JPH01205A - 粉末製造装置 - Google Patents
粉末製造装置Info
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- JPH01205A JPH01205A JP62-227325A JP22732587A JPH01205A JP H01205 A JPH01205 A JP H01205A JP 22732587 A JP22732587 A JP 22732587A JP H01205 A JPH01205 A JP H01205A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、粉末冶金等に使用する金属粉末を製造する
粉末製造装置に関する。
粉末製造装置に関する。
粉末冶金は、金属又は合金の粉末を型に装入して加圧成
形し、次いでこの成形体を焼結させることにより金属製
品又は金属塊を製造する技術である。粉末冶金において
は、成分元素の偏析が起らないこと、難加工材料の製品
化が可能なこと、極めて微細な結晶組織を有する部材が
得られること、非平衡相を現出させることが可能なこと
等、溶製材では得ることができない種々の利点があり、
また、二次的な切削加工を省略できるという利点がある
。このため、粉末冶金に適用される種々の粉末製造技術
が開発されている。
形し、次いでこの成形体を焼結させることにより金属製
品又は金属塊を製造する技術である。粉末冶金において
は、成分元素の偏析が起らないこと、難加工材料の製品
化が可能なこと、極めて微細な結晶組織を有する部材が
得られること、非平衡相を現出させることが可能なこと
等、溶製材では得ることができない種々の利点があり、
また、二次的な切削加工を省略できるという利点がある
。このため、粉末冶金に適用される種々の粉末製造技術
が開発されている。
この中で、噴霧法は、工業的規模での生産が可能であり
、比較的簡単な設備で粉末を製造することができるので
広く用いられている。
、比較的簡単な設備で粉末を製造することができるので
広く用いられている。
噴霧法のうち代表的なものとしては、アルゴンガス噴霧
法及び真空噴霧法の2種類ある。第5図はアルゴンガス
噴霧法を示す模式図である。アルゴンガス噴霧法におい
ては、容器2に貯留された溶湯1が、容器2の底部に設
けられたノズル3より流出し、流出する溶湯流にアルゴ
ンガス4を高エネルギで吹付けて溶湯を噴霧化すること
により粉体5を得る。このようなアルゴンガス噴霧法で
は、製造量が1000ton/年程度可能である。
法及び真空噴霧法の2種類ある。第5図はアルゴンガス
噴霧法を示す模式図である。アルゴンガス噴霧法におい
ては、容器2に貯留された溶湯1が、容器2の底部に設
けられたノズル3より流出し、流出する溶湯流にアルゴ
ンガス4を高エネルギで吹付けて溶湯を噴霧化すること
により粉体5を得る。このようなアルゴンガス噴霧法で
は、製造量が1000ton/年程度可能である。
第6図は真空噴霧法を示す模式図である。真空噴霧法に
おいては、容器12内の溶湯11に高圧ガス15を吹込
んで溶湯11にガス15を過飽和に含有させ、溶湯とガ
スの混合物を、ノズル13・を介して、適当な排気手段
で減圧された真空槽14に放出させ、溶湯11をガス1
5の膨張圧で噴霧飛散させることにより粉体16を得る
。
おいては、容器12内の溶湯11に高圧ガス15を吹込
んで溶湯11にガス15を過飽和に含有させ、溶湯とガ
スの混合物を、ノズル13・を介して、適当な排気手段
で減圧された真空槽14に放出させ、溶湯11をガス1
5の膨張圧で噴霧飛散させることにより粉体16を得る
。
前記のガス噴霧法および真空噴霧法と同様の生産規模で
組織が微細で均一な粉末を製造することができる方法と
して急速凝固法がある。第7図は、急速凝固法を示す模
式図である。この急速凝固法においては、高周波コイル
22に高周波電流を付与することにより容器21内で金
属塊を溶解して生成した溶湯23を高速回転するディス
ク24上に落下させ、このディスク24の回転により溶
湯23を飛散させる。そして、この飛散した溶湯23を
水素ガス又はヘリウムガス等の熱電4率の高い冷却媒体
により急速凝固させる。
