JPH01210923A - ビーム平坦化装置 - Google Patents
ビーム平坦化装置Info
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- JPH01210923A JPH01210923A JP63035369A JP3536988A JPH01210923A JP H01210923 A JPH01210923 A JP H01210923A JP 63035369 A JP63035369 A JP 63035369A JP 3536988 A JP3536988 A JP 3536988A JP H01210923 A JPH01210923 A JP H01210923A
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 36
- 230000010287 polarization Effects 0.000 claims abstract description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims 1
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はガウス分布をもつレーザビームのビーム断面に
おける強度分布形状を平坦化する装置に関するものであ
る。
おける強度分布形状を平坦化する装置に関するものであ
る。
(従来の技術)
レーザビームのビーム断面における強度分布は第13図
に示されるようにピーク値Eのガウス分布をなし、ビー
ムの中心部付近と周辺部では強度に大きな差がある。こ
のためレーザ光を使用するにあたってはビーム断面にお
ける強度の均一化を図るための装置が必要であった。
に示されるようにピーク値Eのガウス分布をなし、ビー
ムの中心部付近と周辺部では強度に大きな差がある。こ
のためレーザ光を使用するにあたってはビーム断面にお
ける強度の均一化を図るための装置が必要であった。
従来のこの種の装置は第12図に示す様な構造をなして
おり、図に於いて101はレーザ光源、102は凹レン
ズ、103は凸レンズ、111はアパーチャーである。
おり、図に於いて101はレーザ光源、102は凹レン
ズ、103は凸レンズ、111はアパーチャーである。
レーザ光源101から射出されたビームは、ビームエキ
スパンダーをなす凹レンズ102および凸レンズ103
によフて適当な大きさに拡大された平行光になり、開口
部の直径がaであるアパーチャー111に入る。
スパンダーをなす凹レンズ102および凸レンズ103
によフて適当な大きさに拡大された平行光になり、開口
部の直径がaであるアパーチャー111に入る。
これにより、第13図に示された強度分布における中心
部の所定の領域(ビーム直径aで強度e)以外の周辺部
のビームはカットされることになり、即ち、極端に強度
の弱いビームが除去されて、レーザビームの強度の均一
化が図られる。
部の所定の領域(ビーム直径aで強度e)以外の周辺部
のビームはカットされることになり、即ち、極端に強度
の弱いビームが除去されて、レーザビームの強度の均一
化が図られる。
上記の如き従来のビーム平坦化装置に於いては強度分布
がガウス分布をなすビームの中心部分のみを使用し、周
辺部のビームはほとんどカットしてしまうので、大きな
光量損失となるという欠点があった。
がガウス分布をなすビームの中心部分のみを使用し、周
辺部のビームはほとんどカットしてしまうので、大きな
光量損失となるという欠点があった。
この発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、光
量損失の極めて少ないビーム平坦化装置を提供すること
を目的とするものである。
量損失の極めて少ないビーム平坦化装置を提供すること
を目的とするものである。
この発明においては、レーザービームを偏光方向によっ
て分割する手段と、分割された一方向のレーザビームの
光軸上に配置され、該レーザービームの断面における強
度分布形状を少なくとも一部反転させる光学部材と、前
記分割されたビームを再度重ねあわせる手段とを備えた
ことにより上記の課題を達成したものである。
て分割する手段と、分割された一方向のレーザビームの
光軸上に配置され、該レーザービームの断面における強
度分布形状を少なくとも一部反転させる光学部材と、前
記分割されたビームを再度重ねあわせる手段とを備えた
ことにより上記の課題を達成したものである。
(作用〕
本発明に於いては、光源から発振され、エキスパンダー
光学系によって適当な大きさに拡大されたレーザービー
ムを偏光を利用して分割し、一方向のビームの光軸上に
特定形状の光学部材を介在させることによって、そのビ
ーム断面における強度分布形状を少なくとも一部反転し
てビーム周辺に強い強度を有するように矯正し、その後
分割されたビームを再び重ね合わせることによりビーム
断面強度分布形状の平坦化を行っている。
光学系によって適当な大きさに拡大されたレーザービー
ムを偏光を利用して分割し、一方向のビームの光軸上に
