JPH01209452A - Production of damping-waterless planographic printing plate material - Google Patents

Production of damping-waterless planographic printing plate material

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JPH01209452A
JPH01209452A JP3620088A JP3620088A JPH01209452A JP H01209452 A JPH01209452 A JP H01209452A JP 3620088 A JP3620088 A JP 3620088A JP 3620088 A JP3620088 A JP 3620088A JP H01209452 A JPH01209452 A JP H01209452A
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JP
Japan
Prior art keywords
silicone rubber
photosensitive layer
photosensitive
surfactant
printing plate
Prior art date
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Pending
Application number
JP3620088A
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Japanese (ja)
Inventor
Akihisa Nakajima
彰久 中島
Norihito Suzuki
鈴木 則人
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Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
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Publication date
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Publication of JPH01209452A publication Critical patent/JPH01209452A/en
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  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain a damping-waterless planographic printing plate which has excellent coatability and does not flaw the surface of a photosensitive layer by using a base film having a release property and incorporating a surfactant into the photosensitive layer. CONSTITUTION:A photosensitive material is coated on the base film 1 having the release property and is dried to form the photosensitive layer 2, then a silicone rubber layer 3 is formed on the photosensitive layer 2. The surfactant in addition to the photosensitive material are incorporated into the photosensitive layer and more preferably the surfactant is a fluorine surfactant. After the silicone rubber layer 3 side is brought into pressurized contact with the base 4, the silicone rubber layer 3 is cured and the film 1 is stripped, by which the damping-waterless planographic printing plate is obtd. The base film 1 having the good release property is used and the surfactant is incorporated into the photosensitive layer in such a manner; therefore, the coatability of the photosensitive layer is improved without flawing the photosensitive layer surface of the base.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、湿し水不要平版印刷版材料(以下、湿し水不
要版材ないし版材という、)の製造方法に関し、詳しく
は塗布性に優れた湿し水不要平版印刷版材料の製造方法
に関する。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a method for producing a lithographic printing plate material that does not require dampening water (hereinafter referred to as a dampening water-free plate material or plate material), and specifically relates to a method for producing a lithographic printing plate material that does not require dampening water (hereinafter referred to as a dampening water-free plate material or plate material). The present invention relates to a method for producing a lithographic printing plate material that does not require dampening water and has excellent properties.

[従来の技術] 従来、支持体上にシリコーンゴム層、感光層を順に積層
して成る湿し水不要平版印刷版材料を用い、該版材に露
光現像することにより、画線部を形成する技術は知られ
ている。しかし支持体上にシリコーンゴム層、感光層を
順に塗設しようとすると、シリコーンゴム層の上に感光
層を均一に塗設するのが非常に困難であり、またシリコ
ーンゴム層と感光層の接着性が不十分であるという問題
がある。このため予め基体フィルムに感光層を均一に塗
設したものを支持体に裏打ちされたシリコーンゴム層と
を貼りあわせるか、或いは基体フィルムに感光層を塗設
し、その上にシリコーンゴム層を塗設したものと、支持
体とを貼りあわせるなどして版材を製造していた(詩開
昭55−70848号、同55−84938号及び同5
0−68304号参照)。
[Prior Art] Conventionally, a lithographic printing plate material that does not require dampening water is formed by sequentially laminating a silicone rubber layer and a photosensitive layer on a support, and image areas are formed by exposing and developing the plate material. The technology is known. However, when attempting to coat a silicone rubber layer and a photosensitive layer on a support in order, it is extremely difficult to coat the photosensitive layer uniformly on the silicone rubber layer, and the adhesion between the silicone rubber layer and the photosensitive layer is extremely difficult. There is a problem of insufficient gender. For this purpose, a photosensitive layer is uniformly coated on a base film in advance and then bonded to a silicone rubber layer lined with a support, or a photosensitive layer is coated on a base film and then a silicone rubber layer is coated on top of the base film. Printing materials were manufactured by pasting together the set material and the support (Shokai No. 55-70848, Shokai No. 55-84938, and Shokai No. 5).
0-68304).

[発明が解決しようとする課題] 上記の方法では、いずれの場合も、基体フィルムを剥離
する必要があることから、該基体フィルムとして剥離性
に優れたフィルム、例えばPPフィルムを用いていた。
[Problems to be Solved by the Invention] In each of the above methods, since it is necessary to peel off the base film, a film with excellent peelability, such as a PP film, is used as the base film.

しかし剥離性に優れたPPフィルムを用いた場合には、
粘度の低い感光液がはじかれてしまうため感光層の塗布
ができないという欠点があった。
However, when using a PP film with excellent peelability,
There was a drawback that the photosensitive layer could not be coated because the photosensitive liquid with low viscosity was repelled.

反面、塗布性を上げようとして剥離性の劣るフィルムを
用いると、感光層面を傷付けたりする欠点がある。
On the other hand, if a film with poor releasability is used in an attempt to improve coating properties, there is a drawback that the surface of the photosensitive layer may be damaged.

[発明の目的] そこで本発明の目的は、塗布性に優れ、かつ感光層面を
傷付けることがない湿し水不要平版印刷版材料の製造方
法を提供することにある。
[Object of the Invention] Therefore, an object of the present invention is to provide a method for producing a lithographic printing plate material that has excellent coating properties and does not require dampening water and does not damage the surface of the photosensitive layer.

[課題を解決するための手段] 本発明者は、上記目的を達成すべく鋭意検討の結果、本
発明に至った。
[Means for Solving the Problems] As a result of intensive studies to achieve the above object, the inventors have arrived at the present invention.

即ち、本発明に係る湿し水不要平版印刷版材料の製造方
法は、剥離性を有する基体フィルム上に感光層、未硬化
シリコーンゴム層を順に設け、該シリコーンゴム層側に
支持体を圧着し、該シリコーンゴム層を前記支持体上で
硬化させた後前記基体フィルムを剥離することにより湿
し水不要平版印刷版材料を製造する方法において、前記
感光層中に界面活性剤を含有することを特徴とする。
That is, the method for producing a lithographic printing plate material that does not require dampening water according to the present invention comprises sequentially providing a photosensitive layer and an uncured silicone rubber layer on a releasable base film, and pressing a support onto the silicone rubber layer side. , a method for producing a lithographic printing plate material that does not require dampening water by curing the silicone rubber layer on the support and then peeling off the base film, including containing a surfactant in the photosensitive layer. Features.