組織が微細で均一な粉末を製造することができる方法と
して急速凝固法がある。第7図は、急速凝固法を示す模
式図である。この急速凝固法においては、高周波コイル
22に高周波電流を付与することにより容器21内で金
属塊を溶解して生成した溶湯23を高速回転するディス
ク24上に落下させ、このディスク24の回転により溶
湯23を飛散させる。そして、この飛散した溶湯23を
水素ガス又はヘリウムガス等の熱電4率の高い冷却媒体
により急速凝固させる。
他の粉末製造方法として回転電極法及び遠心造粒法があ
る。第8図は回転電極法を示す模式図である。回転電極
法においては、第8図に示すように、消耗電極31と非
消耗電極32の間にアーク33を形成し、この際に、消
耗電極31をモータ等の回転手段(図示せず)で高速に
回転させて、消耗電極31が溶融して生成する液滴34
を飛散させることにより粉体35を得る。
る。第8図は回転電極法を示す模式図である。回転電極
法においては、第8図に示すように、消耗電極31と非
消耗電極32の間にアーク33を形成し、この際に、消
耗電極31をモータ等の回転手段(図示せず)で高速に
回転させて、消耗電極31が溶融して生成する液滴34
を飛散させることにより粉体35を得る。
第9図は遠心造粒法を示す模式図である。遠心造粒法に
おいては、アルゴンガス雰囲気下で回転可能に設置され
たるつぼ41と、延長に設置された電極42との間にア
ーク43を形成し、るつぼ41を水冷しながら回転させ
て電極42が溶融して形成された液滴44をるつぼ41
内に滴下することにより、液的44を飛散させて粉末を
生成する。
おいては、アルゴンガス雰囲気下で回転可能に設置され
たるつぼ41と、延長に設置された電極42との間にア
ーク43を形成し、るつぼ41を水冷しながら回転させ
て電極42が溶融して形成された液滴44をるつぼ41
内に滴下することにより、液的44を飛散させて粉末を
生成する。
しかしながら、アルゴンガス噴霧法の場合は、溶湯1を
貯留する容器2、ノズル3及び噴霧ガス4から不純物が
混入する戊があり、真空噴霧法及び急速凝固法の場合に
は夫々容器12.21から不純物が混入する虞があるた
め、Ti、 Ti合金、高合金及び超合金用粉末等の高
純度の粉末を製造することが困難であるという問題点が
ある。また、急速凝固法においては溶湯流の落下位置が
常に回転ディスクの一点に集中しているため、この位置
でディスク材の溶損が発生し不純物が混合してしまう。
貯留する容器2、ノズル3及び噴霧ガス4から不純物が
混入する戊があり、真空噴霧法及び急速凝固法の場合に
は夫々容器12.21から不純物が混入する虞があるた
め、Ti、 Ti合金、高合金及び超合金用粉末等の高
純度の粉末を製造することが困難であるという問題点が
ある。また、急速凝固法においては溶湯流の落下位置が
常に回転ディスクの一点に集中しているため、この位置
でディスク材の溶損が発生し不純物が混合してしまう。
回転電極法の場合には、粒径の小さい粉末を得るために
は、電極31を高速回転させる必要があり、そのため電
極の加工精度がきびしく、回転機構も複雑となる。この
場合の電極径は最大60龍φ程度である。これらのこと
から装置の大型化が困難であり生産性が乏しく 100
ton/年程度にすぎないという問題点がある。また
60鰭φ程度の回転電極棒を製造するコストも高く、こ
の結果粉末コストが高くなる。
は、電極31を高速回転させる必要があり、そのため電
極の加工精度がきびしく、回転機構も複雑となる。この
場合の電極径は最大60龍φ程度である。これらのこと
から装置の大型化が困難であり生産性が乏しく 100
ton/年程度にすぎないという問題点がある。また
60鰭φ程度の回転電極棒を製造するコストも高く、こ
の結果粉末コストが高くなる。
遠心造粒法の場合も、回転電極法と同様に粒径の小さい
粉末を得るためには、電極を兼ねるるつぼ41を高速度
回転させる必要があり、そのためるつぼの加工精度がき
びしく、回転機構も複雑となる。これらのことから装置
の大型化が困難であり、生産性に乏しい。
粉末を得るためには、電極を兼ねるるつぼ41を高速度
回転させる必要があり、そのためるつぼの加工精度がき
びしく、回転機構も複雑となる。これらのことから装置
の大型化が困難であり、生産性に乏しい。
本発明の目的は、以上のような事情に鑑みてなされたも
のであって、Tis Ti合金、高合金及び超合金等に
使用される高純度の粉末を生産性が高く、効率良く、低
コストで、しかも所望の粉末粒径のものを安定して製造
することができ、かつ装置構成が機構上簡単な粉末製造
装置を提供するものである。
のであって、Tis Ti合金、高合金及び超合金等に
使用される高純度の粉末を生産性が高く、効率良く、低
コストで、しかも所望の粉末粒径のものを安定して製造
することができ、かつ装置構成が機構上簡単な粉末製造
装置を提供するものである。
この発明に係る粉末製造装置は、間隔をおいて設置され
、その少なくとも一方が消耗電極からなる複数の電極を
備え、これら電極にアークを発生させて溶融金属の液滴
を形成する液滴形成手段と、上面外周に環状の側壁部を
突設し、液滴が落下する位置に配置されたディスクと、
このディスクを回転させて液滴を飛散冷却させて粉末と
するディスク回転手段とを具備した粉末製造装置を特徴
とする。
、その少なくとも一方が消耗電極からなる複数の電極を
備え、これら電極にアークを発生させて溶融金属の液滴
を形成する液滴形成手段と、上面外周に環状の側壁部を
突設し、液滴が落下する位置に配置されたディスクと、
このディスクを回転させて液滴を飛散冷却させて粉末と
するディスク回転手段とを具備した粉末製造装置を特徴
とする。
この発明においては、複数の電極間にアークを形成させ
、このアークにより電極が溶融して生成した液滴を回転
しているディスク上に落下させる。
、このアークにより電極が溶融して生成した液滴を回転
しているディスク上に落下させる。
そうすると、この液滴はディスクの回転による遠心力に
より周囲に飛敗し、ディスクの側壁に当たってここを上
昇した後、冷却用雰囲気ガスで瞬時に冷却して粉末とな
る。
より周囲に飛敗し、ディスクの側壁に当たってここを上
昇した後、冷却用雰囲気ガスで瞬時に冷却して粉末とな
る。
この場合すべての電極を消耗電極で構成した場合はその
各電極の消耗に対応して、液滴がディスク上に落下する
ように、各電極を駆動して適長間隔に調節する。対向す
る電極が消耗電極と非消耗電極の場合には、消耗電極の
消耗に対応して、液滴がディスク上に落下するように消
耗電極を駆動して適長間隔に調節する。
各電極の消耗に対応して、液滴がディスク上に落下する
ように、各電極を駆動して適長間隔に調節する。対向す
る電極が消耗電極と非消耗電極の場合には、消耗電極の
消耗に対応して、液滴がディスク上に落下するように消
耗電極を駆動して適長間隔に調節する。
以下、添付図面を参照して、この発明について具体的に
説明する。第1図は、この発明の実施例に係る粉末製造
装置である。チャンバ57は真空ポンプ等の排気手段(
図示せず)に接続されており、また、ガス導入口60が
設けられていて、その内部は減圧下又はガス雰囲気下、
例えば、アルゴンガス若しくはヘリウムガス雰囲気下に
保持されるようになっている。チャンバ57内には、例
えば製造せんとする粉末と同一組成の一対の電極51が
、その長手方向を一致させて電極駆動装置50により適
長間隔に設置されている。この電極51には電源56か
ら電流が供給され、電極51間にアーク52が形成され
るようになっている。
説明する。第1図は、この発明の実施例に係る粉末製造
装置である。チャンバ57は真空ポンプ等の排気手段(
図示せず)に接続されており、また、ガス導入口60が
設けられていて、その内部は減圧下又はガス雰囲気下、
例えば、アルゴンガス若しくはヘリウムガス雰囲気下に
保持されるようになっている。チャンバ57内には、例
えば製造せんとする粉末と同一組成の一対の電極51が
、その長手方向を一致させて電極駆動装置50により適
長間隔に設置されている。この電極51には電源56か
ら電流が供給され、電極51間にアーク52が形成され
るようになっている。
このアーク52により電極51の対向端部が溶融し液滴
53が生成される。
53が生成される。
電極51の下方にはディスク54が、その面を上方に向
けて回転可能に設置されており、回転装置58により、
鉛直方向に延長する軸59を中心として例えば、30.