特定形状の光学部材を介在させることによって、そのビ
ーム断面における強度分布形状を少なくとも一部反転し
てビーム周辺に強い強度を有するように矯正し、その後
分割されたビームを再び重ね合わせることによりビーム
断面強度分布形状の平坦化を行っている。
即ち、本来レーザビームの断面における強度分布は第2
図(ア)の如く中心部の強度が高く周辺部に裾をひくガ
ウス分布をなしているが、本発明にかかる特定形状の光
学部材を通過させるとちょうどガウス分布を中心と周辺
とで反転した形状の第2図(イ)の如き中央部で強度が
弱く、周辺部で強度の強い強度分布形状をもつビームに
矯正される。
図(ア)の如く中心部の強度が高く周辺部に裾をひくガ
ウス分布をなしているが、本発明にかかる特定形状の光
学部材を通過させるとちょうどガウス分布を中心と周辺
とで反転した形状の第2図(イ)の如き中央部で強度が
弱く、周辺部で強度の強い強度分布形状をもつビームに
矯正される。
そこで、強度分布形状を矯正したビームと矯正していな
い本来のガウス分布をなすビームを重ねあわせれば、第
2図(つ)に示されるように互いに補償しあってビーム
断面の広い範囲で強度分布の平坦化が行われる。
い本来のガウス分布をなすビームを重ねあわせれば、第
2図(つ)に示されるように互いに補償しあってビーム
断面の広い範囲で強度分布の平坦化が行われる。
このように、本発明においてはビーム断面の強度の均一
化を図るにあたりて、従来のように中心部以外のビーム
をカットしてしまうという手段を取らないので、光量損
失が極めて少なく、エネルギー効率が良い。
化を図るにあたりて、従来のように中心部以外のビーム
をカットしてしまうという手段を取らないので、光量損
失が極めて少なく、エネルギー効率が良い。
例えば通常のガウス分布ではビーム強度が中心の1/e
2になる所でビームを一次元アパーチャーによりカット
した場合、ビーム最大強度Eに対して(E−e)/Ex
100−86零の平坦化しか得られない。また、この
−次元アパーチャーの幅の175の幅でみツトした場合
、7%の平坦化が行なえるが、かなりの光量を損失する
ことになる。これに対し、本発明に於いては1/e2で
ビームをカットした場合で電の平坦化となり、光量損失
も非常に少ないものである。
2になる所でビームを一次元アパーチャーによりカット
した場合、ビーム最大強度Eに対して(E−e)/Ex
100−86零の平坦化しか得られない。また、この
−次元アパーチャーの幅の175の幅でみツトした場合
、7%の平坦化が行なえるが、かなりの光量を損失する
ことになる。これに対し、本発明に於いては1/e2で
ビームをカットした場合で電の平坦化となり、光量損失
も非常に少ないものである。
第1図は本発明の実施例を示す模式図である。
図において1はレーザ光源、2.3はビームを適当な大
きさに拡大するための凹レンズおよび凸レンズ、4はビ
ームを偏光方向によって分割する偏光ビームスプリッタ
−110は分割された一方向のビームの光軸上に配置さ
れ、該ビームの強度分布形状を矯正する石英等による特
定形状の光学部材、5.6は分割されたもう一方のビー
ムを偏向するミラー、7は分割された2つのビームを再
び重ね合せる偏光ビームスプリッタ−111は所定の領
域でビームを遮断するアパーチャーである。
きさに拡大するための凹レンズおよび凸レンズ、4はビ
ームを偏光方向によって分割する偏光ビームスプリッタ
−110は分割された一方向のビームの光軸上に配置さ
れ、該ビームの強度分布形状を矯正する石英等による特
定形状の光学部材、5.6は分割されたもう一方のビー
ムを偏向するミラー、7は分割された2つのビームを再
び重ね合せる偏光ビームスプリッタ−111は所定の領
域でビームを遮断するアパーチャーである。
ここで、木実層側において用いられている光学部材10
は、第3〜5図に示されるように2つの円錐を円柱の両
端にそれぞれ底面を向きあわせて一体化した形状をなし
ている。第4図は第3図の部材10を紙面内の方向から
見たもので、第5図は第3図のものを光軸方向から見た
ものである。
は、第3〜5図に示されるように2つの円錐を円柱の両
端にそれぞれ底面を向きあわせて一体化した形状をなし
ている。第4図は第3図の部材10を紙面内の方向から
見たもので、第5図は第3図のものを光軸方向から見た
ものである。
この光学部月10においては、材質、円錐頂角の大きさ
、部材の長さ等の条件の適当な設定によって、ビームの
直径をΦとしたとき、ビーム断面中心点からの距離がr
の位置で入射した光を中心点からΦ/2−rの位置に出
射する。即ち、この光学部材を通過したほぼ平行なビー
ムの強度分布形状は、部材10の2つの円錐の頂点を結
ぶ中心線をレーザービームの光軸と一致させた場合、本
来のガウス分布を中心と周辺とで丁度反転させた形状と
なる。
、部材の長さ等の条件の適当な設定によって、ビームの
直径をΦとしたとき、ビーム断面中心点からの距離がr
の位置で入射した光を中心点からΦ/2−rの位置に出
射する。即ち、この光学部材を通過したほぼ平行なビー
ムの強度分布形状は、部材10の2つの円錐の頂点を結
ぶ中心線をレーザービームの光軸と一致させた場合、本