[作用] 本発明によれば、剥離性のよい基体フィルムを用い、か
つ感光層に界面活性剤を含むため、基体フィルムと感光
層の剥離性をよくしつつ感光層の塗布性を向上できる。
[Function] According to the present invention, since a base film with good releasability is used and the photosensitive layer contains a surfactant, it is possible to improve the releasability of the base film and the photosensitive layer while improving the coatability of the photosensitive layer.

[発明の構成] 以下、本発明の湿し水不要版材の製造方法の一例を添付
図面に基き説明する。
[Structure of the Invention] Hereinafter, an example of the method for producing a dampening water-free printing plate according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

先ず、第1図に示すように剥離性を有する基体フィルム
1上に感光性物質を塗布乾燥して感光層2を形成し、次
いで上記の感光層2上にシリコーンゴム層3を形成する
First, as shown in FIG. 1, a photosensitive material is coated on a releasable base film 1 and dried to form a photosensitive layer 2, and then a silicone rubber layer 3 is formed on the photosensitive layer 2.

次いで第2図に示すようにシリコーンゴム層3側を支持
体4に圧着した後、シリコーンゴム層3を硬化させると
共に基体フィルムlを剥離して、第3図に示すような湿
し水不要平版印刷版材料を得る。3′は硬化後のシリコ
ーンゴム層である。
Next, as shown in FIG. 2, the silicone rubber layer 3 side is pressure-bonded to the support 4, and then the silicone rubber layer 3 is cured and the base film 1 is peeled off to form a dampening water-less lithographic plate as shown in FIG. Obtain printing plate material. 3' is a silicone rubber layer after curing.

次いで原稿フィルムを感光層2側にあてて露光し、現像
液で現像することにより第4図に示すような画線部2′
を形成することにより、湿し水不要刷版を得ることがで
きる。
Next, the original film is placed on the photosensitive layer 2 side, exposed, and developed with a developer to form an image area 2' as shown in FIG.
By forming this, a printing plate that does not require dampening water can be obtained.

以上の製法を更に具体的に説明する。The above manufacturing method will be explained in more detail.

本発明に用いられる基体フィルムは、剥離性を有するフ
ィルムであり、ポリオレフィン系フィルムが好ましく、
例えばポリプロピレン(PP)、ポリエチレンテレフタ
レートCPET)等のフィルム、PPとPETのラミネ
ートフィルム、或いはこれらのポリオレフィン系フィル
ムをラミネートした紙等が挙げられる。
The base film used in the present invention is a film having peelability, and is preferably a polyolefin film.
Examples include films such as polypropylene (PP) and polyethylene terephthalate (CPET), laminate films of PP and PET, and paper laminated with these polyolefin films.

感光層に用いられる感光性物質としては、ポジ型感光性
物質が好ましく用いられる。
As the photosensitive substance used in the photosensitive layer, a positive type photosensitive substance is preferably used.

ポジ型の感光性物質としては、先ず、従来公知の0−ナ
フトキノンジアジド化合物の如きキノンジアジド型のポ
ジ型感光性物質が挙げられる。
Examples of positive type photosensitive substances include quinonediazide type positive photosensitive substances such as conventionally known 0-naphthoquinonediazide compounds.

好適な0−ナフトキノンジアジド化合物としては。Suitable 0-naphthoquinonediazide compounds include:

米国特許3,048,120号明細3中に記載されてい
るナフトキノン−(1,2)−ジアジド−(2)−スル
ホン酸クロライドとフェノールまたはクレゾール−ホル
ムアルデヒド樹脂とのエステルがある。
There are esters of naphthoquinone-(1,2)-diazide-(2)-sulfonic acid chloride with phenol or cresol-formaldehyde resins, as described in U.S. Pat. No. 3,048,120.

その他力用な0−ナフトキノンジアジド化合物としては
、例えば米国特許3.835.709号に記載されてい
るピロガロール−アセトン樹脂と0−ナフトキノンジア
ジドスルホン酸クロライドのエステル、特開昭55−7
6348号、同5B−1044号及び同5$−1045
号に記載されているポリヒドロキシフェニル樹脂と0−
ナフトキノンジアジドスルホン酸クロライドのエステル
、特開昭5〇−113305号に記載されているような
p−ヒドロキシスチレンのホモポリマーまたはこれと他
の共重合し得る七ツマ−との共重合体に0−ナフトキノ
ンジアジドスルホン酸クロライドをエステル反応させた
もの、特公昭49−17481号記載のスチレンモノマ
ーとフェノール誘導体との重合体生成物と0−キノンジ
アジドスルホン酸との反応生成物、またポリヒドロキシ
ベンゾフェノンとO−ナフトキノンジアジドスルホン酸
クロライドのエステル等が挙げられる。
Other useful 0-naphthoquinonediazide compounds include, for example, the ester of pyrogallol-acetone resin and 0-naphthoquinonediazide sulfonic acid chloride described in U.S. Pat. No. 3,835,709;
No. 6348, No. 5B-1044 and No. 5$-1045
Polyhydroxyphenyl resin and 0-
Esters of naphthoquinonediazide sulfonic acid chloride, homopolymers of p-hydroxystyrene as described in JP-A-50-113305, or copolymers of this and other copolymerizable heptamers with 0- Products obtained by ester reaction of naphthoquinonediazide sulfonic acid chloride, reaction products of polymer products of styrene monomers and phenol derivatives described in Japanese Patent Publication No. 49-17481 and O-quinonediazide sulfonic acid, and polyhydroxybenzophenone and O- Examples include esters of naphthoquinonediazide sulfonic acid chloride.

かかるキノンジアジド型のポジ型感光性物質を含有する
感光性組成物は必要に応じて結合剤を添加することがで
きる0例えば好適なものとしてアルカリ水溶液可溶性の
ノボラック樹脂が挙げられる。このようなノボラック樹
脂の例としては、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、
クレゾール−ホルムアルデヒド樹脂、p−tert−ブ
チルフェノール−ホルムアルデヒド樹脂、フェノール変
性キシレン樹脂などを代表例として挙げることができる
。感光性組成物中のキノンジアジド化合物の量は10〜
50fi量%であり、より好ましくは20〜40重徴%
である。また上記結合剤の配合量は感光性組成物中の4
5〜80重量%であり、好ましくは50〜70重量%で
ある。
A photosensitive composition containing such a quinone diazide type positive photosensitive material may optionally contain a binder. For example, a preferred example is a novolac resin soluble in an aqueous alkali solution. Examples of such novolac resins include phenol-formaldehyde resins,
Typical examples include cresol-formaldehyde resin, p-tert-butylphenol-formaldehyde resin, and phenol-modified xylene resin. The amount of quinonediazide compound in the photosensitive composition is 10-
50 fi amount%, more preferably 20 to 40 fi amount%
It is. Further, the amount of the above-mentioned binder added is 4% in the photosensitive composition.
It is 5 to 80% by weight, preferably 50 to 70% by weight.

