して変圧
器価格に上積みする、ロスエバリユエーション(鉄損評
価)制度にまで発展し、それも定着するに至っている。
このようにか酷な要請に応えるため発明者らは、一方向
性けい素鋼板の特性改善それも極限的な鉄損低減を自損
して研究活動を続けて来たが、方向性けい素鋼板の最終
焼鈍、つまり仕上げ焼i!!後の操作、とくに被膜処理
についての革新的な手法を試み、顕著な鉄損低減の成果
を得、引続く検討と研鋼を加えて、以下に述べる一方向
性けい素鋼板の鉄損低減連続処理設備の適合を解明した
。
性けい素鋼板の特性改善それも極限的な鉄損低減を自損
して研究活動を続けて来たが、方向性けい素鋼板の最終
焼鈍、つまり仕上げ焼i!!後の操作、とくに被膜処理
についての革新的な手法を試み、顕著な鉄損低減の成果
を得、引続く検討と研鋼を加えて、以下に述べる一方向
性けい素鋼板の鉄損低減連続処理設備の適合を解明した
。
(従来の技術)
特開昭57−2252号、同57−53419号、同5
8−26405号及び同58−26405号各公報には
、仕上げ焼鈍後の一方向性けい素鋼板の表面に、圧延方
向とほぼ直角な向きにレーザ照射を施すことによって局
部的微小ひずみの導入による磁区細分化をもって、鉄損
の低減を図ることが開示されているが、この場合、いわ
ゆるひずみ取り焼鈍を加えない使途では有効であっても
、該焼鈍が施されたときはせっか(導入された局部微小
ひずみが加熱保持中に解放され、磁区幅が拡大してレー
ザ照射による鉄損低減効果が喪失してしまう不利がある
。
8−26405号及び同58−26405号各公報には
、仕上げ焼鈍後の一方向性けい素鋼板の表面に、圧延方
向とほぼ直角な向きにレーザ照射を施すことによって局
部的微小ひずみの導入による磁区細分化をもって、鉄損
の低減を図ることが開示されているが、この場合、いわ
ゆるひずみ取り焼鈍を加えない使途では有効であっても
、該焼鈍が施されたときはせっか(導入された局部微小
ひずみが加熱保持中に解放され、磁区幅が拡大してレー
ザ照射による鉄損低減効果が喪失してしまう不利がある
。
これに対して発明者らはさきに、上記のような高温処理
にも拘らず特性劣化を伴うことのない低鉄損一方向性け
い素鋼板の製造に成功した。
にも拘らず特性劣化を伴うことのない低鉄損一方向性け
い素鋼板の製造に成功した。
すなわち方向性けい素鋼板の常法に従う最終仕上げ焼鈍
工程を経た後、りん酸塩とコロイダルシリカを主成分と
する絶縁被膜を形成させたのち、あるいは前記最終仕上
げ焼鈍工程を経て鋼板の外面に生成した酸化物を除去し
た後、表裏両面に研磨処理を施して鏡面状態に仕上げ、
ついでCVD、イオンブレーティングおよびイオンイン
プランテーションなどによりTi、 Zr、 L Nb
+ Ta+ Cr+ MotW、 Kn、 Co、 N
i+ Al+ 8及びStの窒化物及び/又は炭化物な
らびにAI、 Ni、 Cu、 W、 St及びZnの
酸化物のうちから選んだ少なくとも1種からなる極薄張
力被膜を形成させた後、りん酸塩とコロイダルシリカを
主成分とする絶縁被膜を形成させたのち、鋼板の圧延方
向を横切る向きにエレクトロンビームを照射することに
よって低鉄損を達成するものである。
工程を経た後、りん酸塩とコロイダルシリカを主成分と
する絶縁被膜を形成させたのち、あるいは前記最終仕上
げ焼鈍工程を経て鋼板の外面に生成した酸化物を除去し
た後、表裏両面に研磨処理を施して鏡面状態に仕上げ、
ついでCVD、イオンブレーティングおよびイオンイン
プランテーションなどによりTi、 Zr、 L Nb
+ Ta+ Cr+ MotW、 Kn、 Co、 N
i+ Al+ 8及びStの窒化物及び/又は炭化物な
らびにAI、 Ni、 Cu、 W、 St及びZnの
酸化物のうちから選んだ少なくとも1種からなる極薄張
力被膜を形成させた後、りん酸塩とコロイダルシリカを
