JPH01220796A - 地中埋設管の漏洩修繕法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、都市ガス用や水道用などの地中に埋設した管
における漏洩部をシール剤によって修繕する方法に関す
る。

〔従来の技術〕

従来、漏洩部の両側において地中埋設管を掘出し、それ
ら掘出し箇所で地中埋設管を切断すると共に修繕対象部
分の両側の地中埋設管の切断端部を閉じ、修繕対象部分
の内部にシール剤を供給して、漏洩部分をシール剤で閉
塞し、その後地中埋設管を復旧接続し、掘出し箇所を埋
戻していた。

〔発明が解決しようとする課題〕

しかし、修繕対象部分やその下流側部分に都市ガスや上
水などの供給を修繕工事の開停止しなければならず、ま
た、掘削工事、管の切断工事、管の復旧接続工事、埋戻
し工事、掘削土砂や埋戻し土砂の処置などに多大の経費
と労力と工期を要し、さらには、シール剤を漏洩修繕に
真に必要な量に比してはるかに多く準備しなければなら
ず、−層の改良の余地があった。

本発明の目的は、地中埋設管の漏洩修繕を、地中埋設管
による流体供給を全く中断すること無く、掘削工事を不
要又は僅かにして、かつ、使用シール剤の量を大巾に減
少して実行できるようにする点にある。

〔課題を解決するための手段〕

本第１発明の特徴手段は、地中に埋設した管の漏洩部の
近傍に位置する土壌中に、地上から土壌中に差込んだ注
入器の吐出部を位置させ、前記注入器によって前記漏洩
部の近傍の土壌中にシール剤を注入し、前記漏洩部の近
傍に既存の環境物質と前記注入したシール剤との反応に
よって、土壌と反応生成物とから成る気密物質を造り、
その気密物質により前記漏洩部をシールすることにあり
、その作用効果は次の通りである。

〔作　用〕

つまり、地上から土壌中に差込んだ注入器により漏洩部
近傍の土壌中に注入したシール剤を、既存の環境物質と
反応させて、土壌と反応生成物から成る気密物質で漏洩
部から管外への流体流出や管内への流体流入を阻止する
のであるから、管による流体供給を全く中断すること無
く継続でき、土壌の掘削を全く無くすか又は僅かにでき
、シールに必要な体積の気密物質を造るに必要な比較的
少量のシール剤を注入するだけで済む。

〔課題を解決するための手段〕

本第２発明による特徴手段は、本第１発明のシール剤に
代えて、互いの反応でシールのための気密物質を造る第
１シール剤と第２シール剤を注入することにあり、その
作用効果は次の通りである。

〔作　用〕

つまり、本第１発明の特徴手段に加えて、さらに一種類
のシール剤を地上から土壌中に注入だけであるから、本
第１発明と同様に、地中埋設管による流体供給を継続で
き、掘削工事を不要又は僅かにでき、シール剤の使用量
を少なくできる。

〔課題を解決するための手段〕

本第３発明による特徴手段は、本第１発明のシール剤に
代えて、互に反応する第１シール剤と第２シール剤、及
び、第１シール剤と第２シール剤の反応生成物との反応
でシールのための気密物質を造る第３シール剤を注入す
ることにあり、その作用効果は次の通りである。

〔作　用〕

つまり、本第１発明の特徴手段に加えて、さらに二種類
のシール剤を地上から土壌中に注入するだけであるから
、本第１発明と同様に、地中埋設管による流体供給を継
続でき、掘削工事を不要又は僅かにでき、シール剤の使
用量を少なくできる。

〔課題を解決するための手段〕

本第４発明による特徴手段は、本第１発明によるシール
剤に代えて嫌気性シール剤を注入することにより、その
作用効果は次の通りである。

〔作　用〕

つまり、本第１発明と同様に、一種類のシール剤を地上
から土壌中に注入するだけであるから、地中埋設管によ
る流体供給を継続でき、掘削工事を不要又は僅かにでき
、シール剤の使用量を少なくできる。

〔発明の効果〕

その結果、地中埋設管の漏洩部の修繕を、流体供給に悪
影響が無い状態で、経費や労力を十分に少なくした状態
で、さらに、工期を十分に短縮した状態で実行できる、
実際面で一段と優れた地中埋設管の漏洩修繕法を得られ
た。

〔実施例〕

次に実施例を示す。

地中に埋設した都市ガス供給用の管（１）における漏洩
部（１ａ）を、地上から適当な公知の漏洩検出手段で検
知し、第１図に示すように、地上から土壌（２）中に注
入器（３）を差込み、注入器（３）の吐出部（３ａ）を
管（１）の漏洩部（１ａ）の近傍の土壌（２）中に位置
させる。

そして、注入器（３）に接続したシール剤圧送装置（４
）によって適量のシール剤を圧送して、注入器（３）に
よって漏洩部（１ａ）の近傍の土壌（２）中にシール剤
を注入し、シール剤の作用で気密物質（５）を、管（１
）の漏洩部（１ａ）が存在する部分の全周にわたって造
り、その気密物質（５）により漏洩部＜１ａ）をシール
する。

その後、注入器（３）を回収し、注入器（３）の差込み
孔を閉塞し、もって、地中埋設管（１）の漏洩修繕を、
都市ガス供給を継続したままで実行し、かつ、完了する
。

次に、使用するシール剤の種類とそれにより造られる気
密物質（５）、及び、その他の各種手段についての各種
実施例を説明する。

（実施例１） 漏洩部（１ａ）の近傍に既存の環境物質と反応するシニ
ル剤を使用し、土壌と反応生成物とから成る気密物質（
５）を造る。

シール剤は、例えばエポキシ基やインシアネート基など
の反応基をもつもの、ビニール基をもつもの、中和によ
り析出するもの等であり、具体的には、プロ°ピレンオ
キサイド、スチレンオキサイド、ジグリンジルエーテル
などのエポキシ化合物、又は、シクロヘキシルイソシア
ナート、フェニルイソシアナート、ヘキサメチレンジイ
ソシアナート、トルエン−２，４−ジイソシアナートな
どのインシアネート化合物、又は、テトラメツキジシラ
ン、トリメツキジメチルシラン、ジアセトキシジメチル
シラン、トリエソキシシランなどのオルガノシラン化合
物、又は、メタクリル酸エチル、アクリル酸エチルなど
のビニル系化合物等である。

環境物質は、例えば水、酸素、二酸化炭素、アルカリ物
質、酸性物質、錆、漏洩物質等である。

反応生成物の具体例は次の通りである。

（イ）インシアネート化合物と地下水との反応により得
られる尿素結合物質。

（ロ）　アルカリ物質又は酸性物質の存在下で、オルガ
ノシラン化合物と地下水との反応により得られるオルガ
ノシロキサン系物質。

（実施例２） 互いに反応する第１シール剤と第２シール剤を使用し、
土壌と反応生成物とから成る気密物質（５）を造る。　
　。

第１及び第２シール剤のいずれを先に注入しても、又は
、両シール剤を同時に注入してもよく、さらに、両シー
ル剤を一本の注入器（３）で注入しても、各別の注入器
（３）で注入しもよい。

第１シール剤は、例えば、実施例１のシール剤と同様の
物質である。

第２シール剤は、例えば、実施例１の環境物質と同様の
物質、あるいは、アルコール系物質、アミン系物質、有
機酸等である。アルコール系物質としては、エタノール
、ブタノーノペアミルアルコールナトの１価アルコール
、又は、エチレングリコール、プロピレングリコールナ
トの２価アルコール等を用いる。アミン系酸物質として
は、エチルアミン、エチレンジアミン、アニリン、ジエ
チレントリアミンなどの第１アミン、又は、ジエチルア
ミンなどの第２アミン、又は、エタノールアミン等を用
いる。有機酸としては酢酸、酪酸等を用いる。

反応生成物の具体例は次の通りである。

（イ）第１シール剤のインシアネート化合物と第２シー
ル剤のアミン系物質との反応により得られる尿素系物質
。

（ｒｌ）　第１シール剤のエポキシ化合物と第２シール
剤のアミン系物質との反応により得られるエポキシ樹脂
系物質。

（ハ）第１シール剤のイソシアネート化合物と第２シー
ル剤のアルコール系物質との反応により得られるポリウ
レタン系物質。

（実施例３） 互に反応する第１シール剤と第２シール剤を使用すると
共に、第１及び第２シール剤の反応による生成物と反応
する第３シール剤を使用し、土壌と反応生成物とから成
る気密物質（５）を造る。

第１ないし第３シール剤をいずれの順に注入しても、又
は、一部又は全部を同時に注入してもよく、さらに、１
本又は２本又は３本の注入器（３）で注入してもよい。

第１シール剤は、例えばインシアネート化合物等である
。

第２シール剤は、例えば水や有機酸等である。

第３シール剤は、例えばジメタクリレートにキ二メンヒ
ドロベルオキシドとベンゾキノンをＩＩ加えたもの、又
は水ガラス等である。

反応生成物の具体例は次の通りである。

（イ）インシアネート化合物と水との反応により得られ
る尿素結合物質、並びに、その反応により生成する二酸
化炭素と水ガラスとの反応により析出するシリカ。

（ロ）イソシネート化合物と有機酸との反応により得ら
れる尿素結合物質、並びに、その反応により生成する二
酸化炭素と水ガラスとの反応により析出するシリカ。

（実施例４） 嫌気性シール剤を使用し、シール剤注入によって漏洩部
（１ａ）の近傍の土壌（２）　中に既存の酸素ガスを排
除して、注入した嫌気性シール剤を固化させ、土壌と固
化物とから成る気密物質（５）を造る。

嫌気性シール剤は、例えばテトラエチレングリコールジ
メタクリレート等である。

（実施例５） 上記実施例Ｉないし４いずれかにおいて、シール剤の反
応を促進する触媒を注入器（３）　によって漏洩部（１
ａ）の近傍の土壌（２）中に注入して、工期短縮を図る
。

触媒は、例えばインシアネート化合物又はエポキシ化合
物に対するトリエチルアミンなどの第３アミン、又は、
ビニル系化合物に対する水酸化ナトリウムなどのアルカ
リ物質又は有機金属物質等である。

（実施例６） 上記実施例１ないし、５のいずれかにおいて、第２図に
示すように注入器（３）に付設の電気ヒータ、あるいは
、その他適当な加熱装置（６）　によって、シール剤を
土壌（２）中に到達する以前に加熱し、シール剤の反応
促進で工期短縮を図る。

（実施例７） 上記実施例１ないし６のいずれかにおいて、第３図（イ
）に示すように漏洩部（１ａ）の近傍の土壌（２）中に
差込んだヒータ（７）、又は、第３図（ロ）に示すよう
に高温流体発生装置（８）と吹込用バイブ（９）で漏洩
部（１ａ）の近傍の土壌（２）中に供給した高温ガスや
水蒸気などの高温流体により、土壌（２）を予熱する等
の手段でもって、シール剤の反応に際して漏洩部（１ａ
）近傍の土壌（２）を加熱装置（７）又は（８）、　（
９）で高温にし、シール剤の反応促進で工期短縮を図る
。

（実施例８） 上記実施例１ないし４のいずれかにおいて、第４図に示
すように注入器（３）に付設の冷媒式冷却器、その他適
当な冷却装置（１０）によって、シール剤を土壌（２）
中に到達する前に冷却し、シール剤の反応抑制によりシ
ール剤を確実に所望範囲に供給する。

（実施例９） 上記実施例工ないし４及び８のいずれかにおいて、第５
図（イ）に示すように漏洩部（１ａ）の近傍の土壌（２
）　中に差込んだ冷却器（１１）、又は、第５図（０）
　に示すように低温流体供給装置（１２）と吹込用パイ
プ（１３）で漏洩部（１ａ）の近傍の土壌（２）中に供
給した低温ガスや液化ガスなどの低温流体により土壌（
２）を予冷する等の手段でもって、シール剤の反応に際
して漏洩部（１ａ）近傍の土壌（２）を冷却装置（１１
）又は（１２）、　（１３）で低温にし、シール剤の反
応抑制でシール剤を所望範囲に供給する。

（実施例１０） 上記実施例４において、嫌気性シール剤の注入前に、漏
洩部（１ａ）近傍の土壌（２）　中に酸素ガスを排除す
るための物質を注入器（３）で注入し、嫌気性シール剤
の固化促進で工期短縮を図る。