また、必要に応じて以下の感光性物質を用いることがで
きる0例えば、芳香族ジアゾニウム塩とホルムアルデヒ
ドとの縮合物で代表されるジアゾ樹脂である。特に好ま
しくは、p−ジアゾジフェニルアミンとホルムアルデヒ
ドまたはアセトアルデヒドとの縮合物の塩、例えばヘキ
サフルオロ燐酸塩、テトラフルオロホウ酸塩、過塩素酸
塩または過ヨウ素酸塩と前記縮合物との反応生成物であ
るジアゾ樹脂無機塩や、米国特許3.300,309号
に記載されているような、前記縮合物とスルホン酸類の
反応生成物であるジアゾ樹脂有機塩等が挙げられる。ざ
らにジアゾ樹脂は、好ましくは結合剤と共に使用される
。かがる結合剤としては種々の高分子化合物が使用され
得るが、好ましくは特開昭54−98813号に記載さ
れているような芳香族性水酸基を有する単量体、例えば
N−(4−と・ドロキシフェニル)アクリルアミド、 
 N−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド、
0−、■−1またはp−ヒドロキシスチレン、o−、m
−1またはp−ヒドロキシフェニルメタクリレート等と
他の単量体との共重合体、米国特許4.123.27E
i号に記載されているようなヒドロキシエチルアクリレ
ート単位またはヒドロキシエチルメタクリレート単位を
主なる繰り返し単位として含むポリマー、シェラツク、
ロジン等の天然樹脂、ポリビニルアルコール、米国特許
3,751,257号に記載されているポリアミド樹脂
、米国特許3.680,097号に記載されている線状
ポリウレタン樹脂、ポリビニルアルコールのフタレート
化樹脂、ビスフェノールAとエピクロルヒドリンから縮
合されたエポキシ樹脂、酢酸セルロース、セルロースア
セテートフタレート等のセルロース類が包含される。
Further, the following photosensitive substances can be used as required. For example, a diazo resin typified by a condensate of an aromatic diazonium salt and formaldehyde. Particular preference is given to salts of condensates of p-diazodiphenylamine and formaldehyde or acetaldehyde, such as reaction products of hexafluorophosphates, tetrafluoroborates, perchlorates or periodates with said condensates. Examples include certain diazo resin inorganic salts and diazo resin organic salts which are reaction products of the above condensates and sulfonic acids, as described in US Pat. No. 3,300,309. The diazo resin is preferably used together with a binder. Various polymeric compounds can be used as the binding agent, but monomers having aromatic hydroxyl groups such as those described in JP-A-54-98813, such as N-(4- and/Droxyphenyl) acrylamide,
N-(4-hydroxyphenyl)methacrylamide,
0-, ■-1 or p-hydroxystyrene, o-, m
Copolymer of -1 or p-hydroxyphenyl methacrylate and other monomers, US Pat. No. 4.123.27E
Polymers containing hydroxyethyl acrylate units or hydroxyethyl methacrylate units as a main repeating unit as described in item i, shellac,
Natural resins such as rosin, polyvinyl alcohol, polyamide resins described in U.S. Pat. No. 3,751,257, linear polyurethane resins described in U.S. Pat. No. 3,680,097, phthalated resins of polyvinyl alcohol, Epoxy resins condensed from bisphenol A and epichlorohydrin, celluloses such as cellulose acetate and cellulose acetate phthalate are included.

また重合体主鎖または側鎖に感光基として一〇H= C
)l−C−を含むポリエステル類、ポリアミド類、ポリ
カーボネート類のような感光性重合体を主成分とするも
のも挙げられる0例えば、特開昭55−40415号に
記載されているような、フェニレンジエチルアクリレー
トと水素添加したビスフェノールAおよびトリエチレン
グリコールとの縮合で得られる感光性ポリエステル、米
国特許2,958,878号に記載されているような、
シンナミリデンマロン酸等の(2−プロペリデン)マロ
ン酸化合物及び二官能性グリコール類から調心される感
光性ポリエステル類等が挙げられる。
In addition, 10H=C as a photosensitive group in the main chain or side chain of the polymer.
) 1-C- containing photosensitive polymers such as polyesters, polyamides, and polycarbonates are also included. Photosensitive polyesters obtained by condensation of diethyl acrylate with hydrogenated bisphenol A and triethylene glycol, as described in U.S. Pat. No. 2,958,878,
Examples include photosensitive polyesters prepared from (2-properidene) malonic acid compounds such as cinnamylidene malonic acid and difunctional glycols.

さらにアジド基が直接またはカルボニル基又はスルホニ
ル基を介して芳香環に結合している芳香族アジド化合物
も挙げられる0例えば、米国特許3,098,311号
に記載されているようなポリアジドスチレン、ポリビニ
ル−p−アジドベンゾアート、ポリビニル−p−アジド
ベンザール、特公昭45−9813号に記載のアジドア
リールスルファニルクロリドと不飽和炭化水素系ポリマ
ーとの反応生成物、また特公昭43−21087号、同
44−229号、同44−22954号及び同45−2
4915号に記載されているような、スルホニルアジド
やカルボニルアジドを持つポリマー等が挙げられる。
Further examples include aromatic azide compounds in which the azide group is bonded directly or via a carbonyl group or a sulfonyl group to an aromatic ring.For example, polyazidostyrene as described in U.S. Pat. No. 3,098,311 Polyvinyl-p-azidobenzoate, polyvinyl-p-azidobenzal, the reaction product of azidoarylsulfanyl chloride and unsaturated hydrocarbon polymer described in Japanese Patent Publication No. 45-9813, and Japanese Patent Publication No. 43-21087, No. 44-229, No. 44-22954 and No. 45-2
Examples include polymers having sulfonyl azide and carbonyl azide, as described in No. 4915.

さらにまた、付加重合性不飽和化合物からなる光重合性
組成物も挙げられる。また電子写真方式の印刷版に用い
られる感光性組成物も本発明を適用できる0例えば、特
開昭55−181250号に記載の電子写真を利用した
印刷用原版に用いられる電子供与化合物、フタロシアニ
ン系顔料及びフェノール樹脂からなる感光性組成物等が
挙げられる。
Furthermore, a photopolymerizable composition comprising an addition polymerizable unsaturated compound may also be mentioned. The present invention can also be applied to photosensitive compositions used in electrophotographic printing plates. Examples include photosensitive compositions comprising pigments and phenolic resins.

