JPH01212775A - アルミニウムまたはアルミニウム合金の粗面化方法 - Google Patents

アルミニウムまたはアルミニウム合金の粗面化方法

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JPH01212775A
JPH01212775A JP3612688A JP3612688A JPH01212775A JP H01212775 A JPH01212775 A JP H01212775A JP 3612688 A JP3612688 A JP 3612688A JP 3612688 A JP3612688 A JP 3612688A JP H01212775 A JPH01212775 A JP H01212775A
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alloy
aluminum
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etched
acidic
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Masao Kageyama
影山 政夫
Hideo Fujimoto
日出男 藤本
Hiroshi Ouchi
大内 寛
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Kobe Steel Ltd
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Kobe Steel Ltd
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23FNON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F1/00Etching metallic material by chemical means
    • C23F1/10Etching compositions
    • C23F1/14Aqueous compositions
    • C23F1/16Acidic compositions
    • C23F1/20Acidic compositions for etching aluminium or alloys thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23FNON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は日用品、電気部品、建材等の用途に用いられる
アルミニウムあるいはアルミニウム合金表面の粗面化に
関するものである。
[従来技術] 従来よりアルミニウムあるいはアルミニウム合金表面に
陽極酸化処理等を施すに際して、その表面の洗浄および
均一な粗面を形成することは、陽極酸化皮膜の仕上り状
態を左右する要因となる。
このアルミニウムあるいはアルミニウム合金表面の粗面
化技術としては、■酸性溶液、例えば、フッ酸、塩酸溶
液による化学エツチング、■アルカリ性溶液、例えば、
苛性ソーダによる化学エツチング、■主に塩化物を含む
水溶液中での直流ならびに交流による電解エツチング等
が挙げられる。
上記の各エツチング方法において次のような問題点が挙
げられる。酸性溶液による化学エツチングおよび電解エ
ツチングは、アルミニウムあるいはアルミニウム合金表
面の粗面化効果は大きいが、エツチング効果が局部的に
偏り、アルミニウムあるいはアルミニウム合金表面の粗
面の均一性に欠ける。エッチビットの形状が鋭利で先端
部が脱落しやすく、また、エツチング液が残留しやすい
ために、その後の耐食性を阻害する。アルカリ水溶液に
よるエツチングでは均一溶解性に富んでいるために粗面
化効果が十分に得られない。
[発明が解決しようとする問題点コ 本発明は、以上説明した従来技術の問題点を解決して、
アルミニウムまたはアルミニウム合金の表面粗さRaが
O19μm≦Ra≦2μmであり、しかも、均一な粗さ
であって、表面断面形状は比較的なだらかで粗面の先端
(山部)および底部(谷部)が丸みをおびており、した
がって、エツチング液の残留も少なくエツチング後の表
面処理性、例えば、陽極酸化処理性に優れたアルミニウ
ムまたはアルミニウム合金の粗面化方法を提供するもの
である。
[問題点を解決するための手段] 本発明は、アルミニウムまたはアルミニウム合金をエツ
チングするに際して、塩素イオンを0.1〜10%(以
下重量%とする)を含有し、pH値が2以下の酸性水溶
液中でエツチングした後、pH値が13以上のアルカリ
性水溶液中でエツチングすることによりアルミニウムま
たはアルミニウム合金表面粗さRaを0.9μm≦Ra
≦2μmとすることを特徴とするアルミニウムまたはア
ルミニウム合金の粗面化方法に要旨が存在する。
[作用] 従来技術において、酸性水溶液による化学エツチングお
よび電解エツチングでは粗面化効果は大きいが、エツチ
ング効果が局部的に偏るために、均一な粗面が得にくく
、ビットの形状も鋭利であり好ましくない。一方、アル
カリ性水溶液によるエツチングでは、均一なエツチング
面は得られるが、充分な粗面化効果は得られていない。
本発明者等は、上記従来技術や長所と短所とを組み合わ
せることにより、本発明を完成するに至った。
すなわち、第1段階としてアルミニウムまたはアルミニ
ウム合金を酸性水溶液中でエツチングを行うことにより