主成分とする絶縁被膜を形成させたのち、鋼板の圧延方
向を横切る向きにエレクトロンビームを照射することに
よって低鉄損を達成するものである。
(発明が解決しようとする問題点)
上記の成功を導いた実験的成果を基盤として、工業的規
模における、その有利な適合を成就すべき、一方向性け
い素鋼板の鉄損低減連続処理設備を与えることが、この
発明の目的である。
模における、その有利な適合を成就すべき、一方向性け
い素鋼板の鉄損低減連続処理設備を与えることが、この
発明の目的である。
(問題点を解決するための手段)
すなわちこの発明は、方向性けい素鋼板の常法に従う仕
上げ焼鈍工程を経た鋼板に対し、その圧延方向を横切る
向きに局所的な熱処理を施す局所熱処理装置を有する真
空処理槽と、この真空処理槽の入側と出側にて、該処理
槽に向゛けて漸次に高真空度に調圧したそれぞれ複数の
予備排気槽列とをそなえてなる、一方向性けい素鋼板の
鉄損低減連続処理設備であり、とくにこの発明では、真
空処理槽内に、エレクトロンビーム照射領域の真空度を
高める高真空室を配設することが好ましい。
上げ焼鈍工程を経た鋼板に対し、その圧延方向を横切る
向きに局所的な熱処理を施す局所熱処理装置を有する真
空処理槽と、この真空処理槽の入側と出側にて、該処理
槽に向゛けて漸次に高真空度に調圧したそれぞれ複数の
予備排気槽列とをそなえてなる、一方向性けい素鋼板の
鉄損低減連続処理設備であり、とくにこの発明では、真
空処理槽内に、エレクトロンビーム照射領域の真空度を
高める高真空室を配設することが好ましい。
またこの発明において局所熱処理装置としては、エレク
トロンビーム照射装置やレーザー照射装置、プラズマ炎
放射装置などがとりわけ有利に適合する。
トロンビーム照射装置やレーザー照射装置、プラズマ炎
放射装置などがとりわけ有利に適合する。
(実施例)
第1図に、この発明に従う連続処理設備の好適例を模式
で示す。この例は熱処理装置としてエレクトロンビーム
照射装置を利用したものである。
で示す。この例は熱処理装置としてエレクトロンビーム
照射装置を利用したものである。
図中番号1はアンコイラ−12は真空処理槽、そして3
.4はそれぞれ真空処理槽2の入側および出側に配置し
た予備排気槽列であり、これらの予備排気槽列3,4は
いずれも、真空処理槽2に向けて漸次に高真空度に調圧
区分した予備排気槽3a、 3b、 3c、 3d、
3eおよび4a+ 4b、 4c+ 4tL 4eから
なる。
.4はそれぞれ真空処理槽2の入側および出側に配置し
た予備排気槽列であり、これらの予備排気槽列3,4は
いずれも、真空処理槽2に向けて漸次に高真空度に調圧
区分した予備排気槽3a、 3b、 3c、 3d、
3eおよび4a+ 4b、 4c+ 4tL 4eから
なる。
5は巻取り機、6はシャー、7a〜7cはそれぞれ回転
真空ポンプ、また8はメカニカルブースタポンプと回転
真空ポンプ、9は油拡散ポンプと回転真空ポンプである
。
真空ポンプ、また8はメカニカルブースタポンプと回転
真空ポンプ、9は油拡散ポンプと回転真空ポンプである
。
そしてlOが局所熱処理装置この例でエレクトロンビー
ム照射装置であり、11でエレクトロンビームを表わす
。
ム照射装置であり、11でエレクトロンビームを表わす
。
なおこの発明では、エレクトロンビーム照射領域の真空
度を一層高めるために、第2図に示したように真空処理
槽2内に高真空室を設けることもできる。すなわち同図
に示したところにおいて、12がエレクトロンビームの
照射径路11をさらに高真空とするための高真空室であ
り、13は高真空にするための油拡散ポンプと真空回転
ポンプへの排気孔である。
度を一層高めるために、第2図に示したように真空処理
槽2内に高真空室を設けることもできる。すなわち同図
に示したところにおいて、12がエレクトロンビームの
照射径路11をさらに高真空とするための高真空室であ
