JPH01215482A - レーザーマーキングシステム - Google Patents

レーザーマーキングシステム

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Publication number
JPH01215482A
JPH01215482A JP63042604A JP4260488A JPH01215482A JP H01215482 A JPH01215482 A JP H01215482A JP 63042604 A JP63042604 A JP 63042604A JP 4260488 A JP4260488 A JP 4260488A JP H01215482 A JPH01215482 A JP H01215482A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
laser beam
laser
stage
marker
decision
Prior art date
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Pending
Application number
JP63042604A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshihiko Kikuchi
菊池 敏彦
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野〕 本発明は半導体装置(以後ICと呼ぶ)のレーザーマー
キングシステムに関し、特に電気的特性試験で不良と判
定されたICにレーザーによってマーキングするシステ
ムに関する。
〔従来の技術〕
従来、この種のマーキングシステムは半導体基板(以後
ウェハーと呼ぶ)上のICが不良と判定された時点で、
レーザーに信号を送り、−発のレーザーによりマーキン
グしていた。
〔発明が解決しようとする課題〕
上述した従来のマーキングシステムは、 ICに一発の
レーザーしか打たないため、目視で見た場合、判別しに
くいという欠点がある。
また、目視で見えるためにはある程度の大きさのレーザ
ー跡が必要になってくる。レーザー跡を見易くするには
、レーザー跡を大きくする必要があるが、−発のレーザ
ーしか打たない場合はこのレーザー跡を大きくするため
に、レーザー出力を上げるしか方法はない。
ところが、レーザー出力を上げるとレーザーによって飛
び散る半導体装置の溶ける部分の範囲が拡大するために
、結果的に半導体装置の測定工程の欠点である発塵が増
大することになる。
本発明の目的は前記課題を解決したレーザーマーキング
システムを提供することにある。
〔発明の従来技術に対する相違点〕
上述した従来のレーザーマーキングシステムに対し、本
発明はステージの駆動と同期して、一定時間レーザーを
発射することによりレーザー跡を直線状に刻設するとい
う相違点を有する。
〔課題を解決するための手段〕
上記目的を達成するため1本発明のマーキングシステム
においては、不良品として判定された半導体装置にレー
ザーでマーキングを施すレーザーマーカーと、レーザー
マーカーを制御するレーザー制御装置と、半導体装置を
移動させるステージとを有し、ステージの駆動に同期し
て、一定時間レーザーを発射することにより、直線状の
レーザー跡を刻設するものである。
〔実施例〕
以下、本発明の実施例を図により説明する。
(実施例1) 第1図は本発明の実施例1を示す構成図である。
第1図において、1は半導体装置の良品又は不良品を判
別するテスター、2はレーザービーム3にて半導体基板
4上にマーキングを施すレーザーマーカー、7はレーザ
ー制御装置、5はステージ、6はステージ駆動部である
実施例において、テスター1から不良と判定されたら、
その不良と判定した信号をレーザー制御装置7とステー
ジ駆動部6へ送る。ステージ5が移動するのに同期して
ステージ駆動部6からレーザー制御装置7に信号を送り
、直線送りを与えられるステージ5上の基板4上にレー
ザービーム3を発射し、基板4上にステージ5の移動に
同期した直線状のレーザー跡を刻設する。このときのレ
ーザーを発射する時間は、レーザー制御装置7で制御す
る。
(実施例2) 第2図は本発明の実施例2のシステム図である。
本実施例では、レーザー制御装置7に半導体装置定数記
憶部8を接続し、ステージ移動方向におけるICの長さ
及びレーザー出力の情報を半導体装置定数記憶部8に蓄
えておき、半導体装置毎にその情報を基にレーザー制御
装置7でレーザー出力及びレーザー発射時間を自動的に
制御する。
この実施例では大きさの異なる半導体装置毎に、レーザ
ー出力及びレーザー発射時間を設定する必要がないとい
う利点がある。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明はステージの移動とレーザー
の発射とを同期させ、そのレーザーの発射時間を制御す
ることによってレーザー跡を直線状にし、目視確認及び
認識装置での良、不良の判定をやり易くする効果がある
。また、このときのレーザーの出力も特に上げる必要は
なく、発塵量も最小限に抑えることができる効果を有す
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例1のシステム図、第2図は本発
明の実施例2のシステム図である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、不良品として判定された半導体装置にレーザーでマ
    ーキングを施すレーザーマーカーと、レーザーマーカー
    を制御するレーザー制御装置と、半導体装置を移動させ
    るステージとを有し、ステージの駆動に同期して、一定
    時間レーザーを発射することにより、直線状のレーザー
    跡を刻設することを特徴とするレーザーマーキングシス
    テム。
JP63042604A 1988-02-25 1988-02-25 レーザーマーキングシステム Pending JPH01215482A (ja)

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JPH01215482A true JPH01215482A (ja) 1989-08-29

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3527308A1 (de) * 1985-07-26 1987-02-05 Ushigoro Sumitomo Mehrteilige gussform fuer ein blasformverfahren zur herstellung gekruemmter werkstuecke
CN105082778A (zh) * 2015-08-14 2015-11-25 京东方科技集团股份有限公司 一种打标装置

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3527308A1 (de) * 1985-07-26 1987-02-05 Ushigoro Sumitomo Mehrteilige gussform fuer ein blasformverfahren zur herstellung gekruemmter werkstuecke
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