来のガウス分布を中心と周辺とで丁度反転させた形状と
なる。
このため、偏向ビームスプリッタ−4によって分割され
て、光学部材10を通過したビームと光学部材を通過し
ないで進行したビームを偏向ビームスプリッタ−7によ
りて再度重ね合せれば、ビーム断面のほぼ全面に渡って
強度の均一化が図られることになる。即ち、アパーチャ
ー11によってカットしなければならない領域が僅かで
、光量損失が極めて少ない。
て、光学部材10を通過したビームと光学部材を通過し
ないで進行したビームを偏向ビームスプリッタ−7によ
りて再度重ね合せれば、ビーム断面のほぼ全面に渡って
強度の均一化が図られることになる。即ち、アパーチャ
ー11によってカットしなければならない領域が僅かで
、光量損失が極めて少ない。
また、本発明においてビームの強度分布形状を反転する
ために用いられる光学部材の形状は第3図〜第5図に示
されるように円柱と円錐を組合せたものだけに限定され
るものではなく、用途によっては第6図〜第8図の正面
図、側面図および平面図に示されるような角柱とくさび
形を組合せた形状、また第9図〜第11図の正面図、側
面図および平面図に示されるような角柱と角錐を組合せ
た形状のもの等でも良い。即ち、要求されるビーム平坦
化のレベルに応して、ガウス分布をなす強度分布の少な
くとも一部(例えば−次元方向のみ)を反転出来るよう
な形状の光学部材であれば良いのである。
ために用いられる光学部材の形状は第3図〜第5図に示
されるように円柱と円錐を組合せたものだけに限定され
るものではなく、用途によっては第6図〜第8図の正面
図、側面図および平面図に示されるような角柱とくさび
形を組合せた形状、また第9図〜第11図の正面図、側
面図および平面図に示されるような角柱と角錐を組合せ
た形状のもの等でも良い。即ち、要求されるビーム平坦
化のレベルに応して、ガウス分布をなす強度分布の少な
くとも一部(例えば−次元方向のみ)を反転出来るよう
な形状の光学部材であれば良いのである。
なお、本実施例においては、簡単のためビーム断面の大
きさを一致させる様なレンズ系は省略されているが、必
要に応じて適宜設けられることは言うまでもない。
きさを一致させる様なレンズ系は省略されているが、必
要に応じて適宜設けられることは言うまでもない。
また、アライメント用のレーザービームとして被検出物
上にスリット状のビーム断面を形成する場合、スリット
状のビームの長手方向の強度分布をほぼ平坦化すると良
好なマーク検出精度が得られる。この場合、スリット状
ビームを得るためのシリンドリカルレンズの手前(光源
側)に長手方向の一次元のみ平坦化する系(例えば第6
,7゜8図のもの)を設ければよい。
上にスリット状のビーム断面を形成する場合、スリット
状のビームの長手方向の強度分布をほぼ平坦化すると良
好なマーク検出精度が得られる。この場合、スリット状
ビームを得るためのシリンドリカルレンズの手前(光源
側)に長手方向の一次元のみ平坦化する系(例えば第6
,7゜8図のもの)を設ければよい。
以上の様に本発明にかかるビーム平坦化装置は、ビーム
を偏光方向によって分割し、一方向のビームの強度分布
形状を特定形状の光学部材によって本来の分布を反転し
た形状に矯正し、再び分割されていたビームを重ね合せ
ることにより、ビーム断面の広い領域において強度分布
形状の平坦化を図ることを可能にし、光量損失が極めて
少ないないという優れた効果を有している。
を偏光方向によって分割し、一方向のビームの強度分布
形状を特定形状の光学部材によって本来の分布を反転し
た形状に矯正し、再び分割されていたビームを重ね合せ
ることにより、ビーム断面の広い領域において強度分布
形状の平坦化を図ることを可能にし、光量損失が極めて
少ないないという優れた効果を有している。
本発明にかかるビーム平坦化装置をアライメントレーザ
等に用いれば、ガウス分布をなしているためにカット部
分のスロープが大きく、アパーチャーで周辺部分のビー
ムをカットしてもビーム揺ぎによってビーム位置が変化
してしまうという従来からの問題点を解決でき、アパー
チャーで非常に少ない部分をカットするのみでレーザ自
身のもつレーザビームの平行揺ぎ(光軸と直交する方向
の揺ぎ)による光の重心変化を極めて少なくすることが
可能である。
等に用いれば、ガウス分布をなしているためにカット部
分のスロープが大きく、アパーチャーで周辺部分のビー
ムをカットしてもビーム揺ぎによってビーム位置が変化
してしまうという従来からの問題点を解決でき、アパー
チャーで非常に少ない部分をカットするのみでレーザ自
身のもつレーザビームの平行揺ぎ(光軸と直交する方向
の揺ぎ)による光の重心変化を極めて少なくすることが
可能である。
また、レーザビームで露光を行なうエキシマレーザ露光
装置等の均一照明光学系としても極めて有用である。
装置等の均一照明光学系としても極めて有用である。
第1図は本発明にかかる実施例の模式図、第2図は本発
明における平坦化方法を説明する説明 ・図、第3図
は第1図の実施例に用いられる光学部材の一例の正面図
、第4図は第3図光学部材の側面図、第5図は第3図光