り、13は高真空にするための油拡散ポンプと真空回転
ポンプへの排気孔である。
次に第3図に、別の好適例を示す。この例は、熱処理装
置としてレーザー照射装置やプラズマ炎放射装置を用い
た場合にとくに好適なものである。
置としてレーザー照射装置やプラズマ炎放射装置を用い
た場合にとくに好適なものである。
この例では、差圧真空室は、1本の差圧ロールとこのロ
ールに対し小さな隙間を隔てて設置されたシーリングア
タッチメントとで構成される多数の独立した室からなり
、真空処理槽に向けて徐々に真空度を高めることによっ
て高真空(5X10−’torr)を達成するしくみに
なっている。そして14がレーザーあるいはプラズマ放
電により鋼板表面上に局所的な熱処理を施す局所熱処理
装置である。
ールに対し小さな隙間を隔てて設置されたシーリングア
タッチメントとで構成される多数の独立した室からなり
、真空処理槽に向けて徐々に真空度を高めることによっ
て高真空(5X10−’torr)を達成するしくみに
なっている。そして14がレーザーあるいはプラズマ放
電により鋼板表面上に局所的な熱処理を施す局所熱処理
装置である。
ここにレーザー照射装置は、第4図に示したとおり、レ
ーザー発振器Aとビーム操作装置Bとからなり、このレ
ーザー発振器Aは特公昭58−1419号公報に開示の
ようにパルス発振のマルチモードを用いて最適なレーザ
ー発振特性を確保するのが特徴であって、かようにして
得たレーザービームをBに図解したビーム操作装置によ
って鋼板表面上に照射するわけである。かかるレーザー
照射法は、特公昭58−26406号公報に開示されて
いるように、固定ミラーとガルバノミラ−およびF・
θミラーを用いることによって、鋼板の圧延方向とほぼ
直角方向への効率よい照射が可能である。
ーザー発振器Aとビーム操作装置Bとからなり、このレ
ーザー発振器Aは特公昭58−1419号公報に開示の
ようにパルス発振のマルチモードを用いて最適なレーザ
ー発振特性を確保するのが特徴であって、かようにして
得たレーザービームをBに図解したビーム操作装置によ
って鋼板表面上に照射するわけである。かかるレーザー
照射法は、特公昭58−26406号公報に開示されて
いるように、固定ミラーとガルバノミラ−およびF・
θミラーを用いることによって、鋼板の圧延方向とほぼ
直角方向への効率よい照射が可能である。
なお、このレーザー照射法では、−台当り鋼板の板幅方
向に3〜10cm程度しか操作できないため、第3図に
示すように複数台のレーザー照射装置を用いて鋼板全面
を均一に照射できるようにすることが好ましい。
向に3〜10cm程度しか操作できないため、第3図に
示すように複数台のレーザー照射装置を用いて鋼板全面
を均一に照射できるようにすることが好ましい。
次に第5図に、プラズマ炎放射ノズルを断面で示す。
さて鋼板表面上へのプラズマ放電照射において、効率的
に鉄損を低下させるためにはビーム径を細くすることが
不可欠であるが、同図に示したノズルには、とくに陰極
外套15が新たに設けられているので、通常よりも細<
(0,1〜0.5閣φ)しかもエネルギー密度の高い
プラズマビームを得ることができる。
に鉄損を低下させるためにはビーム径を細くすることが
不可欠であるが、同図に示したノズルには、とくに陰極
外套15が新たに設けられているので、通常よりも細<
(0,1〜0.5閣φ)しかもエネルギー密度の高い
プラズマビームを得ることができる。
そしてかかるプラズマ法を真空中で使用すると、第6図
に示すようにエネルギー密度を大幅に増加でき、従って
より効果的に鋼板表面上にプラズマ炎を照射できるので
ある。
に示すようにエネルギー密度を大幅に増加でき、従って
より効果的に鋼板表面上にプラズマ炎を照射できるので
ある。
(作 用)
さて常法に従う仕上げ焼鈍工程を経たけい素鋼板に対す
る真空中での局所熱処理は次の要領で行なわれる。