OOOrpmの回転数で高速回転さるようになっている
。このディスク54は、上面に環状の側壁部(54a)
を突設しており、この側壁部の内側に前記液滴53が落
下するようになっている。
けて回転可能に設置されており、回転装置58により、
鉛直方向に延長する軸59を中心として例えば、30.
OOOrpmの回転数で高速回転さるようになっている
。このディスク54は、上面に環状の側壁部(54a)
を突設しており、この側壁部の内側に前記液滴53が落
下するようになっている。
このように構成された粉末製造装置においては、先ず、
電源56により電極51に給電してアーク52を形成し
、このアーク52により電極51の対向端部を溶融させ
る。そして、この電極51が溶融して生成した液滴53
を下方に設置されたディスク54上に滴下させる。この
場合に、ディスク54は、回転装置58により回転され
ているので、液適53はディスク54に落下すると同時
に、その遠心力によりディスクの側壁部54aに飛散し
、冷却用雰囲気ガスで瞬時に冷却されて粉末55となる
。このように、例えば、製造せんとする粉末と同一組成
の消耗電極を使用しているので、ディスク及び非消耗電
極からの不純物混入がなく、粉末に対する汚染源が極め
て少ない。また、一対の電極の双方とも消耗電極とでき
るため製造速度が速い。更に、電極を高速回転する必要
がないので、装置の機構上簡単である。また同じ理由に
より、大径の電極を使用でき、このため電極の製造コス
トを安くすることができる。なお、相対向する電極51
を互いに同一方向又は反対方向に緩やかに回転させる回
転装置を設けることにより、電極51が均一に溶解し、
アーク52の形成に好ましい状態となる。
電源56により電極51に給電してアーク52を形成し
、このアーク52により電極51の対向端部を溶融させ
る。そして、この電極51が溶融して生成した液滴53
を下方に設置されたディスク54上に滴下させる。この
場合に、ディスク54は、回転装置58により回転され
ているので、液適53はディスク54に落下すると同時
に、その遠心力によりディスクの側壁部54aに飛散し
、冷却用雰囲気ガスで瞬時に冷却されて粉末55となる
。このように、例えば、製造せんとする粉末と同一組成
の消耗電極を使用しているので、ディスク及び非消耗電
極からの不純物混入がなく、粉末に対する汚染源が極め
て少ない。また、一対の電極の双方とも消耗電極とでき
るため製造速度が速い。更に、電極を高速回転する必要
がないので、装置の機構上簡単である。また同じ理由に
より、大径の電極を使用でき、このため電極の製造コス
トを安くすることができる。なお、相対向する電極51
を互いに同一方向又は反対方向に緩やかに回転させる回
転装置を設けることにより、電極51が均一に溶解し、
アーク52の形成に好ましい状態となる。
また、消耗電極51は溶解中に電極駆動装置50により
、前方へ供給され消耗電極の間隔が常に一定になるよう
になっている。
、前方へ供給され消耗電極の間隔が常に一定になるよう
になっている。
本発明では、ディスクの上面に側壁を突設しているが、
これは次の理由による。電極の先端で形成される液滴は
、その落下速度が一定せず、また滴下位置も一定してい
ない。このため上面が平滑なディスクを使用すると、そ
の飛散状態が不安定となり、例えば滴下位置で液滴の一
部が跳上がったり、ディスクの周縁に達する前に飛散し
てしまうなどの現象が生じ、所望とする粉末よりも大き
い粉末が得られてしまう問題がある。本発明では、側壁
を突設することにより、液滴が確実にディスクの周縁か
ら飛散することにより、飛散状態を安定化し所望粒径の
粉末を得ることができる。ディスクの側壁の内径は、2
00μm以下の粉末を得る目的では、ディスクの150
0Orpm 〜30000rpmの回転時では、50〜
200龍が好適である。また側壁の高さは、あまり低い
と遠心力が十分働かず、高すぎるとディスクの高速回転
が困難となるため、10鰭〜100mm程度が好適であ
る。側壁の形状としては、第4図(alないしくf)に
断面で示した各種の形状のものを使用することができる
。なお同図(g)は、第4図(alのディスクの平面図
である。
これは次の理由による。電極の先端で形成される液滴は
、その落下速度が一定せず、また滴下位置も一定してい