、アルミニウムまたはアルミニウム合金表面に微細均一
なエッチピットを多数形成し、第2段階として、上記ア
ルミニウムまたはアルミニウム合金をアルカリ性水溶液
中で再度エツチングを行い、均一で適度の粗さのあるエ
ッチピットを形成することに成功した。本発明は、上記
したように第1段階のエツチングにより得られたエッチ
ピットを核として、第2段階のエツチングで均一かつ所
定の深さのエッチピットを形成し、所望の粗面を得たの
である。
−Mに、アルミニウムあるいはアルミニウム合金の表面
を化学的にエツチングするにあたり、塩素イオン存在下
の酸性水溶液中でエツチングすると、無数のエッチピッ
トが形成される。一方、塩素イオンを含まない酸性溶液
中ではアルミニウムの表面は全面均一溶解となる。
本発明は上記の事実に鑑み、塩素イオンを含んだ酸性溶
液を第1段階の溶液として使用しており、塩素イオンの
含有量は0.1〜10%としている。これは塩素イオン
濃度が0.1%未満ではエッチピット形成効果が十分で
なく、10%を越えて含有されるとエツチング速度が増
大し、局部的なエツチングが進行し均一なエッチピット
が得られないためである。
また、酸性溶液のpH値を2以下としている。
酸性溶液のpHが2を越えると、エツチング速度が遅く
なりエッチピットの成長に長時間を要し実用的でないか
らである。
本発明では、上記の酸性溶液として塩酸および塩素イオ
ンを添加した硝酸、硫酸、リン酸等の無機酸をはじめ、
酢酸、しゅう酸等の有機酸が使用可能である。
以上の第1段階のエツチングによって、アルミニウムあ
るいはアルミニウム合金の表面には均一なエッチピット
が形成される。
次に、第2段階としてpH値13以上のアルカリ性溶液
中でアルミニウムまたはアルミニウム合金をエツチング
する。このアルカリ性溶液のpH値を13以上としたの
は、pH値が13未満ではエツチング速度が遅く、かつ
、均一なエッチピットが得にくなるためである。
この第2段階のエツチングで第1段階のエツチングによ
り得られた均一なエッチピットを核として、均一でかつ
所定の深さを有するエッチピットを形成することができ
る。
以上の工程により得られたアルミニウムあるいはアルミ
ニウム合金の表面粗さRaは0.9μm≦Ra≦2μm
である。この粗さにすることにより、従来に比較してア
ルミニウムあるいはアルミニウム合金表面へのエツチン
グ液の残留のない、陽極酸化処理に適した表面性状とす
ることができる。
以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明する。
[実施例] 工業的に作られた純アルミ(JISH4000の110
0)材5,64!−Mg系合金(JISH4000の5
052)材、ならびにAfL−Mn系合金(JISH4
000の3004)材について、第1表に示す条件でエ
ツチングを行った。その時の表面性状について、定量、
半定量的に評価した結果を第2表に示す。
第1表において、No、1〜15は本発明実施例であり
、第1段階の酸性エツチング溶液はそれぞれ以下の通り
である。N001〜4.No。
12〜15では、酸性溶液としてHCC氷水溶液使用し
、No、5では酸性溶液としてFeCλ3水溶液を使用
し、No、9〜10ではHN O3とNaCftとの混
合液を使用し、No、11ではCH3C0OHとNaC
l2の混合液を使用した。
上記の実施例では塩素イオンは0.1〜10%の範囲内
であり、また、酸性溶液のpH値も2以下である。
第2段階のアルカリエツチング(8液として、No、1
〜11.No、13〜15ではNaOH水溶液を使用し
、No、12ではNazCO3水溶液を使用した。
上記アルカリエツチング溶液のpH値はすべて13以上
とした。
第1表において、No、16〜23は本発明実施例に対
する比較例であり、第1段階の酸性エツチング溶液はそ
れぞれ以下の通りである。No。
16〜17.No、23は酸性溶液としてHCI溶液を
使用している。No、18は酸性溶液としてH2so、
を、No、19は酸性溶液としてHNO3を使用してお
り、塩素イオンは含有されていない。No、20はNa
CA溶液を使用しており、pH値は7.0と中性となっ
ている。
No、21は酸性溶液としてCH3COOH溶液を使用
しており、そのpH値は2.3である。
No、22はNaCj!溶液を使用し、電解エツチング
を行った。
また、上記の比較例No、16〜22の第2段階のアル
カリ水溶液としてNaOH水溶液を使用している。No
、23はアルカリ水溶液としてNa2 CO:+を使用
しており、モのpH値は12.8である。
さらに、No、24〜26は従来例であり、No、24
はHCJ2水溶液を用いたエツチングのみであり、No
、25はNaOH水溶液を用いたエツチングのみを行い
、No、26はNaCJl溶液を用いて電解エツチング
を行った。
エツチングの対象となる合金は、第2表に示すように、
1100合金の0材、5052052合金4材、300
4合金材であるが、5052052合金4材に対しては
、すべてのエツチング溶液によりエツチングを実施した
。また、1100合金の0材および3004合金材に関
しては、No、2.No、5.No、10およびNo。
24〜26のエツチング液によるエツチングを実施した
なお、第1段階におけるエツチングにおいては、HCf
LやFeCft、水溶液等、塩素イオンを含む酸性溶液
はもちろんのこと、H2SO4やHNO3水溶液のよう
に塩素イオンを含まないものでもNaCλが併存するこ
とにより塩素イオンを含む酸性溶液と同様な効果が得ら
れる。また、無機酸のみならず、CH,C0OH等の有
機酸においてもNaCJ2併存により同様な効果が得ら
れる。
本発明の実施例であるNo、1〜15において、第1表
および第2表に示すように、1100合金の0材に関し
てはNo、2.No、5.No。
10のエツチング液により得られた表面粗さRaは、そ
れぞれ1.1μm、1.3μm、1.2μmであり、ピ
ットが均一に存在しており、その形状は、第1図の(A
)に示すように、なだらかな形状となっている。505
2052合金4材ではNo、1〜15の表面粗さRaは
、0.9〜2μmの範囲内であり、ピットが均一に存在
しており、その形状は第1図(A)に示す形状であった
。また、3004合金材に関しては、No。
2、N015.No、10の表面粗さRaは、それぞれ
1.5μm、2μm、1.7μmであり、ビットが均一
に存在している。
上記の実施例に対し、比較例No、16〜23では50
52052合金4材をエツチングして表面性状を調べた
。No、16は塩素含有量が0.05%と本発明の塩素
含有量の範囲以下であり、表面粗さが0.2μmと小さ
い。No、17は塩素含有量が15%であり、本発明の
塩素含有量の範囲に比較して多いために、表面粗さが2
.8μmと大きすぎ、ピットも均一に存在していない。
その形状は第1図(C)に示すような形状となっている
。No、18.No、19は塩素が含有されていないた
めに、表面粗さRaが0.2μmと小さい。No、20
は、PH値が7.0と中性であるため、表面粗さRaが
0. 2μmと小さい。No、21は、本発明に規定す
るpH値に比較して酸性の弱いpH値2.3であり、表
面粗さRaが0.2μmと小さい。No。
22は電解エツチングによるものであり、表面粗さRa
が3.0μmと大きく、また、ビットも不均一に存在し
、その形状は第1図(C)に示すような形状となってい
る。No、23はアルカリ性水溶液のpH値が12.8
であり、本発明に規定するpHに比較して弱いアルカリ
性であるために、表面粗さが1,0μmと小さくなって
おり、またピットも不均一に存在しており、その形状は
第1図(B)に示すような形状である。
また、No、24.No、25の従来例において、No
、24は酸性水溶液によるエツチングのみであり、11
00合金の0材においては粗さは0.7μmと小さく、
またビットは不均一であり、その形状は第1図(C)に
示すような形状である。5052052合金4材におい
ては、ピットが不均一に存在し、その形状も第1図(B
)に示すような形状であった。3oo4合金においても
ピットは不均一に存在した。No、25はアルカリ性水
溶液によるエツチングのみであって、1100合金のO
材および5052合金H合金材に関しては、表面粗さが
小さく、また、ビットも不均一に存在した。30040
04合金ては、表面粗さが小さかった。No、26は弱
酸性水溶液による電解エツチングであり、1100合金
の0材、5052052合金4材に関しては、表面粗さ
が大きすぎ、また、ビットも不均一に存在し、その形状
は第1図(C)に示す形状となった。また、30040
04合金ても表面粗さが大きすぎ、ビットも不均一に存
在した。
[発明の効果] 以上説明したように、本発明によれば、均一で、しかも
なだらかな凹凸を有する粗面を形成することができるた
めに、その後の陽極酸化処理に適した表面性状を得るこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
第1図(A)、(B)、(C)は本発明により表面処理
を施したアルミニウムあるいはアルミニウム合金の断面
形状を示す模式図である。 1・・・アルミニウムあるいはアルミニウム合金。 第1図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. アルミニウムまたはアルミニウム合金をエッチングする
    に際して、塩素イオンを0.1〜10%(以下重量%と
    する)含有し、pH値が2以下の酸性水溶液中でエッチ
    ングした後、pH値が13以上のアルカリ性水溶液中で
    エッチングすることによりアルミニウムまたはアルミニ
    ウム合金表面粗さRaを0.9μm≦Ra≦2μmとす
    ることを特徴とするアルミニウムまたはアルミニウム合
    金の粗面化方法。
JP3612688A 1988-02-18 1988-02-18 アルミニウムまたはアルミニウム合金の粗面化方法 Pending JPH01212775A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5462634A (en) * 1991-08-23 1995-10-31 Honda Giken Kogyo Kabushiki Kaisha Surface-treated aluminum material and method for its surface treatment
US6849138B1 (en) 1991-09-02 2005-02-01 Honda Giken Kogyo Kabushiki Kaisha Method for surface treatment of aluminum alloy high-temperature processed articles
JP2010059450A (ja) * 2008-09-02 2010-03-18 Mitsubishi Alum Co Ltd 真空機器用アルミニウム材料およびその製造方法

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