感光居には、上記の感光性物質以外に界面活性剤が含有
せしめられている。
The photosensitive material contains a surfactant in addition to the above-mentioned photosensitive substance.

界面活性剤としては、ノニオン系の界面活性剤が好まし
く、例えばポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリ
オキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシ
エチレンポリオキシプロピレンブロックポリマー、ポリ
オキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシ
エチレングリセリン脂肪酸エステル、ポリエチレングリ
コール脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸アミ
ン、脂肪酸モノグリセリド、ソルビタン脂肪酸エステル
、ペンタエリスリトール脂肪酸エステル、プロピレング
リコール脂肪酸エステル、ポリグリセリン脂肪酸エステ
ル、脂肪酸アルカノールアミド、アミンオキシドなど以
外にフッ素系界面活性剤を用いることができ、中でも好
ましいのはフッ素系界面活性剤である。
As the surfactant, nonionic surfactants are preferred, such as polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene alkyl phenyl ether, polyoxyethylene polyoxypropylene block polymer, polyoxyethylene sorbitan fatty acid ester, polyoxyethylene glycerin fatty acid, etc. In addition to esters, polyethylene glycol fatty acid esters, polyoxyethylene fatty acid amines, fatty acid monoglycerides, sorbitan fatty acid esters, pentaerythritol fatty acid esters, propylene glycol fatty acid esters, polyglycerin fatty acid esters, fatty acid alkanolamides, amine oxides, etc., fluorine-based surfactants are used. Among them, fluorine-based surfactants are preferred.

本発明に好ましく用いられるフッ素系界面活性剤として
は、例えば側鎖にフッ化アルキル基を有する(メタ)ア
クリレート重合体を挙げることができ、この際、標準ポ
リスチレン換算数平均分子量は30,000以下のもの
が好ましく、より好ましくは2,000〜IQ、000
の範囲にあるものである。
Examples of the fluorine-based surfactant preferably used in the present invention include (meth)acrylate polymers having a fluorinated alkyl group in the side chain, and in this case, the number average molecular weight in terms of standard polystyrene is 30,000 or less. Those with an IQ of 2,000 to 2,000 are preferred, and more preferably 2,000 to 2,000.
It is within the range of

(メタ)アクリレート重合体の数平均分子量が30.0
00を越えると、塗布性改良の効果が十分でなくなる。
The number average molecular weight of the (meth)acrylate polymer is 30.0
If it exceeds 00, the effect of improving coating properties will not be sufficient.

前記(メタ)アクリレート重合体における側鎖に7フ化
アルキル基を有する部分のアクリレート構造単位または
メタクリレート構造単位としては、例えば下記一般式 %式% (式中、Rは水素原子またはメチル基であり、nはO〜
20、aは0〜2、bは0〜lの整数を示す、) または下記一般式 %式% (式中、Rは水素原子またはメチル基であり、nは0−
10、鵬は0〜20.aはO〜2の整数を示す、) で表すことができ、具体的には 0−CHz(OF ?)3CFH20−11;H2(C
F2)3GF3■ 0−CHzCCFz)2oCF3   0−CHzCC
Fz)2ocF2HCH30H3 囃 0−CF20F30−(CF?hCF=−C;H2−C
H−−OH2−CH− =CH?−GH− C=O 0−(CF2) +aCFI ■ 0−(CF20F30 −CH2−CH− −C:H2−C:H− −GH2−GH− −CH2−CH− −CH2−CH− −CH2−C:H− ■ −(:H2−CH− −CH2−CH− −C)+2−C)I− ■ −CH?−CH− −(:H2−CH− CH3 −GH2−C− CH3 −cH2−c− CH。
The acrylate structural unit or methacrylate structural unit of the moiety having a heptafluorinated alkyl group in the side chain in the (meth)acrylate polymer is, for example, the following general formula % formula % (wherein R is a hydrogen atom or a methyl group, , n is O~
20, a represents an integer of 0 to 2, b represents an integer of 0 to l) or the following general formula % formula % (wherein R is a hydrogen atom or a methyl group, and n is 0-
10, Peng is 0-20. a represents an integer from O to 2), specifically 0-CHz(OF?)3CFH20-11;H2(C
F2)3GF3■ 0-CHzCCFz)2oCF3 0-CHzCC
Fz)2ocF2HCH30H3 0-CF20F30-(CF?hCF=-C;H2-C
H--OH2-CH- =CH? -GH- C=O 0-(CF2) +aCFI ■ 0-(CF20F30 -CH2-CH- -C:H2-C:H- -GH2-GH- -CH2-CH- -CH2-CH- -CH2-C :H- ■ -(:H2-CH- -CH2-CH- -C)+2-C)I- ■ -CH? -CH- -(:H2-CH- CH3 -GH2-C- CH3 -cH2-c- CH.

蒸 −GH2−C− 寡 CH3 −CH2−C− Hz −CH2−C− CH3 一〇H2−c− す CH3 −co?−c− CHコ −C:H2−C− CH3 −CH2−C− υ CH3 −CH2−G− CH3 −CH2−C− CH3 −C:H2−C− 門 −CH2−C− 等を挙げることができる。前記側鎖にフッ化アルキル基
を有する(メタ)アクリレート重合体は、さらに側鎖に
フルキレンオキ゛シト基或いはアルキル基を有するもの
であることが好ましい、側鎖にフッ化アルキル基を有す
る(メタ)アクリレート重合体におけるアルキレンオキ
シド基を側鎖に有する部分の7クリレ一ト構造単位また
はメタクリレート構造単位としては、 例えば下記一般式 %式% (式中、Rは水素原子またはメチル基であり、nはO〜
6、鵬は1−10の整数を示す、)で表すことができ、
具体的には 等を挙げることができる。
Steam-GH2-C- Less CH3 -CH2-C- Hz -CH2-C- CH3 10H2-c- CH3 -co? -c- CH co-C:H2-C- CH3 -CH2-C- υ CH3 -CH2-G- CH3 -CH2-C- CH3 -C:H2-C- Gate-CH2-C- etc. can. The (meth)acrylate polymer having a fluorinated alkyl group in the side chain preferably further has a fluorinated alkyl group or an alkyl group in the side chain. ) As the 7-acrylate structural unit or methacrylate structural unit of the moiety having an alkylene oxide group in the side chain in the acrylate polymer, for example, the following general formula % formula % (wherein R is a hydrogen atom or a methyl group, n is O~
6, Peng represents an integer from 1 to 10, and can be expressed as
Specifically, the following can be mentioned.