る真空中での局所熱処理は次の要領で行なわれる。
最終処理を経て巻取られた一方向性けい素鋼板のコイル
は、アンコイラ−1で巻戻され、連続エアーツーエアー
による予備排気槽列3を通って真空処理槽2内に導入さ
れる。次いで熱処理装置lOや14を用いて鋼板の圧延
方向を横切る向きに局所的な熱処理を施す、すなわち鋼
板の圧延方向を横切る向きに0.01〜1.Owaのビ
ーム径で連続または断続した線状にエレクトロンビーム
やレーザービーム、プラズマビームを照射するのである
。ここにかようなビームの照射間隙は1〜20++n程
度とするのが望ましい。
は、アンコイラ−1で巻戻され、連続エアーツーエアー
による予備排気槽列3を通って真空処理槽2内に導入さ
れる。次いで熱処理装置lOや14を用いて鋼板の圧延
方向を横切る向きに局所的な熱処理を施す、すなわち鋼
板の圧延方向を横切る向きに0.01〜1.Owaのビ
ーム径で連続または断続した線状にエレクトロンビーム
やレーザービーム、プラズマビームを照射するのである
。ここにかようなビームの照射間隙は1〜20++n程
度とするのが望ましい。
なおこのとき真空度が低いと、たとえばエレクトロンビ
ームの場合は真空放電が多発し、エレトクロンビームに
よる有効な処理が減殺されるため鋼板の低鉄損化に支障
をきたす、従ってかかる不利を回避するためには第2図
に示したように、エレトクロンビームが鋼板に照射する
領域(図中斜線で示す14の領域)を真空槽2より一層
高真空にすることが好ましい。このときの真空度差は、
真空処理槽2内が104〜10−’mmHgであるとき
は、15の斜線領域はlXl0−’〜10−’wHg程
度とすれば充分である。またレーザー照射およびプラズ
マ放射時における真空度は、10””〜10−’tor
r程度が好適である。
ームの場合は真空放電が多発し、エレトクロンビームに
よる有効な処理が減殺されるため鋼板の低鉄損化に支障
をきたす、従ってかかる不利を回避するためには第2図
に示したように、エレトクロンビームが鋼板に照射する
領域(図中斜線で示す14の領域)を真空槽2より一層
高真空にすることが好ましい。このときの真空度差は、
真空処理槽2内が104〜10−’mmHgであるとき
は、15の斜線領域はlXl0−’〜10−’wHg程
度とすれば充分である。またレーザー照射およびプラズ
マ放射時における真空度は、10””〜10−’tor
r程度が好適である。
上記のようにして鋼板表面上に局所的な熱処理が施され
た鋼板は、真空処理槽2の出側でやはりこの処理槽2に
近い程高真空度に調圧区分した予備排気槽列4を経由さ
せて、大気中に導出し、その後コイル5に巻取る。
た鋼板は、真空処理槽2の出側でやはりこの処理槽2に
近い程高真空度に調圧区分した予備排気槽列4を経由さ
せて、大気中に導出し、その後コイル5に巻取る。
上記したような真空中における局所的な熱処理によって
磁区が効果的に細分化され、ひいては鉄損特性が向上す
るのであり、しかもかかる鉄損特性改善効果はひずみ取
り焼鈍の後でも劣化することはない。
磁区が効果的に細分化され、ひいては鉄損特性が向上す
るのであり、しかもかかる鉄損特性改善効果はひずみ取
り焼鈍の後でも劣化することはない。
(実施例)
実態炎上
仕上げ焼鈍を経た一方向性けい素鋼板(0,23mm厚
)に、りん酸塩とコロイダルシリカとを主成分とする絶
縁被膜を形成させて巻取ったコイル(約8トン)を、ラ
インスピード30m/winにて前掲第1図に示した真
空連続処理設備に通し、エレクトロンビームを鋼板の幅
方向にわたって、加速電圧45kV、電流120mA
、走査間隔8m、ビーム径0.1−1第2図の14の真
空度10−’mHHの条件下に照射した。
)に、りん酸塩とコロイダルシリカとを主成分とする絶
縁被膜を形成させて巻取ったコイル(約8トン)を、ラ
インスピード30m/winにて前掲第1図に示した真
空連続処理設備に通し、エレクトロンビームを鋼板の幅
方向にわたって、加速電圧45kV、電流120mA
、走査間隔8m、ビーム径0.1−1第2図の14の真
空度10−’mHHの条件下に照射した。
かくして得られた製品の磁気特性は次のとおりであった
。
。
B+o=1.91T 、 W+、zs。=0.81W/
kg。
kg。
叉施透主
0.055%G、 3.25%Si、 0.075%M
n、 0.025%A1.0.030%S、 0.1%
Sn、 0.05%Cuの組成になるけい素鋼熱延板を
、1000°Cで3分間の中間焼鈍をはさんで2回の冷
間圧延を施して板厚0.20nomの冷延板としたのち
、850℃で脱炭処理後、850°Cから15″C/h
で1050°Cまで昇温して2次再結晶させ、ついで1
200°Cで8時間の純化処理を施して得た一方向性け
い素鋼板につき、その表面上の酸化物を酸洗により除去
した後、電解研磨により中心線平均粗さRa−0,08
μmに鏡面研磨した後、イオンブレーティング装置を用
いてTiN被膜(0,8μm)を鋼板両面に形成させ、
ついでりん酸とコロイダルシリカとを主成分とする絶縁
被膜を形成させた。
n、 0.025%A1.0.030%S、 0.1%
Sn、 0.05%Cuの組成になるけい素鋼熱延板を
、1000°Cで3分間の中間焼鈍をはさんで2回の冷
間圧延を施して板厚0.20nomの冷延板としたのち
、850℃で脱炭処理後、850°Cから15″C/h
で1050°Cまで昇温して2次再結晶させ、ついで1
200°Cで8時間の純化処理を施して得た一方向性け
い素鋼板につき、その表面上の酸化物を酸洗により除去
した後、電解研磨により中心線平均粗さRa−0,08
μmに鏡面研磨した後、イオンブレーティング装置を用
いてTiN被膜(0,8μm)を鋼板両面に形成させ、
ついでりん酸とコロイダルシリカとを主成分とする絶縁
被膜を形成させた。
その後前掲第1図の装置を用いて、次の条件下に鋼板表
面に圧延方向に対しほぼ直角の向きにエレクトロンビー
ムを連続して照射した。
面に圧延方向に対しほぼ直角の向きにエレクトロンビー
ムを連続して照射した。
ラインスピード: 35m/+m1n
EB照射条件:加速電圧40kV
:電流150mA
:照射間隔6閤
:照射径0.15m
かくして得られた製品の磁気特性は
BIO=1.94T SLt/5o=0.60W/kg
。
。
であった。
スJilJL影
0.053%G、 3.32%Si、 0.0?3%M
n、 0.026%sol A1.0.021%Se、
0.08%Snおよび0.05%Cuを含有する組成
になるけい素鋼スラブを、1380℃で5時間加熱後、
熱間圧延を施して1.8■厚の熱延板とした。その後1
100°Cで1分間の中間焼鈍をはさんで2回の冷間圧
延を施して0.23m厚の最終冷延板とした。ついで8
50℃の湿水素中で脱炭・1次再結晶焼鈍を行ったのち
、鋼板表面上にMgOを主成分とする焼鈍分離剤を塗布
してから、850°Cから1100°Cまで10″C/
hの速度で昇温してGoss方位の2次再結晶粒を発達
させたのち、乾■2中で1230℃、5時間の純化焼鈍
を行なった。その後鋼板表面上にりん酸塩とコロイダル
シリカを主成分とする絶縁被膜を形成させたのち、第3
図に示す連続真空熱処理装置を用いて、次の条件下にレ
ーザービームを照射した。
n、 0.026%sol A1.0.021%Se、
0.08%Snおよび0.05%Cuを含有する組成
になるけい素鋼スラブを、1380℃で5時間加熱後、
熱間圧延を施して1.8■厚の熱延板とした。その後1
100°Cで1分間の中間焼鈍をはさんで2回の冷間圧
延を施して0.23m厚の最終冷延板とした。ついで8
50℃の湿水素中で脱炭・1次再結晶焼鈍を行ったのち
、鋼板表面上にMgOを主成分とする焼鈍分離剤を塗布
してから、850°Cから1100°Cまで10″C/
hの速度で昇温してGoss方位の2次再結晶粒を発達
させたのち、乾■2中で1230℃、5時間の純化焼鈍
を行なった。その後鋼板表面上にりん酸塩とコロイダル
シリカを主成分とする絶縁被膜を形成させたのち、第3
図に示す連続真空熱処理装置を用いて、次の条件下にレ
ーザービームを照射した。
・ラインスピード: 20s/win
・レーザービーム照射条件
照射間隔:6■
ビーム径:0.1S園
エネルギー密度: 1.5wJ/IIIIl”真空度:
3 Xl0−’torr ついでかようなレーザー照射を経たけい素鋼板に、N8
中で800°C,5時間のひずみ取り焼鈍を施した。
3 Xl0−’torr ついでかようなレーザー照射を経たけい素鋼板に、N8
中で800°C,5時間のひずみ取り焼鈍を施した。
かくして得られた製品の磁気特性は、
B+o−1,93T 、賀、、/、。=0.79W/k
g、であった。
g、であった。
1隻斑土
0.044%C,3,35%Si、 0.0?2%Mn
、 0.022%Se、 0.026%sbおよび0.
015%Moを含有する組成になるけい素鋼スラブを、
1340℃で5時間加熱後、熱間圧延を施して2.0m
m厚の熱延板とした。その後950°Cで3分間の中間
焼鈍をはさんで2回の冷間圧延を施して0.23+11
[1厚の最終冷延板とした。ついで820°Cの湿水素
中で脱炭・1次再結晶焼鈍を施したのち、鋼板表面上に
MgOを主成分とする焼鈍分離剤を塗布してから、85
0°Cで50時間の2次再結晶焼鈍を行ってGoss方
位2次再結晶粒を発達させたのち、乾H2中で1200
’C15時間の純化焼鈍を行なった。
、 0.022%Se、 0.026%sbおよび0.
015%Moを含有する組成になるけい素鋼スラブを、
1340℃で5時間加熱後、熱間圧延を施して2.0m
m厚の熱延板とした。その後950°Cで3分間の中間
焼鈍をはさんで2回の冷間圧延を施して0.23+11
[1厚の最終冷延板とした。ついで820°Cの湿水素
中で脱炭・1次再結晶焼鈍を施したのち、鋼板表面上に
MgOを主成分とする焼鈍分離剤を塗布してから、85
0°Cで50時間の2次再結晶焼鈍を行ってGoss方
位2次再結晶粒を発達させたのち、乾H2中で1200
’C15時間の純化焼鈍を行なった。
その後鋼板表面上にりん酸塩とコロイダルシリカを主成
分とする絶縁被膜を形成させたのち、第3図に示す連続
真空熱処理装置を用いて、次の条件下にプラズマ炎を放
射した。
分とする絶縁被膜を形成させたのち、第3図に示す連続
真空熱処理装置を用いて、次の条件下にプラズマ炎を放
射した。
・ラインスピード: 15m/慣in
・プラズマ炎放射条件
照射間隔: 10mm
ビーム径=0.2閣
エネルギー密度: 5 X10’W/cm”真空度:
5 Xl0−’Lorr ついでかようなプラズマ炎放射を経たけい素鋼板に、N
2中で800°C12時間のひずみ取り焼鈍を施した。
5 Xl0−’Lorr ついでかようなプラズマ炎放射を経たけい素鋼板に、N
2中で800°C12時間のひずみ取り焼鈍を施した。
かくして得られた製品の磁気特性は、
B1゜=1.907 、 W+t/s。=0.81W/
kg。
kg。
であった。
(発明の効果)
かくしてこの発明によれば、一方向性けい素鋼板の表面
に有効にエレクトロンビームを照射することができるの
で、効果的な磁区の細分化ひいては鉄損の低減が達成さ
れる。
に有効にエレクトロンビームを照射することができるの
で、効果的な磁区の細分化ひいては鉄損の低減が達成さ
れる。
第1図は、この発明に従う連続処理設備の好適例を模式
で示した図、 第2図は、高真空室をそなえる真空処理槽の詳細図、 第3図は、別の好適例の模式図、 第4図は、レーザー照射装置の模式図、第5図は、プラ
ズマ炎放射ノズルの断面図、第6図は、大気中および真
空中でマイクロプラズマ放射を行ったときのエネルギー