ない。このため上面が平滑なディスクを使用すると、そ
の飛散状態が不安定となり、例えば滴下位置で液滴の一
部が跳上がったり、ディスクの周縁に達する前に飛散し
てしまうなどの現象が生じ、所望とする粉末よりも大き
い粉末が得られてしまう問題がある。本発明では、側壁
を突設することにより、液滴が確実にディスクの周縁か
ら飛散することにより、飛散状態を安定化し所望粒径の
粉末を得ることができる。ディスクの側壁の内径は、2
00μm以下の粉末を得る目的では、ディスクの150
0Orpm 〜30000rpmの回転時では、50〜
200龍が好適である。また側壁の高さは、あまり低い
と遠心力が十分働かず、高すぎるとディスクの高速回転
が困難となるため、10鰭〜100mm程度が好適であ
る。側壁の形状としては、第4図(alないしくf)に
断面で示した各種の形状のものを使用することができる
。なお同図(g)は、第4図(alのディスクの平面図
である。
ディスクの材質としては、グラファイト、ボロンナイト
ライド、ホウ化ジルコニウム(Zr[1g)、水冷銅、
ステンレススチールなどがあげられる。
ライド、ホウ化ジルコニウム(Zr[1g)、水冷銅、
ステンレススチールなどがあげられる。
なおチタン又はチタン合金の粉末を製造する時には、こ
のディスクからの汚染を防ぐために、得ようとする粉末
と同じ素材でディスクを構成するのが好適である。
のディスクからの汚染を防ぐために、得ようとする粉末
と同じ素材でディスクを構成するのが好適である。
第2図はこの発明の他の実施例に係る粉末製造装置であ
る。ここでは第1図に示した粉末製造装置における対向
する消耗電極51のうちの一つを非消耗電極61に代え
た場合を示す。この非消耗電極61と消耗電極51との
間ではアークが形成され、このアークにより消耗電極の
端部(アーク側)が溶融し、液滴が形成される。消耗電
極51との適長間隔を保持するために、消耗電極51の
消耗に対応して電極駆動装置50によって消耗電極51
を移動供給することが出来る。
る。ここでは第1図に示した粉末製造装置における対向
する消耗電極51のうちの一つを非消耗電極61に代え
た場合を示す。この非消耗電極61と消耗電極51との
間ではアークが形成され、このアークにより消耗電極の
端部(アーク側)が溶融し、液滴が形成される。消耗電
極51との適長間隔を保持するために、消耗電極51の
消耗に対応して電極駆動装置50によって消耗電極51
を移動供給することが出来る。
この発明においては、液滴は、電極の下方に設けられた
ディスク54上に確実に落下することが必要である。
ディスク54上に確実に落下することが必要である。
従って2、第2図の実施例のように電極の一方である非
消耗電極61の端部(アーク側)が固定しているので、
第1図の実施例のように両方が消耗電極である場合に比
較して電極の端部(アーク側)の位置を調節することが
容易である。 −非消耗電極61は、公知の水冷銅又
は水冷タングステン電極などが使用出来る。不純物の混
入を極力防止する必要がある場合は、前記非消耗電極6
1を、消耗電極51と同一材質とし、この電極に流れる
電流密度を消耗電極に流れる電流密度より極端に小さく
することにより、例えば断面積で2倍以上にすることに
より、その電極先端の溶融を防止し、非消耗電極として
使用することが出来る。
消耗電極61の端部(アーク側)が固定しているので、
第1図の実施例のように両方が消耗電極である場合に比
較して電極の端部(アーク側)の位置を調節することが
容易である。 −非消耗電極61は、公知の水冷銅又
は水冷タングステン電極などが使用出来る。不純物の混
入を極力防止する必要がある場合は、前記非消耗電極6
1を、消耗電極51と同一材質とし、この電極に流れる
電流密度を消耗電極に流れる電流密度より極端に小さく
することにより、例えば断面積で2倍以上にすることに
より、その電極先端の溶融を防止し、非消耗電極として
使用することが出来る。
第3図は消耗電極51に同一材質でかつ電極径を消耗電
極51より太き(して非消耗型8i62とした場合の粉
末製造装置を示す。
極51より太き(して非消耗型8i62とした場合の粉
末製造装置を示す。
以上のような本発明の粉末製造装置を使用すれば、溶湯
用の容器等の不純物の混入の虞れがない。
用の容器等の不純物の混入の虞れがない。
従来の回転電極法と比べて高速回転を必要としないので
、大径の電極を消耗電極として使用出来、1回の処理量
が大きく生産性が良好である。例えば、回転電極法が約
10kg/チャージであるのに対して、本発明では約1
00kg/チャージ(消耗電極)であり、一対の消耗電
極では約200kg/チャージが可能である。
、大径の電極を消耗電極として使用出来、1回の処理量
が大きく生産性が良好である。例えば、回転電極法が約
10kg/チャージであるのに対して、本発明では約1
00kg/チャージ(消耗電極)であり、一対の消耗電
極では約200kg/チャージが可能である。
また、ディスク径を小さくすることが可能であり、その
ため、回転数を大きくすることが出来、粒径の小さい粉
末を得ることが出来る。
ため、回転数を大きくすることが出来、粒径の小さい粉
末を得ることが出来る。
なお、対向する電極を互いに、同−又は反対方向に緩や
かに回転させる回転装置を設けることにより、消耗電極
が均一に溶融し、アークの形成に好ましい状態となる。
かに回転させる回転装置を設けることにより、消耗電極
が均一に溶融し、アークの形成に好ましい状態となる。
次に第1図の装置を使用し、溶解材としてTi −6A
J−4V合金を使用した実施例につき説明する。
J−4V合金を使用した実施例につき説明する。
VAR溶解により溶製した180mmφの消耗電極によ
り、溶解電流5000 Aで電極間にアークを発生せし
め消耗電極先端を溶融させた。下方に配置したディスク
の側壁部の内径は80龍φ、高さは15鶴であり、ディ
スクの回転速度20.000rpn+として溶融液滴を
ディスク上に落下させ、液滴を飛散して約150μmの
粉末を得ることができた。尚この時の溶解速度は7kg
/+minであった。
り、溶解電流5000 Aで電極間にアークを発生せし
め消耗電極先端を溶融させた。下方に配置したディスク
の側壁部の内径は80龍φ、高さは15鶴であり、ディ
スクの回転速度20.000rpn+として溶融液滴を
ディスク上に落下させ、液滴を飛散して約150μmの
粉末を得ることができた。尚この時の溶解速度は7kg
/+minであった。
次に、この第1図に示すような実施例により高合金粉末
を製造した具体例について説明する。電極の材料として
第1表に示す組成のNi基基台合金使用した。
を製造した具体例について説明する。電極の材料として
第1表に示す組成のNi基基台合金使用した。
このNi基基金合金より、直径150m−の円柱状の電
極を作成した。この電極を2本対向させ、互いに反対方
向に2 rpmの速度で回転させつつ、5500 Aの
電流を供給し、電極間にアークを形成させた。この場合
の電極の溶解速度は7.4 kg /分であった。ディ
スクの回転速度を1500Orpmとして電極の溶融液
滴をディスク上に落下させたところ、。
極を作成した。この電極を2本対向させ、互いに反対方
向に2 rpmの速度で回転させつつ、5500 Aの
電流を供給し、電極間にアークを形成させた。この場合
の電極の溶解速度は7.4 kg /分であった。ディ
スクの回転速度を1500Orpmとして電極の溶融液
滴をディスク上に落下させたところ、。
液滴が周囲に飛散し、粒径約200μmの所望の粉末を
得ることができた。
得ることができた。
この発明によれば、溶湯用の容器、ノズル、噴霧ガス、
るつぼ等を使用する必要がないので、それらからの不純
物の混入の虞がなく、高純度の粉末を得ることができる
。またこの発明に使用する消耗電極は、高速回転を必要
としないので、簡単な機構の装置で良く、電極も大型化
が可能であり、高生産速度を維持することが出来る。更
にディスクの上面に環状の側壁部を突設したので、ディ
スクに落下する液滴の落下速度、落下位置にばらつきが
あっても、液滴を確実に飛散して、所望の粉末を得るこ
とができる。このように、この発明は極めて利用価値が
高い。
るつぼ等を使用する必要がないので、それらからの不純
物の混入の虞がなく、高純度の粉末を得ることができる
。またこの発明に使用する消耗電極は、高速回転を必要
としないので、簡単な機構の装置で良く、電極も大型化
が可能であり、高生産速度を維持することが出来る。更
にディスクの上面に環状の側壁部を突設したので、ディ
スクに落下する液滴の落下速度、落下位置にばらつきが
あっても、液滴を確実に飛散して、所望の粉末を得るこ