また、側鎖にフッ化アルキル基を有する(メタ)アクリ
レートffi合体におけるアルキル基を側鎖に有する部
分の7クリレ一ト構造単位またはメタクリレート構造単
位としては、例えば下記一般式 %式% (式中、Rは水素原子またはメチル基であり、n・は1
〜22の整数を示す、) で表すことができ、具体的には U−L;5H1l               Ll
−1y6r113u−1,15H1l        
      u−し61113等を挙げることができる
In addition, as the 7-acrylate structural unit or methacrylate structural unit of the part having an alkyl group in the side chain in the (meth)acrylate ffi combination having a fluorinated alkyl group in the side chain, for example, the following general formula % formula % (in the formula , R is a hydrogen atom or a methyl group, and n. is 1
), which represents an integer of ~22, specifically U-L;5H1l Ll
-1y6r113u-1,15H1l
u-shi61113 etc. can be mentioned.

さらに、側鎖にフッ化アルキル基を有する(メタ)アク
リレート重合体は、側鎖に7リール基、アリレン基等を
有していてもよくアリール基、アリレン基等を有する部
分の7クリレ一ト構造単位またはメタクリレート構造単
位としては、例えば、 −c++t−co−、−C11,−C11−−C11,
−C)l−、−Cll、−CI−さらに、本発明に好ま
しく用いられる側鎖にフッ化アルキルを有する(メタ)
アクリレート重合体は、前記以外の構造単位、例えば −CF2−CF、−、−C11,−’C11−CO0I
I −CH−CI[− 等を有していてもよい。
Furthermore, the (meth)acrylate polymer having a fluorinated alkyl group in the side chain may have a 7-aryl group, an arylene group, etc. in the side chain. Examples of the structural unit or methacrylate structural unit include -c++t-co-, -C11, -C11--C11,
-C) l-, -Cll, -CI- Furthermore, (meth) having a fluorinated alkyl in the side chain preferably used in the present invention
The acrylate polymer may contain structural units other than the above, such as -CF2-CF, -, -C11, -'C11-CO0I
It may have I-CH-CI[-, etc.

また、 CrF lsc:02NH4 CaF + rS02N (C2H5) OH2GOO
KC8F、ノSo zNHc lH6N ’ (OH3
)20見 =CrF +s(:0N)l(CHzhN・
(CH3) 2czHaco叶CsF + +5O2N
(CzHs)C2Ha(OC3H6) 5OHGrF+
5GOMHCxHs「(CHx)z(1;H2)zCO
O−CaF I 7S02NHCH+ SO3NaCH
2COO− 06F l 3S02NC3HbN・(CHI)2Gs
F l+5OzN−(GHz) 3N ’(CH3) 
zClbCOO−CIH? C5FIrSO2NHC3H6N・(CH3)  2c
2H50s−02002HsCrF + 5c:0NH
G IH6N ゛(OH3) 30文−2H5 C3FusO2NGHzGH20(GH2GH20)+
oH(:aFuSO2N(CHx)CHzC:HzOz
CC)l<HzCsF uS02N(C)13)(−C
)Iz−CH+1o)1C00C2)1s 等のフッ素系界面活性剤も用いることができる。
Also, CrF lsc:02NH4 CaF + rS02N (C2H5) OH2GOO
KC8F,ノSo zNHc lH6N' (OH3
)20 views =CrF +s(:0N)l(CHzhN・
(CH3) 2czHaco Kano CsF + +5O2N
(CzHs)C2Ha(OC3H6) 5OHGrF+
5GOMHCxHs'(CHx)z(1;H2)zCO
O-CaF I 7S02NHCH+ SO3NaCH
2COO- 06F l 3S02NC3HbN・(CHI)2Gs
F l+5OzN-(GHz) 3N'(CH3)
zClbCOO-CIH? C5FIrSO2NHC3H6N・(CH3) 2c
2H50s-02002HsCrF + 5c:0NH
G IH6N゛(OH3) 30 sentences-2H5 C3FusO2NGHzGH20(GH2GH20)+
oH(:aFuSO2N(CHx)CHzC:HzOz
CC)l<HzCsF uS02N(C)13)(-C
)Iz-CH+1o)1C00C2)1s Fluorine-based surfactants such as the following can also be used.

さらに、本発明に好ましく用いられるフッ素系界面活性
剤としては市販品を用いることもでき、例えばサーフ0
ンrS、−38J、 rS−382J、rsc−IOI
J、rS C−102J、rS C−103J、rs 
C−104J(いずれも旭硝子社製)、フロラードrF
 C−430J、rF C−431J、rFC−173
J(いずれもフロロケミカル−住友スリーエム社V)、
エフトー/プrEF352」、rEF 301J、 r
EF 303J(いずれも新秋田化成社製)、シュベゴ
ーフルアーr8035J、r8038J(いずれもシュ
ベグマン社製)、rB M 100OJ、rBMllo
oJ(いずれもビーエム・ヒミー社製)などを挙げるこ
とができる。
Furthermore, as the fluorine-based surfactant preferably used in the present invention, commercially available products can also be used, such as Surf 0
rS, -38J, rS-382J, rsc-IOI
J, rS C-102J, rS C-103J, rs
C-104J (all manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), Florado rF
C-430J, rFC C-431J, rFC-173
J (all fluorochemicals - Sumitomo 3M Company V),
EFTO/PR rEF352”, rEF 301J, r
EF 303J (both manufactured by Shin-Akita Kasei Co., Ltd.), Schwegofluer r8035J, r8038J (both manufactured by Schwegmann), rB M 100OJ, rBMllo
oJ (all manufactured by BM Himy), etc.

なお本発明に好ましく用いられるフッ素系界面活性剤の
フッ素含有割合としては、好ましくは5〜80g1量%
であり、より好ましくは8〜65重量%である。
The fluorine content of the fluorine surfactant preferably used in the present invention is preferably 5 to 80g1% by weight.
and more preferably 8 to 65% by weight.

上記の各種フッ素系界面活性剤は、単独でまたは組合せ
て用いることができる。
The various fluorosurfactants mentioned above can be used alone or in combination.

界面活性剤の添加量は、感光性物質の総重量に対して0
.0001−10114%が好ましく、より好ましくは
0.0001〜2改量%である。
The amount of surfactant added is 0 based on the total weight of the photosensitive material.
.. It is preferably 0.0001-10114%, more preferably 0.0001-2%.

感光層にはシリコーンプライマーを添加することもでき
る。該シリコーンブライマーは、カーボンファンクショ
ナルシランと呼ばれるものを主成分とし、これに様々な
工夫を施したものである。
A silicone primer can also be added to the photosensitive layer. The silicone brimer has a so-called carbon functional silane as its main component, and has been modified in various ways.