学部材の平面図、第6図は本発明にかかる光学部材の別
の例を示す正面図、第7図は第6図光学部材の側面図、
第8図は第6図光学部材の平面図、第9図は本発明にか
かる光学部材のさらに別の例を示す正面図、第10図は
第9図光学部材の側面図、第11図は第9図光学部材の
平面図、第12図は従来の平坦化装置の模式図、第13
図はレーザービームの強度分布を示すグラフ。 1,101・・・レーザ光源、2,102・・・凹レン
ズ、3,103・・・凸レンズ、4.7・・・偏光ビー
ムスプリッタ−15,6・・・ミラー、10・・・光学
部材、11,111・・・アパーチャー。
明における平坦化方法を説明する説明 ・図、第3図
は第1図の実施例に用いられる光学部材の一例の正面図
、第4図は第3図光学部材の側面図、第5図は第3図光
学部材の平面図、第6図は本発明にかかる光学部材の別
の例を示す正面図、第7図は第6図光学部材の側面図、
第8図は第6図光学部材の平面図、第9図は本発明にか
かる光学部材のさらに別の例を示す正面図、第10図は
第9図光学部材の側面図、第11図は第9図光学部材の
平面図、第12図は従来の平坦化装置の模式図、第13
図はレーザービームの強度分布を示すグラフ。 1,101・・・レーザ光源、2,102・・・凹レン
ズ、3,103・・・凸レンズ、4.7・・・偏光ビー
ムスプリッタ−15,6・・・ミラー、10・・・光学
部材、11,111・・・アパーチャー。
Claims (1)
- 光源から発振され、適当な大きさに拡大されたレーザビ
ームのビーム断面における強度分布形状の平坦化を図る
ビーム平坦化装置において、レーザービームを偏光方向
によって分割する手段と、分割された一方向のレーザビ
ームの光軸上に配置され、該レーザービームの断面にお
ける強度分布形状を少なくとも一部反転させる光学部材
と、前記分割されたビームを再度重ねあわせる手段とを
備えたことを特徴とするビーム平坦化装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63035369A JP2668695B2 (ja) | 1988-02-19 | 1988-02-19 | ビーム平坦化装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63035369A JP2668695B2 (ja) | 1988-02-19 | 1988-02-19 | ビーム平坦化装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01210923A true JPH01210923A (ja) | 1989-08-24 |
JP2668695B2 JP2668695B2 (ja) | 1997-10-27 |
Family
ID=12439985
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63035369A Expired - Fee Related JP2668695B2 (ja) | 1988-02-19 | 1988-02-19 | ビーム平坦化装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2668695B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109093251A (zh) * | 2017-06-20 | 2018-12-28 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 一种激光封装装置及封装方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5122239A (ja) * | 1974-08-16 | 1976-02-21 | Shusei Kensetsu Konsarutanto K | Chosuichinohaishasochi |
-
1988
- 1988-02-19 JP JP63035369A patent/JP2668695B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5122239A (ja) * | 1974-08-16 | 1976-02-21 | Shusei Kensetsu Konsarutanto K | Chosuichinohaishasochi |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109093251A (zh) * | 2017-06-20 | 2018-12-28 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 一种激光封装装置及封装方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2668695B2 (ja) | 1997-10-27 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |