JPH01230005A - 多層膜光導波路 - Google Patents
多層膜光導波路Info
- Publication number
- JPH01230005A JPH01230005A JP5700988A JP5700988A JPH01230005A JP H01230005 A JPH01230005 A JP H01230005A JP 5700988 A JP5700988 A JP 5700988A JP 5700988 A JP5700988 A JP 5700988A JP H01230005 A JPH01230005 A JP H01230005A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- refractive index
- optical waveguide
- light guide
- materials
- core
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 32
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 10
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 7
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims abstract description 6
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 65
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 abstract description 7
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 abstract description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 4
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 abstract 2
- YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N germanium dioxide Chemical compound O=[Ge]=O YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 abstract 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 abstract 2
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 abstract 1
- 239000011162 core material Substances 0.000 description 33
- 238000005253 cladding Methods 0.000 description 15
- 239000010408 film Substances 0.000 description 11
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 4
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 3
- 210000004907 gland Anatomy 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 2
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 2
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 2
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005672 electromagnetic field Effects 0.000 description 1
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 1
- 238000002513 implantation Methods 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 239000002648 laminated material Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Optical Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は所定の屈折率をもった光導波路構造である多層
膜光導波路に関する。
膜光導波路に関する。
（従来の技術）
光導波路は屈折率の高い材料からなる光導波路コアと屈
折率の低い材料からなる光導波路クラッドを接触させて
構成し、先導波路コア内を光を伝搬させるものである。
折率の低い材料からなる光導波路クラッドを接触させて
構成し、先導波路コア内を光を伝搬させるものである。
光導波路コアを光導波路クラッドと異なる屈折率の材料
で構成したり、光導波路クラッド材料の一部に他の材料
をドープする等して光導波路コアを構成する。先導波路
の一般的な作製方法は大きく分けるとデイポジションと
拡散又は注入との２つの方法に分けることができ、デイ
ポジションには半導体膜のエピタキシャル成長、真空蒸
着、スパッタ、プラズマＣＶＤ等があり、拡散又は注入
には熱拡散、イオン交換、イオン注入等がある。例えば
、真空蒸着法により光導波路を作製する場合には基板を
真空蒸着装置内に配置し、真空蒸着装置内を１０−’Ｔ
ｏｒｒ程度まで真空に引いて、電子ビームで例えばＳ
ＩＯｚのクランド材及びＴ、Ｏ□のコア材を加熱蒸発さ
せ、基板にデイポジションさせる。これにより、光導波
路のクラッド部を５．０□で形成しコア部をＴ、Ｏ，で
形成して、屈折率路１．４６の先導波路クラッド及び屈
折率路２．２の光導波路コアを有する光導波路が実現で
きる。また、光ファイバと光導波路とを低１員失で接続
するには、光導波路の光導波路コアの屈折率及び光導波
路クラッドの屈折率を夫々光ファイバのコアの屈折率及
びクラッドの屈折率と一致させるかあるいは近いものに
するように光導波路を設計しなければならない。
で構成したり、光導波路クラッド材料の一部に他の材料
をドープする等して光導波路コアを構成する。先導波路
の一般的な作製方法は大きく分けるとデイポジションと
拡散又は注入との２つの方法に分けることができ、デイ
ポジションには半導体膜のエピタキシャル成長、真空蒸
着、スパッタ、プラズマＣＶＤ等があり、拡散又は注入
には熱拡散、イオン交換、イオン注入等がある。例えば
、真空蒸着法により光導波路を作製する場合には基板を
真空蒸着装置内に配置し、真空蒸着装置内を１０−’Ｔ
ｏｒｒ程度まで真空に引いて、電子ビームで例えばＳ
ＩＯｚのクランド材及びＴ、Ｏ□のコア材を加熱蒸発さ
せ、基板にデイポジションさせる。これにより、光導波
路のクラッド部を５．０□で形成しコア部をＴ、Ｏ，で
形成して、屈折率路１．４６の先導波路クラッド及び屈
折率路２．２の光導波路コアを有する光導波路が実現で
きる。また、光ファイバと光導波路とを低１員失で接続
するには、光導波路の光導波路コアの屈折率及び光導波
路クラッドの屈折率を夫々光ファイバのコアの屈折率及
びクラッドの屈折率と一致させるかあるいは近いものに
するように光導波路を設計しなければならない。
（発明が解決しようとする課題）
しかしながら、従来のいずれの方法でも、光導波路の光
導波路クランド及び光導波路コアの屈折率がクランド及
びコアに使用する材料に固有の屈折率で固定され光導波
路の屈折率の設定が決まってしまい、また、熱拡散、イ
オン交換又はイオン注入による方法では光導波路コアの
屈折率に屈折率分布がついてしまうという問題点がある
。更に、従来のいずれの方法でも、光ファイバと先導波
路を接続する際に接続ｆｉｌ失を少なくするために光導
波路の各部を所定の屈折率に調整することが難しいとい
う問題点がある。
導波路クランド及び光導波路コアの屈折率がクランド及
びコアに使用する材料に固有の屈折率で固定され光導波
路の屈折率の設定が決まってしまい、また、熱拡散、イ
オン交換又はイオン注入による方法では光導波路コアの
屈折率に屈折率分布がついてしまうという問題点がある
。更に、従来のいずれの方法でも、光ファイバと先導波
路を接続する際に接続ｆｉｌ失を少なくするために光導
波路の各部を所定の屈折率に調整することが難しいとい
う問題点がある。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、所定
の光導波路コア及び光導波路クラッドの屈折率及びそれ
らの屈折率差を有する多層膜光導波路を提供することを
目的とする。
の光導波路コア及び光導波路クラッドの屈折率及びそれ
らの屈折率差を有する多層膜光導波路を提供することを
目的とする。
（課題を解決するための手段）
上記目的を解決するために、本発明によれば、屈折率に
差のある２種類以上の材料の薄膜を夫々前記材料内の光
波長に比べて薄い所定厚さで基板上に積層して構成され
た所与の屈折率の光導波路を有する多層１１り光導波路
が提供される。
差のある２種類以上の材料の薄膜を夫々前記材料内の光
波長に比べて薄い所定厚さで基板上に積層して構成され
た所与の屈折率の光導波路を有する多層１１り光導波路
が提供される。
（作用）
屈折率の異なる２種類以」二の材ｔ４を基板上に堆積さ
せ、その厚さを夫々材料内の使用波長よりも十分に薄く
多層形成することによって所定の等価な屈折率を有する
光導波路を構成する。
せ、その厚さを夫々材料内の使用波長よりも十分に薄く
多層形成することによって所定の等価な屈折率を有する
光導波路を構成する。
（実施例）
以下、本発明の実施例を添付図面に恭づいて詳細に説明
する。
する。
第１図は本発明の多層膜光導波路の一実施例を示す断面
図である。この実施例では、基板１」二に光導波路クラ
ッド２ｂが衆着等により堆積され、その上にＧ、０□・
Ｓ、Ｏ□の層２ｃとＳ、Ｏ□の層２ｄが交互に茎着等に
より積層されて先導波路コア２ａが形成され、更にその
トに先導波路クランド２ｂが形成されている。この光導
波路コア２ａは夫々４層のＧ−Ｏｘ’ ５ｔＯｚ層２ｃ
と３層のＳ、Ｏ，層２ｄがＪ７１Ｊ？５されて形成され
ている。後に詳述するように、屈折率の異なる２種類以
上の材料（物質）をその材料内の使用光波長よりも十分
に小さいつまり薄い所定厚さで積層させ積層構造を構成
すると、積層構造全体の等価な屈折率を個々の材料の屈
折率とは別に変化させることができる。積層構造の屈折
率は積層する材料の屈折率、各積層の厚さ、積層の数に
よって調整できる０例えば、先導波路コア２ａの積層材
料を光導波路クランド２ｂの材料よりも屈折率の高い材
料を使用することによって、あるいは屈折率の高い材料
の厚さを厚くすることによって、先導波路コア２ａの屈
折率を光導波路クラッド２ｂの屈折率よりも高くするこ
とが出来る。先導波路クランド２ｂは光導波路コア２ａ
と同しく薄膜を積層して構成することができる。先導波
路クラッド２ｂは光導波路コア２ａを形成する層２ｄと
同しＳ、Ｏｆで構成してもよく、別の材料で構成しても
よい。
図である。この実施例では、基板１」二に光導波路クラ
ッド２ｂが衆着等により堆積され、その上にＧ、０□・
Ｓ、Ｏ□の層２ｃとＳ、Ｏ□の層２ｄが交互に茎着等に
より積層されて先導波路コア２ａが形成され、更にその
トに先導波路クランド２ｂが形成されている。この光導
波路コア２ａは夫々４層のＧ−Ｏｘ’ ５ｔＯｚ層２ｃ
と３層のＳ、Ｏ，層２ｄがＪ７１Ｊ？５されて形成され
ている。後に詳述するように、屈折率の異なる２種類以
上の材料（物質）をその材料内の使用光波長よりも十分
に小さいつまり薄い所定厚さで積層させ積層構造を構成
すると、積層構造全体の等価な屈折率を個々の材料の屈
折率とは別に変化させることができる。積層構造の屈折
率は積層する材料の屈折率、各積層の厚さ、積層の数に
よって調整できる０例えば、先導波路コア２ａの積層材
料を光導波路クランド２ｂの材料よりも屈折率の高い材
料を使用することによって、あるいは屈折率の高い材料
の厚さを厚くすることによって、先導波路コア２ａの屈
折率を光導波路クラッド２ｂの屈折率よりも高くするこ
とが出来る。先導波路クランド２ｂは光導波路コア２ａ
と同しく薄膜を積層して構成することができる。先導波
路クラッド２ｂは光導波路コア２ａを形成する層２ｄと
同しＳ、Ｏｆで構成してもよく、別の材料で構成しても
よい。
第２図は一般的な埋込み形光導波路の設計パラメータを
示す断面１図である。一般に、埋込み型先導波路あるい
はりフジ型光導波路を設計する場合に、先導波路の光導
波路コア２ａの厚さＴ、光導波路コア２ａの幅Ｗ、光導
波路コア２ａの屈折率ｎ１、及び光導波路クランドの屈
折率ｎ２の各パラメータから先導波路の特性方程式を解
いて、先導波路内の電磁界分布、導波モード数等を解析
する。この解析により、先導波路内の光の伝搬状態を知
ることができる。また、光ファイバと光導波路とを接続
する際に、光ファイバとして単一モードファイバを用い
るとその比屈折率差Δ＝（ｎ、−ｎ２）／ｎ１（ｎ、
コアの屈折率、ｎ２・クラッドの屈折；＜４）が△−
０，３％程度であるから低打１失の接続を可能にするた
めには光導波路の屈折率を光ファイバに近づけることが
必要である。例えば、光導波路クランド材としてＳ、０
□を用いるとその屈折率が０２＝１．４５８であるから
屈折率ｎ１ζ１．４６２の物質で光導波路コアを形成す
ることが必要である。しかし、屈折率が１．４６２の誘
電体が存在しないために第１図を参照して略述した積層
構造により等価な屈折率として１．４６２を得ることに
なる。
示す断面１図である。一般に、埋込み型先導波路あるい
はりフジ型光導波路を設計する場合に、先導波路の光導
波路コア２ａの厚さＴ、光導波路コア２ａの幅Ｗ、光導
波路コア２ａの屈折率ｎ１、及び光導波路クランドの屈
折率ｎ２の各パラメータから先導波路の特性方程式を解
いて、先導波路内の電磁界分布、導波モード数等を解析
する。この解析により、先導波路内の光の伝搬状態を知
ることができる。また、光ファイバと光導波路とを接続
する際に、光ファイバとして単一モードファイバを用い
るとその比屈折率差Δ＝（ｎ、−ｎ２）／ｎ１（ｎ、
コアの屈折率、ｎ２・クラッドの屈折；＜４）が△−
０，３％程度であるから低打１失の接続を可能にするた
めには光導波路の屈折率を光ファイバに近づけることが