例えばアルキルシラノール、そのエステル、オルガノア
ルコキシシラン類、例えばグリシドキシプロビル基を持
つアルコキシシラン、ビニルトリクロロシランなどの低
分子量のシラン化合物を非極性溶剤に溶解したものであ
る。市販品として入手できるものとしてはトーレシリコ
ーン社製のPRX−304,5H−50fi、5H−4
094,5H−1800,5H−2280、東芝シリコ
ーン社製のプライマーME−11などがある。
For example, a low molecular weight silane compound such as alkylsilanol, its ester, organoalkoxysilanes, such as alkoxysilane having a glycidoxyprobyl group, or vinyltrichlorosilane, is dissolved in a nonpolar solvent. Commercially available products include PRX-304, 5H-50fi, and 5H-4 manufactured by Toray Silicone.
094, 5H-1800, 5H-2280, Primer ME-11 manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd., and the like.

シリコーンブライマーの添加量は、感光性物質の総重量
に対して0.0001〜10重量%が好ましく、より好
ましくは0.0001〜2重量%である。
The amount of silicone primer added is preferably 0.0001 to 10% by weight, more preferably 0.0001 to 2% by weight based on the total weight of the photosensitive material.

感光層を形成するには、リバースロールコータ、エアー
ナイフコータ、メーヤパーコータなどの通常のコータ、
或いはホエラーのような回転塗布装置を用いて、上記感
光性物質等を前記の基体フィルム上に塗布し、乾燥する
To form the photosensitive layer, use a normal coater such as a reverse roll coater, air knife coater, Meyer percoater, etc.
Alternatively, the photosensitive material or the like is applied onto the base film using a spin coating device such as Whaler and dried.

感光層の厚さは0.05〜10g+wが好ましく、より
好ましくは045〜5弘mである。
The thickness of the photosensitive layer is preferably 0.05 to 10 g+w, more preferably 0.45 to 5 g+w.

本発明において、感光層塗布液にはさらに、充填剤、色
素、染料、顔料、塗布性改良のための本発明の化合物以
外の界面活性剤及び他の常用の添加剤及び助剤を含有す
ることができる。
In the present invention, the photosensitive layer coating solution may further contain fillers, dyes, dyes, pigments, surfactants other than the compounds of the present invention for improving coating properties, and other commonly used additives and auxiliaries. Can be done.

本発明のシリコーンゴム層に用いられるシリコーンゴム
としては、次のようなくり返し栄位を有する分子量数千
〜数十万の線状有機ポリシロキサンを主成分とするもの
が好ましい。
The silicone rubber used in the silicone rubber layer of the present invention is preferably one whose main component is a linear organic polysiloxane having a molecular weight of several thousand to several hundred thousand and having the following repeating positions.

(−Si −0+r1 ここでnは2以上の整数、Rは炭素数1〜10のアルキ
ル基、ハロゲン化アルキル基、アルキル基、ビニル基、
アリール基であり、Rの60%以上がメチル基であるも
のが好ましい。
(-Si -0+r1 where n is an integer of 2 or more, R is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a halogenated alkyl group, an alkyl group, a vinyl group,
Preferably, it is an aryl group, and 60% or more of R is a methyl group.

本発明において有用なシリコーンゴムは、このようなシ
リコーン・ベースポリマーと、次にあげるようなシリコ
ーン架橋剤との縮合反応によって得られるものである。
The silicone rubber useful in the present invention is obtained by a condensation reaction between such a silicone base polymer and a silicone crosslinking agent as listed below.

(1) R−9i−fl−OR”) (2) R−5i(−OAc) (3) R−9i+0N−CR”z)zここでRは先に
説明したRと同じ意味であり、R′はメチル基、エチル
基などのアルキル基であり、ACはアセチル基である。
(1) R-9i-fl-OR”) (2) R-5i(-OAc) (3) R-9i+0N-CR”z)z Here, R has the same meaning as R explained earlier, and R ' is an alkyl group such as a methyl group or an ethyl group, and AC is an acetyl group.

これらのシリコーンゴムは市販品としても入手でき、例
えば東芝シリコーン社TAYE−3085Gがある。
These silicone rubbers are also available as commercial products, such as Toshiba Silicone Co., Ltd.'s TAYE-3085G.

また、その他の有用なシリコーンゴムは、上に挙げたよ
うなベースポリマーと、次のような繰り返し単位を有す
るH型シリコーンオイルとの反応、或いはRの3%程度
がビニル基であるシリコーンベースポリマーとの付加反
応、或いは該H型シリコーンオイル同志の反応によって
も得ることができる。
Other useful silicone rubbers are produced by reacting the base polymers listed above with H-type silicone oils having the following repeating units, or by producing silicone base polymers in which approximately 3% of R is vinyl groups. It can also be obtained by an addition reaction with H-type silicone oil or a reaction between the H-type silicone oils.

(式中、Rは先のRと同じ意味であり、履は2以上の整
数、nはO又は1以上の!!i数である。)このような
架橋反応によって、シリコーンゴムを得るためには、上
記の成分の他に、錫、亜鉛、コバルト、鉛、カルシウム
、マンガンなどの金属の有機カルボン酸塩、例えばラウ
リン酸ジブチルスズ、スズ(n)オクトエート、ナフテ
ン酸コバルトなど、或いは塩化白金酸のような触媒が添
加される。
(In the formula, R has the same meaning as R above, and n is an integer of 2 or more, and n is O or a !!i number of 1 or more.) In order to obtain silicone rubber by such a crosslinking reaction, In addition to the above ingredients, organic carboxylates of metals such as tin, zinc, cobalt, lead, calcium, and manganese, such as dibutyltin laurate, tin(n) octoate, and cobalt naphthenate, or chloroplatinic acid. Such a catalyst is added.

また、シリコーンゴムの強度を向上し、印刷作業中に生
じる摩擦力に耐え得るシリコーンゴムを得るためには、
充填材(フィラー)を混合することもできる。予めンイ
ラーの混合されたシリコーンゴムは、シリコーンゴムス
トック、或いはシリコーンゴムディスバージョンとして
市販されており、本発明のようにコーティングにより、
シリコーンゴム膜を得ることが好ましい場合には、RT
V或いはLTVシリコーンゴムのディスバージョンが好
んで用いられる。このような例としては、) −1/ 
シIJ コ−y社製sy+ on 23.5RX−25
7,5)1237などのペーパーコーティング用シリコ
ーンゴムディスバージョンがある。
In addition, in order to improve the strength of silicone rubber and obtain silicone rubber that can withstand the frictional forces generated during printing operations,
Fillers can also be mixed. Silicone rubber pre-mixed with a filler is commercially available as silicone rubber stock or silicone rubber dispersion, and as in the present invention, it can be coated with
If it is preferred to obtain a silicone rubber film, RT
Disversions of V or LTV silicone rubber are preferably used. An example of this is ) -1/
sy+ on 23.5RX-25 manufactured by Ko-y Co., Ltd.
7,5) There are silicone rubber dispersions for paper coating such as 1237.

本発明においては、上記の成分の他に、シリコーンゴム
層中に光増感剤を少量含有せしめることができる。
In the present invention, in addition to the above-mentioned components, a small amount of photosensitizer can be included in the silicone rubber layer.

シリコーンゴム層の厚さは0.5〜100 g tsが
好ましく、より好ましくは1〜40pwである。
The thickness of the silicone rubber layer is preferably 0.5 to 100 gts, more preferably 1 to 40 pw.

シリコーンゴム層を塗設する手段は特に限定されず、未
硬化のシリコーンゴム層が形成されればいかなる方法で
もよく、一般的塗布以外にラミネート等も含む。
The means for applying the silicone rubber layer is not particularly limited, and any method may be used as long as an uncured silicone rubber layer is formed, including lamination in addition to general coating.

本発明に用いられる支持体としては、通常の平版印刷機
にセットできるたわみ性と印刷時に加わる荷重に耐えう
るちのが好ましい0代表的なものとしてはアルミニウム
、亜鉛、銅、鋼等の金属板、及びクロム、亜鉛、銅、ニ
ッケル、アルミニウム及び鉄等がメツキ又は蒸着された
金属板、紙、プラスチックフィルム及びガラス板、樹脂
コート紙、アルミニウム等の金属箔が張られた紙等が挙
げられる。これらのうち好ましいのはアルミニウム板で
ある。アルミニウム板を使用する場合、公知の砂目立て
或いは陽極酸化処理されたものが好ましい。
The support used in the present invention preferably has the flexibility to be set in a normal lithographic printing machine and the ability to withstand the load applied during printing. Typical examples include metal plates such as aluminum, zinc, copper, and steel; Examples include metal plates plated or vapor-deposited with chromium, zinc, copper, nickel, aluminum, iron, etc., paper, plastic films, glass plates, resin-coated paper, paper covered with metal foil such as aluminum, and the like. Among these, aluminum plates are preferred. When using an aluminum plate, it is preferable to use a known grained or anodized plate.

砂目立て処理の方法としては1例えば機械的方法、電解
エツチング方法が挙げられる0機械的方法としては、例
えばポール研磨法、ブラシ研磨法、液体ホーニングによ
る研磨法、八ツ研磨法等が挙げられる。アルミニウム材
の組成等に応じて上記の各種方法を単独或いは組合せて
用いることができる。
Examples of methods for graining include mechanical methods and electrolytic etching methods.Mechanical methods include, for example, pole polishing, brush polishing, liquid honing, and eight polishing. The various methods described above can be used alone or in combination depending on the composition of the aluminum material.

電解エツチングは、リン酸、硫酸、塩酸、硝酸等の無機
の酸を単独ないし2種以上混合した浴で行われる。
Electrolytic etching is carried out in a bath containing one or a mixture of two or more inorganic acids such as phosphoric acid, sulfuric acid, hydrochloric acid, and nitric acid.

砂O立て処理の後、必要に応じてアルカリ或いは酸の水
溶液によってデスマット処理を行い中和して水洗する。
After the sand O-standing treatment, if necessary, a desmut treatment is performed using an aqueous alkali or acid solution to neutralize the material, followed by washing with water.

陽極酸化処理は、電解液として硫酸、クロム酸、シュウ
酸、リン酸、マロン酸等を1種または2種以上含む溶液
を用い、アルミニウム板を陽極又はリン酸等の濃度10
〜50%の水溶液で電流密度1−1OA/dm″で電解
する方法などが挙げられる。
The anodizing treatment uses a solution containing one or more of sulfuric acid, chromic acid, oxalic acid, phosphoric acid, malonic acid, etc. as an electrolyte, and the aluminum plate is used as an anode or a solution containing 10% of phosphoric acid, etc.
Examples include a method of electrolyzing with a ~50% aqueous solution at a current density of 1-1 OA/dm''.

なおこれらの支持体上にハレーシ還ン防止その他の目的
でさらにコーティングを施してもよい。
It should be noted that these supports may be further coated for the purpose of preventing Halesi reduction and other purposes.

支持体の厚さは50〜400 uLtaが好ましく、よ
り好ましくは100〜300終mである。
The thickness of the support is preferably 50 to 400 uLta, more preferably 100 to 300 uLta.

支持体上でシリコ−・ンゴム層を硬化させる手段は特に
限定されず、自然硬化(風乾など)或いは強制硬化(加
熱など)のいずれであってもよい。
The means for curing the silicone rubber layer on the support is not particularly limited, and may be either natural curing (air drying, etc.) or forced curing (heating, etc.).

感光層への露光に用いられる光源は、紫外線発生水銀灯
、カーボンアーク灯、キセノンランプ、メタルハライド
ランプ、蛍光灯などが挙げられる。
Examples of the light source used for exposing the photosensitive layer include a mercury lamp generating ultraviolet light, a carbon arc lamp, a xenon lamp, a metal halide lamp, and a fluorescent lamp.

[発明の効果] 本発明によれば、塗布性に優れ、かつ感光層面を傷付け
ることがない湿し水不要平版印刷版材料の製造方法を提
供することができる。
[Effects of the Invention] According to the present invention, it is possible to provide a method for producing a lithographic printing plate material that has excellent coating properties and does not require dampening water and does not damage the surface of the photosensitive layer.

[実施例] 以下に実施例を挙げて本発明を更に詳説する。[Example] The present invention will be explained in further detail by giving examples below.

実施例1 ポリプロピレン(PP)とポリエチレンテレフタレート
(PET)の共押し出しフィルムのPP側に、下記感光
性組成物をワイヤーパーで膜厚2g、mになるように塗
布した。
Example 1 The photosensitive composition shown below was coated on the PP side of a coextruded film of polypropylene (PP) and polyethylene terephthalate (PET) using a wire sprayer to a film thickness of 2 g, m.