とができる。このように、この発明は極めて利用価値が
高い。
第1図はこの発明の一実施例に係る粉末製造装置を示す
模式図、第2図及び第3図はこの発明の他の実施例に係
る粉末製造装置を示す模式図、第4図(a)〜(f)は
本発明に係るディスクの断面図、同図(幻は第4図(a
)のディスクの平面図、第5図乃至第9図は従来の粉末
製造装置を示す模式図である。 50・・・電極駆動装置、51・・・消耗電極、52・
・・アーク、53・・・液滴、54・・・ディスク、5
5・・・粉末、58・・・回転装置、61.62・・・
非消耗電極。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦jI4図 s 5 図 第6′:3 第 7 図 第 8 目
模式図、第2図及び第3図はこの発明の他の実施例に係
る粉末製造装置を示す模式図、第4図(a)〜(f)は
本発明に係るディスクの断面図、同図(幻は第4図(a
)のディスクの平面図、第5図乃至第9図は従来の粉末
製造装置を示す模式図である。 50・・・電極駆動装置、51・・・消耗電極、52・
・・アーク、53・・・液滴、54・・・ディスク、5
5・・・粉末、58・・・回転装置、61.62・・・
非消耗電極。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦jI4図 s 5 図 第6′:3 第 7 図 第 8 目
Claims (4)
- (1)間隔をおいて設置され、その少なくとも一方が消
耗電極からなる複数の電極と、 これら電極にアークを発生させて溶融金属の液滴を形成
する液滴形成手段と、 上面外周に環状の側壁部を突設し、液滴が落下する位置
に配置されたディスクと、 このディスクを回転させて液滴を飛散冷却させて粉末と
するディスク回転手段とを具備してなる粉末製造装置。 - (2)前記電極がすべて消耗電極である特許請求の範囲
第1項記載の粉末製造装置。 - (3)前記電極は、水平方向に配置され、その軸線の延
長線が一致している特許請求の範囲第1項又は第2項記
載の粉末製造装置。 - (4)電極に、その軸を中心として回転させる回転装置
を取付けた特許請求の範囲第1項ないし第3項のいずれ
か1に記載の粉末製造装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62-227325A JPH01205A (ja) | 1986-09-19 | 1987-09-10 | 粉末製造装置 |
EP19870906103 EP0282604A4 (en) | 1986-09-19 | 1987-09-17 | PLANT FOR THE PRODUCTION OF METAL POWDER AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF. |
PCT/JP1987/000687 WO1988001919A1 (en) | 1986-09-19 | 1987-09-17 | Apparatus for producing powder and process for its production |
US07/204,426 US4886547A (en) | 1986-09-19 | 1987-09-17 | Powder manufacturing apparatus and method therefor |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61-221343 | 1986-09-19 | ||
JP22134386 | 1986-09-19 | ||
JP62-37064 | 1987-02-20 | ||
JP62-227325A JPH01205A (ja) | 1986-09-19 | 1987-09-10 | 粉末製造装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS64205A JPS64205A (en) | 1989-01-05 |
JPH01205A true JPH01205A (ja) | 1989-01-05 |
Family
ID=
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