必要である。例えば、光導波路クランド材としてＳ、０
□を用いるとその屈折率が０２＝１．４５８であるから
屈折率ｎ１ζ１．４６２の物質で光導波路コアを形成す
ることが必要である。しかし、屈折率が１．４６２の誘
電体が存在しないために第１図を参照して略述した積層
構造により等価な屈折率として１．４６２を得ることに
なる。
第３図は第１Ｖの多層膜先導波路を拡大して示しており
、厚さ′ｒの光導波路コア２ａが屈折１．４７３、膜厚
り、のＣ２０２・Ｓ、○Ｊ５２ｃと屈折率１．４５８、
膜厚Ｌ２のＳ、Ｏ，層２ｄとが各３層積層されて構成さ
れている。−最に、数種類の材料を交互に積層した積層
構造の光導波路の等価な屈折率Ｎｅｔはで与えられる。
、厚さ′ｒの光導波路コア２ａが屈折１．４７３、膜厚
り、のＣ２０２・Ｓ、○Ｊ５２ｃと屈折率１．４５８、
膜厚Ｌ２のＳ、Ｏ，層２ｄとが各３層積層されて構成さ
れている。−最に、数種類の材料を交互に積層した積層
構造の光導波路の等価な屈折率Ｎｅｔはで与えられる。
ここで、厚さＴ＝ｔ、＋ｔ２＋・・・・・・七り０、ｍ
は各層の積層数（第３図の実施例ではｍ−６）、Ｌ、、
Ｌ２・・・・・・Ｌｌは各材料の膜厚であり、ｎｌ、ｎ
２・・・・・・ｎ、は各材料の屈折率である。例えば、
材料ＣｐＯ，・Ｓ１０□と３．０□とを用いて真空決着
により光導波路を形成する場合に光導波路クラ、ドを３
．０□で形成し光導波路コアをＧ。Ｏｘ・Ｓ、０□とＳ
、０□の多層膜で形成するものとすれば、光導波路コア
の等価な屈折率１．４６２を得る１つの解としてｎ＋＝
１．４７３ 、ｎ２ ＝１．４５８、ｔ、＝０．５３μ
ｍ、 Ｌｘ ＝１．４７μｍの積層構造が得られる（
ｍ−２）。この光導波路は膜厚む７、し！を変えること
により等価な屈折率Ｎ□を微調整できるので所望の屈折
率及び光導波路コアと光導波路クラッドの屈折率差をも
った先導波路を実現できる。また、薄膜を多層に積層す
るので膜厚の精度が１／’−ｆｒ（Ｎ：層数）に比例し
て向上できる。積層構造は真空蒸着等により容易に作製
できる。
は各層の積層数（第３図の実施例ではｍ−６）、Ｌ、、
Ｌ２・・・・・・Ｌｌは各材料の膜厚であり、ｎｌ、ｎ
２・・・・・・ｎ、は各材料の屈折率である。例えば、
材料ＣｐＯ，・Ｓ１０□と３．０□とを用いて真空決着
により光導波路を形成する場合に光導波路クラ、ドを３
．０□で形成し光導波路コアをＧ。Ｏｘ・Ｓ、０□とＳ
、０□の多層膜で形成するものとすれば、光導波路コア
の等価な屈折率１．４６２を得る１つの解としてｎ＋＝
１．４７３ 、ｎ２ ＝１．４５８、ｔ、＝０．５３μ
ｍ、 Ｌｘ ＝１．４７μｍの積層構造が得られる（
ｍ−２）。この光導波路は膜厚む７、し！を変えること
により等価な屈折率Ｎ□を微調整できるので所望の屈折
率及び光導波路コアと光導波路クラッドの屈折率差をも
った先導波路を実現できる。また、薄膜を多層に積層す
るので膜厚の精度が１／’−ｆｒ（Ｎ：層数）に比例し
て向上できる。積層構造は真空蒸着等により容易に作製
できる。
（発明の効果）
以上説明したように、本発明によれば、屈折率に差のあ
る２種類以上の材料の）Ｗ膜を夫々前記材料内の光波長
に比べて薄い所定１“１さで裁板上に積層して構成され
た所与の屈折率の先導波路を有することにより、先導波
路の屈折率及び先導波路コアと光導波路クラッドの屈折
率差を所定の値に設計でき、そのため光ファイバと接続
する際に接続ｒＲ失を低減するように構成でき、また屈
折率差を選択することにより光導波路を非常に薄く構成
でき、更に、薄膜を多層に積層するために全体の膜厚の
精度が向上でき、更に、厚膜を使用せずに薄膜を積層さ
せて光導波路を形成することから蒸着等により容易に先
導波路が構成できるという効果が得られる。
る２種類以上の材料の）Ｗ膜を夫々前記材料内の光波長
に比べて薄い所定１“１さで裁板上に積層して構成され
た所与の屈折率の先導波路を有することにより、先導波
路の屈折率及び先導波路コアと光導波路クラッドの屈折
率差を所定の値に設計でき、そのため光ファイバと接続
する際に接続ｒＲ失を低減するように構成でき、また屈
折率差を選択することにより光導波路を非常に薄く構成
でき、更に、薄膜を多層に積層するために全体の膜厚の
精度が向上でき、更に、厚膜を使用せずに薄膜を積層さ
せて光導波路を形成することから蒸着等により容易に先
導波路が構成できるという効果が得られる。
第１図は本発明の多層膜光導波路の一実施例を示す断面
図、第２図は一般的な埋込み形光導波路の設計パラメー
タを示す断面図、第３図は第１図の多層膜光導波路を拡
大して説明する拡大断面図である。 １・・・基板、２・・・光導波路、２ａ・・・光導波路
コア、２ｂ・・・光導波路クランド、２Ｃ・・・Ｇ、０
□・ｓｔｏｗ層、２ｄ・・・Ｓ ＩＯｚ層、Ｔ・・・光
導波路コアの厚さ、Ｗ・・・先導波路コアの幅、ｎ・・
・先導波路コアの屈折率、ｎ２・・・先導波路クラッド
の屈折率。
図、第２図は一般的な埋込み形光導波路の設計パラメー
タを示す断面図、第３図は第１図の多層膜光導波路を拡
大して説明する拡大断面図である。 １・・・基板、２・・・光導波路、２ａ・・・光導波路
コア、２ｂ・・・光導波路クランド、２Ｃ・・・Ｇ、０
□・ｓｔｏｗ層、２ｄ・・・Ｓ ＩＯｚ層、Ｔ・・・光
導波路コアの厚さ、Ｗ・・・先導波路コアの幅、ｎ・・
・先導波路コアの屈折率、ｎ２・・・先導波路クラッド
の屈折率。
Claims (1)
- 屈折率に差のある２種類以上の材料の薄膜を夫々前記材
料内の光波長に比べて薄い所定厚さで基板上に積層して
構成された所与の屈折率の光導波路を有することを特徴
とする多層膜光導波路。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5700988A JPH01230005A (ja) | 1988-03-10 | 1988-03-10 | 多層膜光導波路 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5700988A JPH01230005A (ja) | 1988-03-10 | 1988-03-10 | 多層膜光導波路 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01230005A true JPH01230005A (ja) | 1989-09-13 |
Family
ID=13043449
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5700988A Pending JPH01230005A (ja) | 1988-03-10 | 1988-03-10 | 多層膜光導波路 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01230005A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5303319A (en) * | 1992-12-28 | 1994-04-12 | Honeywell Inc. | Ion-beam deposited multilayer waveguides and resonators |
| WO2013146620A1 (ja) * | 2012-03-30 | 2013-10-03 | 日本電気株式会社 | 光機能素子及びその製造方法 |
| US20180059478A1 (en) * | 2016-01-08 | 2018-03-01 | Boe Technology Group Co., Ltd. | Light guide plate, backlighting module and liquid crystal display device |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6037504A (ja) * | 1983-08-09 | 1985-02-26 | Fujitsu Ltd | 光導波路の製造方法 |
| JPS63113507A (ja) * | 1986-10-31 | 1988-05-18 | Hitachi Ltd | 光導波路およびその製造法 |
| JPH01154002A (ja) * | 1987-12-10 | 1989-06-16 | Japan Aviation Electron Ind Ltd | 光導波路 |
-
1988
- 1988-03-10 JP JP5700988A patent/JPH01230005A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6037504A (ja) * | 1983-08-09 | 1985-02-26 | Fujitsu Ltd | 光導波路の製造方法 |
| JPS63113507A (ja) * | 1986-10-31 | 1988-05-18 | Hitachi Ltd | 光導波路およびその製造法 |
| JPH01154002A (ja) * | 1987-12-10 | 1989-06-16 | Japan Aviation Electron Ind Ltd | 光導波路 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5303319A (en) * | 1992-12-28 | 1994-04-12 | Honeywell Inc. | Ion-beam deposited multilayer waveguides and resonators |
| WO2013146620A1 (ja) * | 2012-03-30 | 2013-10-03 | 日本電気株式会社 | 光機能素子及びその製造方法 |
| US9729246B2 (en) | 2012-03-30 | 2017-08-08 | Nec Corporation | Manufacturing method for a phase modulation system with ultraviolet discharge of accumulated charges |
| US20180059478A1 (en) * | 2016-01-08 | 2018-03-01 | Boe Technology Group Co., Ltd. | Light guide plate, backlighting module and liquid crystal display device |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4484794A (en) | Optical star coupler and the method of making | |
| US6411765B1 (en) | Optical waveguide element and method for manufacturing optical waveguide element | |
| US3785717A (en) | Stepped integrated waveguide structure with directional coupling and a method of manufacturing such structures | |
| US5303319A (en) | Ion-beam deposited multilayer waveguides and resonators | |
| US8538213B2 (en) | SSC chip, fiber array attached with SSC, PLC module attached with SSC and method for manufacturing SSC | |
| EP0297851A2 (en) | Integrated optical device and method for manufacturing thereof | |
| JPH116928A (ja) | アレイ導波路格子型波長合分波器 | |
| US5764825A (en) | Optical wavelength division multiplexer device | |
| US4889401A (en) | Birefringent optical waveguide structure having a strip waveguide buried in a cladding layer and the method of manufacturing | |
| JP2000180646A (ja) | 光回路装置 | |
| TWI224690B (en) | Optical wave guide coupled circuit device | |
| US6556749B2 (en) | Array waveguide grating and method of manufacture thereof | |
| KR940003738B1 (ko) | 광학 도파관을 갖는 광소자와 그 제조방법 | |
| JPH01230005A (ja) | 多層膜光導波路 | |
| US7228026B2 (en) | Optical multiplexer/demultiplexer and manufacturing method thereof | |
| JPH11202126A (ja) | 誘電体多層膜フィルタ | |
| US7664353B2 (en) | Optical waveguide structure including at least first, second and third waveguides and coupling waveguide | |
| JP2001296438A (ja) | フォトブリーチング導波路 | |
| JP2848144B2 (ja) | チューナブル光フィルタ | |
| Yanagimachi et al. | High-performance and highly stable 0.3-nm-full-width-at-half-maximum interference optical filters | |
| Kobayashi et al. | Optical demultiplexer using coupling between nonidentical waveguides | |
| KR20010022120A (ko) | 광소자 제조방법 및 그 광소자 | |
| JPH07168009A (ja) | ビームスプリッタおよび光分岐回路 | |
| JPS6363006A (ja) | 積層光導波路 | |
| JP2003084168A (ja) | 多層膜付レンズおよび光ファイバコリメータ |