[感光性組成物] φナフトキノンー(1,2)−ジアジド−(2)−5−
スルホン酸クロライドとピロガロール番アセトン樹脂と
のエステル化合物(数平均分子量Mn”1850. f
f1ffi平均分子i M、−2200,1ii合率3
0モル%)              1.7gΦフ
ェノールと一一、p−W合クレゾールとホルムアルデヒ
ドとの共ffIM合樹脂(フェノール、m−クレゾール
及びp−クレゾールの各々のモル比が30:42:28
、数平均分子量M。=1380、重量平均分子ffi 
Mn=914Q、住友デュレス社製、商品名5K−10
3)            6.49g* p−te
rtオクチルフェノールとホルムアルデヒドより合成さ
れたノボラック樹脂とナフトキノン−(1,2)−ジア
ジド−(2)−5−スルホン酸クロライドとのエステル
化合物(玉量平均分子量M、−1800、縮合率50モ
ル%)   0.16g0オイルブルー8603 (オ
リエンタル社製染料)0.06g φエチレングリコールモノメチルエーテル33腸又 舎FC430(3M社製界面活性剤)    0.1g
これを90℃X 2m1nで乾燥させた後、未硬化シリ
コーンゴム(東芝シリコーン社% YE−3085)の
トルエン溶液を硬化後シリコーンがIOBmになるよう
に塗布した。その後ドライヤーでトルエンを飛ばし、電
解砂目立てしたアルミ板上にローラーで圧着した。これ
を室温で30分放近し、シリコーンゴムを十分硬化させ
た後、基体フィルムを剥離した。これを80℃X 10
m1nで十分に硬化させた。
[Photosensitive composition] φnaphthoquinone-(1,2)-diazide-(2)-5-
Ester compound of sulfonic acid chloride and pyrogallol acetone resin (number average molecular weight Mn" 1850. f
f1ffi average molecule i M, -2200, 1ii ratio 3
0 mol %) 1.7gΦphenol and p-W combination ffIM composite resin of cresol and formaldehyde (the molar ratio of phenol, m-cresol and p-cresol was 30:42:28)
, number average molecular weight M. =1380, weight average molecule ffi
Mn=914Q, manufactured by Sumitomo Duress, product name 5K-10
3) 6.49g* p-te
Ester compound of novolak resin synthesized from rt octylphenol and formaldehyde and naphthoquinone-(1,2)-diazide-(2)-5-sulfonic acid chloride (ball weight average molecular weight M, -1800, condensation rate 50 mol%) 0.16g0 Oil Blue 8603 (dye manufactured by Oriental) 0.06g φEthylene glycol monomethyl ether 33 Chomatasha FC430 (surfactant manufactured by 3M) 0.1g
After drying this at 90° C. x 2 ml, a toluene solution of uncured silicone rubber (Toshiba Silicone Co., Ltd. % YE-3085) was applied so that the cured silicone had an IOBm. After that, the toluene was removed using a hair dryer, and the material was pressed onto an electrolytically grained aluminum plate using a roller. This was left to stand at room temperature for 30 minutes to fully cure the silicone rubber, and then the base film was peeled off. This at 80℃ x 10
It was sufficiently cured with m1n.

この上にポジ用印刷原稿をのせ紫外線露光機にて露光し
た。その後、重板のPS用ポジ現像液5DR−1(コニ
カ社製)で標塾条件で現像したところ、きれいな画線が
得られた。これをハイデルベルグ社、%GTOにて印刷
したところ、 2.(100枚のきれいな印刷物が湿し
水を与えることなく得られた。
A positive printing original was placed on top of this and exposed using an ultraviolet exposure machine. Thereafter, when the image was developed using a heavy-duty PS positive developer 5DR-1 (manufactured by Konica) under standard conditions, a clear image line was obtained. When this was printed by Heidelberg Co., Ltd., %GTO, 2. (100 clean prints were obtained without applying dampening water.

実施例2 実施例1と同様の方法で製版した後、 180°C×2
0m1nで熱処理して同様に印刷テストしたところ、1
0.000枚のきれいな印刷物が湿し水を供給すること
なしに得られた。
Example 2 After making a plate in the same manner as Example 1, 180°C x 2
When heat treated with 0mln and printed test in the same way, 1
0.000 clean prints were obtained without applying dampening water.

比較例1 実施例1において用いた感光液中からFC430を抜い
たものを同様に、PP上に塗布したが、はじきが生じて
うまく塗れなかった。
Comparative Example 1 The photosensitive solution used in Example 1, minus FC430, was applied onto PP in the same manner, but repellency occurred and the application was not successful.

比較例2 実施例1において用いた感光液中からを抜いたものを同
様にPETに塗布し、同様にシリコーンを塗布し転写を
試みたが感光層の一部が転写しきれなかった。比較的き
れいな部分を製版し印刷機にかけてみたところ 100
枚はどで感光層は無くなってしまった。
Comparative Example 2 The photosensitive solution used in Example 1 was extracted and applied onto PET in the same manner, and silicone was similarly applied and transfer was attempted, but part of the photosensitive layer could not be completely transferred. I made a plate of a relatively clean part and ran it through a printing machine, and it turned out to be 100.
The photosensitive layer disappeared at the end of the sheet.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図〜第4図は本発明の版材の製法の一例を示す要部
拡大断面図である。 l二基体フィルム 2:感光層 2′ :画線部 3:シリコーンゴム層 3′ :硬化シリコーンゴム層 4:支持体 特許出願人  二 二 カ 株 式 会 社代 理 人
 弁理士 坂口信昭 第1図 □3 第2図 第3図 第4図
FIGS. 1 to 4 are enlarged cross-sectional views of essential parts showing an example of the method for manufacturing the plate material of the present invention. 12 Base film 2: Photosensitive layer 2': Image area 3: Silicone rubber layer 3': Cured silicone rubber layer 4: Support Patent applicant Nobuaki Sakaguchi □3 Figure 2 Figure 3 Figure 4

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims]  剥離性を有する基体フィルム上に感光層、未硬化シリ
コーンゴム層を順に設け、該シリコーンゴム層側に支持
体を圧着し、該シリコーンゴム層を前記支持体上で硬化
させた後前記基体フィルムを剥離することにより湿し水
不要平版印刷版材料を製造する方法において、前記感光
層中に界面活性剤を含有することを特徴とする湿し水不
要平版印刷版材料の製造方法。
A photosensitive layer and an uncured silicone rubber layer are sequentially provided on a base film having peelability, a support is pressure-bonded to the silicone rubber layer side, the silicone rubber layer is cured on the support, and then the base film is removed. A method for producing a lithographic printing plate material that does not require dampening water by peeling, the method comprising containing a surfactant in the photosensitive layer.
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