酸素ガス排除用の物質は、純窒素ガスなどの無酸素流体
、水素ガスや一酸化炭素ガスなどの還元性流体である。

〔別実施例〕

次に別実施例を説明する。

地中埋設管（１）による輸送流体の種類は不問である。

注入器（３）の具体構造、土中への差込み法は適当に選
定でき、例えば適当なドリルで細孔を形成して、細孔に
注入器（３）を入れてもよい。

シール剤は、常温で流動性のある液状が一般的であるが
、加熱すると流動性を持つもの、その他適当な性状のも
のを選択利用できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の実施例を示す概念図、第２図、第３図
（イ）及び（ロ）、第４図、第５図（イ）及び（ロ）は
夫４本発明の各別の実施例を示す概念図である。 （１）・・・・・・管、（１ａ）・・・・・・漏洩部、
（２）・・・・・・土壌、（３）・・・・・・注入器、
（３ａ）・・・・・・吐出部、（５）・・・・・・気密
物質、（６）・・・・・・加熱装置、（７）又は（８）
、　（９）・・・・・・加熱装置、（１０）・・・・・
・冷却装置、（１１）又は（１２）。 （１３）・・・・・・冷却装置。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、地中に埋設した管（１）の漏洩部（１ａ）の近傍に
   位置する土壌（２）中に、地上から土壌（２）中に差込
   んだ注入器（３）の吐出部（３ａ）を位置させ、前記注
   入器（３）によって前記漏洩部（１ａ）の近傍の土壌（
   ２）中にシール剤を注入し、前記漏洩部（１ａ）の近傍
   に既存の環境物質と前記注入したシール剤との反応によ
   って、土壌と反応生成物とから成る気密物質（５）を造
   り、その気密物質（５）により前記漏洩部（１ａ）をシ
   ールする地中埋設管の漏洩修繕法。 ２、地中に埋設した管（１）の漏洩部（１ａ）の近傍に
   位置する土壌（２）中に、地上から土壌（２）中に差込
   んだ注入器（３）の吐出部（３ａ）を位置させ、前記注
   入器（３）によって前記漏洩部（１ａ）の近傍の土壌（
   ２）中に第１シール剤と第２シール剤を注入し、前記漏
   洩部（１ａ）の近傍における前記第１シール剤と第２シ
   ール剤との反応によって、土壌と反応生成物とから成る
   気密物質（５）を造り、その気密物質（５）により前記
   漏洩部（１ａ）をシールする地中埋設管の漏洩修繕法。 ３、地中に埋設した管（１）の漏洩部（１ａ）の近傍に
   位置する土壌（２）中に、地上から土壌（２）中に差込
   んだ注入器（３）の吐出部（３ａ）を位置させ、前記注
   入器（３）によって前記漏洩部（１ａ）の近傍の土壌（
   ２）中に第１シール剤と第２シール剤と第３シール剤を
   注入し、前記漏洩部（１ａ）の近傍において、前記第１
   シール剤と前記第２シール剤とを反応させると共に、そ
   の反応による生成物と前記第３シール剤を反応させて、
   土壌と反応生成物とから成る気密物質（５）を造り、そ
   の気密物質（５）により前記漏洩部（１ａ）をシールす
   る地中埋設管の漏洩修繕法。 ４、地中に埋設した管（１）の漏洩部（１ａ）の近傍に
   位置する土壌（２）中に、地上から土壌（２）中に差込
   んだ注入器（３）の吐出部（３ａ）を位置させ、前記注
   入器（３）によって前記漏洩部（１ａ）の近傍の土壌（
   ２）中に嫌気性シール剤を注入し、前記漏洩部（１ａ）
   の近傍の土壌（２）中に既存の酸素ガスを前記注入した
   嫌気性シール剤で排除して、前記嫌気性シール剤の固化
   によって、土壌と固化物とから成る気密物質（５）を造
   り、その気密物質（５）により前記漏洩部（１ａ）をシ
   ールする地中埋設管の漏洩修繕法。 ５、前記注入器（３）によって前記漏洩部（１ａ）の近
   傍の土壌（２）中に、前記シール剤の反応を促進する触
   媒を注入する請求項１ないし４のいずれかに記載の地中
   埋設管の漏洩修繕法。 ６、前記シール剤を土壌（２）中に到達する以前に加熱
   装置（６）で加熱する請求項１ないし５のいずれかに記
   載の地中埋設管の漏洩修繕法。 ７、前記シール剤の反応に際して前記漏洩部（１ａ）の
   近傍の土壌（２）を高温にするために、その土壌（２）
   を加熱装置（７）又は（８），（９）で加熱する請求項
   １ないし６のいずれかに記載の地中埋設管の漏洩修繕法
   。 ８、前記シール剤を土壌（２）中に到達する前に冷却装
   置（１０）で冷却する請求項１ないし４のいずれかに記
   載の地中埋設管の漏洩修繕法。 ９、前記シール剤の反応に際して前記漏洩部（１ａ）の
   近傍の土壌（２）を低温にするために、その土壌（２）
   を冷却装置（１１）又は（１２），（１３）で冷却する
   請求項１ないし４及び８のいずれかに記載の地中埋設管
   の漏洩修繕法。 １０、前記嫌気性のシール剤の注入前に、前記漏洩部（
   １ａ）の近傍の土壌（２）中に前記注入器（３）によっ
   て、その土壌（２）中の酸素ガスを排除するための物質
   を注入する請求項４記載の地中埋設管の漏洩修繕法。