密度を比較して示した図である。 1・・・アンコイラ−2・・・真空処理槽3.4・・・
予備排気槽列 5・・・巻取り機6・・・シャー
7a〜7c・・・回転真空ポンプ8・・・メカニ
カルブースタポンプと回転真空ポンプ9・・・油拡散ポ
ンプと回転真空ポンプ10・・・エレクトロンビーム照
射装置11・・・エレクトロンビーム
で示した図、 第2図は、高真空室をそなえる真空処理槽の詳細図、 第3図は、別の好適例の模式図、 第4図は、レーザー照射装置の模式図、第5図は、プラ
ズマ炎放射ノズルの断面図、第6図は、大気中および真
空中でマイクロプラズマ放射を行ったときのエネルギー
密度を比較して示した図である。 1・・・アンコイラ−2・・・真空処理槽3.4・・・
予備排気槽列 5・・・巻取り機6・・・シャー
7a〜7c・・・回転真空ポンプ8・・・メカニ
カルブースタポンプと回転真空ポンプ9・・・油拡散ポ
ンプと回転真空ポンプ10・・・エレクトロンビーム照
射装置11・・・エレクトロンビーム
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、方向性けい素鋼板の常法に従う仕上げ焼鈍工程を経
た鋼板に対し、その圧延方向を横切る向きに局所的な熱
処理を施す局所熱処理装置を有する真空処理槽と、この
真空処理槽の入側と出側にて、該処理槽に向けて漸次に
高真空度に調圧したそれぞれ複数の予備排気槽列とをそ
なえてなる、一方向性けい素鋼板の鉄損低減連続処理設
備。 2、真空処理槽内に、局所熱処理領域の真空度を高める
高真空室をそなえる特許請求の範囲第1項記載の設備。 3、局所熱処理装置が、エレクトロンビーム照射装置で
ある第1または2項記載の設備。 4、局所熱処理装置が、レーザー照射装置である第1ま
たは2項記載の設備。 5、局所熱処理装置が、プラズマ炎放射装置である第1
または2項記載の設備。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62-27386 | 1987-02-10 | ||
JP2738687 | 1987-02-10 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01230A true JPH01230A (ja) | 1989-01-05 |
JPS64230A JPS64230A (en) | 1989-01-05 |
Family
ID=12219613
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP30596587A Pending JPS64230A (en) | 1987-02-10 | 1987-12-04 | Continuous treatment equipment for decreasing iron loss of grain oriented silicon steel sheet |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS64230A (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02212177A (ja) * | 1989-02-13 | 1990-08-23 | Nec Corp | シリアルプリンタ |
KR101641032B1 (ko) * | 2012-11-08 | 2016-07-19 | 신닛테츠스미킨 카부시키카이샤 | 레이저 가공 장치 및 레이저 조사 방법 |
-
1987
- 1987-12-04 JP JP30596587A patent/JPS64230A/ja active Pending
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